JP3481423B2 - 閾値マトリクスの作成方法およびそのための記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、繰返し単位領域
内の各画素に割り当てられた閾値を画像信号と比較する
ことによって、網点を形成する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】網点を形成する際には、繰返し単位領域
内に割り当てられた閾値と多階調画像信号とを比較する
ことによって、網点信号を形成する方法が一般的であ
る。繰返し単位領域を規定する方式としては、１つの網
点が形成される網点領域を１つの繰返し単位領域とする
方式と、複数の網点領域を含むより大きな領域を１つの
繰返し単位領域とする方式とがある。

【０００３】図１は、１つの網点領域（「網点セル」と
も呼ぶ）を１つの繰返し単位領域（「繰返しブロック」
とも呼ぶ）とする方式を示す説明図である。この方式で
は、各網点領域の４つの角が、画素の格子の角に一致す
る。従って、この網点領域をタイル状に繰返し適用する
ことによって、全画像平面を覆うことができる。但し、
この方式では、実現できる網線数（「スクリーン線数」
とも呼ぶ）や網角度（「スクリーン角度」とも呼ぶ）が
かなり限定されてしまうという問題がある。この理由
は、各網点領域の４つの角が画素の格子の角に一致しな
ければならないからである。

【０００４】図２は、複数の網点領域をふくむ広い領域
を１つの繰返し単位領域とする方式を示す説明図であ
る。この例では、４×４個の網点領域を含む領域が、１
つの繰返し単位領域（「繰返しブロック」とも呼ぶ）と
して用いられている。このような複数の網点領域を含む
繰返し単位領域は、一般に「スーパーセル」とも呼ばれ
ている。スーパーセルの４つの角は画素の格子の角に一
致するが、各網点領域の４つの角は、必ずしも画素の格
子の角には一致していない。スーパーセル方式では、１
つのスーパーセルを構成する網点領域の数に融通性があ
るので、いわゆる有理正接法において、網線数や網角度
をより自由に実現することができる。ここで、有理正接
法とは、網角度の正接（tan ）が有理数となるような網
点の形成方法を言う。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、スーパーセ
ル内に構成される複数の網点領域は、一定の画素数で構
成されておらず、異なる個数の画素を含むのが普通であ
る。図３と図４は、従来のスーパーセルの例を示す説明
図である。図３は網角度が０度の例を示し、図４は網角
度が４５度の例を示している。図３に示す例では、１つ
のスーパーセルが１１×１１画素の網点領域と、１１×
１０画素の網点領域と、１０×１１画素の網点領域と、
１０×１０画素の網点領域とを含んでいる。従って、１
つのスーパーセルに含まれる複数の網点領域は、必ずし
も等しい画素数を有していない。この結果、同じ網点面
積率の画像を再現する場合にも、各網点が含む点灯画素
の個数は、網点によって異なることになる。このこと
は、図４により明瞭に示されている。すなわち、網点面
積率が５０％の時に、図４のスーパーセルでは、５×５
画素で構成される網点と、４×５画素で構成される網点
と、５×４画素で構成される網点とが形成される。この
ような網点画像を観察すると、ムラとして観察される場
合がある。また、ムラの発生の仕方が網点面積率によっ
て異なると、安定した階調再現性が得られないという問
題があった。

【０００６】この発明は、従来技術における上述の課題
を解決するためになされたものであり、スーパーセル方
式において安定した階調再現性を実現することのできる
技術を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段およびその作用・効果】上
述の課題の少なくとも一部を解決するため、第１の発明
は、複数の網点領域を含む所定形状の領域を１つの繰返
し単位領域として用い、前記繰返し単位領域内の各画素
に割り当てられた閾値を画像信号と比較することによっ
て網点を形成するために使用される閾値マトリクスの作
成方法であって、（ａ）前記繰返し単位領域内に複数の濃度測定位置を設
定する工程と、 （ｂ）前記繰返し単位領域内の画素の中から複数の点灯
候補画素を選択する工程と、 （ｃ）前記複数の点灯候補画素をそれぞれ１つずつ仮点
灯させた状態であって、かつ、前記点灯候補画素よりも
前の点灯順位を有する画素を点灯させた状態で前記複数
の濃度測定位置において濃度値をそれぞれ算出する工程
と、 （ｄ）前記複数の濃度測定位置における濃度値の偏差が
最も小さな点灯候補画素を次の点灯位置として決定する
とともに、点灯順位に応じた閾値を割り当てる工程と、 （ｅ）前記工程（ｂ）ないし（ｄ）を、前記繰返し単位
領域内の全画素位置に対する閾値の割り当てが終了する
まで継続する工程と、 を備えることを特徴とする。

【０００８】 こうすれば、濃度偏差の変動が小さな閾
値マトリクスが得られるので、安定した階調再現性を実
現することができる。

【０００９】上記第１の発明において、前記濃度値は、
前記濃度測定位置を中心として、複数の網点領域を含む
所定の範囲において、各画素の点灯状態を示す点灯デー
タを所定の重み関数で平均化することによって算出され
るようにすることが好ましい。

【００１０】また、前記網点は、約１５°または約７５
°のスクリーン角度を有するようにすることが好まし
い。

【００１１】 第２の発明は、複数の網点領域を含む所
定形状の領域を１つの繰返し単位領域として用い、前記
繰返し単位領域内の各画素に割り当てられた閾値を画像
信号と比較することによって、網点を形成する方法に使
用される、閾値分布の決定処理を実現するコンピュータ
プログラムを格納する記憶媒体であって、（ａ）前記繰返し単位領域内に複数の濃度測定位置を設
定する工程と、 （ｂ）前記繰返し単位領域内の画素の中から複数の点灯
候補画素を選択する工程と、 （ｃ）前記複数の点灯候補画素をそれぞれ１つずつ仮点
灯させた状態であって、かつ、前記点灯候補画素よりも
前の点灯順位を有する画素を点灯させた状態で前記複数
の濃度測定位置において濃度値をそれぞれ算出する工程
と、 （ｄ）前記複数の濃度測定位置における濃度値の偏差が
最も小さな点灯候補画素を次の点灯位置として決定する
とともに、点灯順位に応じた閾値を割り当てる工程と、 （ｅ）前記工程（ｂ）ないし（ｄ）を、前記繰返し単位
領域内の全画素位置に対する閾値の割り当てが終了する
まで継続する工程と、 をコンピュータに実現させるコンピュータ プログラムを
格納することを特徴とする。

【００１２】このようなソフトウェアプログラムによっ
て決定された閾値を用いて網点を形成すれば、第１の発
明と同様に、濃度偏差の変動が小さくなるので、安定し
た階調再現性を実現することができる。

【００１３】

【発明の他の態様】この発明は、以下のような他の態様
も含んでいる。第１の態様は、複数の網点領域を含む所
定形状の領域を１つの繰返し単位領域として用い、前記
繰返し単位領域内の各画素に割り当てられた閾値を画像
信号と比較することによって、網点を形成する装置であ
って、ほぼ均一な網点面積率に応じて前記繰返し単位領
域内の画素を点灯させた際に、前記繰返し単位領域内に
設定された複数の濃度測定位置において算出される濃度
値の間の偏差に関して、網点面積率が約２０％〜約８０
％の範囲における前記偏差の最大値と最小値の差分が、
高々約０．３％となるように画素を点灯させる閾値分布
を記憶するメモリと、前記閾値分布から読出された閾値
と画像信号とを比較することによって網点を表わす網点
信号を生成する比較器と、を備えることを特徴とする。

【００１４】第２の態様は、コンピュータシステムのマ
イクロプロセッサによって実行されることによって、上
記の発明の各工程または各手段を実現するソフトウェア
プログラムを通信経路を介して供給するプログラム供給
装置である。

【００１５】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例に基づき説明する。図５は、この発明の実施例の処理
手順を示すフローチャートである。ステップＳ１では、
繰返しブロック内の各網点セル毎に、画素の点灯順位を
設定する。図６は、この実施例において対象とする繰返
しブロックＳＣを示す説明図である。この繰返しブロッ
クＳＣは、５×５個の網点セルＨＣを含んでいる。この
実施例では、繰返しブロック内の各網点セルの位置を、
２桁の数字で特定している。この２桁の数字を「網点セ
ル番号」と呼ぶ。すなわち、網点セル番号が「００」の
網点セルＨＣ００は、繰返しブロックＳＣの左上端の位
置にあり、網点セル番号が「４４」の網点セルＨＣ４４
は、繰返しブロックＳＣ 右下端の位置にある。ステッ
プＳ１では、このような繰返しブロックＳＣ内の各網点
セルＨＣ内の画素について、各網点セルＨＣ毎に独立し
た点灯順位が設定される。図７は、１つの網点セルＨＣ
の中の点灯順位の配列の一例を示す説明図である。網点
セルＨＣ内の各画素には、その中心から周辺に向かって
値が次第に増大していくように点灯順位が設定される。

【００１６】図５のステップＳ２では、繰返しブロック
ＳＣ内の各網点セルの点灯順位データをメインメモリ内
に読込むとともに、繰返しブロックＳＣ内に複数の濃度
計測点を設定する。図８は、計測点の位置と種類を示す
説明図である。図８（Ａ）は、繰返しブロックＳＣと網
点セルＨＣ００〜ＨＣ４４の位置関係を示し、図８
（Ｂ）は計測点の位置を示している。図８（Ｂ）におい
ては、参考のために、網点面積率が５０％の時に形成さ
れる網点が斜線で図示されている。計測点としては、各
網点セルの中央に位置する山側計測点Ｐ００〜Ｐ４４
と、各網点セルの４つの角に位置する谷側計測点Ｂ００
〜Ｂ４４とが設定されている。山側計測点の符号（例え
ば「Ｐ００」、「Ｐ４４」）の最後の２つの数字は、そ
の山側計測点を含む網点セルの番号（図８（Ａ））を示
している。また、谷側計測点の符号（例えば「Ｂ０
０」、「Ｂ４４」）の最後の２つの数字は、その谷側計
測点の左上にある山側計測点と同じ数字に設定されてい
る。なお、繰返しブロックＳＣは、タイル状に繰返し適
用されるので、繰返しブロックＳＣの辺上の計測点に
は、等価な計測点（例えばＢ４４，Ｂ４０等）が複数回
現われる。

【００１７】ステップＳ２では、さらに、網点セル相互
の隣接関係を示す隣接関係表も作成される。図９は、網
点セル相互の隣接関係を示す隣接関係表を示す説明図で
ある。例えば、図９（Ａ）において、２２番の網点セル
ＨＣ２２と８近傍の隣接関係にある網点セルの番号は、
３２，３１，２１，１１，１２，１３，２３，３３であ
る。図９（Ｂ）に示す隣接関係表は、各網点セルに関し
て、８近傍の隣接関係にある網点セルの番号が登録され
た表である。

【００１８】図５のステップＳ３では、繰返しブロック
ＳＣ内の閾値分布を決定する際に用いられる点灯用ビッ
トマップ領域がメインメモリ内に確保される。点灯用ビ
ットマップは、点灯する画素には１が設定され、非点灯
の画素には０が設定される深さ１ビットのメモリ領域で
ある。この点灯ビットマップを利用して、後述する濃度
計測が行なわれる。ステップＳ３においては、点灯ビッ
トマップデータはすべて０に初期設定される。図１０
は、点灯用ビットマップの領域を示す説明図である。点
灯用ビットマップの領域は、繰返しブロックＳＣに外接
する矩形の領域（破線で示す）の周囲に、濃度計測のた
めの拡張幅を設けた広い領域である。すなわち、繰返し
ブロックＳＣの角に存在する濃度計測点（図８（Ｂ）参
照）において濃度を計測する際には、その周囲のある程
度の範囲の点灯状態を知る必要がある。そこで、点灯ビ
ットマップとしては、繰返しブロックＳＣの周囲に所定
の拡張幅を設けた広い領域が使用される。なお、拡張幅
は、２〜３網点ピッチ分の値に設定することが好まし
い。

【００１９】点灯用ビットマップは、繰返しブロックＳ
Ｃよりも広い領域を有しているので、点灯用ビットマッ
プ内には等価な複数の画素が存在する位置がある。この
ような等価な複数の画素は、同時に点灯するように互い
に関連付けられる。この実施例では、等価な複数の画素
の関連付けを「ネスティング」とよび、その情報を「ネ
スティング情報」と呼ぶ。図１１は、ネスティング情報
の内容を示す説明図である。図１１（Ａ）に示す座標
（１００，１２０）の画素は、図１１（Ｂ）に示すよう
に、網点セルＨＣ００の点灯順位１の画素である。図１
１（Ａ）に黒丸で示されているように、点灯用ビットマ
ップ内には、この画素と等価な画素が他にも３つ存在す
る。ネスティング情報は、これらの４つの画素の座標を
相互に関連付けている。一方、点灯用ビットマップのア
クセス情報（各画素の点灯順位と点灯の有無を示す情
報）には、１つの繰返しブロックＳＣの画素に対応する
点灯順位が格納されている。そこで、点灯用ビットマッ
プに各画素の点灯状態（１または０）を設定する際に
は、ネスティング情報によって関連付けられた複数の画
素に対して常に同じ点灯状態が設定される。

【００２０】図５のステップＳ４では、ステップＳ１〜
Ｓ３で準備されたデータを元にして、繰返しブロックＳ
Ｃ内の各画素の閾値が決定される。図１２は、ステップ
Ｓ４の詳細手順を示すフローチャートである。ステップ
Ｓ１１では、繰返しブロックＳＣ内の初期点灯位置を設
定し、点灯する。初期点灯位置は、任意の１つの網点セ
ルの中で点灯順位が１の画素に設定することができる。
例えば、繰返しブロックＳＣの中央の網点セルＨＣ２２
の点灯順位１の画素や、繰返しブロックＳＣの左上端の
網点セルＨＣ００の点灯順位１の画素を、初期点灯位置
として選択することができる。

【００２１】ステップＳ１２では、図８（Ｂ）に示す各
計測点において濃度を計測し、点灯に影響を受けた計測
点の濃度計測値を更新する。図１３は、濃度の計測方法
を示す説明図である。計測点における濃度値Ｄは、計測
点を中心とした重み関数Ｗ（ｘ，ｙ）を点灯用ビットマ
ップデータＢ（ｘ，ｙ）に乗じて積分し、これを、重み
関数Ｗの積分値で規格化した値である。換言すれば、濃
度値Ｄは、複数の網点セルを含む一定の範囲（これを
「計測マスク」と呼ぶ）における点灯用ビットマップデ
ータＢ（ｘ，ｙ）を、重み関数Ｗ（ｘ，ｙ）で平均した
ものである。重み関数Ｗ（ｘ，ｙ）の分布としては、ガ
ウス分布を近似した重み値分布を採用することが好まし
い。また、重み関数Ｗ（ｘ，ｙ）の範囲（計測マスク）
の直径は、網点ピッチの４．２５倍程度とすることが好
ましい。こうして得られる濃度値Ｄは、計測マスクのサ
イズのアパーチャー（開口）を有する濃度計を用いて、
網点画像の濃度を測定して得られる濃度値にほぼ等しい
値となる。

【００２２】図１２のステップＳ１２では、まず、図８
（Ｂ）に示す各計測点において図１３の方法に従って濃
度値を算出する。そして、濃度計測値が変更された計測
点について、その濃度計測値が更新される。

【００２３】図１４は、濃度計測値の結果の一例を示す
説明図である。図１４（Ａ）の横軸は、計測点の位置を
示しており、縦軸は濃度値を示している。なお、横軸上
には山側計測点と谷側計測点が交互に配置されている
が、図示の便宜上、それらの軸が別々に示されている。
図１４の例では、網点セルＨＣ２２の山側計測点Ｐ２２
が最低濃度値を示している。

【００２４】ステップＳ１３では、最低濃度値を示す計
測点の近傍から、次に点灯させるべき点灯候補を複数個
選択する。図１５は、点灯候補の選択方法の概要を示す
説明図である。図１５において、網点セルＨＣｍｎの山
側計測点Ｐｍｎまたは谷側計測点Ｂｍｎが計測点の中の
最低濃度値を示すものと仮定する。

【００２５】山側計測点Ｐｍｎが最低濃度値を示す場合
には、その網点セルＨＣｍｎ内の未点灯の画素の中から
所定の個数（例えば３個）の画素を点灯順位に従って選
択し、点灯候補とする。図１６は、点灯候補の具体的な
選択方法を示す説明図である。図１６は、網点セルＨＣ
２２内において３個の点灯候補が選択される場合を示し
ている。網点セルＨＣ２２内の未点灯の画素の中で、点
灯順位が早い３つの画素は、点灯順位が１０２，１０
３，１０５の画素である。従って、これらの３つの画素
が点灯候補として選択される。

【００２６】なお、網点面積率が１００％近くなり、そ
の網点セルＨＣｍｎ内に未点灯の画素が所定の個数だけ
存在しない場合には、残りの点灯候補を、隣接する網点
セルから選択する。この際、図９（Ｂ）に示す隣接関係
表が使用される。すなわち、まず、対象となっている網
点セルＨＣｍｎの４近傍の網点セル（左、右、上、下の
いずれかにある網点セル）の中から点灯候補を選択し、
さらに不足する場合には、他の８近傍の隣接網点セルの
中から点灯候補を選択する。

【００２７】一方、谷側計測点Ｂｍｎが最低濃度値を示
す場合には、その谷側計測点Ｂｍｎの近傍から点灯候補
を選択したい。そこで、この場合には、図１５（Ｃ）に
示すように、谷側計測点Ｂｍｎの周囲の４つの網点セル
内の未点灯の画素の中から所定の個数の画素を点灯順位
に従って選択し、点灯候補とする。

【００２８】図１２のステップＳ１４では、ステップＳ
１３で選択された点灯候補の画素を１つずつ仮点灯し、
各点灯候補が点灯した状態において、各計測点において
濃度計測を行なう。図１７は、３つの点灯候補をそれぞ
れ点灯させた状態で得られた濃度値の算出結果を示して
いる。図１７（Ｂ）〜（Ｄ）に例示されているように、
各点灯候補を点灯させた時に得られる濃度計測値の分布
において、濃度偏差をそれぞれ求める。ここで、濃度偏
差とは、最高濃度値と最低濃度値との差分である。濃度
偏差が少ないということは、画像のムラが少ないことを
意味する。そこで、図１２のステップＳ１５では、複数
の点灯候補の中で、濃度偏差が最小となる点灯候補を、
次の点灯位置として決定する。次の点灯位置として決定
された画素には、繰返しブロックＳＣ中の全画素中の点
灯順位を、その画素の閾値として割り当てる。すなわ
ち、その点灯位置が繰返しブロックＳＣ内でｍ番目に点
灯する画素である場合には、閾値として（ｍ−１）が割
り当てられる。

【００２９】ステップＳ１６では、繰返しブロックＳＣ
内の全画素について閾値の割り当てが終了したか否かが
判断される。終了していなければ、ステップＳ１２に戻
り、上述のステップＳ１２〜Ｓ１６の処理を繰返す。全
画素についての閾値の割り当てが終了すると、ステップ
Ｓ１７において、繰返しブロック内に含まれる全画素に
対する閾値がハードディスク等の記憶装置に格納され
る。この後、ステップＳ１８において、必要に応じて閾
値の正規化が行なわれる。例えば、繰返しブロック内の
全画素数がＮの場合には、ステップＳ１１〜Ｓ１７にお
いて、閾値０〜（Ｎ−１）がＮ個の画素に割り当てられ
ている。この閾値の範囲を最終的に０〜２５４にしたい
場合には、これらの閾値のそれぞれに、２５４／（Ｎ−
１）を乗じて整数化を行なえばよい。

【００３０】このように、上記実施例では、複数の点灯
候補を選択し、これらを仮に点灯させた状態において、
濃度偏差が最小となる点灯候補を次の点灯位置として採
用している。この結果、濃度偏差を小さく抑えることが
でき、画像のムラを低減することができる。

【００３１】図１８は、上述の各実施例を適用する網点
形成装置の構成を示すブロック図である。この網点形成
装置は、ＣＰＵ３０と、メインメモリ（ＲＯＭおよびＲ
ＡＭ）３２と、フロッピディスク装置３４と、ＳＰＭメ
モリ３６と、副走査アドレスカウンタ３８と、主走査ア
ドレスカウンタ４０と、比較器４２とを備えている。ま
た、この網点形成装置は、網点画像を光ビームで記録媒
体上に記録するための図示しない露光装置も備えてい
る。ＳＰＭメモリ３６は、スーパーセル内の閾値パター
ンを記憶する。フロッピディスク装置３４には、上述の
実施例に従って作成された複数種類の閾値パターンが記
憶されており、その中の１つが選択されてＳＰＭメモリ
３６に転送される。

【００３２】上述の実施例において繰返しブロックＳＣ
内に閾値の割り当てるための種々の機能は、このコンピ
ュータシステムのＣＰＵ（マイクロプロセッサ）３０
が、ソフトウェアプログラムを実行することによって実
現される。上述の機能を実現するソフトウェアプログラ
ム（アプリケーションプログラム、コンピュータプログ
ラム）は、フロッピディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の携帯型
の記憶媒体（可搬型の記憶媒体）からコンピュータシス
テムのメインメモリまたは外部記憶装置に転送される。
あるいは、通信経路を介してプログラム供給装置からコ
ンピュータシステムに供給するようにしてもよい。

【００３３】副走査アドレスカウンタ３８には、副走査
スタート信号Ｒｘと、副走査クロック信号Ｃｘとが入力
されている。副走査スタート信号Ｒｘは、光ビームの副
走査座標が初期位置にリセットされた時に１パルス発生
する信号である。副走査クロック信号は、光ビームの副
走査座標が更新されるたびに１パルス発生する信号であ
る。副走査アドレスカウンタ３８は、これらの信号Ｒ
ｘ，Ｃｘに応じて、繰り返し単位ブロック内における光
ビームの副走査座標を生成し、これをＳＰＭメモリ３６
に副走査アドレスとして供給する。主走査アドレスカウ
ンタ４０も同様に、主走査スタート信号Ｒｙと主走査ク
ロック信号Ｃｙとに応じて、繰り返し単位ブロック内に
おける光ビームの主走査座標を生成し、これをＳＰＭメ
モリ３６に主走査アドレスとして供給する。これら２つ
のアドレスカウンタ３８，４０から与えられたアドレス
に応じて、ＳＰＭメモリ３６内の閾値パターンから１つ
の閾値Ｓｓが読出されて、比較器４２に供給される。

【００３４】比較器４２は、この閾値Ｓｓを入力画像信
号Ｉｍと比較し、この比較結果に応じた２値化出力（露
光信号、網点信号）を生成する。２値化出力のレベル
は、次の通りである。 Ｓｓ＜Ｉｍの時：Ｈレベル（露光、点灯）； Ｉｍ≦Ｓｓの時：Ｌレベル（非露光、非点灯）。 なお、入力画像信号Ｉｍが０〜２５５の範囲である場合
には、閾値Ｓｓの範囲は０〜２５４となる。

【００３５】図示しない露光装置は、この２値化出力に
応じて感光性の記録媒体（例えば感光フィルム）を光ビ
ームで露光し、これによって記録媒体上に網点画像を形
成する。このようにしてＹＭＣＫの各色版の網点画像を
作成し、これらの網点画像をそれぞれの色のインクで刷
り重ねることによって、多色印刷物を得ることができ
る。

【００３６】図１９〜図２１は、この実施例に従って作
成された閾値を用いて形成された網点の濃度偏差を従来
例と比較して示すグラフである。図１９は、出力解像度
が４０００ｄｐｉでスクリーン線数（網線数）が４００
ｌｐｉであり、スクリーン角度（網角度）がそれぞれ約
１５°、約４５°、約７５°の場合の網点画像に関する
濃度偏差を示している。また、図２０は、出力解像度が
４０００ｄｐｉで網線数が３５０ｌｐｉの場合を、図２
１は出力解像度が４０００ｄｐｉで網線数が３１０ｌｐ
ｉの場合を示している。

【００３７】図１９〜図２１のほとんどの条件下におい
て、実施例の濃度偏差の方が、従来例の濃度偏差よりも
小さいことが解る。但し、スクリーン角度が４５°の場
合は、図２０（Ｂ）の例のように、実施例における濃度
偏差よりも従来例における濃度偏差が小さくなる場合も
ある。これは、次のような理由によると考えられる。ス
クリーン角度が４５°の場合には、網点（点灯画素の集
まり）の辺が走査方向に平行になるので、網点の形状を
幾何学的に単純な形状にすることが可能である。従っ
て、網点の形状をきれいに成形し易いため、従来技術に
おいても濃度偏差が小さくなる。一方、実施例の場合に
は、計測マスク（図１３）の範囲の点灯状態を重み関数
Ｗ（ｘ，ｙ）で平均化して濃度値を求め、この濃度値の
偏差が小さくなるように点灯位置を決定している。この
ように、実施例の場合には、ある範囲の点灯状態の重み
付き平均に応じて点灯位置を決定しているので、結果と
して、網点が幾何学的に単純な形状にならない場合があ
り、従来例の方が濃度偏差が小さくなる場合がある。

【００３８】上述したように、実施例の効果は、スクリ
ーン角度が約１５°と約７５°の場合に顕著になる。図
１９ないし図２１において、スクリーン角度が約１５°
と約７５°のグラフには、網点面積率が約２０％〜約８
０％の範囲における濃度偏差の最大値と最小値の差分△
を示している。実施例では、この差分△は最高で０．３
２％、最低で０．１８％である。一方、従来例では、こ
の差分△は最高で１．５２％、最低でも０．３９％であ
る。このように、この実施例では、網点面積率が約２０
％〜約８０％の範囲において、濃度偏差の差分△が高々
約０．３％であり、約０．３％〜約０．１％の範囲に収
まっている。このような実施例における濃度偏差の差分
△は、従来例における差分の最低値である０．４％に比
べて小さな値に抑えられている。また、実施例において
は、濃度偏差の絶対値は最大で約０．９５％であり、約
１％以下である。

【００３９】図１９ないし図２１のスクリーン角度が約
１５°と約７５°の条件において、網点面積率が約３０
％〜約７０％の範囲における濃度偏差の最大値と最小値
の差分△は、実施例では最高で０．２８％、最低で０．
１５％である。従って、網点面積率が約３０％〜約７０
％の範囲では、実施例の濃度偏差の最大値と最小値の差
分△は、高々約０．３％であり、約０．３％〜約０．１
％の範囲に収まっている。また、実施例においては、濃
度偏差の絶対値は最大で約０．９５％であり、約１％以
下である。このように、実施例では濃度偏差の変動が従
来例に比べて少ないので、従来に比べて安定した階調再
現を実現することが可能である。

【００４０】図２２は、出力解像度とスクリーン線数と
の組み合わせが等価なものを示す表である。４０００ｄ
ｐｉ〜１０００ｄｐｉの範囲の出力解像度において、等
価なスクリーン線数が３つの行にまとめられている。例
えば、出力解像度が４０００ｄｐｉでスクリーン線数が
４００ｌｐｉの網点画像は、出力解像度が３０００ｄｐ
ｉでスクリーン線数が３００ｌｐｉの網点画像や、出力
解像度が２４００ｄｐｉでスクリーン線数が２４０ｌｐ
ｉの網点画像と等価である。ここで、「等価」という意
味は、図１９〜図２１に示したものとほぼ同じ濃度偏差
が得られるという意味である。従って、図２２に示すよ
うな各種の出力解像度やスクリーン線数の網点画像に関
しても、図１９〜図２１に示すものと同様な関係が得ら
れる。

【００４１】なお、この発明は上記の実施例や実施形態
に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々の態様において実施することが可能であり、
例えば次のような変形も可能である。

【００４２】（１）この実施例では、１つの繰返しブロ
ックＳＣを閾値の割り当て処理の対象としているが、複
数の繰返しブロックＳＣを含むような、より広い領域を
処理の対象領域として採用することも可能である。

【００４３】（２）計測点としては、図８（Ｂ）に示す
もの以外の点を採用することも可能である。例えば、繰
返しブロック内のすべての画素を計測点として使用する
こともできる。あるいは、図８（Ｂ）の山側計測点や谷
側計測点とは異なる位置において、一定間隔で計測点を
配置することも可能である。また、繰返しブロックＳＣ
内にランダムに計測点を配置するようにしてもよい。一
定間隔で計測点を配置するようにすれば、濃度偏差と画
像のムラとの相関を高くできるという利点がある。

【００４４】（３）濃度計測を行なう際の重み関数Ｗ
（ｘ，ｙ）としては、図１３に示したもの以外の種々の
ものを利用することも可能である。例えば、本出願人に
より開示された特公昭６１−２７６８３号公報の第５図
に記載された重み関数を使用してもよい。

【００４５】（４）図１２のステップＳ１５において、
次の点灯位置を決定する際の判断基準としては、「濃度
偏差が最小となる」という基準を採用していたが、他の
判断基準を採用することも可能である。例えば、ステッ
プＳ１２で得られた最低濃度計測点における濃度値を最
も上昇させるような点灯候補を、次の点灯位置として採
用することも可能である。また、この際、最低濃度計測
点における濃度値が最高濃度値にならない場合に限って
次の点灯位置として採用する、という限定を加えてもよ
い。あるいは、複数の点灯候補の濃度偏差とともに、他
の評価基準（例えば網点（点灯部分）の周囲長が小さい
程良い）を合わせて考慮するようにしてもよい。

【００４６】（５）図１２のステップＳ１３において複
数の点灯候補を選択する方法も、図１５，１６に示した
方法以外の方法を採用することができる。図２３は、点
灯候補を選択する他の方法を示す説明図である。この方
法では、図２３（Ａ）のように網点セルごとに領域を区
分せずに、図２３（Ｂ），（Ｃ）のように山領域（Ｈ１
〜Ｈ９等）と谷領域（Ｖ１〜Ｖ４等）に区分する。山領
域とは、網点面積率が約５０％以下の時に点灯する画素
で構成される領域である。谷領域は、網点面積率が約５
０％以下の時には点灯しない画素で構成される領域であ
る。

【００４７】図２３（Ｂ）に示すように、最低濃度計測
点が谷領域Ｖ１に存在する場合には、その谷領域Ｖ１に
隣接する山領域Ｈ１，Ｈ２，Ｈ４，Ｈ５の中から点灯候
補を選択する。隣接する山領域の中から点灯候補を選択
するのは、一般に、谷領域よりも山領域の画素を先に点
灯させた方が、網点の形状がきれいになるからである。
網点面積率が５０％近くになると、これらの山領域Ｈ
１，Ｈ２，Ｈ４，Ｈ５の中から十分な数の点灯候補を選
択できない場合がある。この場合には、その山領域の近
傍の谷領域の中から点灯候補を選択する。例えば、山領
域Ｈ５において点灯候補が十分に存在しない場合には、
その近傍の谷領域Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４の中から点灯
候補を選択する。

【００４８】一方、図２３（Ｃ）に示すように、最低濃
度計測点が山領域Ｈ５に存在する場合には、その山領域
Ｈ５の中から複数の点灯候補が選択される。この山領域
Ｈ５内において十分な数の点灯候補を選択できない時に
は、その周囲の山領域Ｈ２，Ｈ４，Ｈ６，Ｈ８，Ｈ１，
Ｈ３，Ｈ７，Ｈ９の中から点灯候補を選択する。網点面
積率が５０％近くになると、これらの山領域の中から十
分な数の点灯候補を選択できない場合がある。この場合
には、その近傍の谷領域から点灯候補を選択する。例え
ば、山領域Ｈ６において点灯候補が十分に存在しない場
合には、その近傍の谷領域Ｖ２，Ｖ４の中から点灯候補
を選択する。

【図面の簡単な説明】

【図１】１つの網点領域を１つの繰返し単位領域とする
方法を示す説明図。

【図２】複数の網点領域をふくむ広い領域を１つの繰返
し単位領域とする方法を示す説明図。

【図３】従来のスーパーセルの例を示す説明図。

【図４】従来のスーパーセルの例を示す説明図。

【図５】この発明の実施例の処理手順を示すフローチャ
ート。

【図６】この実施例において対象とする繰返しブロック
ＳＣを示す説明図。

【図７】１つの網点セルＨＣの中の点灯順位の配列の一
例を示す説明図。

【図８】計測点の位置と種類を示す説明図。

【図９】網点セル相互の隣接関係を示す隣接関係表を示
す説明図。

【図１０】点灯用ビットマップの領域を示す説明図であ
る。

【図１１】ネスティング情報の内容を示す説明図。

【図１２】ステップＳ４の詳細手順を示すフローチャー
ト。

【図１３】濃度の計測方法を示す説明図。

【図１４】濃度計測値の結果の一例を示す説明図。

【図１５】点灯候補の選択方法を示す説明図。

【図１６】点灯候補の具体的な選択方法を示す説明図。

【図１７】３つの点灯候補をそれぞれ点灯させた状態で
得られた濃度値の算出結果を示す説明図。

【図１８】網点形成装置の構成を示すブロック図。

【図１９】実施例の濃度偏差と従来例の濃度偏差とを比
較して示すグラフ。

【図２０】実施例の濃度偏差と従来例の濃度偏差とを比
較して示すグラフ。

【図２１】実施例の濃度偏差と従来例の濃度偏差とを比
較して示すグラフ。

【図２２】出力解像度とスクリーン線数との組み合わせ
が等価なものを示す説明図。

【図２３】点灯候補を選択する他の方法を示す説明図。

【符号の説明】

３０…ＣＰＵ ３２…メインメモリ ３４…フロッピディスク装置 ３６…ＳＰＭメモリ ３８…副走査アドレスカウンタ ４０…主走査アドレスカウンタ ４２…比較器

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−195886（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−177351（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−170400（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−317212（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−244402（ＪＰ，Ａ) 特表 平11−504476（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H04N 1/40 - 1/409 H04N 1/52

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の網点領域を含む所定形状の領域を
   １つの繰返し単位領域として用い、前記繰返し単位領域
   内の各画素に割り当てられた閾値を画像信号と比較する
   ことによって網点を形成するために使用される閾値マト
   リクスの作成方法であって、（ａ）前記繰返し単位領域内に複数の濃度測定位置を設
   定する工程と、 （ｂ）前記繰返し単位領域内の画素の中から複数の点灯
   候補画素を選択する工程と、 （ｃ）前記複数の点灯候補画素をそれぞれ１つずつ仮点
   灯させた状態であって、かつ、前記点灯候補画素よりも
   前の点灯順位を有する画素を点灯させた状態で前記複数
   の濃度測定位置において濃度値をそれぞれ算出する工程
   と、 （ｄ）前記複数の濃度測定位置における濃度値の偏差が
   最も小さな点灯候補画素を次の点灯位置として決定する
   とともに、点灯順位に応じた閾値を割り当てる工程と、 （ｅ）前記工程（ｂ）ないし（ｄ）を、前記繰返し単位
   領域内の全画素位置に対する閾値の割り当てが終了する
   まで継続する工程と、 を備えることを特徴とする閾値マトリクスの作成方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載の閾値マトリクスの作成方
   法であって、さらに、 （ｆ）前記繰返し単位領域内の各画素に割り当てられた
   閾値を正規化する工程、を備える閾値マトリクスの作成
   方法。
3. 【請求項３】 複数の網点領域を含む所定形状の領域を
   １つの繰返し単位領域として用い、前記繰返し単位領域
   内の各画素に割り当てられた閾値を画像信号と比較する
   ことによって、網点を形成する方法に使用される、閾値
   分布の決定処理を実現するコンピュータプログラムを格
   納する記憶媒体であって、（ａ）前記繰返し単位領域内に複数の濃度測定位置を設
   定する工程と、 （ｂ）前記繰返し単位領域内の画素の中から複数の点灯
   候補画素を選択する工程と、 （ｃ）前記複数の点灯候補画素をそれぞれ１つずつ仮点
   灯させた状態であって、かつ、前記点灯候補画素よりも
   前の点灯順位を有する画素を点灯させた状態で前記複数
   の濃度測定位置において濃度値をそれぞれ算出する工程
   と、 （ｄ）前記複数の濃度測定位置における濃度値の偏差が
   最も小さな点灯候補画素を次の点灯位置として決定する
   とともに、点灯順位に応じた閾値を割り当てる工程と、 （ｅ）前記工程（ｂ）ないし（ｄ）を、前記繰返し単位
   領域内の全画素位置に対する閾値の割り当てが終了する
   まで継続する工程と、 をコンピュータに実行させるコンピュータ プログラムを
   格納することを特徴とする記憶媒体。
4. 【請求項４】 請求項３記載の記憶媒体であって、 前記コンピュータプログラムは、さらに、 （ｆ）前記繰返し単位領域内の各画素に割り当てられた
   閾値を正規化する工程、をコンピュータに実行させる、
   記憶媒体。