JP3479324B2 - マイクロ波誘電体磁器組成物及びその製造方法 - Google Patents

マイクロ波誘電体磁器組成物及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波誘電体磁器
組成物に関し、更に詳しく言えば、無負荷Q(以下、
「Qu」という。)及び共振周波数の温度係数(以下、
「τf 」という。)を実用的な特性範囲で維持しつつ、
高い比誘電率(以下、「εr 」という。)を備えるマイ
クロ波誘電体磁器組成物及びその製造方法に関する。本
発明は、マイクロ波領域において誘電体共振器、マイク
ロ波集積回路基板、各種マイクロ波回路のインピーダン
ス整合等に利用される。 【0002】 【従来の技術】マイクロ波誘電体磁器組成物(以下、
「磁器組成物」という。)は、使用周波数が高周波とな
るに従って誘電損失が大きくなる傾向にあるので、マイ
クロ周波数領域でQuの大きな磁器組成物が望まれてい
る。従来の誘電体磁器材料としては、結晶構造がペロブ
スカイト相とイルメナイト相との2相を含む磁器組成物
(特開平2−129065号公報)、MgTiO3とT
iO2 に所定量のCaTiO3 を含有した磁器組成物
(特開昭52−118599号公報)等が知られてい
る。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】しかし、前者の磁器組
成物ではNd2 3 、La2 3 、PbO、ZnO等の
他成分が多く含まれる上、Quも必ずしも大きな値とは
言えない。後者の磁器組成物では、CaTiO3 の混合
量が3〜10重量%の範囲においてはτfが+87〜−
100と大きく変化し、0付近の小さな値に調整するこ
とが困難である等の問題があった。 【0004】本発明は、上記問題点を解決するものであ
り、Qu及びτf を実用的な特性範囲で維持しつつ、高
いεr を備える磁器組成物及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。 【0005】 【課題を解決するための手段】本第1発明の磁器組成物
は、Ba1−XSr(Zn1/3Nb2/3)O
(但し0.6≦x≦1.0)で示される組成を主成分
とし、これに上記Ba1−XSr(Zn1/3Nb
2/3)O100重量部に対して、0.01〜1重量
部のTiOが添加含有され、平行導体板型誘電体円柱
共振器法(TE 011 MODE)により測定され、測定
周波数4.5GHzに換算したQuが2000以上、、
εrが38以上、30℃〜80℃の温度領域で測定し、
以下の式により求めたτ が+10〜−10ppm/℃
であることを特徴とする。τ =(f 80 −f 30 )/(f 30 ×ΔT) ΔT
=50℃。 上記の如く「x」の範囲を定めるのは、xが0.6以上
の場合に、τf が0ppm/℃付近の狭い範囲の値を
とり、好ましいからである。また、高いQu値を望む場
合は、xを0.9前後とするのが特に好ましい。 【0006】また、上記の如く、「TiO2 」を添加す
るのは、以下の理由による。一般に、Ba(Zn1/3
2/3 )O3 −Sr(Zn1/3 Nb2/3 )O3 系誘電体
は、Bサイト成分(Zn2+、Nb5+)の規則配列化によ
って、超格子構造を形成し、Qu値が向上するものと考
えられる。そして、TiO2 の添加により、上記規則配
列化を促進させる効果があるためである。尚、TiO2
に、この様な作用があるのは、TiO2 が焼成反応を
促進させる効果があると共に、TiO2 の「Ti4+
のイオン半径(0.68Å程度)が、上記磁器組成物の
「Zn2+」のイオン半径(0.71Å程度)や「N
5+」のイオン半径(0.69Å程度)よりも僅かに大
きく、Bサイト成分の規則配列化を容易ならしめるため
である。 【0007】更に、「TiO2 」の添加量を上記の様に
定めるのは、0.01重量%未満では、上記規則配列化
がそれ程進行しないため、Qu値が殆ど向上せず、ま
た、1重量%程度の添加で飽和状態となり、それ以上添
加してもQu値の向上を期待できないと共に、εr が小
さな値になったり、τf が負の大きな値をとり好ましく
ないからである。 【0008】本発明の磁器組成物の製造方法としては、
Ba1−XSr(Zn1/3Nb2/3)O(但し
0.6≦x≦1.0)で示される組成を主成分とする磁
器組成物の製造方法において、仮焼を二段階にわたって
施しその後、本焼成すること等が挙げられる。この様
に、仮焼を二段階にわたって施すのは、Aサイト成分と
Bサイト成分の反応性の均一化を図るためである。 【0009】一方、本発明の磁器組成物の製造方法とし
は、仮焼を15時間以上にわたって施し、その後、本
焼成することが好ましい。この様に、仮焼を長時間掛け
て行うのは、反応性を向上させ上記主成分を生成し易く
することにより、Bサイト成分の規則化の促進を図るた
めである。尚、この仮焼時間は、20時間以上(特に、
24時間以上)であることが好ましい。 【0010】また、本発明の磁器組成物の製造方法とし
は、本焼成後に、アニール処理を施すことが挙げられ
。この様に、アニール処理を施すは、Bサイト成分の
規則化の促進と陽イオンの価数変動の抑制を図ることに
より、Qu、εr 及びτf の値の適性化を図るためで
ある。 【0011】 【実施例】以下、実施例(試験例)により本発明を具体
的に説明する。 (1)実施例1 本実施例では、磁器組成物の組成の検討(試験例1)と
TiO2 の添加がQu値等に与える影響(試験例2)を
調べたものである。 試験例1 本試験例は、先ず、BaCO3 粉末(純度;99.9
%)、SrCO3 粉末(純度;98.7%)、ZnO粉
末(純度;99.5%)、Nb2 5 粉末(純度;9
9.9%)を出発原料として、これらを適宜混ぜ併せ
て、組成式Ba1-X SrX (Zn1/3 Nb2/3 )O3
表され、同式の「x」の値が異なる6種類の調合粉末
を、それぞれ所定量(650〜700g)ずつ、秤量し
て調整した。尚、上記各調合粉末における上記「x」の
値は、それぞれ、0、0.2、0.4、0.6、0.
8、1.0である。 【0012】次いで、上記各調合粉末を振動ミル(20
mmφのアルミナボール)により、3時間掛けて一次粉
砕した。そして、大気雰囲気中にて、1300℃の温度
の下、2時間仮焼を行った。尚、このときの昇温速度は
200℃/hで、降温速度は−200℃/hであった。
次いで、この仮焼粉末に所定の有機バインダー29gと
水300〜330gを加え、ボールミル(20mmφの
アルミナボール、回転数;90rpm)により、23時
間掛けて2次粉砕を行った。 【0013】その後、真空凍結乾燥(真空度;約0.4
Torr、真空乾燥時間;約20時間、凍結温度;−2
0〜−40℃、乾燥温度;40〜50℃)により造粒
し、この造粒された原料を用いて1000kg/cm2
のプレス圧で19mmφ×10mmt(厚さ)の円柱状
に成形した。 【0014】次に、この成形体を大気中500℃、3時
間にて脱脂し、その後、1550℃の範囲の温度で、1
2時間焼成し、最後に両端面を約16mmφ×8mmt
(厚さ)の円柱状に研磨して、誘電体試料とした。尚、
この焼成工程における昇温速度は50℃/hで、降温速
度は−50℃/hであった。そして、各試料につき、平
行導体板型誘電体円柱共振法(TE011 MODE)等
により、εr 、Qu及びτf 、更に、アルキメデス法に
より焼結密度を測定した。尚、測定周波数は4.2GH
z〜4.5GHzで、4.5GHzに換算した値を示し
た。また、τf は30℃〜80℃の温度領域で測定し、
τf =(f80−f30)/(f30×ΔT)、ΔT=80−
30=50℃にて算出した。尚、以下に示す各試験例
(試験例2〜5)においても、εr 、Qu、τf 及び焼
結密度を同様の方法により測定した。本試験例の結果を
図1〜4に示す。 【0015】以上の結果によれば、上記「x」の値が
0.6未満の各試料においては、τfが36.3〜12
8.0ppm/℃の範囲の値をとるのに対して、上記
「x」の値を0.6〜1とした各試料においては、約−
25.5〜65.7ppm/℃の範囲(0ppm/℃を
中心にした狭い範囲)に調整されている。特に、「x」
の値が0.9前後の場合に、Qu値が高く、またτf
0ppm/℃付近の値となるので好ましい。また、εr
は、「x」の値が0.5を越えると減少傾向となるが許
容範囲内といえる。 【0016】一方、本試験例では、「x」がいずれの値
であっても、所望のQuの値が得られておらず(目標値
よりも50%以上低い。)、満足するものとはいえな
い。この為、本実施例では、以下に述べる試験例2にお
いて、更に検討を加えた。 【0017】試験例2 本試験例では、上記試験例1のBaCO3 粉末、SrC
3 粉末等からなる出発原料に、焼結助剤としてのTi
2 (純度;99.98%)を所定量添加したもの(添
加量が、それぞれ0.01、0.05、0.1、0.
5、0.75及び1重量%の5種類のもの)を用いて調
整した調合粉末により、試験例1と略同様の方法で誘電
体試料を製作した。但し、ここで用いた調合粉末は、主
成分の組成式がBa0.2 Sr0.8 (Zn1/3 Nb2/3
3 で表されるもの(上記「x」が0.8のもの)のみ
である。また、本試験例では、焼成温度が1500℃、
1525℃及び1550℃の3通りの場合について、誘
電体試料の製作を試みた。 【0018】以上の様に製作した誘電体試料について、
εr 、Qu及びτf の測定を行い、これらの結果を図5
〜7に示す。図5によれば、Quの値は、TiO2 の添
加量の増加に伴い上昇していった。これは、TiO2
添加に伴い、Bサイト成分の規則配列化等が促進された
ためと考えられる。但し、TiO2 の添加量の添加量が
1重量%に近づくに従い、飽和傾向になり、Quの値の
上昇率が小さくなった。また、同添加量が0.1重量%
未満の場合は、Quの値を上昇させる効果は殆どない。 【0019】また、図6によれば、TiO2 の添加量の
増加と共にεr の値は、減少傾向にあるが、いずれも許
容範囲内である。更に、図7に示すτf の値は、TiO
2 の添加量の増加と共に緩やかに減少し、添加量が0.
4重量%程度の場合に、0ppm/℃付近の特に良好な
値を示している。また、図5〜7のいずれの場合も、焼
成温度を低くした方が、一層良好な値を示している。こ
れは、焼結助剤としてのTiO2 の添加により、焼成温
度を低くでき、その結果、誘電体試料の緻密化が促進さ
れ、上記主成分中のZnOの揮発が抑制された等のため
と考えられる。 【0020】実施例1の効果 以上に示す試験例1及び2によれば、Ba1-X Sr
X (Zn1/3 Nb2/3 )O3 (但し0.6≦x≦1.
0)で示される組成を主成分とし、0.01〜1重量%
のTiO2 が添加された調合粉末により製作した誘電体
試料は、Qu、τf 及びεr とも良好な値を示してい
る。 【0021】(2)実施例2 本実施例は、仮焼工程の改善や焼成後のアニール処理
が、上記Qu値等に与える影響を調べたものである。 【0022】試験例3 本試験例は、TiO2 を含有しない調合粉末を用いた誘
電体試料の製作に際し、仮焼方法や焼成工程後のアニー
ル処理の有無が、上記Qu値等に与える影響を検討した
ものである。本試験例では、「仮焼条件」「焼成条件」
等を表1に示す様にしたこと以外は、試験例1と同様に
してNo.1〜10の誘電体試料を製作した。但し、こ
こで用いた調合粉末は、主成分の組成式がBa0.2 Sr
0.8 (Zn1/3 Nb2/3 )O3 で表されるもの(上記
「x」が0.8のもの)のみである。以上の様に製作し
た誘電体試料についても、εr 、Qu、τf 及び焼結密
度の測定を行い、その結果を表1に示す。但し、同表に
は比較のため、試験例1と同様な条件の下で製作した誘
電体試料に関する数値も掲載してある(No.1及び
3)。 【0023】 【表1】 【0024】尚、表1に示すNo.4〜7では、仮焼工
程を第1仮焼工程と第2仮焼工程の2段階で行った(以
下、これを「2段仮焼」という。)。そして、上記第1
仮焼工程は、大気雰囲気中にて、1000℃の温度の
下、2時間掛けて行ったものである。尚、このときの昇
温速度は200℃/hで、降温速度は−200℃/hで
あった。また、この第1仮焼工程に引き続き行われた第
2仮焼工程は、大気雰囲気中にて、1300℃の温度の
下、24時間掛けて行ったものである。尚、このときの
昇温速度は200℃/hで、降温速度は−200℃/h
であった。 【0025】また、同表に示すNo.8〜10において
は、仮焼工程を上記試験例1の場合よりも長時間掛けて
行った(以下、「長時間仮焼」という。)。即ち、これ
らの場合は、大気雰囲気中にて、1300℃の温度の
下、24時間掛けて仮焼を行った。尚、このときの昇温
速度は200℃/hで、降温速度は−200℃/hであ
った。 【0026】更に、同表に示すNo.2、7及び10に
おいては、焼成工程後に、アニール処理を施した。上記
アニーリング工程は、大気雰囲気中にて、1300℃の
温度の下、12時間掛けて行ったものである。尚、この
ときの昇温速度は100℃/hで、降温速度は−100
℃/hであった。 【0027】また、同表中に示す「S」は、各誘電体試
料におけるBサイト成分の規則度の指標を示す数値であ
る。この数値は、次式により定義されるものである。 S=√(I100 /I110,102 ) 但し、同式中の「I100 」はXRDによって観測された
六方晶(100)規則格子積分強度を示し、I110,102
は(110)(102)積分強度を示す。また、Sの規
格化はせず、I100 が観測できない場合に、S=0とし
た。 【0028】以上の結果によれば、2段仮焼を施したN
o.4〜6においては、通常の仮焼工程(1段仮焼)の
みを施したNo.1及び3に比べ、約12〜23%程
度、Qu値が上昇した。これは、2段仮焼を施すことに
より、Aサイト成分とBサイト成分の反応性が向上した
ためである。また、長時間仮焼を施したNo.8及び9
の場合も、約29〜46%程度(若しくはそれ以上)Q
u値が上昇した。これは、長時間仮焼を施すことによ
り、Bサイト成分の規則化が進行したためである。 【0029】尚、この様に、長時間仮焼を施した場合の
方が、Qu値の上昇率が大きいのは、Aサイト成分とB
サイト成分の反応の均一化を目的として行われる2段仮
焼では、上記主成分の反応が十分に進行しないが、長時
間仮焼においては、主成分の反応性が良いために、Bサ
イト成分の規則化が促進されたためである。 【0030】また、1段仮焼の後に、アニール処理を施
したNo.2では、アニール処理を施さなかったNo.
1の場合よりも、約10%程度、Qu値が上昇した。更
に、2段仮焼の後に、アニール処理を施したNo.7で
は、2段仮焼のみを施したNo.4〜6に比べ、約21
〜27%程度、Qu値が上昇した。これは、アニール処
理によりBサイト成分の規則化の促進され(上記Sの値
が0であったものが、7×10-2〜9×10-2まで上昇
した。)、超格子構造を形成したためである。 【0031】一方、長時間仮焼と共に、アニール処理を
施したNo.10は、長時間仮焼のみを施したNo.8
及び9とQu値がそれ程変わらなかった。これらは、ア
ニール処理前の段階で、既に上記Sの値が高く(8×1
-2〜9×10-2)、アニール処理を施してもそれ以
上、Sの値が上昇しなかったためと考えられるからであ
る。また、εr 、τf 及び焼結密度は、仮焼工程の改善
や焼成後のアニール処理により、より好ましい数値を示
している。 【0032】試験例4 本試験例は、TiO2 を含有する調合粉末を用いた誘電
体試料の製作に際し、アニール処理の有無が、上記Qu
値等に与える影響を検討したものである。本試験例で
は、焼成工程後(焼成温度1550℃)に、アニール処
理を施したこと以外は、上記試験例2と同様にして、誘
電体試料を製作した。以上の様に製作した誘電体試料に
ついても、εr 、Qu及びτf 及の測定を行い、その結
果を図8〜10に示す。尚、同図には比較のため、試験
例2と同様な条件の下で製作した誘電体試料に関するも
のも、破線にて併記する。 【0033】図8によれば、TiO2 の添加量が0.2
重量%以下程度の場合には、アニール処理によるQu値
を増大させる効果は大きい。しかし、TiO2 の添加量
が多くなるに従って、その効果はだんだん小さくなり、
0.5重量%程度の添加量で、アニール処理を施したも
のと施さないものの数値が略同じになる。これは、図1
1に示す様に、TiO2 の添加量に比例して、上記Sの
値が上昇するため、TiO2 の添加量が多く、既にSの
値が高くなっている場合には、アニール処理を施して
も、さほど効果がないためと考えられる。尚、εr はア
ニール未処理のものに比べ、低い値を示すがいずれも許
容範囲内といえる。また、τf は、0ppm/℃付近の
値を示し良好といえる。 【0034】尚、本発明においては、前記具体的実施例
に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範
囲内で種々変更した実施例とすることができる。即ち、
本実施例では、焼成雰囲気をいずれも「空気中(大気
中)」としたが、「ZnO」雰囲気中等とすることもで
きる。このZnO雰囲気における焼成は、ZnO粉末中
での焼成(例えば、所定の焼成サヤの中に、十分な量の
ZnO粉末を収納し、同粉末内に焼成前の上記円柱状等
の試料を埋設した後に、焼成サヤに蓋を被せて焼成を行
う。)、又はZnOガス雰囲気中での焼成〔例えば、所
定の焼成サヤの中に、適量のZnO粉末を収納し、同粉
末上に所定のセパレータ(Pt板等)を配置した後、同
セパレータ上に焼成前の上記円柱状等の試料を載置し、
更に、焼成サヤに蓋を被せて焼成を行う。〕等とするこ
とができる。 【0035】以下、焼成雰囲気が、誘電体試料のQu値
等に与える影響を調べた比較試験について述べる。本試
験では、表2に示す様に、主成分が組成式Sr(Zn
1/3 Nb2/3 )O3 で示される調合粉末(以下、「A粉
末」という。)と、主成分が組成式Ba(Zn1/3
2/3 )O3 で示される調合粉末(以下、「B粉末」と
いう。)を用意した。但し、B粉末は、本発明の範囲外
の組成を有している(X=0)。 【0036】 【表2】【0037】次いで、上記各調合粉末を用いて、上記
「空気中」と上記「ZnOガス雰囲気中」のそれぞれの
焼成雰囲気毎に、誘電体試料を製作した。但し、このと
きの他の製作条件は、「焼成温度」「焼成時間」「仮焼
温度」及び「仮焼時間」が、表2に示す通りである他
は、試験例1の場合と同様である。そして、各誘電体試
料について、上記実施例1及び2と同様にして、Qu値
等を測定した。その結果を表2に併記する。また、各誘
電体試料の結晶構造をX線により分析し、その結果を図
12〜15に示す。 【0038】上記表2によれば、A粉末、B粉末のいず
れの粉末を用いて製作した試料も、ZnOガス雰囲気中
にて焼成を行ったものの方が、Qu値が向上している。
この理由は、以下の様に考えられる。即ち、空気中にて
焼成し製作した試料では、図14のX線回折図に、Sr
5Nb4 15(A粉末の場合)のピークがあらわれ、1
5のX線回折図に、Ba4 Nb2 9 (B粉末の場合)
のピークがあらわれ、各試料の表面に微量のSr 5Nb
4 15等の副生成物が生成したことを示している。そし
て、これらの副生成物が、Qu値の向上を阻害したと考
えられる。 【0039】一方、ZnOガス雰囲気中にて焼成し製作
した試料では、図12及び13のX線回折図に、Sr 5
Nb4 15(A粉末の場合)等のピークは存在せず、各
試料の表面にQu値の向上を阻害する様な副生成物が生
成しなかったことが判る。この結果、これらの試料にお
いては、Qu値が大幅に上昇したと考えられる。そし
て、上記の様な副生成物の生成は、焼成過程におけるZ
nOの揮発が原因となるが、ZnOガス雰囲気中で焼成
を行えば、この揮発を防止することができるためであ
る。以上より、上記実施例で述べた組成物をZnO雰囲
気中で焼成すれば、Qu値を更に向上させることがで
き、性能上より好ましいものとなる。 【0040】 【発明の効果】以上のように、本発明によれば、Qu及
びεr を実用的な(高い)特性範囲に維持しつつ、τf
が好ましい範囲の値となる誘電体磁器組成物を得ること
ができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】〔Ba1-X SrX (Zn1/3 Nb2/3 )O3
磁器組成物において、xとQuとの関係を示すグラフで
ある。 【図2】図1にて示す磁器組成物において、xとεr
の関係を示すグラフである。 【図3】図1にて示す磁器組成物において、xとτf
の関係を示すグラフである。 【図4】図1にて示す磁器組成物において、xと焼結密
度との関係を示すグラフである。 【図5】〔Ba1-X SrX (Zn1/3 Nb2/3 )O3
(0〜1.0)重量%TiO2〕磁器組成物において、
TiO2 添加量とQuとの関係(焼成温度別)を示すグ
ラフである。 【図6】図5にて示す磁器組成物において、TiO2
加量とεr との関係(焼成温度別)を示すグラフであ
る。 【図7】図5にて示す磁器組成物において、TiO2
加量とτf との関係(焼成温度別)を示すグラフであ
る。 【図8】図5にて示す磁器組成物において、TiO2
加量(但し、0〜0.5重量%)とQuとの関係(アニ
ール処理の有無)を示すグラフである。 【図9】図5にて示す磁器組成物において、TiO2
加量(但し、0〜0.5重量%)とεr との関係(アニ
ール処理の有無)を示すグラフである。 【図10】図5にて示す磁器組成物において、TiO2
添加量(但し、0〜0.5重量%)とτf との関係(ア
ニール処理の有無)を示すグラフである。 【図11】TiO2 の添加量と規則度(S)の関係を示
すグラフである。 【図12】ZnOガス雰囲気中で焼成し製作したSr
(Zn1/3 Nb2/3 )O3 磁器組成物のX線回折結果を
示すグラフである。 【図13】ZnOガス雰囲気中で焼成し製作したBa
(Zn1/3 Nb2/3 )O3 磁器組成物のX線回折結果を
示すグラフである。 【図14】大気中で焼成し製作したSr(Zn1/3 Nb
2/3 )O3 磁器組成物のX線回折結果を示すグラフであ
る。 【図15】大気中で焼成し製作したBa(Zn1/3 Nb
2/3 )O3 磁器組成物のX線回折結果を示すグラフであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 3/12 313 C04B 35/495 H01P 7/10 H01P 11/00

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 Ba1−XSr(Zn1/3Nb
    2/3)O(但し0.6≦x≦1.0)で示される組
    成を主成分とし、これに上記Ba1−XSr(Zn
    1/3Nb2/3)O100重量部に対して、0.0
    1〜1重量部のTiOが添加含有され、平行導体板型
    誘電体円柱共振器法(TE 011 MODE)により測定
    され、測定周波数4.5GHzに換算したQuが200
    0以上、εrが38以上、30℃〜80℃の温度領域で
    測定し、以下の式により求めたτ が+10〜−10p
    pm/℃であることを特徴とするマイクロ波誘電体磁器
    組成物。τ =(f 80 −f 30 )/(f 30 ×ΔT) ΔT
    =50℃。
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