JP3477084B2 - Lead frame board holding device - Google Patents

Lead frame board holding device

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JP3477084B2
JP3477084B2 JP27033898A JP27033898A JP3477084B2 JP 3477084 B2 JP3477084 B2 JP 3477084B2 JP 27033898 A JP27033898 A JP 27033898A JP 27033898 A JP27033898 A JP 27033898A JP 3477084 B2 JP3477084 B2 JP 3477084B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子の製造
工程において、ワイヤプル強度、ボールシェア強度およ
びダイシェア強度の検査に用いるリードフレーム基板押
さえ装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame substrate retainer used for inspecting wire pull strength, ball shear strength and die shear strength in a semiconductor element manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の半導体素子の高密度実装に伴い、
ダイボンドペーストの短時間硬化による半導体チップの
剥がれや、金ワイヤ線の細線化による金ワイヤ線の断
線、およびワイヤボンド用電極の縮小化による金ボール
の接着不足等を原因とする品質問題が多数発生してい
る。これら品質問題の発生を防ぐために、ワイヤプル強
度、ボールシェア強度およびダイシェア強度の検査が行
われる。
2. Description of the Related Art With the recent high-density mounting of semiconductor elements,
Many quality problems occur due to peeling of semiconductor chips due to short-time curing of die bond paste, disconnection of gold wire lines due to thinning of gold wire lines, and insufficient adhesion of gold balls due to downsizing of wire bond electrodes. is doing. In order to prevent occurrence of these quality problems, wire pull strength, ball shear strength and die shear strength are inspected.

【0003】この強度検査は、高感度の半導体荷重セン
サを使用した強度検査装置を用いて行われる。
This strength inspection is performed by using a strength inspection device using a highly sensitive semiconductor load sensor.

【0004】図17は、従来の強度検査装置の一例を概
略的に示す斜視図である。この強度検査装置は、半導体
デバイスの強度検査に用いられる装置であり、この半導
体デバイスは、第1リードフレームと第2リードフレー
ムとを一対のリードフレームとする複数対のリードフレ
ームが形成されたリードフレーム基板上に設けられてい
る。
FIG. 17 is a perspective view schematically showing an example of a conventional strength inspection device. The strength inspection apparatus is an apparatus used for strength inspection of a semiconductor device, and the semiconductor device has leads formed with a plurality of pairs of lead frames each including a first lead frame and a second lead frame as a pair of lead frames. It is provided on the frame substrate.

【0005】強度検査装置は、リードフレーム基板を固
定するためのリードフレーム基板押さえ装置を設置する
支持台101と、この支持台101をX軸方向およびY
軸方向に移動させるXYテーブル102と、被検査対象
物に加えられた荷重を検出することができる半導体荷重
センサ103と、この半導体荷重センサ103をZ軸方
向に移動させるZテーブル104と、XYテーブル10
2およびZテーブル104の動きを制御するとともに半
導体荷重センサ103による検出結果が入力される制御
部105と、XYテーブル102およびZテーブル10
4の操作や測定開始の指示のための操作スイッチ106
とから構成される。なお、前記リードフレーム基板押さ
え装置は、強度検査を行う際に、第1リードフレーム上
に載置された半導体チップや金ワイヤ線にキズや変形等
のダメージが生じないように使用される。
The strength inspection apparatus includes a support base 101 on which a lead frame substrate retainer for fixing the lead frame substrate is installed, and the support base 101 in the X axis direction and the Y direction.
An XY table 102 that moves in the axial direction, a semiconductor load sensor 103 that can detect a load applied to an object to be inspected, a Z table 104 that moves the semiconductor load sensor 103 in the Z axis direction, and an XY table. 10
2 and Z table 104, and a control unit 105 to which the detection result of the semiconductor load sensor 103 is input and the XY table 102 and Z table 10.
Operation switch 106 for operating 4 and instructing measurement start
Composed of and. The lead frame substrate pressing device is used so that the semiconductor chip and the gold wire line mounted on the first lead frame will not be damaged, such as scratched or deformed, during the strength inspection.

【0006】まず初めに、横型リードフレーム基板上に
搭載された半導体デバイスを強度検査の被検査対象物と
した場合における強度検査手順について説明する。
First, a strength inspection procedure in the case where a semiconductor device mounted on a horizontal lead frame substrate is an object to be inspected for strength inspection will be described.

【0007】図18は、強度検査の対象となる横型リー
ドフレーム基板の一例を示す説明図であり、同図(a)
は横型リードフレーム基板を示す平面図であり、同図
(b)は横型リードフレーム基板を示す側面図であり、
同図(c)は横型リードフレーム基板の半導体チップ搭
載部(図18(b)中の領域C1)を示す拡大平面図で
ある。
FIG. 18 is an explanatory view showing an example of a horizontal lead frame substrate which is the object of strength inspection.
Is a plan view showing the horizontal lead frame substrate, and FIG. 6B is a side view showing the horizontal lead frame substrate.
18C is an enlarged plan view showing the semiconductor chip mounting portion (region C1 in FIG. 18B) of the horizontal lead frame substrate.

【0008】この横型リードフレーム基板111は導電
性の薄板を型抜きして形成されており、ダイボンドエリ
アS1を有する第1リードフレーム111aと、セカン
ドボンドエリアS2を有する第2リードフレーム111
bとを一対のリードフレームとする複数対のリードフレ
ームを備えている。
The horizontal lead frame substrate 111 is formed by stamping out a conductive thin plate, and has a first lead frame 111a having a die bond area S1 and a second lead frame 111 having a second bond area S2.
and a plurality of pairs of lead frames each having a pair of lead frames b.

【0009】次に、図18に示す横型リードフレーム基
板111の各リードフレームに半導体チップを搭載する
手順(すなわち、半導体デバイスの製造工程)、および
搭載後の横型リードフレーム基板111の強度検査工程
について、図19を参照しつつ説明する。なお、図19
は、各一対のリードフレームの半導体チップ搭載部(ダ
イボンドエリアS1部分およびセカンドボンドエリアS
2部分)の平面図と側面図とを、各工程ごとに示してい
る。
Next, a procedure for mounting a semiconductor chip on each lead frame of the horizontal lead frame substrate 111 shown in FIG. 18 (that is, a semiconductor device manufacturing process) and a strength inspection process for the horizontal lead frame substrate 111 after mounting. , And will be described with reference to FIG. Note that FIG.
Is a semiconductor chip mounting portion (die bond area S1 portion and second bond area S of each pair of lead frames).
The plan view and the side view of (2 part) are shown for each process.

【0010】まず、第1工程として、製造装置の支持台
(図示せず)上に横型リードフレーム基板111を載置
する(図19(a)および図19(b)参照)。
First, as a first step, a horizontal lead frame substrate 111 is placed on a support table (not shown) of a manufacturing apparatus (see FIGS. 19A and 19B).

【0011】続いて、第2工程として、横型リードフレ
ーム基板111の全ての第1リードフレーム111aの
ダイボンドエリアS1にダイボンドペースト112を塗
布する(図19(c)および図19(d)参照)。
Then, as a second step, the die bond paste 112 is applied to the die bond areas S1 of all the first lead frames 111a of the horizontal lead frame substrate 111 (see FIGS. 19C and 19D).

【0012】続いて、第3工程として、ダイボンドペー
スト112を介して各第1リードフレーム111aに半
導体チップ113を搭載する(図19(e)および図1
9(f)参照)。
Subsequently, in a third step, the semiconductor chip 113 is mounted on each first lead frame 111a via the die bond paste 112 (FIG. 19 (e) and FIG. 1).
9 (f)).

【0013】続いて、第4工程として、半導体チップ1
13を搭載した状態で横型リードフレーム基板111を
硬化炉(図示せず)に投入し、ダイボンドペースト11
2を硬化させる(図19(g)および図19(h)参
照)。
Subsequently, as a fourth step, the semiconductor chip 1
The horizontal lead frame substrate 111 with 13 mounted is placed in a curing furnace (not shown), and the die bond paste 11
2 is cured (see FIG. 19 (g) and FIG. 19 (h)).

【0014】続いて、第5工程として、全ての第2リー
ドフレーム111bのセカンドボンドエリアS2と全て
の半導体チップ113の電極(図示せず)との間を金ワ
イヤ114を用いてそれぞれワイヤボンディングする
(図19(i)および図19(j)参照)。このように
して、第1リードフレーム111aおよび第2リードフ
レーム111bを出力端子とする半導体デバイスを複数
個形成する。
Then, as a fifth step, wire bonding is performed between the second bond areas S2 of all the second lead frames 111b and the electrodes (not shown) of all the semiconductor chips 113 by using gold wires 114. (See FIG. 19 (i) and FIG. 19 (j)). In this way, a plurality of semiconductor devices having the first lead frame 111a and the second lead frame 111b as output terminals are formed.

【0015】この後、第6工程として、図17に示す強
度検査装置の支持台101に、図20に示す横型リード
フレーム基板用押さえ装置107を配置し、この横型リ
ードフレーム基板用押さえ装置107の横型リードフレ
ーム基板載置部107aと当接部107bとの間に、横
型リードフレーム基板111を配置する。なお、前記横
型リードフレーム基板載置部107aは断面コ字型の部
材であり、開口部を下向きにした状態で配置されてい
る。横型リードフレーム基板載置部107aの上面には
横型リードフレーム基板111を嵌め込むための溝部1
07a1が設けられている。また、当接部107bは、
横型リードフレーム基板111を溝部107a1内に押
し込み固定するための部材である。前述のように、横型
リードフレーム基板111を横型リードフレーム基板載
置部107aに配置した状態で、複数個の半導体デバイ
スから検査対象となる半導体デバイスを選択し、この検
査対象の半導体デバイスに対してワイヤプル強度測定を
行う(図19(k)および図19(l)参照)。
Thereafter, as a sixth step, the horizontal lead frame substrate pressing device 107 shown in FIG. 20 is arranged on the support base 101 of the strength inspection device shown in FIG. 17, and the horizontal lead frame substrate pressing device 107 is arranged. The horizontal lead frame substrate 111 is arranged between the horizontal lead frame substrate mounting portion 107a and the contact portion 107b. The horizontal lead frame substrate mounting portion 107a is a member having a U-shaped cross section, and is arranged with its opening facing downward. A groove portion 1 for fitting the horizontal lead frame substrate 111 on the upper surface of the horizontal lead frame substrate mounting portion 107a.
07a1 is provided. Further, the contact portion 107b is
It is a member for pressing and fixing the horizontal lead frame substrate 111 into the groove 107a1. As described above, with the horizontal lead frame substrate 111 arranged on the horizontal lead frame substrate mounting portion 107a, a semiconductor device to be inspected is selected from a plurality of semiconductor devices, and the semiconductor device to be inspected is selected. The wire pull strength is measured (see FIGS. 19 (k) and 19 (l)).

【0016】続いて、第7工程として、前記検査対象の
半導体デバイスに対してボールシェア強度測定を行う
(図19(m)および図19(n)参照)。
Subsequently, as a seventh step, ball shear strength measurement is performed on the semiconductor device to be inspected (see FIGS. 19 (m) and 19 (n)).

【0017】最後に、第8工程として、前記検査対象の
半導体デバイスに対してダイシェア強度測定を行う(図
19(o)および図19(p)参照)。
Finally, as an eighth step, die shear strength measurement is performed on the semiconductor device to be inspected (see FIGS. 19 (o) and 19 (p)).

【0018】なお、前述の第1工程から第8工程のう
ち、第1工程から第5工程までは半導体デバイスの製造
工程であり、残りの第6工程から第8工程までが強度検
査工程である。
Among the above-mentioned first to eighth steps, the first to fifth steps are semiconductor device manufacturing steps, and the remaining sixth to eighth steps are strength inspection steps. .

【0019】次に、横型リードフレーム基板を用いて形
成された半導体デバイスに対して行われる、ワイヤプル
強度測定(第6工程)、ボールシェア強度測定(第7工
程)およびダイシェア強度測定(第8工程)について、
図21、図22および図23を用いて説明する。
Next, the wire pull strength measurement (sixth step), the ball shear strength measurement (seventh step) and the die shear strength measurement (eighth step) performed on the semiconductor device formed by using the horizontal lead frame substrate. )about,
This will be described with reference to FIGS. 21, 22 and 23.

【0020】第6工程で行われるワイヤプル強度測定で
は、まず、第6−1工程として、強度検査装置に、横型
リードフレーム基板用押さえ装置107を配置し、この
横型リードフレーム基板用押さえ装置107に複数個の
半導体デバイスが形成された横型リードフレーム基板1
11を固定する。次いで、強度検査装置の半導体荷重セ
ンサ103にワイヤプル用フック123を取り付ける。
さらに、複数個の半導体デバイスから検査対象とする半
導体デバイスを1個選択する(図21(a)参照)。
In the wire pull strength measurement performed in the sixth step, first, in the step 6-1, the horizontal lead frame substrate holding device 107 is arranged in the strength inspection device, and the horizontal lead frame substrate holding device 107 is placed in the horizontal lead frame substrate holding device 107. Horizontal lead frame substrate 1 having a plurality of semiconductor devices formed thereon
Fix 11 Next, the wire pull hook 123 is attached to the semiconductor load sensor 103 of the strength inspection device.
Further, one semiconductor device to be inspected is selected from the plurality of semiconductor devices (see FIG. 21A).

【0021】続いて、第6−2工程として、XYテーブ
ル102およびZテーブル104を移動させて、検査対
象の半導体デバイスの金ワイヤ114の近傍にワイヤプ
ル用フック123を配置する(図21(b)参照)。
Subsequently, in a 6th-2 step, the XY table 102 and the Z table 104 are moved to place the wire pulling hook 123 near the gold wire 114 of the semiconductor device to be inspected (FIG. 21B). reference).

【0022】続いて、第6−3工程として、XYテーブ
ル102およびZテーブル104をさらに移動させて、
金ワイヤ114の下方にワイヤプル用フック123の屈
曲部を配置する(図21(c)参照)。
Then, as a sixth to third step, the XY table 102 and the Z table 104 are further moved,
The bent portion of the wire pull hook 123 is arranged below the gold wire 114 (see FIG. 21C).

【0023】続いて、第6−4工程として、強度検査装
置の操作スイッチ106を操作することにより測定が始
まり、制御部105からの制御信号に従ってZテーブル
104が自動的に移動し、ワイヤプル用フック123が
取り付けられた半導体荷重センサ103が上昇する(図
21(d)参照)。
Then, as a sixth to fourth step, the measurement is started by operating the operation switch 106 of the strength inspection device, the Z table 104 is automatically moved according to the control signal from the control section 105, and the wire pull hook is set. The semiconductor load sensor 103 to which 123 is attached rises (see FIG. 21 (d)).

【0024】最後に、第6−5工程として、金ワイヤ1
14が切れるまでZテーブル104が移動し続け、金ワ
イヤ114が切れたときに金ワイヤ114に加えられて
いた荷重に基づき、制御部105においてワイヤプル強
度が求められる(図21(e)参照)。
Finally, as a sixth to fifth step, the gold wire 1
The Z table 104 continues to move until 14 is broken, and the wire pull strength is obtained by the control unit 105 based on the load applied to the gold wire 114 when the gold wire 114 is broken (see FIG. 21E).

【0025】一方、第7工程で行われるボールシェア強
度測定では、まず、第7−1工程として、前述のワイヤ
プル強度測定が終了した状態で、強度検査装置の半導体
荷重センサ103にボールシェア用ツール125を取り
付ける(図22(a)参照)。
On the other hand, in the ball shear strength measurement performed in the seventh step, first, in a step 7-1, the ball shear tool is attached to the semiconductor load sensor 103 of the strength inspection device in a state where the above-described wire pull strength measurement is completed. Attach 125 (see FIG. 22 (a)).

【0026】続いて、第7−2工程として、XYテーブ
ル102およびZテーブル104を移動させて、検査対
象の半導体デバイスの金ボール114aの近傍にボール
シェア用ツール125を配置する(図22(b)参
照)。なお、この金ボール114aは、金ワイヤ114
を半導体チップ113の所定の位置に確実に接続する際
に形成されたものである。
Subsequently, in the 7th-2 step, the XY table 102 and the Z table 104 are moved to place the ball shearing tool 125 in the vicinity of the gold ball 114a of the semiconductor device to be inspected (FIG. 22 (b). )reference). The gold ball 114a is the gold wire 114a.
Is formed when the semiconductor chip 113 is securely connected to a predetermined position.

【0027】続いて、第7−3工程として、強度検査装
置の操作スイッチ106を操作することにより測定が始
まり、制御部105からの制御信号に従ってXYテーブ
ル102およびZテーブル104が自動的に移動し、半
導体チップ113の上面を検出する。すなわち、半導体
チップ113の上面にボールシェア用ツール125の先
端部が接触する(図22(c)参照)。
Subsequently, as a seventh step, the measurement is started by operating the operation switch 106 of the strength inspection device, and the XY table 102 and the Z table 104 are automatically moved according to the control signal from the control section 105. , The upper surface of the semiconductor chip 113 is detected. That is, the tip of the ball shearing tool 125 contacts the upper surface of the semiconductor chip 113 (see FIG. 22C).

【0028】続いて、第7−4工程として、Zテーブル
104が自動的に移動し、ボールシェア用ツール125
の先端部が半導体チップ113の上面から一定の距離だ
け上昇する(図22(d)参照)。
Then, as the 7th-4th step, the Z table 104 is automatically moved to move the ball sharing tool 125.
22. The tip end of is raised by a certain distance from the upper surface of the semiconductor chip 113 (see FIG. 22D).

【0029】最後に、第7−5工程として、XYテーブ
ル102が自動的に移動し、ボールシェア用ツール12
5の先端部によって金ボール114aを剥がすのに要し
た荷重に基づき、制御部105においてボールシェア強
度が求められる(図22(e)参照)。
Finally, as the 7th-5th step, the XY table 102 is automatically moved, and the ball sharing tool 12 is moved.
The ball shear strength is obtained by the control unit 105 based on the load required to peel off the gold ball 114a by the tip portion of No. 5 (see FIG. 22 (e)).

【0030】一方、第8工程で行われるダイシェア強度
測定では、まず、第8−1工程として、前述のボールシ
ェア強度測定が終了した状態で、強度検査装置の半導体
荷重センサ103にダイシェア用ツール126を取り付
ける(図23(a)参照)。続いて、第8−2工程とし
て、XYテーブル102およびZテーブル104を移動
させて、半導体チップ113の近傍にダイシェア用ツー
ル126を配置する(図23(b)参照)。
On the other hand, in the die shear strength measurement performed in the eighth step, first, in the eighth step, the die shear tool 126 is attached to the semiconductor load sensor 103 of the strength inspection device in a state where the above-mentioned ball shear strength measurement is completed. Is attached (see FIG. 23 (a)). Subsequently, as an 8th step, the XY table 102 and the Z table 104 are moved to dispose the die-sharing tool 126 in the vicinity of the semiconductor chip 113 (see FIG. 23B).

【0031】続いて、第8−3工程として、強度検査装
置の操作スイッチ106を操作することにより測定が始
まり、制御部105からの制御信号に従ってXYテーブ
ル102およびZテーブル104が自動的に移動し、第
1リードフレーム111aの上面を検出する。すなわ
ち、第1リードフレーム111aの上面にダイシェア用
ツール126の先端部が接触する(図23(c)参
照)。
Then, in the 8th step, the measurement is started by operating the operation switch 106 of the strength inspection device, and the XY table 102 and the Z table 104 are automatically moved according to the control signal from the control unit 105. , The upper surface of the first lead frame 111a is detected. That is, the tip of the die shearing tool 126 contacts the upper surface of the first lead frame 111a (see FIG. 23 (c)).

【0032】続いて、第8−4工程として、Zテーブル
104が自動的に移動し、ダイシェア用ツール126の
先端部が第1リードフレーム111aの上面から一定の
距離だけ上昇する(図23(d)参照)。
Then, in the 8th-4th step, the Z table 104 is automatically moved, and the tip end portion of the die-sharing tool 126 is raised by a predetermined distance from the upper surface of the first lead frame 111a (FIG. 23 (d). )reference).

【0033】最後に、第8−5工程として、XYテーブ
ル102が自動的に移動し、ダイシェア用ツール126
の先端部によって半導体チップ113を剥がすのに要し
た荷重に基づき、制御部105においてダイシェア強度
が求められる(図23(e)参照)。
Finally, in the 8th-5th step, the XY table 102 is automatically moved and the die-sharing tool 126 is used.
The die shear strength is obtained in the control unit 105 based on the load required to peel off the semiconductor chip 113 by the front end of the (FIG. 23 (e)).

【0034】次に、横型リードフレーム基板上の半導体
デバイスの代わりに縦型リードフレーム基板上の半導体
デバイスを強度検査の被検査対象物とした場合につい
て、説明する。
Next, a case will be described in which a semiconductor device on a vertical lead frame substrate is used as an object to be inspected for strength inspection instead of the semiconductor device on the horizontal lead frame substrate.

【0035】図24は、強度検査の対象となる縦型リー
ドフレーム基板の一例を示す説明図であり、同図(a)
は縦型リードフレーム基板を示す平面図であり、同図
(b)は縦型リードフレーム基板を示す側面図であり、
同図(c)は縦型リードフレーム基板の半導体チップ搭
載部(図24(a)中の領域C2)を示す拡大平面図で
あり、同図(d)は縦型リードフレーム基板の半導体チ
ップ搭載部(図24(b)中の領域C3)を示す拡大側
面図である。
FIG. 24 is an explanatory view showing an example of a vertical lead frame substrate which is the object of strength inspection.
Is a plan view showing the vertical lead frame substrate, and FIG. 6B is a side view showing the vertical lead frame substrate.
24C is an enlarged plan view showing a semiconductor chip mounting portion (region C2 in FIG. 24A) of the vertical lead frame substrate, and FIG. 19D is a semiconductor chip mounting portion of the vertical lead frame substrate. FIG. 25 is an enlarged side view showing a portion (region C3 in FIG. 24B).

【0036】この縦型リードフレーム基板115は導電
性の薄板を型抜きして形成されており、ダイボンドエリ
アS1を有する第1リードフレーム115aと、セカン
ドボンドエリアS2を有する第2リードフレーム115
bとを一対のリードフレームとする複数対のリードフレ
ームを備えている。
This vertical lead frame substrate 115 is formed by stamping out a conductive thin plate, and has a first lead frame 115a having a die bond area S1 and a second lead frame 115 having a second bond area S2.
and a plurality of pairs of lead frames each having a pair of lead frames b.

【0037】次に、図24に示す縦型リードフレーム基
板115に半導体チップを搭載する手順(すなわち、半
導体デバイスの製造工程)、および搭載後の縦型リード
フレーム基板115の強度検査工程について、図25を
参照しつつ説明する。なお、図25は、各一対のリード
フレームの半導体チップ搭載部(ダイボンドエリアS1
部分およびセカンドボンドエリアS2部分)の平面図と
側面図とを、各工程ごとに示している。
Next, a procedure for mounting a semiconductor chip on the vertical lead frame substrate 115 shown in FIG. 24 (that is, a semiconductor device manufacturing process) and a strength inspection process for the vertical lead frame substrate 115 after mounting will be described. This will be described with reference to 25. Note that FIG. 25 shows the semiconductor chip mounting portion (die bond area S1) of each pair of lead frames.
A plan view and a side view of the portion and the second bond area S2 portion) are shown for each step.

【0038】まず、第1工程として、製造装置の支持台
(図示せず)上に縦型リードフレーム基板115を載置
する(図25(a)および図25(b)参照)。
First, as the first step, the vertical lead frame substrate 115 is placed on a support (not shown) of the manufacturing apparatus (see FIGS. 25 (a) and 25 (b)).

【0039】次いで、第2工程として、縦型リードフレ
ーム基板115の全ての第1リードフレーム115aの
ダイボンドエリアS1にダイボンドペースト112を塗
布する(図25(c)および図25(d)参照)。
Next, as a second step, the die bond paste 112 is applied to the die bond areas S1 of all the first lead frames 115a of the vertical lead frame substrate 115 (see FIGS. 25 (c) and 25 (d)).

【0040】次いで、第3工程として、ダイボンドペー
スト112を介して各第1リードフレーム115aに半
導体チップ113を搭載する(図25(e)および図2
5(f)参照)。
Then, in a third step, the semiconductor chip 113 is mounted on each first lead frame 115a via the die bond paste 112 (FIG. 25 (e) and FIG. 2).
5 (f)).

【0041】次いで、第4工程として、半導体チップ1
13を搭載した状態で縦型リードフレーム基板115を
硬化炉(図示せず)に投入し、ダイボンドペースト11
2を硬化させる(図25(g)および図25(h)参
照)。
Next, as a fourth step, the semiconductor chip 1
The vertical lead frame substrate 115 with 13 mounted therein is placed in a curing furnace (not shown), and the die bond paste 11
2 is cured (see FIG. 25 (g) and FIG. 25 (h)).

【0042】次いで、第5工程として、全ての第2リー
ドフレーム115bのセカンドボンドエリアS2と全て
の半導体チップ113の電極(図示せず)との間を金ワ
イヤ114を用いてそれぞれワイヤボンディングする
(図25(i)および図25(j)参照)。このように
して、第1リードフレーム115aおよび第2リードフ
レーム115bを出力端子とする半導体デバイスを複数
個製造する。
Then, in a fifth step, wire bonding is performed between the second bond areas S2 of all the second lead frames 115b and the electrodes (not shown) of all the semiconductor chips 113 using gold wires 114 ( 25 (i) and 25 (j)). In this way, a plurality of semiconductor devices having the first lead frame 115a and the second lead frame 115b as output terminals are manufactured.

【0043】この後、第6工程として、図17に示す強
度検査装置の支持台101に、図26に示す縦型リード
フレーム基板用押さえ装置108を配置し、この縦型リ
ードフレーム基板用押さえ装置108の縦型リードフレ
ーム基板載置部108aと当接部108bとの間に、縦
型リードフレーム基板115を配置する。なお、前記縦
型リードフレーム基板載置部108aは断面L字型の部
材であり、その垂直部の外側面には縦型リードフレーム
基板115を嵌め込むための凹み部108a1が設けら
れている。また、当接部108bは、縦型リードフレー
ム基板115を凹み部108a1内に押し込み固定する
ための部材である。前述のように、縦型リードフレーム
基板115を縦型リードフレーム基板載置部108aに
配置した状態で、複数個の半導体デバイスから検査対象
となる半導体デバイスを選択し、この検査対象の半導体
デバイスに対して、横型リードフレーム基板の場合(図
21参照)と同様にワイヤプル強度測定を行う(図25
(k)および図25(l)参照)。
Thereafter, as a sixth step, the vertical lead frame substrate pressing device 108 shown in FIG. 26 is arranged on the support base 101 of the strength inspection device shown in FIG. 17, and the vertical lead frame substrate pressing device 108 is arranged. The vertical lead frame substrate 115 is arranged between the vertical lead frame substrate mounting portion 108 a and the contact portion 108 b. The vertical lead frame substrate mounting portion 108a is a member having an L-shaped cross section, and a recess 108a1 for inserting the vertical lead frame substrate 115 is provided on the outer surface of the vertical portion thereof. The contact portion 108b is a member for pressing and fixing the vertical lead frame substrate 115 into the recess 108a1. As described above, in the state in which the vertical lead frame substrate 115 is arranged on the vertical lead frame substrate mounting portion 108a, a semiconductor device to be inspected is selected from a plurality of semiconductor devices, and the semiconductor device to be inspected is selected. On the other hand, the wire pull strength measurement is performed as in the case of the horizontal lead frame substrate (see FIG. 21) (FIG. 25).
(K) and FIG. 25 (l)).

【0044】次いで、第7工程として、前記検査対象の
半導体デバイスに対して、横型リードフレーム基板の場
合(図22参照)と同様にボールシェア強度測定を行う
(図25(m)および図25(n)参照)。
Next, as a seventh step, ball shear strength measurement is performed on the semiconductor device to be inspected as in the case of the horizontal lead frame substrate (see FIG. 22) (FIG. 25 (m) and FIG. 25 ( n)).

【0045】最後に、第8工程として、前記検査対象の
半導体デバイスに対して、横型リードフレーム基板の場
合(図23参照)と同様にダイシェア強度測定を行う
(図25(o)および図25(p)参照)。
Finally, as the eighth step, the die shear strength is measured for the semiconductor device to be inspected, as in the case of the horizontal lead frame substrate (see FIG. 23) (FIG. 25 (o) and FIG. 25 ( p)).

【0046】なお、前述の第1工程から第8工程のう
ち、第1工程から第5工程までは半導体デバイスの製造
工程であり、残りの第6工程から第8工程までが強度検
査工程である。
Of the above-mentioned first to eighth steps, the first to fifth steps are semiconductor device manufacturing steps, and the remaining sixth to eighth steps are strength inspection steps. .

【0047】次に、横型リードフレーム基板111の強
度検査と縦形リードフレーム基板115の強度検査とを
一連に行うときの従来の強度検査手順について、図27
に示すフローチャートに従って説明する。
Next, the conventional strength inspection procedure when the strength inspection of the horizontal lead frame substrate 111 and the strength inspection of the vertical lead frame substrate 115 are carried out in series is shown in FIG.
It will be described according to the flowchart shown in FIG.

【0048】まず、第1工程として、これから検査する
半導体デバイスがどちらの型のリードフレームに搭載さ
れているかを選択する(S101)。すなわち、本例に
おいては、横型リードフレーム基板が選択される(S1
01の結果が、「横型リードフレーム基板の場合」とな
る)。
First, as a first step, which type of lead frame the semiconductor device to be inspected is mounted is selected (S101). That is, in this example, the horizontal lead frame substrate is selected (S1
The result of 01 is "in the case of a horizontal lead frame substrate").

【0049】続いて、第2工程として、横型リードフレ
ーム基板111の強度検査を行うために、強度検査装置
の支持台101に横型リードフレーム基板用押さえ装置
107を取付け固定する(S102)。
Then, as a second step, in order to perform strength inspection of the horizontal lead frame substrate 111, the horizontal lead frame substrate pressing device 107 is attached and fixed to the support base 101 of the strength inspection device (S102).

【0050】続いて、第3工程として、横型リードフレ
ーム基板用押さえ装置107に横型リードフレーム基板
111を固定する(S103)。
Subsequently, as a third step, the horizontal lead frame substrate 111 is fixed to the horizontal lead frame substrate pressing device 107 (S103).

【0051】続いて、第4工程として、強度検査装置で
ワイヤプル強度、ボールシェア強度およびダイシェア強
度を測定する(S104、S105およびS106)。
Then, as a fourth step, the wire pull strength, ball shear strength and die shear strength are measured by a strength inspection device (S104, S105 and S106).

【0052】検査終了後、第5工程として、横型リード
フレーム基板用押さえ装置107から横型リードフレー
ム基板111を取り出す(S107)。
After the inspection is completed, as a fifth step, the horizontal lead frame substrate 111 is taken out from the horizontal lead frame substrate pressing device 107 (S107).

【0053】続いて、第6工程として、支持台101か
ら横型リードフレーム基板用押さえ装置107を取り外
す(S108)。
Subsequently, as a sixth step, the horizontal lead frame substrate pressing device 107 is removed from the support base 101 (S108).

【0054】続いて、第7工程として、全てのリードフ
レーム基板の検査が終了したか否かを判断する(S10
9)。本例では、次に縦型リードフレーム基板115上
に搭載された半導体デバイスに対する検査を行う(S1
09の判断結果がNOとなる)。
Then, as a seventh step, it is judged whether or not the inspection of all the lead frame substrates is completed (S10).
9). In this example, next, the semiconductor device mounted on the vertical lead frame substrate 115 is inspected (S1).
The determination result of 09 is NO).

【0055】続いて、第8工程として、次に検査する半
導体デバイスがどちらの型のリードフレームに搭載され
ているかを選択する(S101)。すなわち、本実施例
においては、縦型リードフレーム基板が選択される(S
101の結果が、「縦型リードフレーム基板の場合」と
なる)。
Then, as an eighth step, which type of lead frame the semiconductor device to be inspected next is mounted is selected (S101). That is, in this embodiment, the vertical lead frame substrate is selected (S
The result of 101 is “in the case of a vertical lead frame substrate”).

【0056】続いて、第9工程として、縦型リードフレ
ーム基板115の強度検査を行うために、強度検査装置
の支持台101に縦型リードフレーム基板用押さえ装置
108を取付け固定する(S110)。
Then, as a ninth step, in order to perform strength inspection of the vertical lead frame substrate 115, the vertical lead frame substrate pressing device 108 is attached and fixed to the support base 101 of the strength inspection device (S110).

【0057】続いて、第10工程として、縦型リードフ
レーム基板用押さえ装置108に縦型リードフレーム基
板115を固定する(S111)。
Subsequently, as a tenth step, the vertical lead frame substrate 115 is fixed to the vertical lead frame substrate pressing device 108 (S111).

【0058】続いて、第11工程として、強度検査装置
でワイヤプル強度、ボールシェア強度およびダイシェア
強度を測定する(S104、S105およびS10
6)。
Then, as an eleventh step, the wire pull strength, the ball shear strength and the die shear strength are measured by a strength inspection device (S104, S105 and S10).
6).

【0059】続いて、第12工程として、縦型リードフ
レーム基板用押さえ装置108から横型リードフレーム
基板115を取り出す(S112)。
Then, as a twelfth step, the horizontal lead frame substrate 115 is taken out from the vertical lead frame substrate pressing device 108 (S112).

【0060】最後に、第13工程として、支持台101
から縦型リードフレーム基板用押さえ装置108を取り
外す(S113)。
Finally, as a thirteenth step, the support base 101
The vertical lead frame substrate pressing device 108 is removed from (S113).

【0061】なお、本例においては、横型リードフレー
ム基板111上の半導体デバイスに対する強度検査を1
回行い、その後に縦形リードフレーム基板115上の半
導体デバイスに対する強度検査を1回行っているが、検
査対象となるリードフレーム基板がなくなるまで(すな
わち、S109の結果がYESになるまで)繰り返し検
査を行ってもよい。
In this example, the strength inspection of the semiconductor device on the horizontal lead frame substrate 111 is performed by 1
The strength inspection is performed once for the semiconductor device on the vertical lead frame substrate 115, but repeated inspection is performed until there is no lead frame substrate to be inspected (that is, until the result of S109 is YES). You can go.

【0062】前述のように、従来の強度検査方法では、
横型リードフレーム基板111上の半導体デバイスの強
度測定を行うときは、横型リードフレーム基板用押さえ
装置107を使用し、縦型リードフレーム基板111上
の半導体デバイスの強度測定を行うときは、縦型リード
フレーム基板用押さえ装置108を使用していた。その
ため、リードフレーム基板押さえ装置の交換作業に約5
分以上の時間を要している。
As described above, in the conventional strength inspection method,
When measuring the strength of the semiconductor device on the horizontal lead frame substrate 111, the horizontal lead frame substrate holding device 107 is used, and when measuring the strength of the semiconductor device on the vertical lead frame substrate 111, the vertical lead frame substrate 111 is used. The frame substrate pressing device 108 was used. Therefore, it takes about 5 minutes to replace the lead frame substrate holding device.
It takes more than a minute.

【0063】[0063]

【発明が解決しようとする課題】前述のように、従来の
強度検査装置におけるリードフレーム基板押さえ装置
は、横型リードフレーム基板上の半導体デバイスの強度
測定を行うときは、横型リードフレーム基板用押さえ装
置を使用し、縦型リードフレーム基板上の半導体デバイ
スの強度測定を行うときは、縦型リードフレーム基板用
押さえ装置を使用していた。そのため、検査対象となる
リードフレーム基板の型が変わるたびにリードフレーム
押さえ装置を交換する必要が有り、この交換作業に時間
がかかるという問題があった。
As described above, the lead frame substrate retainer in the conventional strength inspection apparatus is used for the horizontal lead frame substrate retainer when measuring the strength of the semiconductor device on the horizontal lead frame substrate. When measuring the strength of a semiconductor device on a vertical lead frame substrate by using, a vertical lead frame substrate pressing device was used. Therefore, it is necessary to replace the lead frame pressing device every time the mold of the lead frame substrate to be inspected is changed, and this replacement work takes time.

【0064】また、リードフレーム基板の厚さが薄いも
のは、リードフレーム基板押さえ装置に固定するとき、
リードフレーム基板がたわみ変形したり、金ワイヤが変
形するとういう品質問題が発生していた。
If the lead frame substrate is thin, when it is fixed to the lead frame substrate retainer,
There have been quality problems such as the lead frame substrate being flexibly deformed and the gold wire being deformed.

【0065】本発明はこのような問題を解決すべく創案
されたもので、横型リードフレーム基板および縦型リー
ドフレーム基板について共用できるリードフレーム基板
押さえ装置を提供することにある。
The present invention was devised to solve such a problem, and it is an object of the present invention to provide a lead frame substrate retainer which can be commonly used for a horizontal lead frame substrate and a vertical lead frame substrate.

【0066】[0066]

【課題を解決するための手段】本発明のリードフレーム
基板押さえ装置は、ワイヤプル強度、ボールシェア強度
およびダイシェア強度の検査に用いるリードフレーム基
板押さえ装置であって、横型リードフレーム基板の位置
決めを行う位置決め治具と、横型リードフレーム基板を
位置決め治具に押さえつけて固定する押さえ治具と、該
押さえ治具を前記位置決め治具に対して近接および離隔
するように移動させる移動機構と、縦型リードフレーム
基板を挟持して固定する一対の挟持治具と、一方の挟持
治具を固定された他方の挟持治具に対して近接および離
隔するように移動させる移動機構とからなるものであ
る。
A lead frame substrate retainer of the present invention is a lead frame substrate retainer used for inspection of wire pull strength, ball shear strength and die shear strength, and is for positioning a horizontal lead frame substrate. A jig, a holding jig for holding and fixing the horizontal lead frame substrate on the positioning jig, a moving mechanism for moving the holding jig so as to move closer to and away from the positioning jig, and a vertical lead frame. It is composed of a pair of holding jigs for holding and fixing the substrate, and a moving mechanism for moving one holding jig so as to move closer to and further away from the other holding jig.

【0067】また、横型リードフレーム基板を前記位置
決め治具に供給し、縦型リードフレーム基板を挟持治具
に供給する供給部材を備えているものである。
Further, a supply member for supplying the horizontal lead frame substrate to the positioning jig and supplying the vertical lead frame substrate to the holding jig is provided.

【0068】また、前記移動機構がエアシリンダであ
る。
The moving mechanism is an air cylinder.

【0069】[0069]

【発明の実施の形態】つぎに、本発明のリードフレーム
基板押さえ装置の実施の形態について図面を参照しつつ
説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of a lead frame substrate pressing device of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0070】図1は、本発明のリードフレーム基板押さ
え装置の一実施の形態を示す平面図であり、図2は、図
1に示すリードフレーム基板押さえ装置を矢印A1で示
す方向から見た側面図であり、図1および図2は、強度
検査装置に設置した状態のリードフレーム基板押さえ装
置を示している。なお、図1には、半導体荷重センサは
図示されていない。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a lead frame substrate pressing device of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the lead frame substrate pressing device shown in FIG. 1 as seen from the direction indicated by arrow A1. FIG. 1 and FIG. 2 show the lead frame substrate pressing device installed in the strength inspection device. The semiconductor load sensor is not shown in FIG.

【0071】このリードフレーム基板押さえ装置1は、
図18に示す横型リードフレーム基板111の位置決め
を行う位置決め治具2と、横型リードフレーム基板11
1を位置決め治具2に押さえつけて固定する押さえ治具
3a,3bと、該押さえ治具3a,3bを位置決め治具
2に対して近接および離隔するように上下に移動させる
上下移動機構4a,4bと、図24に示す縦型リードフ
レーム基板115を挟持して固定する挟持治具6a,6
bと、一方の挟持治具6aを固定された他方の挟持治具
6bに対して近接および離隔するように前後に移動させ
る前後移動機構7とから構成されている。
This lead frame substrate pressing device 1 is
A positioning jig 2 for positioning the horizontal lead frame substrate 111 and the horizontal lead frame substrate 11 shown in FIG.
Holding jigs 3a and 3b for pressing and fixing 1 on the positioning jig 2, and vertical moving mechanisms 4a and 4b for vertically moving the pressing jigs 3a and 3b so as to approach and separate from the positioning jig 2. And the holding jigs 6a, 6 for holding and fixing the vertical lead frame substrate 115 shown in FIG.
b, and a back-and-forth moving mechanism 7 for moving one holding jig 6a back and forth so as to approach and separate from the other holding jig 6b.

【0072】また、リードフレーム基板押さえ装置1
は、高精度のボールネジとステッピングモータを備えた
XYテーブル8に固定されており、操作スイッチ(図示
せず)によってX方向やY方向にピッチ移動させること
ができる。そのため、ピッチ送りでリードフレーム基板
押さえ装置1の移動を制御することができるので、半導
体荷重センサ9に対する被検査対象物の位置合わせ作業
を短時間で行うことができる。
Further, the lead frame substrate holding device 1
Is fixed to an XY table 8 equipped with a high precision ball screw and a stepping motor, and can be pitch-moved in the X and Y directions by an operation switch (not shown). Therefore, since the movement of the lead frame substrate pressing device 1 can be controlled by the pitch feed, the work of aligning the inspection target object with respect to the semiconductor load sensor 9 can be performed in a short time.

【0073】一方、位置決め治具2は、横型リードフレ
ーム基板111を嵌め込むことができる溝部2aを有し
ており、横型リードフレーム基板111に形成された半
導体デバイスの強度検査を行うときのみ使用され、横型
リードフレーム基板111の形状等の種類別に用意され
ている。この位置決め治具2は、使用時、XYテーブル
8に固定されているとともに上下移動機構4a,4bを
支持する支持部材10a,10bの凹み部に嵌め込むだ
けで、リードフレーム基板押さえ装置1に容易に配設す
ることができる。
On the other hand, the positioning jig 2 has a groove portion 2a into which the horizontal lead frame substrate 111 can be fitted, and is used only when performing a strength inspection of the semiconductor device formed on the horizontal lead frame substrate 111. The horizontal lead frame substrate 111 is prepared for each type such as the shape. This positioning jig 2 is fixed to the XY table 8 at the time of use and can be easily attached to the lead frame substrate retainer 1 simply by fitting it into the recesses of the support members 10a and 10b that support the vertical movement mechanisms 4a and 4b. Can be installed at

【0074】また、押さえ治具3a,3bは、エアシリ
ンダなどの上下移動機構4a,4bによって上下に移動
可能であり、横型リードフレーム基板111の半導体チ
ップ搭載部を半導体荷重センサ9に対向させた状態で、
櫛歯形状の先端部で横型リードフレーム基板111を位
置決め治具2の溝部2a内に押し付けることができるよ
うになっている。
The pressing jigs 3a and 3b can be moved up and down by vertical moving mechanisms 4a and 4b such as air cylinders, and the semiconductor chip mounting portion of the horizontal lead frame substrate 111 is opposed to the semiconductor load sensor 9. In the state
The horizontal lead frame substrate 111 can be pressed into the groove 2a of the positioning jig 2 with the comb-shaped tip.

【0075】また、挟持治具6a,6bは、XYテーブ
ル8に固定された固定側の挟持治具6aと、エアシリン
ダなどの前後移動機構7によって前後に移動可能な移動
側挟持治具6bとからなっている。この挟持治具6a,
6bは、2つの挟持治具6a,6bで縦型リードフレー
ム基板115を挟持し、縦型リードフレーム基板115
の半導体チップ搭載部を半導体荷重センサ9に対向させ
た状態で、固定することができるようになっている。前
記XYテーブル8は、従来のものと同様に、操作スイッ
チによる操作や制御部(図示せず)からの制御信号によ
り駆動する。
The holding jigs 6a and 6b are a fixed-side holding jig 6a fixed to the XY table 8 and a moving-side holding jig 6b which can be moved back and forth by a front-back moving mechanism 7 such as an air cylinder. It consists of This clamping jig 6a,
6b holds the vertical lead frame substrate 115 with two holding jigs 6a and 6b.
The semiconductor chip mounting portion can be fixed in a state of facing the semiconductor load sensor 9. The XY table 8 is driven by an operation by an operation switch or a control signal from a control unit (not shown), similarly to the conventional one.

【0076】なお、半導体荷重センサ9は、従来のもの
と同様に、Zテーブル(図示せず)によってZ軸方向に
移動可能であり、操作スイッチによる操作や制御部(図
示せず)からの制御信号により駆動する。
The semiconductor load sensor 9 can be moved in the Z-axis direction by a Z table (not shown) in the same manner as the conventional load sensor, and is operated by an operation switch or controlled by a control unit (not shown). Driven by a signal.

【0077】また、本実施例においては、検査前の横型
リードフレーム基板111や縦型リードフレーム基板1
15は収納部材11と収納部材ローダ12とからなる供
給部材に収納されており、前記収納部材11は、横型リ
ードフレーム基板111を位置決め治具2に供給し、縦
型リードフレーム基板115を挟持治具6a,6bに供
給することができるようになっている。さらに、収納部
材11は検査時は収納部材ローダ12に配置されてお
り、この収納部材ローダ12は、横型リードフレーム基
板111や縦型リードフレーム基板115をリードフレ
ーム基板押さえ装置1の所定の位置にスライドさせなが
ら供給することができるものである。このような供給方
法を用いることにより、横型リードフレーム基板111
や縦型リードフレーム基板115をリードフレーム基板
押さえ装置1に配置するときに生じるたわみ変形や、金
ワイヤ線の変形や断線を防ぐことができる。
Further, in this embodiment, the horizontal lead frame substrate 111 and the vertical lead frame substrate 1 before inspection are used.
15 is housed in a supply member composed of a housing member 11 and a housing member loader 12, and the housing member 11 supplies the horizontal lead frame substrate 111 to the positioning jig 2 and holds and holds the vertical lead frame substrate 115. It can be supplied to the tools 6a and 6b. Further, the storage member 11 is arranged in the storage member loader 12 at the time of inspection, and the storage member loader 12 places the horizontal lead frame substrate 111 or the vertical lead frame substrate 115 at a predetermined position of the lead frame substrate retainer 1. It can be supplied while sliding. By using such a supply method, the horizontal lead frame substrate 111
It is possible to prevent flexural deformation that occurs when the vertical lead frame substrate 115 is placed in the lead frame substrate retainer 1, deformation of the gold wire line, and disconnection.

【0078】次に、本発明のリードフレーム基板押さえ
装置を用いた半導体デバイスの強度検査手順について説
明する。なお、本例においては、最初に横型リードフレ
ーム基板111の強度検査を行い、その後に縦形リード
フレーム基板115の強度検査を行う場合について説明
する。
Next, a procedure for inspecting the strength of a semiconductor device using the lead frame substrate pressing device of the present invention will be described. In this example, a case where the strength inspection of the horizontal lead frame substrate 111 is first performed and then the strength inspection of the vertical lead frame substrate 115 is performed will be described.

【0079】図3は、この半導体デバイスの強度検査手
順の一例を示すフローチャートである。図4は、リード
フレーム基板押さえ装置に横型リードフレーム基板を供
給しているときのリードフレーム基板押さえ装置の一例
を示す平面図であり、図5は、図4に示すリードフレー
ム基板押さえ装置を矢印A2で示す方向から見た側面図
であり、図6は、図5中の領域B1を示す一部拡大側面
図である。また、図7は、横型リードフレーム基板を固
定している状態のリードフレーム基板押さえ装置の一例
を示す平面図であり、図8は、図7中の領域B2を示す
一部拡大側面図であり、図9は、図7に示すリードフレ
ーム基板押さえ装置を矢印A3で示す方向から見た側面
図であり、図10は、図9中の領域B3を示す一部拡大
側面図である。また、図11は、リードフレーム基板押
さえ装置に縦型リードフレーム基板を供給しているとき
のリードフレーム基板押さえ装置の一例を示す平面図で
あり、図12は、図11に示すリードフレーム基板押さ
え装置を矢印A4で示す方向から見た側面図であり、図
13は、図12中の領域B4を示す一部拡大側面図であ
る。また、図14は、縦型リードフレーム基板を固定し
ている状態のリードフレーム基板押さえ装置の一例を示
す平面図であり、図15は、図14に示すリードフレー
ム基板押さえ装置を矢印A5で示す方向から見た側面図
であり、図16は、図15中の領域B5を示す一部拡大
側面図である。
FIG. 3 is a flow chart showing an example of the strength inspection procedure of this semiconductor device. FIG. 4 is a plan view showing an example of the lead frame substrate retainer when the horizontal lead frame substrate is being supplied to the lead frame substrate retainer, and FIG. 5 shows the lead frame substrate retainer shown in FIG. It is the side view seen from the direction shown by A2, and FIG. 6 is a partially expanded side view which shows the area | region B1 in FIG. FIG. 7 is a plan view showing an example of the lead frame substrate retainer with the horizontal lead frame substrate fixed, and FIG. 8 is a partially enlarged side view showing a region B2 in FIG. 9 is a side view of the lead frame substrate retainer shown in FIG. 7 as seen from the direction indicated by arrow A3, and FIG. 10 is a partially enlarged side view showing a region B3 in FIG. 11 is a plan view showing an example of the lead frame substrate retainer when the vertical lead frame substrate is being supplied to the lead frame substrate retainer, and FIG. 12 is a lead frame substrate retainer shown in FIG. It is the side view which looked at the apparatus from the direction shown by arrow A4, and FIG. 13 is a partially expanded side view which shows the area | region B4 in FIG. 14 is a plan view showing an example of the lead frame substrate retainer with the vertical lead frame substrate fixed, and FIG. 15 shows the lead frame substrate retainer shown in FIG. 14 by an arrow A5. 16 is a side view seen from the direction, and FIG. 16 is a partially enlarged side view showing a region B5 in FIG.

【0080】まず、第1工程として、これから検査する
半導体デバイスがどちらの型のリードフレームに搭載さ
れているかを選択する(S1)。すなわち、本実施例に
おいては、横型リードフレーム基板が選択される(S1
の結果が、「横型リードフレーム基板の場合」とな
る)。
First, as a first step, which type of lead frame the semiconductor device to be inspected is mounted is selected (S1). That is, in this embodiment, the horizontal lead frame substrate is selected (S1).
The result is "for horizontal leadframe substrate").

【0081】続いて、第2工程として、作業者が、図6
に示すように、支持部材10a,10bの凹み部に位置
決め治具2を装着する(S2)。
Subsequently, as a second step, the worker
As shown in, the positioning jig 2 is mounted in the recesses of the support members 10a and 10b (S2).

【0082】続いて、第3工程として、作業者が、検査
を行う半導体デバイスを搭載した横型リードフレーム基
板が収納されている収納部材11を収納部材ローダ12
に設置する(S3)。
Subsequently, as a third step, the worker inserts the storage member 11 in which the horizontal lead frame substrate on which the semiconductor device to be inspected is mounted is stored in the storage member loader 12.
(S3).

【0083】続いて、第4工程として、XYテーブル8
を操作スイッチによって操作して、リードフレーム基板
押さえ装置1を収納部材11側に移動させる。さらに、
図4〜図6に示すように、収納部材11から位置決め治
具2に横型リードフレーム基板111をスライドさせな
がら搬送する(S4)。
Subsequently, as the fourth step, the XY table 8
Is operated by the operation switch to move the lead frame substrate pressing device 1 to the storage member 11 side. further,
As shown in FIGS. 4 to 6, the horizontal lead frame substrate 111 is transported from the storage member 11 to the positioning jig 2 while sliding (S4).

【0084】続いて、第5工程として、作業者が操作ス
イッチを操作して上下移動機構4a,4bを駆動させる
ことによって、図7〜図10に示すように、押さえ治具
3a,3bによって横型リードフレーム基板111を位
置決め治具2に押さえつけ固定する(S5)。
Subsequently, in a fifth step, the operator operates the operation switches to drive the vertical movement mechanisms 4a and 4b, so that the horizontal jigs are moved by the holding jigs 3a and 3b as shown in FIGS. The lead frame substrate 111 is pressed and fixed to the positioning jig 2 (S5).

【0085】続いて、第6工程として、制御部からの制
御信号に従いXYテーブル8やZテーブルが駆動し、従
来の手順と同様の手順で、ワイヤプル強度、ボールシェ
ア強度およびダイシェア強度の測定が行われる(S6、
S7およびS8)。
Then, in a sixth step, the XY table 8 and the Z table are driven in accordance with the control signal from the control unit, and the wire pull strength, ball shear strength and die shear strength are measured in the same procedure as the conventional procedure. Be told (S6,
S7 and S8).

【0086】続いて、第7工程として、検査の終了した
横型リードフレーム基板111を収納部材11に戻した
のち(S9)、全てのリードフレーム基板の検査が終了
したか否かを判断する(S10)。本実施例では、次に
縦型リードフレーム基板115上に搭載された半導体デ
バイスに対する検査を行う(S10の判断結果がNOと
なる)。
Subsequently, as a seventh step, after returning the inspected horizontal lead frame substrate 111 to the storage member 11 (S9), it is determined whether or not inspection of all the lead frame substrates has been completed (S10). ). In this embodiment, next, the semiconductor device mounted on the vertical lead frame substrate 115 is inspected (the determination result of S10 is NO).

【0087】続いて、第8工程として、次に検査する半
導体デバイスがどちらの型のリードフレームに搭載され
ているかを選択する(S1)。すなわち、本実施例にお
いては、縦型リードフレーム基板が選択される(S1の
結果が、「縦型リードフレーム基板の場合」となる)。
Subsequently, as an eighth step, which type of lead frame the semiconductor device to be inspected next is mounted is selected (S1). That is, in this embodiment, the vertical lead frame substrate is selected (the result of S1 is "in the case of vertical lead frame substrate").

【0088】続いて、第9工程として、作業者が、縦型
リードフレーム基板115の場合には不要な位置決め治
具2を除去する(S11)。
Subsequently, as a ninth step, the operator removes the positioning jig 2 which is unnecessary in the case of the vertical lead frame substrate 115 (S11).

【0089】続いて、第10工程として、XYテーブル
8を操作スイッチによって操作して、リードフレーム基
板押さえ装置1を収納部材11側に移動させる。さら
に、図11〜図13に示すように、収納部材11から挟
持部材6a,6bの間隙部に縦型リードフレーム基板1
15をスライドさせながら搬送する(S4)。
Subsequently, as a tenth step, the XY table 8 is operated by the operation switch to move the lead frame substrate pressing device 1 to the housing member 11 side. Further, as shown in FIGS. 11 to 13, the vertical lead frame substrate 1 is inserted from the storage member 11 into the gap between the holding members 6a and 6b.
It is conveyed while sliding 15 (S4).

【0090】続いて、第11工程として、作業者が操作
スイッチを操作して前後移動機構7を駆動させることに
よって、図14〜図16に示すように、挟持治具6a,
6bによって縦型リードフレーム基板115を挟持し固
定する(S5)。
Subsequently, in an eleventh step, the operator operates the operation switch to drive the forward / backward moving mechanism 7, whereby the holding jig 6a,
The vertical lead frame substrate 115 is clamped and fixed by 6b (S5).

【0091】続いて、第12工程として、制御部からの
制御信号に従いXYテーブル8やZテーブルが駆動し、
従来の手順と同様の手順で、ワイヤプル強度、ボールシ
ェア強度およびダイシェア強度の測定が行われる(S
6、S7およびS8)。
Subsequently, in a twelfth step, the XY table 8 and the Z table are driven according to the control signal from the control section,
The wire pull strength, ball shear strength, and die shear strength are measured in the same procedure as the conventional procedure (S
6, S7 and S8).

【0092】最後に、第13工程として、検査の終了し
た縦型リードフレーム基板115が収納部材11に戻さ
れる(S9)。
Finally, as a thirteenth step, the vertical lead frame substrate 115 that has been inspected is returned to the storage member 11 (S9).

【0093】なお、本実施の形態においては、1つの横
型リードフレーム基板111および1つの縦型リードフ
レーム基板115を順次検査したが、リードフレーム基
板の数や検査する順番はこれに限定されず、全てのリー
ドフレーム基板の検査が終了する(すなわちS10での
判断結果がYESとなる)まで強度検査が繰り返され
る。
In the present embodiment, one horizontal lead frame substrate 111 and one vertical lead frame substrate 115 are sequentially inspected, but the number of lead frame substrates and the order of inspection are not limited to this. The strength inspection is repeated until the inspection of all the lead frame substrates is completed (that is, the determination result in S10 is YES).

【0094】また、本発明のリードフレーム基板押さえ
装置においては、リードフレーム基板をリードフレーム
基板押さえ装置に搬送する際に、ステッピングモータを
備えたXYテーブルによるモータピッチ送り制御を用い
ているので、リードフレーム基板の交換作業にかかる時
間を短縮することができる。
Further, in the lead frame substrate pressing device of the present invention, when the lead frame substrate is conveyed to the lead frame substrate pressing device, the motor pitch feed control by the XY table equipped with the stepping motor is used. It is possible to shorten the time required to replace the frame substrate.

【0095】[0095]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ワイヤプル強度、ボールシェア強度およびダイシェア強
度の検査において、収納部材よりリードフレーム基板押
さえ装置にリードフレーム基板を直接搬送することによ
り、リードフレーム基板押さえ装置に配置するときにキ
ズやたわみ等のダメージが発生せず、信頼性および測定
精度を向上することができる。また、容易に着脱できる
位置決め治具を用いるだけで、互いに型の異なる横型リ
ードフレーム基板や縦型リードフレーム基板について同
一のリードフレーム基板押さえ装置を共用できるので、
リードフレーム基板の交換作業にかかる時間を短縮する
ことができる。
As described above, according to the present invention,
In the inspection of wire pull strength, ball shear strength, and die shear strength, the lead frame substrate is directly conveyed from the storage member to the lead frame substrate retainer, which causes damage such as scratches and bending when the lead frame substrate retainer is placed. Without doing so, reliability and measurement accuracy can be improved. In addition, the same lead frame substrate retainer can be shared for horizontal lead frame substrates and vertical lead frame substrates of different types by simply using a positioning jig that can be easily attached and detached.
The time required to replace the lead frame substrate can be shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のリードフレーム基板押さえ装置の一実
施の形態を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a lead frame substrate pressing device of the present invention.

【図2】図1に示すリードフレーム基板押さえ装置を矢
印A1で示す方向から見た側面図である。
FIG. 2 is a side view of the lead frame substrate retainer shown in FIG. 1 viewed from a direction indicated by an arrow A1.

【図3】半導体デバイスの強度検査手順の一例を示すフ
ローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart showing an example of a strength inspection procedure of a semiconductor device.

【図4】リードフレーム基板押さえ装置に横型リードフ
レーム基板を供給しているときのリードフレーム基板押
さえ装置の一例を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing an example of a lead frame substrate retainer when a horizontal lead frame substrate is being supplied to the lead frame substrate retainer.

【図5】図4に示すリードフレーム基板押さえ装置を矢
印A2で示す方向から見た側面図である。
5 is a side view of the lead frame substrate retainer shown in FIG. 4 viewed from a direction indicated by an arrow A2.

【図6】図5中の領域B1を示す一部拡大側面図であ
る。
6 is a partially enlarged side view showing a region B1 in FIG.

【図7】横型リードフレーム基板を固定している状態の
リードフレーム基板押さえ装置の一例を示す平面図であ
る。
FIG. 7 is a plan view showing an example of a lead frame substrate retainer with a horizontal lead frame substrate fixed.

【図8】図7中の領域B2を示す一部拡大側面図であ
る。
FIG. 8 is a partially enlarged side view showing a region B2 in FIG.

【図9】図7に示すリードフレーム基板押さえ装置を矢
印A3で示す方向から見た側面図である。
9 is a side view of the lead frame substrate retainer shown in FIG. 7 as seen from the direction indicated by arrow A3.

【図10】図9中の領域B3を示す一部拡大側面図であ
る。
10 is a partially enlarged side view showing a region B3 in FIG.

【図11】リードフレーム基板押さえ装置に縦型リード
フレーム基板を供給しているときのリードフレーム基板
押さえ装置の一例を示す平面図である。
FIG. 11 is a plan view showing an example of a lead frame substrate retainer when a vertical lead frame substrate is being supplied to the lead frame substrate retainer.

【図12】図11に示すリードフレーム基板押さえ装置
を矢印A4で示す方向から見た側面図である。
12 is a side view of the lead frame substrate retainer shown in FIG. 11 as seen from the direction indicated by arrow A4.

【図13】図12中の領域B4を示す一部拡大側面図で
ある。
13 is a partially enlarged side view showing a region B4 in FIG.

【図14】縦型リードフレーム基板を固定している状態
のリードフレーム基板押さえ装置の一例を示す平面図で
ある。
FIG. 14 is a plan view showing an example of a lead frame substrate retainer with a vertical lead frame substrate fixed.

【図15】図14に示すリードフレーム基板押さえ装置
を矢印A5で示す方向から見た側面図である。
15 is a side view of the lead frame substrate retainer shown in FIG. 14 as seen from the direction indicated by arrow A5.

【図16】図15中の領域B5を示す一部拡大側面図で
ある。
16 is a partially enlarged side view showing a region B5 in FIG.

【図17】従来の強度検査装置の一例を概略的に示す斜
視図である。
FIG. 17 is a perspective view schematically showing an example of a conventional strength inspection device.

【図18】強度検査の対象となる横型リードフレーム基
板の一例を示す説明図である。
FIG. 18 is an explanatory diagram showing an example of a horizontal lead frame substrate which is a target of a strength inspection.

【図19】横型リードフレーム基板の従来の強度検査手
順の一例を示す工程説明図である。
FIG. 19 is a process explanatory view showing an example of a conventional strength inspection procedure for a horizontal lead frame substrate.

【図20】従来の横型リードフレーム基板用押さえ装置
の一例を示す斜視図である。
FIG. 20 is a perspective view showing an example of a conventional horizontal lead frame substrate pressing device.

【図21】ワイヤプル強度測定手順の一例を示す工程説
明図である。
FIG. 21 is a process explanatory view showing an example of a wire pull strength measurement procedure.

【図22】ボールシェア強度測定手順の一例を示す工程
説明図である。
FIG. 22 is a process explanatory view showing an example of a ball shear strength measuring procedure.

【図23】ダイシェア強度測定手順の一例を示す工程説
明図である。
FIG. 23 is a process explanatory view showing an example of a die shear strength measurement procedure.

【図24】強度検査の対象となる縦型リードフレーム基
板の一例を示す説明図である。
FIG. 24 is an explanatory diagram showing an example of a vertical lead frame substrate which is a target of a strength inspection.

【図25】縦型リードフレーム基板の従来の強度検査手
順の一例を示す工程説明図である。
FIG. 25 is a process explanatory view showing an example of a conventional strength inspection procedure for a vertical lead frame substrate.

【図26】従来の縦型リードフレーム基板用押さえ装置
の一例を示す斜視図である。
FIG. 26 is a perspective view showing an example of a conventional vertical lead frame substrate pressing device.

【図27】従来の強度検査手順の他の例を示すフローチ
ャートである。
FIG. 27 is a flowchart showing another example of the conventional strength inspection procedure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リードフレーム基板押さえ装置 2 位置決め治具 3a,3b 押さえ治具 4a,4b 上下移動機構 5 縦型リードフレーム基板 6a,6b 挟持治具 7 前後移動機構 8 XYテーブル 9 半導体荷重センサ 10a,10b 支持部材 11 収納部材 12 収納部材ローダ 111 横型リードフレーム基板 115 縦型リードフレーム基板 1 Lead frame substrate holder 2 Positioning jig 3a, 3b holding jig 4a, 4b Vertical movement mechanism 5 Vertical lead frame substrate 6a, 6b clamping jig 7 Forward / backward movement mechanism 8 XY table 9 Semiconductor load sensor 10a, 10b Support member 11 Storage member 12 Storage member loader 111 Horizontal lead frame substrate 115 Vertical Lead Frame Substrate

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−209118(JP,A) 特開 平5−74906(JP,A) 特開 平8−17879(JP,A) 特開 平5−102203(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01M 13/00 H01L 21/50 Continuation of the front page (56) Reference JP-A-6-209118 (JP, A) JP-A-5-74906 (JP, A) JP-A-8-17879 (JP, A) JP-A-5-102203 (JP , A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G01M 13/00 H01L 21/50

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ワイヤプル強度、ボールシェア強度およ
びダイシェア強度の検査に用いるリードフレーム基板押
さえ装置であって、 横型リードフレーム基板の位置決めを行う位置決め治具
と、横型リードフレーム基板を位置決め治具に押さえつ
けて固定する押さえ治具と、該押さえ治具を前記位置決
め治具に対して近接および離隔するように移動させる移
動機構と、縦型リードフレーム基板を挟持して固定する
一対の挟持治具と、一方の挟持治具を固定された他方の
挟持治具に対して近接および離隔するように移動させる
移動機構とからなることを特徴とするリードフレーム基
板押さえ装置。
1. A lead frame substrate pressing device used for inspection of wire pull strength, ball shear strength, and die shear strength, which comprises a positioning jig for positioning a horizontal lead frame substrate and a horizontal lead frame substrate pressed against the positioning jig. A holding jig for fixing the holding jig, a moving mechanism for moving the holding jig so as to move closer to and away from the positioning jig, and a pair of holding jigs for holding and fixing the vertical lead frame substrate. A lead frame substrate retainer comprising: a moving mechanism that moves one holding jig so as to move closer to and away from the other holding jig.
【請求項2】 横型リードフレーム基板を前記位置決め
治具に供給し、縦型リードフレーム基板を挟持治具に供
給する供給部材を備えている請求項1記載のリードフレ
ーム基板押さえ装置。
2. The lead frame substrate retainer according to claim 1, further comprising a supply member that supplies a horizontal lead frame substrate to the positioning jig and a vertical lead frame substrate to the holding jig.
【請求項3】 前記移動機構がエアシリンダである請求
項1記載のリードフレーム基板押さえ装置。
3. The lead frame substrate retainer according to claim 1, wherein the moving mechanism is an air cylinder.
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