JP3464929B2 - スラリー供給システム及びこれを備えた研磨システム - Google Patents

スラリー供給システム及びこれを備えた研磨システム

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JP3464929B2
JP3464929B2 JP03371299A JP3371299A JP3464929B2 JP 3464929 B2 JP3464929 B2 JP 3464929B2 JP 03371299 A JP03371299 A JP 03371299A JP 3371299 A JP3371299 A JP 3371299A JP 3464929 B2 JP3464929 B2 JP 3464929B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハーの
表面等を平坦化する研磨装置に使用されるスラリー供給
システムに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハーの表面等を平坦化する研
磨装置として、現在ではCMP装置(化学機械的研磨装
置)が広く使用されている。CMP装置においては、回
転する研磨パッドと半導体ウエハの間に研磨スラリーが
供給される。このような研磨スラリーは、所定のタンク
に貯留された後にCMP装置本体側に送り出される。タ
ンクに新規なスラリーを補充し、或いはタンク内を洗浄
する場合には、そのタンクの使用を一旦中断しなければ
ならない。そこで、複数のタンクを交互に使用すること
が考えられる。
【0003】研磨システムにおいては、安定した濃度の
スラリーを使用することが重要である。このため、スラ
リーの沈殿による濃度変化を防止する目的で、タンク内
のスラリーを循環、攪拌する方法が提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、複数の
スラリータンクを使用した場合に、当該タンクに貯留さ
れたスラリーを循環させるには問題がある。すなわち、
全てのタンク中のスラリーを常時循環させる場合には、
複数のポンプ又は大きなポンプを必要とする。このた
め、構成が複雑化、大型化し、システム全体のコストが
高くなるとともに、メンテナンスに手間が掛かるという
問題が生じる。
【0005】本発明は上記のような状況に鑑みてなされ
たものであり、スラリー濃度の安定化と、作業効率の向
上を簡素な構成で達成し得るスラリー供給システム及び
研磨システムを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第1の態様に係るスラリー供給システム
は、スラリーを貯留する複数のタンクと;複数のタンク
の各々に連結され、当該タンク中においてスラリーを循
環させるために使用される循環用配管系と;循環用配管
系の全てに連結された単一の循環用ポンプと;複数の循
環用配管系と循環用ポンプとの間に接続された流路切り
替え手段と;複数のタンクの選択された1つにおいてス
ラリーを循環させるように流路切り替え手段を制御する
制御手段とを備えている。
【0007】本発明の第2の態様に係る研磨システム
は、スラリーを用いて被加工材を研磨する研磨装置と;
実際に使用されるスラリーより濃度の高いスラリー原液
を貯留する複数のタンクと;タンクから供給されるスラ
リー原液を所定の希釈液と混合して、適正濃度のスラリ
ーを生成するスラリー混合ユニットと;複数のタンクの
各々に連結され、当該タンク内においてスラリー原液を
循環させるために使用される循環用配管系と;循環用配
管系の全てに連結された単一の循環用ポンプと;複数の
循環用配管系と循環用ポンプとの間に接続された流路切
り替え手段と;複数のタンクの選択された1つにおいて
スラリーを循環させるように流路切り替え手段を制御す
る制御手段とを備えている。
【0008】上記のように、本発明においては、スラリ
ーを貯留するタンクを複数設け、これらのタンクを選択
的に使用するため、タンクの洗浄やスラリー補充のため
に作業を停止することなく、効率的に研磨作業を行うこ
とができる。また、複数のタンクに対して単一のポンプ
を用い、流路を切り替えることによって使用中のタンク
に対してのみスラリーの循環を行っているため、タンク
毎にポンプを設けたり、容量の大きなポンプを使用する
必要がない。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て実施例を用いて説明する。以下に示す実施例は、半導
体ウエハの表面を研磨するCMPシステムに本発明の技
術的思想を適用したものである。なお、本発明は、半導
体ウエハの研磨以外にも、磁気ディスクやガラス基板等
の種々の被加工材の研磨に適用できることは言うまでも
ない。
【0010】
【実施例】図1は、本発明の実施例に係るCMPシステ
ムの全体構成を示す。CMPシステム10は、CMP装
置本体12と、当該装置12に研磨スラリーを供給する
構成(14〜18他)と、使用済みスラリーの再生に寄
与する構成(20他)と、廃棄ユニット24とを備えて
いる。CMP装置本体12は、半導体ウエハの表面を研
磨パッドを用いて研磨する。研磨作業中は、研磨パッド
と半導体ウエハの間に研磨スラリーが供給されるように
なっている。
【0011】符号16はスラリー混合ユニットであり、
スラリー原液供給ユニット14から供給されるCMP装
置で使用される研磨スラリーの濃度より濃度の高いスラ
リー原液を所定の割合で純水等の希釈液や添加剤と混合
し、所望の濃度とする。スラリー混合ユニット16から
供給された新規な研磨スラリーは、スラリー供給ユニッ
ト18に送り込まれる。
【0012】一方、CMP装置本体12から排出される
使用済みスラリーは、廃棄ユニット24及びリターンユ
ニット(再生ユニット)20に供給される。廃棄ユニッ
ト24に供給されるスラリーは、CMP装置本体12を
純水にて洗浄した直後の排出スラリー等、適正濃度にな
いスラリーであり、再生利用されることなく廃棄され
る。他方、リターンユニット20に供給されるスラリー
は、適正濃度にあるスラリーであり、当該リターンユニ
ット20において濾過再生処理が行われた後に、スラリ
ー供給ユニット18に戻される。
【0013】スラリー供給ユニット18は貯留タンクと
ポンプと温度調整機構を備えており、スラリー混合ユニ
ット16から供給される新規な研磨スラリーと、リター
ンユニット20から供給される再生スラリーとを混合し
て貯留し、温度調整を施してフィルターユニット22に
供給するようになっている。フィルターユニット22
は、CMP装置本体12に供給される直前の研磨スラリ
ーを濾過し、スラリーの2次成長砥粒や、異常成長砥粒
を除去する。
【0014】CMP装置本体12とフィルターユニット
22との間には、バルブ26が設けられており、フィル
ターユニット22から供給される研磨スラリーをCMP
装置本体12とリターンユニット20との一方にのみ導
くようになっている。すなわち、研磨スラリーの流路
を、CMP装置本体12側とリターンユニット20側と
の間で任意に切り替えられるように構成されている。C
MP装置本体12には、また、バルブ27を介して洗浄
用の純水が供給されるようになっている。
【0015】一方、CMP装置本体12と、リターンユ
ニット20との間にはバルブ28aが、廃棄ユニット2
4との間にはバルブ28bが各々設けられている。これ
ら2つのバルブ28a、28bを選択的に開閉制御する
ことによって、CMP装置本体12から排出される液
(スラリー、純水)の流路を、リターンユニット20側
と廃棄ユニット24側との間で切り替えるようになって
いる。リターンユニット20に供給されたスラリーは、
再生利用のためにシステム内を循環する。また、廃棄ユ
ニット24に供給されるスラリー及び純水は、所定のタ
イミングで廃棄される。
【0016】次に、上記のように構成されたCMPシス
テム10の全体的な動作について簡単に説明する。スラ
リー原液供給ユニット14からスラリー混合ユニット1
6に供給されたスラリー原液は、所定の割合で希釈液
(純水)と混合された後、スラリー供給ユニット18に
送り込まれる。研磨作業を行っている間は、バルブ27
は閉じ、バルブ26はCMP装置本体12に対して開放
している。
【0017】研磨作業中にCMP装置本体12から排出
され、リターンユニット20に供給された使用済みスラ
リーは、当該リターンユニット20において濾過、再生
処理を施され、再生スラリーとしてスラリー供給ユニッ
ト18に供給される。
【0018】スラリー混合ユニット16から供給された
新規なスラリーと、リターンユニット20から供給され
た再生スラリーとは、スラリー供給ユニット18におい
て混合され、フィルターユニット22に送り込まれる。
そして、フィルターユニット22で再度濾過されたスラ
リーがCMP装置本体12に供給される。
【0019】CMP装置本体12での研磨作業が終了す
ると、研磨後のウエハや装置の洗浄のために、バルブ2
6をリターンユニット20に対して開放するように調整
し、バルブ27を開放して、純水をCMP装置本体12
内に供給する。CMP装置本体12の洗浄中は、バルブ
28aを閉じ、バルブ28bを開放して、CMP装置本
体12の排出液(純水と残留スラリーと研磨くずなどの
混合液)を廃棄ユニット24を介して廃棄する。
【0020】図2は、上述したスラリー原液供給ユニッ
ト14とスラリー混合ユニット16の詳細な構造を示
す。スラリー混合ユニット16は、スラリー原液供給ユ
ニット14から供給されるスラリー原液と希釈液(純水)
を混合する混合タンク30と、混合タンク30内のスラ
リー重量を計測するロードセル40とを備えている。混
合タンク30の中には、モータ32によって駆動され、
タンク30中のスラリーを攪拌する攪拌フィン34が配
置されている。混合タンク30中に貯留されたスラリー
は、ポンプ38によってスラリー供給ユニット18に送
り込まれるようになっている。
【0021】スラリー原液供給ユニット14は、スラリ
ー原液を貯留する3つの原液タンク42,44,46
と、これら各原液タンク42,44,46に貯留された
スラリー原液の重量を計測するロードセル88,90,
92とを備えている。原液タンク42,44,46の容
量は、混合タンク30の容量より十分に大きく設定され
ている。例えば混合タンク30の容量を約10リット
ル、原液タンクの容量を200リットルとすることがで
きる。このような容量設定にすることにより、混合タン
ク30へ余裕を持ってスラリー原液を供給できる。な
お、スラリー原液供給ユニット14及び混合ユニット1
6を、CMP装置本体12、リターンユニット20、ス
ラリー供給ユニット18及びフィルタユニット22から
離れて設置することにより、CMP装置本体12周辺の
必要スペースを小さくすることができる。
【0022】原液タンク42には、貯留しているスラリ
ー原液を混合タンク30に対して供給するための供給用
配管50と、スラリー原液の循環に使用される取出し用
配管62及び戻し用配管64が連結されている。これら
取出し用配管62及び戻し用配管64とによって循環配
管系が構成される。供給用配管50には、供給用ポンプ
48が連結されており、このポンプ48の作用によって
原液タンク42中のスラリー原液が混合タンク30側へ
供給される。一方、取出し用配管62と戻し用配管64
とには循環用ポンプ86が連結されており、このポンプ
86の作用によって原液タンク42中のスラリー原液の
循環、攪拌が行われる。供給用配管50、取出し用配管
62及び戻し用配管64には、各々バルブ56,74,
76が接続されており、これらのバルブ56,74,7
6の開閉制御によって、スラリー原液の供給と循環の作
業タイミングを調整するようになっている。
【0023】原液タンク44には、貯留しているスラリ
ー原液を混合タンク30に対して供給するための供給用
配管52と、スラリー原液の循環に使用される取出し用
配管66及び戻し用配管68が連結されている。これら
取出し用配管66及び戻し用配管68とによって循環配
管系が構成される。供給用配管52には、供給用ポンプ
48が連結されており、このポンプ48の作用によって
原液タンク44中のスラリー原液が混合タンク30側へ
供給される。一方、取出し用配管66と戻し用配管68
とには循環用ポンプ86が連結されており、このポンプ
86の作用によって原液タンク44中のスラリー原液の
循環、攪拌が行われる。供給用配管52、取出し用配管
66及び戻し用配管68には、各々バルブ58,78,
80が接続されており、これらのバルブ58,78,8
0の開閉制御によって、スラリー原液の供給と循環の作
業タイミングを調整するようになっている。
【0024】原液タンク46には、貯留しているスラリ
ー原液を混合タンク30に対して供給するための供給用
配管54と、タンク内のスラリー原液の循環に使用され
る取出し用配管70と戻し用配管72とが連結されてい
る。これら取出し用配管70及び戻し用配管72によっ
て循環配管系が構成される。供給用配管54には、供給
用ポンプ48が連結されており、このポンプ48の作用
によって原液タンク46中のスラリー原液が混合タンク
30側へ供給される。一方、取出し用配管70と戻し用
配管72とには循環用ポンプ86が連結されており、こ
のポンプ86の作用によって原液タンク46中のスラリ
ー原液の循環が行われる。供給用配管54、取出し用配
管70及び戻し用配管72には、各々バルブ60,8
2,84が接続されており、これらのバルブ60,8
2,84の開閉制御によって、スラリー原液の供給と循
環の作業タイミングを調整するようになっている。
【0025】図3は、図2に示したスラリー原液供給ユ
ニット14と混合ユニット16に関する制御系の構成を
示す。本実施例においては、制御部100が統括的な制
御を行う。すなわち、混合タンク30中のスラリー残量
(重量)を測定するロードセル40と、原液タンク42,
44,46のスラリー原液残量(重量)を測定するロード
セル88,90,92の出力信号に基づいて、循環ポン
プ86及び供給ポンプ48の動作制御と、バルブ56,
58,60,74,76,78,80,82,84の開
閉制御を行う。
【0026】図4は、図2に示したスラリー原液供給ユ
ニット14における動作タイミングを示す。本実施例に
おいては、原液タンクを42,44,46の順で使用す
る。このように、複数の原液タンク42,44,46を
設け、これらのタンクを交互に使用することにより、タ
ンクの洗浄やスラリー補充のために作業を停止すること
なく、効率的に研磨作業を行うことができる。原液タン
ク42を使用してスラリー原液の供給を行っている間、
制御部100は、バルブ56,74,76を開放し、そ
の他のバルブ58,60,78,80,82,84を閉
鎖する。制御部100は、ロードセル40からの信号
(測定結果)により、混合タンク30中のスラリー残量
が所定の基準値A以下であることが判明した場合に、供
給用ポンプ48を駆動する(図中A点)。
【0027】これにより、選択されている原液タンク4
2から混合タンク30へ高濃度のスラリー原液が供給さ
れる。制御部100は、ロードセル40からの信号によ
り、混合タンク30中のスラリー重量が所望の値Bまで
増加したことが判明すると、すなわち所望量のスラリー
原液が混合タンク30中に供給されると、供給用ポンプ
48を停止する(図中B点)。その後、バルブ36を開
放し混合タンク30中に純水を供給する。制御部100
は、ロードセル40からの信号により混合タンク中のス
ラリー重量が所望の値まで増加したことが判明すると、
すなわち、所望量の純水が混合タンク30中に供給され
るとバルブ36を閉鎖し純水の供給を停止する。
【0028】制御部100は、また、循環用ポンプ86
を間欠的に駆動し、原液タンク42中に貯留されている
スラリー原液を取り出し用配管62,戻し用配管64を
経由して循環、攪拌する。これにより、原液タンク42
に貯留されているスラリー原液の沈殿を防止することが
できる。循環用ポンプ86の駆動は、ポンプの寿命を延
ばすためには、5分ON、5分OFFというような間欠
運転とするが、常時ONにすることも可能である。ま
た、間欠運転の間隔は、使用するスラリー原液の沈殿し
やすさに応じて変更することができる。
【0029】原液タンク42中のスラリー原液の残量が
予め定められた下限値以下になり、その時点で行われて
いるスラリー原液の混合タンク30への供給作業が終了
すると、次の原液タンク44が選択される。すなわち、
ロードセル88の測定値が下限値C以下になると(図中
C点)、制御部100は、その時点で行われている供給
用ポンプ48による原液タンク42から混合タンク30
へのスラリー原液の供給が終了した後、それまで開放状
態のバルブ56、74、76を閉鎖するとともに、バル
ブ58、78、80を開放する。なお、バルブ60、8
2、84は閉鎖の状態を維持する。その後、原液タンク
42の場合と同様に原液タンク44を用いてスラリー原
液の循環および供給を行う。
【0030】このように、次に使用する原液タンク44
への切換は、ロードセル88の測定値が下限値以下にな
った時点で直ちに行われるのではなく、その時点で行わ
れている原液タンク42から混合タンク30へのスラリ
ー原液の供給作業が通常どおり終了した後に行われるた
め、切換が行われた時点では混合タンク30内に十分な
量のスラリーが貯留されていることになる。従って、次
に混合タンク30へのスラリー原液の供給が必要となる
まで(混合タンク30中のスラリー残量が所定の基準量
A以下になるまで)に十分なインターバルができる。こ
のインターバルの間に循環用ポンプ86による次に使用
する原液タンク44内のスラリー原液の循環ができる。
このため、原液タンク44から研磨砥粒の沈殿などによ
り不適切な濃度となっているスラリー原液が混合タンク
30に供給されることはない。
【0031】また、念のため、原液タンクの切換後、循
環ポンプ86による所定時間(1回分)の循環動作が終
了するまでは、供給用ポンプ48の運転を開始しないよ
うな制御方式を制御部100に設けてもよい。なお、使
用後の原液タンク42内に新規のスラリー原液を補充す
る作業やタンクの洗浄作業は、他の原液タンクが選択さ
れている間に行えばよいので、研磨作業を中断する必要
がない。
【0032】上述の原液タンクにおける下限値は以下の
ように設定することができる。図5は、下限値の設定の
考え方を説明するための説明図である。図中242は原
液タンク、230は混合タンクを示す。下限値となった
時点での原液タンク内のスラリー原液の残量がxである
とする。また、原液タンクから混合タンクへ供給するス
ラリー原液の一回あたりの供給量をyとする。このyは
混合タンクの容量とスラリー原液の希釈割合によって決
定される。(例えば、混合タンク容量が10リットル
(前述の混合タンクの基準値Aまでの容量)で、スラリ
ー原液と希釈液との混合割合が容量比で1:1の場合に
は、yは5リットルとなる。)このとき、原液タンクの
下限値はxがy以上になるように設定する(以下に説明
するようにxがyと等しくなるか、なるべくyに近い値
となるように設定するのが望ましい)。このように下限
値を設定することで、原液タンクから混合タンクへのス
ラリー原液の供給作業が完了する前に原液タンク内のス
ラリー原液が液切れすることを防止できる。
【0033】ところで、新規なスラリー原液の補充作業
回数を軽減するためにも原液タンクの容量zは大きい方
がよい。一方、使用後の原液タンク内に使用されずに残
ってしまうスラリー原液量は最大でxとなるが、この残
ってしまうスラリー原液量は少ない方が効率がよいの
で、x(≧y)は小さい方がよい。従って、zはxに較
べ十分に大きい方がよく、すなわち、原液タンク容量は
混合タンク容量に較べて十分大きい方がよい。
【0034】図4に示す例では、説明を簡略化するため
に原液タンクの容量zが、スラリー原液の一回あたりの
供給量yの3倍程度(ポンプ48による供給作業3回で
原液タンクの切換が行われている)となっているが、実
際は、原液タンクの容量を一回あたりの供給量の10倍
以上にするのが望ましく、より望ましくは20倍以上に
設定する。
【0035】原液タンク44中のスラリー原液の残量が
下限値以下になり、その時点で行われているスラリー原
液の混合タンク30への供給作業が終了すると、次の原
液タンク46が選択され、上記と同様の動作によってス
ラリー原液の供給及び循環が行われる。使用が終わった
原液タンクは、例えば、内部洗浄の後に新規なスラリー
原液が補充される。混合タンク30に供給されたスラリ
ー原液は、当該タンク30中において純水(希釈液)と
混合され、所定濃度のスラリーとなってCMP装置本体
12側に送り出される。なお、複数の原液タンクの容量
はすべて同一容量でもよいし、それぞれ異なる容量であ
ってもよい。異なる容量の場合は、それぞれの原液タン
クにおいて上述の条件を満たすようにすればよい。
【0036】上述したように、本実施例においては、複
数の原液タンク42,44,46に対して単一の循環用
ポンプ86を用い、バルブの開閉制御によって使用中の
タンクに対してのみスラリーの循環を行っているため、
タンク毎にポンプを設けたり、容量の大きなポンプを使
用する必要がない。
【0037】図6は、本発明の他の実施例に係るCMP
システムに使用されるスラリー原液供給ユニット94の
構成を示す。本実施例において、図2に示す実施例と同
一又は対応する構成要素については、同一の符号を付
し、重複した説明は省略する。図6に示す実施例におい
ては、先に示した実施例の循環用ポンプ86と供給用ポ
ンプ48に代え、両方の機能を兼ねるポンプ98を使用
している。ポンプ98と混合タンク30との間には、バ
ルブ96が設けられ、このバルブ96の開閉動作によっ
て、スラリー原液の供給と循環を切り替えるようになっ
ている。
【0038】原液タンク42には、貯留しているスラリ
ー原液を混合タンク30に対して供給し、循環のために
スラリー原液を取り出すための配管102と、循環時に
スラリー原液をタンク内に戻すための配管104とが連
結されている。配管102とポンプ98との間にはバル
ブ106が接続され、配管104とポンプ98との間に
はバルブ108が接続されている。バルブ106は供給
時と循環時のいずれの場合にも開放状態となる。一方、
バルブ108はスラリー原液の循環時、すなわちバルブ
96の閉鎖時にのみ開放される。
【0039】原液タンク44には、貯留しているスラリ
ー原液を混合タンク30に対して供給し、循環のために
スラリー原液を取り出すための配管110と、循環時に
スラリー原液をタンク内に戻すための配管112とが連
結されている。配管110とポンプ98との間にはバル
ブ114が接続され、配管112とポンプ98との間に
はバルブ116が接続されている。バルブ114は供給
時と循環時のいずれの場合にも開放状態となる。一方、
バルブ116はスラリー原液の循環時、すなわちバルブ
96の閉鎖時にのみ開放される。
【0040】原液タンク46には、貯留しているスラリ
ー原液を混合タンク30に対して供給し、循環のために
スラリー原液を取り出すための配管118と、循環時に
スラリー原液をタンク内に戻すための配管120とが連
結されている。配管118とポンプ98との間にはバル
ブ122が接続され、配管120とポンプ98との間に
はバルブ124が接続されている。バルブ122は供給
時と循環時のいずれの場合にも開放状態となる。一方、
バルブ124はスラリー原液の循環時、すなわちバルブ
96の閉鎖時にのみ開放される。
【0041】図7は、図6に示したスラリー原液供給ユ
ニット14の制御系の構成を示す。本実施例において
も、先に示した実施例と同様に、制御部100が統括的
な制御を行う。すなわち、混合タンク30中のスラリー
残量を測定するロードセル40と、原液タンク42,4
4,46のスラリー原液残量を測定するロードセル8
8,90,92の出力信号に基づいて、ポンプ98の動
作制御と、バルブ96,106,108,114,11
6,122,124の開閉制御を行う。
【0042】図8は、図6に示したスラリー原液供給ユ
ニット94における動作タイミングを示す。本実施例に
おいても、原液タンクを42,44,46の順で使用す
る。原液タンク42を使用してスラリー原液の供給を行
っている間は、バルブ106を開放し、バルブ114,
122を閉鎖する。混合タンク30中のスラリー残量が
所定の基準値A以下になると、混合ユニット16から供
給指令が出される(図中A点)。制御部100は、この
供給指令が出ている間(前述の実施例と同様に混合タン
ク30中のスラリー重量が所望の値Bに達するまでの
間)、バルブ96を開放すると同時にバルブ108を閉
鎖する。すなわち、循環運転の状況に関わらず、混合ユ
ニット16からの供給指令があれば、混合タンク30に
スラリー原液の供給を優先的に実施する。
【0043】制御部100には、スラリー原液の循環の
ために、定期的に(一定間隔で)間欠指令が供給され
る。制御部100は、供給指令と間欠指令の少なくとも
一方がONの状態の時に、ポンプ98を駆動する。バル
ブ96が閉鎖し、ポンプ98が動作している時に、原液
タンク42中のスラリー原液の循環、攪拌が行われる。
【0044】原液タンク42中のスラリー原液の残量が
予め定められた下限値(前述の実施例と同様の考え方で
設定された値)以下になり、その時点で行われているス
ラリー原液の供給が終了すると、次の原液タンク44が
選択される。すなわち、ロードセル88の測定値が下限
値C以下になると(図中C点)、制御部100は、その
時点で行われているポンプ98による原液タンク42か
ら混合タンク30へのスラリー原液の供給が終了した
後、それまで開放状態のバルブ106を閉鎖するととも
に、バルブ114を開放する。なお、バルブ122は閉
鎖の状態を維持する。その後、原液タンク42の場合と
同様に原液タンク44を用いてスラリー原液の供給およ
び循環を行う。
【0045】このように、次に使用する原液タンク44
への切換は、ロードセル88の測定値が下限値以下にな
った時点で直ちに行われるのではなく、その時点で行わ
れている原液タンク42から混合タンク30へのスラリ
ー原液の供給作業が通常どおり終了した後に行われるた
め、切換が行われた時点では混合タンク30内に十分な
量のスラリーが貯留されていることになる。従って、次
に混合タンク30へのスラリー原液の供給が必要となる
まで(混合タンク30中のスラリー残量が所定の基準値
A以下になるまで)に十分なインターバルができる。こ
のインターバルの間にポンプ98による次に使用する原
液タンク44内のスラリー原液の循環ができる。このた
め、原液タンク44から研磨砥粒の沈殿などにより不適
切な濃度となっているスラリー原液が混合タンク30に
供給されることはない。
【0046】なお、念のため、原液タンクの切換後、ポ
ンプ98による所定時間(1回分)の循環動作が終了す
るまでは、バルブ96を開放しないような制御方式を制
御部100に設けてもよい。
【0047】原液タンク44中のスラリー原液の残量が
下限値以下になり、その時点で行われているスラリー原
液の供給が終了すると、次の原液タンク46が選択さ
れ、上記と同様の動作によってスラリー原液の供給及び
循環が行われる。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
スラリーを貯留するタンクを複数設け、これらのタンク
を交互に使用しているため、タンクの洗浄やスラリー補
充のために作業を停止することなく、効率的に研磨作業
を行うことができる。また、複数のタンクに対して単一
のポンプを用い、流路を切り替えることによって使用中
のタンクに対してのみスラリーの循環を行っているた
め、タンク毎にポンプを設けたり、容量の大きなポンプ
を使用する必要がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に係るCMPシステムの全体構
成を示す概略図である。
【図2】図2は、本発明の実施例に係るスラリー原液供
給ユニット及び混合ユニットの構成を示す概略図であ
る。
【図3】図3は、図2に示す実施例の制御系の構成を示
すブロック図である。
【図4】図4は、図2に示す実施例の動作を示すタイミ
ングチャートである。
【図5】図5は、図2に示す実施例の原液タンクの下限
値の設定の考え方を説明するための説明図である。
【図6】図6は、本発明の他の実施例に係るスラリー原
液供給ユニット及び混合ユニットの構成を示す概略図で
ある。
【図7】図7は、図6に示す実施例の制御系の構成を示
すブロック図である。
【図8】図8は、図6に示す実施例の動作を示すタイミ
ングチャートである。
【符号の説明】
10 CMPシステム 12 CMP装置本体 14 スラリー原液供給ユニット 16 スラリー混合ユニット 48 供給ポンプ 86 循環ポンプ 50,52,54 供給用配管 56,58,60,74,76,78,80,82,8
4 バルブ 62,66,70 取り出し用配管 64,68,72 戻し用配管 100 制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−29637(JP,A) 特開 平8−142918(JP,A) 特開 平11−138438(JP,A) 特開 平11−221770(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24B 27/06 B24B 37/00 B24B 57/02 H01L 21/304

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】研磨スラリーを所定の場所に対して供給す
    るスラリー供給システムにおいて、 前記スラリーを貯留する複数のタンクと;前記複数のタ
    ンクの各々に連結され、当該タンク中において前記スラ
    リーを循環させるために使用される循環用配管系と;前
    記循環用配管系の全てに連結された単一の循環用ポンプ
    と;前記複数の循環用配管系に接続された流路切り替え
    手段と;前記複数のタンクの選択された1つにおいて前
    記スラリーを循環させるように前記流路切り替え手段を
    制御する制御手段とを備えたことを特徴とするスラリー
    供給システム。
  2. 【請求項2】前記タンクは、スラリー原液を貯留するス
    ラリー原液タンクであることを特徴とする請求項1に記
    載のスラリー供給システム。
  3. 【請求項3】前記制御手段は、前記複数のタンクの中か
    らスラリー供給のためのタンクを1つ選択し、 当該選択されたタンクに貯留されたスラリーの循環作業
    を所定時間行った後に、当該タンクからのスラリー供給
    作業を開始するように前記流路切り替え手段を制御する
    ことを特徴とする請求項1または2に記載のスラリー供
    給システム。
  4. 【請求項4】前記複数のタンクの各々には、貯留された
    スラリーを取り出すための供給用配管が連結され、 前記供給用配管には供給用ポンプが設けられ、 前記制御手段は、スラリー供給のために新たに選択され
    るタンクにおいて、前記循環用ポンプの動作による所定
    時間の循環作業が終了した後で、前記供給用ポンプによ
    る供給作業を開始することを特徴とする請求項3に記載
    のスラリー供給システム。
  5. 【請求項5】前記循環用ポンプは、前記供給用ポンプを
    兼ねることを特徴とする請求項4に記載のスラリー供給
    システム。
  6. 【請求項6】前記循環用ポンプと前記所定の供給場所と
    の間にバルブが設けられ、 前記制御手段は、スラリー供給のために新たに選択され
    るタンクにおいて、所定時間の循環作業が終了した後
    に、スラリーの供給作業を行うように前記ポンプ及び前
    記バルブの開閉状態を制御することを特徴とする請求項
    5に記載のスラリー供給システム。
  7. 【請求項7】スラリーを用いて被加工材を研磨する研磨
    装置と;実際に使用されるスラリーより濃度の高いスラ
    リー原液を貯留する複数のタンクと;前記タンクから供
    給されるスラリー原液を所定の希釈液と混合して、適正
    濃度のスラリーを生成するスラリー混合ユニットと;前
    記複数のタンクの各々に連結され、当該タンク内におい
    て前記スラリー原液を循環させるために使用される循環
    用配管系と;前記循環用配管系の全てに連結された単一
    の循環用ポンプと;前記複数の循環用配管系と前記循環
    用ポンプとの間に接続された流路切り替え手段と;前記
    複数のタンクの選択された1つにおいて前記スラリーを
    循環させるように前記流路切り替え手段を制御する制御
    手段とを備えたことを特徴とする研磨システム。
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