JP3464804B2 - 縦モード選択レーザー - Google Patents
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- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
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- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
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- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレ−ザ−、特に稀土類元
素をド−ピングした縦モ−ドを選択するレ−ザ−に関す
るものである。
素をド−ピングした縦モ−ドを選択するレ−ザ−に関す
るものである。
【0002】
【発明の背景】光フィアバ−技術の応用は急速なペ−ス
で伸びており、電気通信、センサ−、医療および映像伝
送等はすべて光技術を利用しており、特に事実上制限が
ない帯域幅および低減衰性は有利である。ケ−ブルテレ
ビジョンシステムは、光ファイバ−技術が以前の同軸ケ
−ブル分配方式の有効なかつ経済的な代案として提供さ
れた一つの例である。
で伸びており、電気通信、センサ−、医療および映像伝
送等はすべて光技術を利用しており、特に事実上制限が
ない帯域幅および低減衰性は有利である。ケ−ブルテレ
ビジョンシステムは、光ファイバ−技術が以前の同軸ケ
−ブル分配方式の有効なかつ経済的な代案として提供さ
れた一つの例である。
【0003】ハイパワ−のレ−ザ−を1.3又は1.5
ミクロン(μm)の領域で動作させることが適している
ときは、光ファイバ−に対する多くの応用面は最もコス
ト的に有利になる。Er3+ファイバ−レ−ザ−により高
レベルの出力を発生できることが明らかにされており、
例えばM.S.オサリバン等(M.S.O’Sulli
van, et al,)の“高出力でライン幅の狭い
エルビウム・ド−プ・ファイバ−・レ−ザ−”CLEO
1989,TUP3,pp,134−136を参照し
てもらいたい。
ミクロン(μm)の領域で動作させることが適している
ときは、光ファイバ−に対する多くの応用面は最もコス
ト的に有利になる。Er3+ファイバ−レ−ザ−により高
レベルの出力を発生できることが明らかにされており、
例えばM.S.オサリバン等(M.S.O’Sulli
van, et al,)の“高出力でライン幅の狭い
エルビウム・ド−プ・ファイバ−・レ−ザ−”CLEO
1989,TUP3,pp,134−136を参照し
てもらいたい。
【0004】エルビウム・ド−プ・ファイバ−・レ−ザ
−の欠点は上記文献によればこれが縦波多モ−ド−であ
るということである。ケ−ブルテレビジョンネットワ−
ク又は同様な応用面で、光ファイバ−に複雑なビデオ信
号を伝送する様な応用に際しては、レ−ザ−を単一縦モ
−ド又は光学振動数で十分に離れたせいぜい数モ−ドで
動作させることが要求される。さもないとビ−トが発生
し(例えば高周波領域に落ち込んだ光学的縦モ−ド間
で)、その結果勢力中のRF帯域に受け容れ難いレベル
のノイズを生じる。
−の欠点は上記文献によればこれが縦波多モ−ド−であ
るということである。ケ−ブルテレビジョンネットワ−
ク又は同様な応用面で、光ファイバ−に複雑なビデオ信
号を伝送する様な応用に際しては、レ−ザ−を単一縦モ
−ド又は光学振動数で十分に離れたせいぜい数モ−ドで
動作させることが要求される。さもないとビ−トが発生
し(例えば高周波領域に落ち込んだ光学的縦モ−ド間
で)、その結果勢力中のRF帯域に受け容れ難いレベル
のノイズを生じる。
【0005】RF周波数(即ちケ−ブルテレビジョンの
帯域に対しては5.75MHzから550MHz又はそ
れ以上)の順位が十分に接近しているレ−ザ−の動作の
これらのモ−ドは、CATV用にこのレ−ザ−を使うた
めには抑制をせねばならない。抑制後は残っているモ−
ドだけではRF定義域でビ−ト周波数を発生することは
ないであろう。また縦波多モ−ドの動作では各モ−ドの
タ−ン・オン及びオフのモ−ド分配雑音による過剰強度
雑音(RIN)が現れる。技術的に周知の様に、与えら
れたレ−ザ−に存在する実際のモ−ドは、レ−ザ−のキ
ャビティの幾何図形的配置とレ−ザ−のゲインスペクト
ル及びキャビティ中の周波数選択要素により決まる。
帯域に対しては5.75MHzから550MHz又はそ
れ以上)の順位が十分に接近しているレ−ザ−の動作の
これらのモ−ドは、CATV用にこのレ−ザ−を使うた
めには抑制をせねばならない。抑制後は残っているモ−
ドだけではRF定義域でビ−ト周波数を発生することは
ないであろう。また縦波多モ−ドの動作では各モ−ドの
タ−ン・オン及びオフのモ−ド分配雑音による過剰強度
雑音(RIN)が現れる。技術的に周知の様に、与えら
れたレ−ザ−に存在する実際のモ−ドは、レ−ザ−のキ
ャビティの幾何図形的配置とレ−ザ−のゲインスペクト
ル及びキャビティ中の周波数選択要素により決まる。
【0006】稀土類元素をド−ピングし、ほとんど単一
モ−ドに抑制されたレ−ザ−を提供できれば有益なこと
であろう。付随モ−ドの周波数が十分に離れていて、ビ
−トを起こさない時は残っていても差し支えなく、この
様なレ−ザ−はRFスペクトル中で干渉ビ−トを発生せ
ずに動作させることができ、レ−ザ−からの出力エネル
ギ−は信号伝送のためのクリ−ンな光搬送波とすること
が出来る。本発明は上記の様な利点を持ったレ−ザ−を
提供するものである。
モ−ドに抑制されたレ−ザ−を提供できれば有益なこと
であろう。付随モ−ドの周波数が十分に離れていて、ビ
−トを起こさない時は残っていても差し支えなく、この
様なレ−ザ−はRFスペクトル中で干渉ビ−トを発生せ
ずに動作させることができ、レ−ザ−からの出力エネル
ギ−は信号伝送のためのクリ−ンな光搬送波とすること
が出来る。本発明は上記の様な利点を持ったレ−ザ−を
提供するものである。
【0007】
【発明の概要】本発明はクリ−ンな光搬送波を発生させ
るレ−ザ−を提供するものである。レ−ザ−は稀土類元
素をド−ピングした部分でレ−ザ−キャビティを形成さ
せた光ファイバ−のような光伝送媒体から構成されてい
る。キャビティと協調して少なくとも単一モ−ドに抑制
させる手段も備わっている。この抑制手段は光学格子、
ファブリ- ペロ・キャビティ又は伝送媒体内でのこれら
の要素の組み合わせから構成されている。また抑制手段
はド−ピングしたキャビティ部分又はド−ピング部分の
外側に設けることも出来る。
るレ−ザ−を提供するものである。レ−ザ−は稀土類元
素をド−ピングした部分でレ−ザ−キャビティを形成さ
せた光ファイバ−のような光伝送媒体から構成されてい
る。キャビティと協調して少なくとも単一モ−ドに抑制
させる手段も備わっている。この抑制手段は光学格子、
ファブリ- ペロ・キャビティ又は伝送媒体内でのこれら
の要素の組み合わせから構成されている。また抑制手段
はド−ピングしたキャビティ部分又はド−ピング部分の
外側に設けることも出来る。
【0008】実施例の一つでは、伝送媒体は環状配置
で、抑制手段はリング部分内の光学格子から構成されて
おり、発振が一方向のみに起きる様、光アイソレ−タが
リング内に設けられている。その他の実施例では、光伝
送媒体は環状又は直線配置で、抑制手段はリング内で複
数の直列に接続されたファブリ- ペロ・キャビティから
構成されている。ファブリ- ペロ・キャビティは希望す
るモ−ド抑制のため長さは等しくない。光アイソレ−タ
がレ−ザ−キャビティ内に設けられており、またモ−ド
選択性を強めるためファブリ- ペロ・キャビティを含む
伝送媒体中に光学格子も設けられている。
で、抑制手段はリング部分内の光学格子から構成されて
おり、発振が一方向のみに起きる様、光アイソレ−タが
リング内に設けられている。その他の実施例では、光伝
送媒体は環状又は直線配置で、抑制手段はリング内で複
数の直列に接続されたファブリ- ペロ・キャビティから
構成されている。ファブリ- ペロ・キャビティは希望す
るモ−ド抑制のため長さは等しくない。光アイソレ−タ
がレ−ザ−キャビティ内に設けられており、またモ−ド
選択性を強めるためファブリ- ペロ・キャビティを含む
伝送媒体中に光学格子も設けられている。
【0009】直列接続のファブリ- ペロ・キャビティを
使った実施例で、長さLの第1ファブリ- ペロ・キャビ
ティはレ−ザ−キャビティを作るためレ−ザ−媒質を含
む光学材料から形成されており、l<Lである長さlの
第2ファブリ- ペロ・キャビティは第1ファブリ- ペロ
・キャビティ内の中心又はほぼ中心近くに位置する。第
1ファブリ- ペロ・キャビティの長さLは、レ−ザ−キ
ャビティの縦モ−ドに制限されて選ばれる。第2ファブ
リ- ペロ・キャビティの長さlは希望するレ−ジング波
長でのゲインを除くその他のゲインが最小になる様に選
ばれる。2偏光モ−ドでレ−ジングするのを抑制するた
め、偏光フィルタ−を第2ファブリ- ペロ・キャビティ
の近くに設けることも可能である。
使った実施例で、長さLの第1ファブリ- ペロ・キャビ
ティはレ−ザ−キャビティを作るためレ−ザ−媒質を含
む光学材料から形成されており、l<Lである長さlの
第2ファブリ- ペロ・キャビティは第1ファブリ- ペロ
・キャビティ内の中心又はほぼ中心近くに位置する。第
1ファブリ- ペロ・キャビティの長さLは、レ−ザ−キ
ャビティの縦モ−ドに制限されて選ばれる。第2ファブ
リ- ペロ・キャビティの長さlは希望するレ−ジング波
長でのゲインを除くその他のゲインが最小になる様に選
ばれる。2偏光モ−ドでレ−ジングするのを抑制するた
め、偏光フィルタ−を第2ファブリ- ペロ・キャビティ
の近くに設けることも可能である。
【0010】第1ファブリ- ペロ・キャビティはその一
端に反射器を他端に格子をそなえている。第2ファブリ
- ペロ・キャビティは、金属、誘電体又は格子構造のよ
うな一対の接近して間隔をとった反射器を備えている。
第2ファブリ- ペロ・キャビティが、第1ファブリ- ペ
ロ・キャビティにより形成されているレ−ザ−キャビテ
ィの縦モ−ドを巧みに処理して、ただ一つのモ−ドのみ
を選択する。光学材料は例えばエルビウム、ネオジム又
はプラセオジムのような稀土類で少なくとも一部分をド
−ピングした光ファイバ−又はシリカ導波管から成って
いる。
端に反射器を他端に格子をそなえている。第2ファブリ
- ペロ・キャビティは、金属、誘電体又は格子構造のよ
うな一対の接近して間隔をとった反射器を備えている。
第2ファブリ- ペロ・キャビティが、第1ファブリ- ペ
ロ・キャビティにより形成されているレ−ザ−キャビテ
ィの縦モ−ドを巧みに処理して、ただ一つのモ−ドのみ
を選択する。光学材料は例えばエルビウム、ネオジム又
はプラセオジムのような稀土類で少なくとも一部分をド
−ピングした光ファイバ−又はシリカ導波管から成って
いる。
【0011】その他の実施例としてド−ピング・レ−ザ
−・キャビティに接続された外部格子を使ってモ−ド選
択を行う方法がある。光アイソレ−タがレ−ザ−キャビ
ティに直列に設けられており、レ−ザ−キャビティは光
ファイバ−、シリカ導波管又はその他の既知構造で形成
されている。稀土類ド−ピング元素にはエルビウム、ネ
オジム、プラセオジム又は類似元素が含まれている。更
に他の実施例でファブリ- ペロ・キャビティ中にモアレ
格子を設けた例もある。ファブリ- ペロ・キャビティの
長さは縦モ−ドに制限されて選ばれ、モアレ格子は前記
モ−ドの望むモ−ドに伝送ピ−クを持っているものが使
われるのである。
−・キャビティに接続された外部格子を使ってモ−ド選
択を行う方法がある。光アイソレ−タがレ−ザ−キャビ
ティに直列に設けられており、レ−ザ−キャビティは光
ファイバ−、シリカ導波管又はその他の既知構造で形成
されている。稀土類ド−ピング元素にはエルビウム、ネ
オジム、プラセオジム又は類似元素が含まれている。更
に他の実施例でファブリ- ペロ・キャビティ中にモアレ
格子を設けた例もある。ファブリ- ペロ・キャビティの
長さは縦モ−ドに制限されて選ばれ、モアレ格子は前記
モ−ドの望むモ−ドに伝送ピ−クを持っているものが使
われるのである。
【0012】
【発明の実施例】図面に基づいて、本願発明の実施例を
説明する。図4は、縦モ−ド選択レ−ザ−の1実施例を
示す図である。該実施例は、光学格子をモ−ド選択に使
った線形構造をなしている。エルビウム・ド−ピング・
ファイバ−53を励起するのに必要な光エネルギ−をポ
ンプレ−ザ−10が供給している。格子54とミラ−5
2の組み合わせでレ−ザ−キャビティの長さが決められ
る。格子54のディメンションによりレ−ザ−のゲイン
カ−ブ内の希望する単一モ−ドが得られる。光アイソレ
−タ58がレ−ザ−キャビティ中の摂動による後方反射
を制限することになる。レ−ザ−で発生された光搬送波
は光ファイバ−60に出力される。レ−ザ−キャビティ
の長さでキャビティの自然共鳴が決まり、格子はこれら
の自然共鳴から選択するのに使われる。(旧0019)
説明する。図4は、縦モ−ド選択レ−ザ−の1実施例を
示す図である。該実施例は、光学格子をモ−ド選択に使
った線形構造をなしている。エルビウム・ド−ピング・
ファイバ−53を励起するのに必要な光エネルギ−をポ
ンプレ−ザ−10が供給している。格子54とミラ−5
2の組み合わせでレ−ザ−キャビティの長さが決められ
る。格子54のディメンションによりレ−ザ−のゲイン
カ−ブ内の希望する単一モ−ドが得られる。光アイソレ
−タ58がレ−ザ−キャビティ中の摂動による後方反射
を制限することになる。レ−ザ−で発生された光搬送波
は光ファイバ−60に出力される。レ−ザ−キャビティ
の長さでキャビティの自然共鳴が決まり、格子はこれら
の自然共鳴から選択するのに使われる。(旧0019)
【0013】(新)図4の実施例の線形キャビティは、
ファイバ−内に格子を組み込んだエルビウム・ド−ピン
グ・光ファイバ−の一片で構成されている。一方線形キ
ャビティはエルビウム・ド−ピング・ファイバ−と接続
されたド−ピングしていない格子ファイバ−も含んでい
る。ミラ−52はファイバ−端末に銀、金又はアルミニ
ウムを蒸着させた後ファイバ−を永久接続して作られて
いる。一方周知の方法で誘電体ミラ−も作られることも
ある。(旧[0020])
ファイバ−内に格子を組み込んだエルビウム・ド−ピン
グ・光ファイバ−の一片で構成されている。一方線形キ
ャビティはエルビウム・ド−ピング・ファイバ−と接続
されたド−ピングしていない格子ファイバ−も含んでい
る。ミラ−52はファイバ−端末に銀、金又はアルミニ
ウムを蒸着させた後ファイバ−を永久接続して作られて
いる。一方周知の方法で誘電体ミラ−も作られることも
ある。(旧[0020])
【0014】(新)図4に示した構成はレ−ザ−を単一
波長で動作させる一つの方法で、反射部54と52で決
まるレ−ザ−キャビティの長さは、キャビティ内にただ
一つのファブリ- ペロ・モ−ドのみが存在し得る程短い
のである。このため単一波長でレ−ザ−を動作させるこ
とができるのであるが、以下にこの様なレ−ザ−の設計
の一例を述べてみる。レ−ザ−は反射器の幅内でのみレ
−ジングできる。代表的な反射器帯域幅は1オングスト
ロ−ムである。ファブリ- ペロ・キャビティのモ−ド間
隔FSR(自由スペクトル範囲)は次式で与えられる。
(旧[0021])
波長で動作させる一つの方法で、反射部54と52で決
まるレ−ザ−キャビティの長さは、キャビティ内にただ
一つのファブリ- ペロ・モ−ドのみが存在し得る程短い
のである。このため単一波長でレ−ザ−を動作させるこ
とができるのであるが、以下にこの様なレ−ザ−の設計
の一例を述べてみる。レ−ザ−は反射器の幅内でのみレ
−ジングできる。代表的な反射器帯域幅は1オングスト
ロ−ムである。ファブリ- ペロ・キャビティのモ−ド間
隔FSR(自由スペクトル範囲)は次式で与えられる。
(旧[0021])
【0015】(新)
FSR=Δν=c/(2nL)
ここで
c=光速
n=ファイバ−の屈折率;1.46
L=レ−ザ−キャビティの長さ (旧[002
2])
2])
【0016】(新)1オングストロ−ムのモ−ド間隔
(FSR)に対し、レ−ザ−キャビティの長さ(L)は
8.2ミリメ−トルと解くことができる。明らかにこの
長さはド−ピングファイバ−の実際に対して短すぎる。
エルビウム及びゲルマニウムで深くド−ピングしたプレ
−ナ−シリカ導波管がマイクロレ−ザ−を作るのに使用
できる。格子の帯域幅を1ピコメ−トルにすることが出
来ると、レ−ザ−キャビティ長はL=82センチメ−ト
ルと計算でき、この場合深くド−ピングしたエルビウム
ファイバ−を80センチメ−トルのレ−ザ−キャビティ
長にとれば単一波長レ−ザ−が得られる。(旧[002
3])
(FSR)に対し、レ−ザ−キャビティの長さ(L)は
8.2ミリメ−トルと解くことができる。明らかにこの
長さはド−ピングファイバ−の実際に対して短すぎる。
エルビウム及びゲルマニウムで深くド−ピングしたプレ
−ナ−シリカ導波管がマイクロレ−ザ−を作るのに使用
できる。格子の帯域幅を1ピコメ−トルにすることが出
来ると、レ−ザ−キャビティ長はL=82センチメ−ト
ルと計算でき、この場合深くド−ピングしたエルビウム
ファイバ−を80センチメ−トルのレ−ザ−キャビティ
長にとれば単一波長レ−ザ−が得られる。(旧[002
3])
【0017】(新)この様な狭い格子を作る方法がラグ
ダ−ル,キャサリン M.等(Ragdale,Cat
herine M.et al),により“狭帯域ファ
イバ−格子フィルタ−”IEEE Journal o
n Selected Areasin Commun
ications,Vol.8 No.6,1990年
8月,pp.1146−1150で明らかにされてい
る。代わりの方法としては図7に示した複合キャビティ
レ−ザ−である。本設計では格子100及び102は1
オングストロ−ムの反射率帯域幅を有し、同一波長で反
射する。(旧[0024])
ダ−ル,キャサリン M.等(Ragdale,Cat
herine M.et al),により“狭帯域ファ
イバ−格子フィルタ−”IEEE Journal o
n Selected Areasin Commun
ications,Vol.8 No.6,1990年
8月,pp.1146−1150で明らかにされてい
る。代わりの方法としては図7に示した複合キャビティ
レ−ザ−である。本設計では格子100及び102は1
オングストロ−ムの反射率帯域幅を有し、同一波長で反
射する。(旧[0024])
【0018】(新)格子により作られるファブリ- ペロ
の自由スペクトル範囲は格子の反射帯域幅よりも大きい
ので、格子の反射帯域幅中には僅かに1つのファブリ-
ペロ・モ−ドしか存在できない。格子100とミラ−1
04で作られるキャビティは80センチメ−トルの長さ
で、FRSは128MHzが得られ、格子100と10
2で形成されるキャビティの8ミリメ−トルに対するF
RSは12.8GHzが得られる。(旧[0025])
の自由スペクトル範囲は格子の反射帯域幅よりも大きい
ので、格子の反射帯域幅中には僅かに1つのファブリ-
ペロ・モ−ドしか存在できない。格子100とミラ−1
04で作られるキャビティは80センチメ−トルの長さ
で、FRSは128MHzが得られ、格子100と10
2で形成されるキャビティの8ミリメ−トルに対するF
RSは12.8GHzが得られる。(旧[0025])
【0019】(新)図7中の短いキャビティは図2で図
示したピ−ク32及び34に類似の稿を作る。図2の稿
の間隔をもっと近付けると8センチメ−トルのキャビテ
ィにより作られる稿と類似してくる。モ−ド選択性を確
実にするためには、格子100,102で形成されてい
るファブリ- ペロ・モ−ドに要求される細かさが100
のオ−ダ−である。疑いなく、格子100,102が帯
域幅を狭く作られる程レ−ザ−がただ一つのモ−ドを選
択するのが容易になる。(旧[0026])
示したピ−ク32及び34に類似の稿を作る。図2の稿
の間隔をもっと近付けると8センチメ−トルのキャビテ
ィにより作られる稿と類似してくる。モ−ド選択性を確
実にするためには、格子100,102で形成されてい
るファブリ- ペロ・モ−ドに要求される細かさが100
のオ−ダ−である。疑いなく、格子100,102が帯
域幅を狭く作られる程レ−ザ−がただ一つのモ−ドを選
択するのが容易になる。(旧[0026])
【0020】(新)図4の簡単な配置は、格子54の光
帯域幅が反射部54及び52により形成されているキャ
ビティの一つのファブリ- ペロ・モ−ドより大きく維持
されているときでも単一波長で動作させられる。これは
エルビウムレ−ザ−が最も均質に広がっているので単一
周波数発振を自ら選択しようと試みるためである。前記
の複合キャビティの設計は同様に他のレ−ザ−システム
にも適応でき、ネオジムの1.3ミクロンにおける動作
はよい例となる。(旧[0027])
帯域幅が反射部54及び52により形成されているキャ
ビティの一つのファブリ- ペロ・モ−ドより大きく維持
されているときでも単一波長で動作させられる。これは
エルビウムレ−ザ−が最も均質に広がっているので単一
周波数発振を自ら選択しようと試みるためである。前記
の複合キャビティの設計は同様に他のレ−ザ−システム
にも適応でき、ネオジムの1.3ミクロンにおける動作
はよい例となる。(旧[0027])
【0021】(新)本発明を実施するのに使用するポン
プレ−ザ−は、市販されている各種のものが使える。格
子もまた市販品でよく、例えばユナイテッド・テクノロ
ジ−ズ・コ−ポレ−ション(United Techn
ologies Corporation)の製品はゲ
ルマニウム・ド−パントのファイバ−に格子を設けてあ
り、高出力のレ−ザ−で例えば248ナノメ−トルにお
ける干渉パタ−ンを作ることに実施している。この干渉
パタ−ンはファイバ−をさらすことに使われ、その結果
局部的にファイバ−の屈折率が改質されるのである。同
様な手法が前述のベルズレイ等(Belsley et
al,)の文献で 明らかにされている。(旧[00
28])
プレ−ザ−は、市販されている各種のものが使える。格
子もまた市販品でよく、例えばユナイテッド・テクノロ
ジ−ズ・コ−ポレ−ション(United Techn
ologies Corporation)の製品はゲ
ルマニウム・ド−パントのファイバ−に格子を設けてあ
り、高出力のレ−ザ−で例えば248ナノメ−トルにお
ける干渉パタ−ンを作ることに実施している。この干渉
パタ−ンはファイバ−をさらすことに使われ、その結果
局部的にファイバ−の屈折率が改質されるのである。同
様な手法が前述のベルズレイ等(Belsley et
al,)の文献で 明らかにされている。(旧[00
28])
【0022】(新)図4の反射部52のような反射器は
部分反射ミラ−で構成されており、例えばファイバ−を
へき開し、誘導体を内装し、その後ファイバ−を元の様
に永久接続する。その他のタイプの反射器も使用するこ
とができる。反射率が5%から95%の範囲のほとんど
損失のないミラ−が入手できる。本発明に関して使われ
ているアイソレ−タ及び結合器もまた容易に入手でき
る。(旧[0029])
部分反射ミラ−で構成されており、例えばファイバ−を
へき開し、誘導体を内装し、その後ファイバ−を元の様
に永久接続する。その他のタイプの反射器も使用するこ
とができる。反射率が5%から95%の範囲のほとんど
損失のないミラ−が入手できる。本発明に関して使われ
ているアイソレ−タ及び結合器もまた容易に入手でき
る。(旧[0029])
【0023】(新)図5に本発明の実際化に使うことが
でき、その他の図示してある例の実施よりもっと適切な
多少大がかりな実施例を示してある。ポンプレ−ザ−1
0が光ファイバ−70から結合器72へエネルギ−を出
力する。格子レンズ74が結合器72を介してポンプレ
−ザ−のエネルギ−を受け取るエルビウムド−ピングフ
ァイバ−76に接続されている。この結合器はレ−ザ−
キャビティ中にポンプ光を有効に結合させ、光がレ−ジ
ング周波数でポンプレ−ザ−に逆戻りするのを防ぐため
波長選択結合器であるべきである。ミラ−78がエルビ
ウムレ−ザ−キャビティの長さを決め、光アイソレ−タ
80がファイバ−レ−ザ−に逆反射するのを防いでい
る。相異なる格子レンズ74が、希望する応用に必要な
エルビウムファイバ−の長さを経験的に決めるため、接
続することができる。(旧[0030])
でき、その他の図示してある例の実施よりもっと適切な
多少大がかりな実施例を示してある。ポンプレ−ザ−1
0が光ファイバ−70から結合器72へエネルギ−を出
力する。格子レンズ74が結合器72を介してポンプレ
−ザ−のエネルギ−を受け取るエルビウムド−ピングフ
ァイバ−76に接続されている。この結合器はレ−ザ−
キャビティ中にポンプ光を有効に結合させ、光がレ−ジ
ング周波数でポンプレ−ザ−に逆戻りするのを防ぐため
波長選択結合器であるべきである。ミラ−78がエルビ
ウムレ−ザ−キャビティの長さを決め、光アイソレ−タ
80がファイバ−レ−ザ−に逆反射するのを防いでい
る。相異なる格子レンズ74が、希望する応用に必要な
エルビウムファイバ−の長さを経験的に決めるため、接
続することができる。(旧[0030])
【0024】(新)図6は図1のファブリ- ペロ・干渉
計に図3の格子を結び付けた別のリングレ−ザ−の実施
例である。格子90のディメンションは、少ない縦モ−
ド又は必要ならば単一縦モ−ドで動作できる様にキャビ
ティの長さとの組み合わせで選ばれる。レ−ザ−で発生
された搬送波は結合器26を経て光ファイバ−92に出
力される。他の実施例と同様ミラ−20,24の位置
は、望む自然共鳴でキャビティの長さを決めることにな
る。(旧[0031])
計に図3の格子を結び付けた別のリングレ−ザ−の実施
例である。格子90のディメンションは、少ない縦モ−
ド又は必要ならば単一縦モ−ドで動作できる様にキャビ
ティの長さとの組み合わせで選ばれる。レ−ザ−で発生
された搬送波は結合器26を経て光ファイバ−92に出
力される。他の実施例と同様ミラ−20,24の位置
は、望む自然共鳴でキャビティの長さを決めることにな
る。(旧[0031])
【0025】(新)図8は一対の直列に接続されたファ
ブリ- ペロ・キャビティを利用したレ−ザ−の実施例で
ある。第1のファブリ- ペロ・キャビティはレ−ザ−キ
ャビティと同じで格子110から反射器116まで長さ
Lで伸びており、第2のファブリ-ペロ・キャビティは
第1のファブリ- ペロ・キャビティの中心又はその近く
に置かれている。第2のファブリ- ペロ・キャビティは
長さlで第1反射器112と第2反射器114で形成さ
れている。反射器112,114は周知技術による金
属、誘電体又は格子構造の組み合わせによる導波管内に
作られている。これに代わって第2のファブリ- ペロ・
キャビティはレ−ジング波長に伝送ピ−クを持つモアレ
型格子に置き換えることができ、この格子については前
に述べたラグダ−ル等(Ragdale et a
l,)の文献で明らかにされている。(旧[003
3])
ブリ- ペロ・キャビティを利用したレ−ザ−の実施例で
ある。第1のファブリ- ペロ・キャビティはレ−ザ−キ
ャビティと同じで格子110から反射器116まで長さ
Lで伸びており、第2のファブリ-ペロ・キャビティは
第1のファブリ- ペロ・キャビティの中心又はその近く
に置かれている。第2のファブリ- ペロ・キャビティは
長さlで第1反射器112と第2反射器114で形成さ
れている。反射器112,114は周知技術による金
属、誘電体又は格子構造の組み合わせによる導波管内に
作られている。これに代わって第2のファブリ- ペロ・
キャビティはレ−ジング波長に伝送ピ−クを持つモアレ
型格子に置き換えることができ、この格子については前
に述べたラグダ−ル等(Ragdale et a
l,)の文献で明らかにされている。(旧[003
3])
【0026】(新)図9にこの実施例を示してあるが、
これは格子110とミラ−116の位置が逆になり、反
射器112,114がモアレ格子130で置き替えられ
たことを除いては図8に示した構造と同じである。図8
に示して配置で格子110は例えばレ−ザ−の動作波長
(例えば1.5μm)で約95%の反射率である。この
波長での反射器116は約4−15%の反射率である。
第1ファブリ- ペロ・キャビティを形成している格子1
10と反射器116の位置は交替させることも出来る。
この様な実施例ではポンプレ−ザ−10に隣接する反射
器116の反射率はレ−ザ−の動作波長では約100%
で、その透過率はポンプ波長で約100%である。格子
110が光アイソレ−タ118の次に位置させられたと
きは、レ−ザ−の動作波長では約4−15%の反射率で
ある。(旧[0034])
これは格子110とミラ−116の位置が逆になり、反
射器112,114がモアレ格子130で置き替えられ
たことを除いては図8に示した構造と同じである。図8
に示して配置で格子110は例えばレ−ザ−の動作波長
(例えば1.5μm)で約95%の反射率である。この
波長での反射器116は約4−15%の反射率である。
第1ファブリ- ペロ・キャビティを形成している格子1
10と反射器116の位置は交替させることも出来る。
この様な実施例ではポンプレ−ザ−10に隣接する反射
器116の反射率はレ−ザ−の動作波長では約100%
で、その透過率はポンプ波長で約100%である。格子
110が光アイソレ−タ118の次に位置させられたと
きは、レ−ザ−の動作波長では約4−15%の反射率で
ある。(旧[0034])
【0027】(新)両配置の場合、第1ファブリ- ペロ
・キャビティの長さLは1メ−トルのオ−ダ−で、第2
ファブリ- ペロ・キャビティの長さlは1ミリメ−トル
のオ−ダ−である。第2ファブリ- ペロ・キャビティの
自由スペクトル範囲は格子の反射帯域幅よりも僅かに少
なく、格子は格子の帯域幅にレ−ザ−を限定する。更に
第2ファブリ- ペロ・キャビティは自由スペクトル範囲
(FRS)に帯域幅を限定する。キャビティの長さLは
ただ1ファブリ- ペロ・モ−ドが維持できるくらいに短
く選ぶ。([0035])
・キャビティの長さLは1メ−トルのオ−ダ−で、第2
ファブリ- ペロ・キャビティの長さlは1ミリメ−トル
のオ−ダ−である。第2ファブリ- ペロ・キャビティの
自由スペクトル範囲は格子の反射帯域幅よりも僅かに少
なく、格子は格子の帯域幅にレ−ザ−を限定する。更に
第2ファブリ- ペロ・キャビティは自由スペクトル範囲
(FRS)に帯域幅を限定する。キャビティの長さLは
ただ1ファブリ- ペロ・モ−ドが維持できるくらいに短
く選ぶ。([0035])
【0028】(新)第2ファブリ- ペロ・キャビティは
希望するレ−ジング波長でのゲイン以外のゲインを最小
にするため、第1ファブリ- ペロ・キャビティの中心近
くに設ける。この構造で格子110と反射器112の間
と反射器114とミラ−116の間に存在する可能性の
ある希望しないレ−ザ−キャビティ中でのレ−ジングを
抑制するのである。第2ファブリ- ペロ・キャビティの
最適位置は、格子110と反射器112の間及び反射器
114とミラ−116の間のレ−ザ−キャビティの競合
の相対レ−ジングしきい値により決まる。格子110と
ミラ−116の反射率が等しいときは、第2ファブリ-
ペロ・キャビティの配置は第1ファブリ- ペロ・キャビ
ティの中心となる。(旧[0036])
希望するレ−ジング波長でのゲイン以外のゲインを最小
にするため、第1ファブリ- ペロ・キャビティの中心近
くに設ける。この構造で格子110と反射器112の間
と反射器114とミラ−116の間に存在する可能性の
ある希望しないレ−ザ−キャビティ中でのレ−ジングを
抑制するのである。第2ファブリ- ペロ・キャビティの
最適位置は、格子110と反射器112の間及び反射器
114とミラ−116の間のレ−ザ−キャビティの競合
の相対レ−ジングしきい値により決まる。格子110と
ミラ−116の反射率が等しいときは、第2ファブリ-
ペロ・キャビティの配置は第1ファブリ- ペロ・キャビ
ティの中心となる。(旧[0036])
【0029】(新)もし格子110の反射率がミラ−1
16より高いときは、第2ファブリ- ペロ・キャビティ
格子110と反射器112間のキャビティのゲインを最
小にする様に格子110に近付く様に移動させる。反対
にミラ−116の反射率のほうが高い場合は、第2ファ
ブリ- ペロ・キャビティをそれに近付かせる。2偏光モ
−ド中のレ−ジングを抑制するため、光学キャビティの
中心近くに偏光フィルタ−を設け、2本の直線形偏光中
の1本のレ−ジングを抑制することができる。図8の構
造はド−ピング光ファイバ−か、シリカ導波管で現実が
可能である。(旧[0037])
16より高いときは、第2ファブリ- ペロ・キャビティ
格子110と反射器112間のキャビティのゲインを最
小にする様に格子110に近付く様に移動させる。反対
にミラ−116の反射率のほうが高い場合は、第2ファ
ブリ- ペロ・キャビティをそれに近付かせる。2偏光モ
−ド中のレ−ジングを抑制するため、光学キャビティの
中心近くに偏光フィルタ−を設け、2本の直線形偏光中
の1本のレ−ジングを抑制することができる。図8の構
造はド−ピング光ファイバ−か、シリカ導波管で現実が
可能である。(旧[0037])
【0030】(新)本願発明に関連する技術として、図
1に示す参考例を説明する。図1の構成では、リング・
キャビティ・レ−ザ−がエルビウムド−ピング光ファイ
バ−14で構成されている。エルビウムのド−ピング
(中間ゲイン)で光学的ゲインを定着させられる。1.
5ミクロン領域で動作させるレ−ザ−に対してはエルビ
ウムが特に有用であるが、1.3ミクロン領域ではネオ
ジムとプラセオジムが特に有効である。(旧12の後
半)
1に示す参考例を説明する。図1の構成では、リング・
キャビティ・レ−ザ−がエルビウムド−ピング光ファイ
バ−14で構成されている。エルビウムのド−ピング
(中間ゲイン)で光学的ゲインを定着させられる。1.
5ミクロン領域で動作させるレ−ザ−に対してはエルビ
ウムが特に有用であるが、1.3ミクロン領域ではネオ
ジムとプラセオジムが特に有効である。(旧12の後
半)
【0031】(新)レ−ザ−キャビティ14は、光ファ
イバ−12と出力ファイバ−28にレ−ザ−キャビティ
を接続している通常の結合器26を経てポンプレ−ザ−
10でポンピングされる。エルビウムの例ではポンプレ
−ザ−10は標準的には980nm又は1480nmの
波長で動作させられる。光アイソレ−タ16がリングが
一方向の進行波のみを支持する様リング内に設けられて
いる。光アイソレ−タは一偏光のみを通過させる市販の
通常タイプのもので、このため希望しない偏光モ−ドは
レ−ジングから除かれる。単偏光を使用すると優秀なキ
ャビティが実現できる。一偏光のみが励起されているの
で二重光は問題にならない。(旧[0013])
イバ−12と出力ファイバ−28にレ−ザ−キャビティ
を接続している通常の結合器26を経てポンプレ−ザ−
10でポンピングされる。エルビウムの例ではポンプレ
−ザ−10は標準的には980nm又は1480nmの
波長で動作させられる。光アイソレ−タ16がリングが
一方向の進行波のみを支持する様リング内に設けられて
いる。光アイソレ−タは一偏光のみを通過させる市販の
通常タイプのもので、このため希望しない偏光モ−ドは
レ−ジングから除かれる。単偏光を使用すると優秀なキ
ャビティが実現できる。一偏光のみが励起されているの
で二重光は問題にならない。(旧[0013])
【0032】(新)光アイソレ−タ16の出力は光ファ
イバ−18を経て第1ミラ−20に、続いて光ファイバ
−22を経て第2ミラ−24に接続されている。ミラ−
20及び24を備えることで、ファブリ- ペロ・干渉計
で一対の長さの等しくないミラ−を備えることになり、
リングレ−ザ−内における波長の選択性が増すことにな
る。ファブリ- ペロ・干渉計の操作に関する検討はD.
R.フ−バ−とJ.B.キャロル(D.R.Huber
and J.B.Caroll)による“光学振動数
掃引ファブリ- ペロ・干渉計の時間領域のレスポン
ス”,応用光学(Applied Optics),1
986,Vol.25,pp.2386−2390でな
されている。(旧[0014])
イバ−18を経て第1ミラ−20に、続いて光ファイバ
−22を経て第2ミラ−24に接続されている。ミラ−
20及び24を備えることで、ファブリ- ペロ・干渉計
で一対の長さの等しくないミラ−を備えることになり、
リングレ−ザ−内における波長の選択性が増すことにな
る。ファブリ- ペロ・干渉計の操作に関する検討はD.
R.フ−バ−とJ.B.キャロル(D.R.Huber
and J.B.Caroll)による“光学振動数
掃引ファブリ- ペロ・干渉計の時間領域のレスポン
ス”,応用光学(Applied Optics),1
986,Vol.25,pp.2386−2390でな
されている。(旧[0014])
【0033】(新)図1に示した構成で、リング内にフ
ァブリ- ペロ・干渉計が連結されていることで、レ−ザ
−キャビティ内でより少ない縦モ−ドを選択することが
できるのである。キャビティの長さはモ−ド数が減少す
る様に選ばれる。エルビウムをド−ピングしたシリカ基
質を使った装置では、2つのキャビティのディメンショ
ンは僅か単一モ−ドが維持される様に作ることができ、
また1つのキャビティで単一モ−ドを供給できることが
例えば後述の図3で可能である。(旧[0015])
ァブリ- ペロ・干渉計が連結されていることで、レ−ザ
−キャビティ内でより少ない縦モ−ドを選択することが
できるのである。キャビティの長さはモ−ド数が減少す
る様に選ばれる。エルビウムをド−ピングしたシリカ基
質を使った装置では、2つのキャビティのディメンショ
ンは僅か単一モ−ドが維持される様に作ることができ、
また1つのキャビティで単一モ−ドを供給できることが
例えば後述の図3で可能である。(旧[0015])
【0034】(新)リングの直径は出来るだけ小さくす
ることが望ましく、このことはリング直径を小さくする
ほど、縦モ−ドが離れるという事実のためである。技術
に精通している方々ならリング全体をエルビウムド−ピ
ングをするか又は図1に示した部分14だけをド−ピン
グするかは自明のことであろう。(旧[0016])
ることが望ましく、このことはリング直径を小さくする
ほど、縦モ−ドが離れるという事実のためである。技術
に精通している方々ならリング全体をエルビウムド−ピ
ングをするか又は図1に示した部分14だけをド−ピン
グするかは自明のことであろう。(旧[0016])
【0035】(新)図2は図1に示したファブリ- ペロ
・キャビティの2つの直列の伝達函数を30として図示
したもので、連結キャビティの振動数は一致し、伝達函
数は各キャビティ内に振動数を発生している。このため
例えばエルビウム・ド−ピング・ファイバ−14で形成
されるキャビティ、光アイソレ−タ16及び光ファイバ
−18の配置により振動数の一つの集合に共鳴し、光フ
ァイバ−22からなるキャビティで振動数の別の集合に
共鳴し、各キャビティ中の32,34と一致する振動数
のみが加えられ、その他のすべては消去されるのであ
る。(旧[0017])
・キャビティの2つの直列の伝達函数を30として図示
したもので、連結キャビティの振動数は一致し、伝達函
数は各キャビティ内に振動数を発生している。このため
例えばエルビウム・ド−ピング・ファイバ−14で形成
されるキャビティ、光アイソレ−タ16及び光ファイバ
−18の配置により振動数の一つの集合に共鳴し、光フ
ァイバ−22からなるキャビティで振動数の別の集合に
共鳴し、各キャビティ中の32,34と一致する振動数
のみが加えられ、その他のすべては消去されるのであ
る。(旧[0017])
【0036】(新)図3はモ−ド選択のため図1のファ
ブリ- ペロ・干渉計の代わりに格子構造40を設けた実
施例である。この様な格子の操作はK.L.ベルズレ
イ,J.B.キャロル,L.A.ヘス,D.R.フ−バ
−及びD.シュマ−デル(K.L.Belsley,
J.B.Caroll,L.A.Hess,D.R.H
uberand D.Schmadel)による“光学
的多重化干渉ファイバ−光センサ−システム”,SPI
E,1985,Vol.566,pp.257−264
及びW.V.ソリンとS.A.ニュ−トン(W.V.S
orin and S.A.Newton)による“広
帯域可変波長・外部ファイバ−キャビティレ−ザ−の単
波長出力”,OFC 1988,Vol.WQ26,p
p.123で検討されている。本発明によるレ−ザ−を
製作するためには、エルビウムレ−ザ−のゲインカ−ブ
の中で希望波長を持った単一モ−ドの波長ピ−クを与え
る格子ディメンションを選ばねばならない。(旧[00
18])
ブリ- ペロ・干渉計の代わりに格子構造40を設けた実
施例である。この様な格子の操作はK.L.ベルズレ
イ,J.B.キャロル,L.A.ヘス,D.R.フ−バ
−及びD.シュマ−デル(K.L.Belsley,
J.B.Caroll,L.A.Hess,D.R.H
uberand D.Schmadel)による“光学
的多重化干渉ファイバ−光センサ−システム”,SPI
E,1985,Vol.566,pp.257−264
及びW.V.ソリンとS.A.ニュ−トン(W.V.S
orin and S.A.Newton)による“広
帯域可変波長・外部ファイバ−キャビティレ−ザ−の単
波長出力”,OFC 1988,Vol.WQ26,p
p.123で検討されている。本発明によるレ−ザ−を
製作するためには、エルビウムレ−ザ−のゲインカ−ブ
の中で希望波長を持った単一モ−ドの波長ピ−クを与え
る格子ディメンションを選ばねばならない。(旧[00
18])
【0037】(新)ところで、図1、図3及び図6に示
した様なリングレ−ザ−配置では、標準結合器、格子及
び光アイソレ−タの偏光感度をより良く処理するためリ
ングキャビティ中に偏光調節器を置く必要がある。手動
の偏光調節器はほとんどの応用面に対して実用的でない
ので、この低精密度及び偏光感度(バイフリンジェン
ス)の問題の解決法は、偏光保持ファイバ−と偏光モ−
ドの一つのみを励起させるファイバ−レ−ザ−を作るこ
とである。このような実施例に有用な精密結合器は各メ
−カ−から出されている。(旧[0032])
した様なリングレ−ザ−配置では、標準結合器、格子及
び光アイソレ−タの偏光感度をより良く処理するためリ
ングキャビティ中に偏光調節器を置く必要がある。手動
の偏光調節器はほとんどの応用面に対して実用的でない
ので、この低精密度及び偏光感度(バイフリンジェン
ス)の問題の解決法は、偏光保持ファイバ−と偏光モ−
ドの一つのみを励起させるファイバ−レ−ザ−を作るこ
とである。このような実施例に有用な精密結合器は各メ
−カ−から出されている。(旧[0032])
【0038】今や本発明が、少なくとも単一モ−ドに抑
制された光搬送波を発生させるための稀土類元素をド−
ピングしたレ−ザ−を提供するものであることが明らか
になったことと思う。レ−ザ−はド−ピングした光ファ
イバ−、または稀土類元素で直接ド−ピングしたシリカ
基質の様なその他の光伝送媒体で組み立てられる。この
様な構造は高いレベルの完成度が得られることで有益で
ある。本発明について各種の図示した実施例で説明して
きたが、技術に精通した方々ならば、特許請求の範囲に
述べてある本発明の真意及び範囲から離脱することな
く、種々の応用及び改善が行うことができるであろう。
制された光搬送波を発生させるための稀土類元素をド−
ピングしたレ−ザ−を提供するものであることが明らか
になったことと思う。レ−ザ−はド−ピングした光ファ
イバ−、または稀土類元素で直接ド−ピングしたシリカ
基質の様なその他の光伝送媒体で組み立てられる。この
様な構造は高いレベルの完成度が得られることで有益で
ある。本発明について各種の図示した実施例で説明して
きたが、技術に精通した方々ならば、特許請求の範囲に
述べてある本発明の真意及び範囲から離脱することな
く、種々の応用及び改善が行うことができるであろう。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
稀土類元素を添加しほとんどのモ−ドが抑制されたレ−
ザ−を実現できる。そして、付随モ−ドの周波数が十分
に離れていて、ビ−トを起こさない時は残っていても差
し支えなく、この様なレ−ザ−はRFスペクトル中で干
渉ビ−トを発生せずに動作させることができ、レ−ザ−
からの出力エネルギ−は信号伝送のためのクリ−ンな光
搬送波とすることが出来る。
稀土類元素を添加しほとんどのモ−ドが抑制されたレ−
ザ−を実現できる。そして、付随モ−ドの周波数が十分
に離れていて、ビ−トを起こさない時は残っていても差
し支えなく、この様なレ−ザ−はRFスペクトル中で干
渉ビ−トを発生せずに動作させることができ、レ−ザ−
からの出力エネルギ−は信号伝送のためのクリ−ンな光
搬送波とすることが出来る。
【図1】ファブリ- ペロ・縦モ−ド選択のエルビウム・
ファイバ−・リングレ−ザ−の構成図である。
ファイバ−・リングレ−ザ−の構成図である。
【図2】図1のレ−ザ−において、直列の2つのファブ
リ- ペロ・キャビティの伝達函数を図示したグラフであ
る。
リ- ペロ・キャビティの伝達函数を図示したグラフであ
る。
【図3】モ−ド選択のためのファバ−格子を設けたエル
ビウム・ファイバ−・リングレ−ザ−の構成図である。
ビウム・ファイバ−・リングレ−ザ−の構成図である。
【図4】モ−ド選択のためのファイバ−格子を設けた線
形エルビウム・ファイバ−レ−ザ−の構成図である。
形エルビウム・ファイバ−レ−ザ−の構成図である。
【図5】モ−ド選択のための外部格子を設けた線形エル
ビウム・ファイバ−レ−ザ−の構成図である。
ビウム・ファイバ−レ−ザ−の構成図である。
【図6】直列のファブリ- ペロ・キャビティとモ−ド選
択のためのファイバ−格子を設けたエルビウム・ファイ
バ−・リングレ−ザ−の構成図である。
択のためのファイバ−格子を設けたエルビウム・ファイ
バ−・リングレ−ザ−の構成図である。
【図7】一対のファイバ−格子を設けた線形複合キャビ
ティ・エルビウム・ファイバ−レ−ザ−の構成図であ
る。
ティ・エルビウム・ファイバ−レ−ザ−の構成図であ
る。
【図8】第1ファブリ- ペロ・キャビティとその中心で
第2ファブリ- ペロ・キャビティを備えた線形複合キャ
ビティ・ファイバ−レ−ザ−の構成図である。
第2ファブリ- ペロ・キャビティを備えた線形複合キャ
ビティ・ファイバ−レ−ザ−の構成図である。
【図9】中心にモアレ格子を設けたファブリ- ペロ・キ
ャビティを備えた線形複合キャビティ・ファイバ−レ−
ザ−の構成図である。
ャビティを備えた線形複合キャビティ・ファイバ−レ−
ザ−の構成図である。
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(56)参考文献 1,ECOC 87,Technica
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twave Technology,V
ol.LT−4 No.7 p.p.
956−960
Claims (16)
- 【請求項1】 光搬送波を発生させるためのレーザーで
あって、 希土類元素で少なくとも一部分をドーピングされた光学
部材から導波構造中に形成され複数の縦モードレーザー
出力を可能とする長さを有したキャビティを具え、前記
キャビティはレーザーキャビティに供するためのレーザ
ー媒質を有する光学部材からなり、前記キャビティの長
さ(L)は前記キャビティの縦モードを限定するように
選択されてなり、前記キャビティ中に配設された光学格
子は前記縦モードのうちの一つで伝送ピークを有するこ
とを特徴とするレーザー。 - 【請求項2】 請求項1のレーザーにおいて、前記キャ
ビティはファブリ- ペロ・キャビティであることを特徴
とするレーザー。 - 【請求項3】 請求項1又は2いずれかのレーザーにお
いて、前記キャビティはその一端に設けた反射器と他端
に設けた光学格子とからなることを特徴とするレーザ
ー。 - 【請求項4】 請求項2又は3いずれかのレーザーにお
いて、前記光学格子はファブリ- ペロ・キャビティのほ
ぼ中央に設けられたことを特徴とするレーザー。 - 【請求項5】 請求項4のレーザーにおいて、光学格子
の近傍に偏光フィルターを設けたことを特徴とするレー
ザー。 - 【請求項6】 請求項1ないし5いずれかのレーザーに
おいて、レーザー媒質を有する前記光学部材は稀土類元
素で少なくとも一部分をドーピングされた光ファイバー
であることを特徴とするレーザー。 - 【請求項7】 請求項1ないし5いずれかのレーザーに
おいて、レーザー媒質を有する前記光学部材は稀土類元
素で少なくとも一部分をドーピングされた導波管である
ことを特徴とするレーザー。 - 【請求項8】 請求項6又は7いずれかのレーザーにお
いて、前記稀土類元素はエルビウム、ネオジム又はプラ
セオジムであることを特徴とするレーザー。 - 【請求項9】 請求項7又は8いずれかのレーザーにお
いて、前記導波管はシリカ導波管であることを特徴とす
るレーザー。 - 【請求項10】 請求項9のレーザーにおいて、光学格
子はキャビティ中のドーピング部分に設けたことを特徴
とするレーザー。 - 【請求項11】 請求項9のレーザーにおいて、光学格
子はキャビティ中のドーング部分の外に設けたことを特
徴とするレーザー。 - 【請求項12】 請求項1ないし11いずれかのレーザ
ーにおいて、前記レーザーキャビティはリング構造を有
し、光学格子はリング部分に設けたことを特徴とするレ
ーザー。 - 【請求項13】 請求項12のレーザーにおいて、光学
格子前記リングのド−ピング部分に設けたことを特徴と
するレーザー。 - 【請求項14】 請求項12のレーザーにおいて、光学
格子はキャビティ中のドーピング部分の外に設けたこと
を特徴とするレーザー。 - 【請求項15】 請求項12ないし14いずれかのレー
ザーにおいて、さらに光アイソレータを具えたことを特
徴とするレーザー。 - 【請求項16】 請求項1ないし15いずれかのレーザ
ーにおいて、縦モード以外のすべての抑制手段を具えた
ことを特徴とするレーザー。
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