JP3444419B2 - Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same - Google Patents

Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same

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JP3444419B2 JP2001088423A JP2001088423A JP3444419B2 JP 3444419 B2 JP3444419 B2 JP 3444419B2 JP 2001088423 A JP2001088423 A JP 2001088423A JP 2001088423 A JP2001088423 A JP 2001088423A JP 3444419 B2 JP3444419 B2 JP 3444419B2
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electrode
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気信号と弾性表
面波との間の変換を行うすだれ状電極を有する弾性表面
波装置に係り、特に、引出し電極の構造を改良した弾性
表面波装置とその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface acoustic wave device having a comb-shaped electrode for converting between an electric signal and a surface acoustic wave, and more particularly to a surface acoustic wave device having an improved extraction electrode structure. The present invention relates to a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話やテレビ受像機等の電子
部品や通信部品において、共振子や帯域フィルタ等とし
て弾性表面波装置(以下、「SAW(Surface
Acoustic Wave)デバイスという」)が使
用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, surface acoustic wave devices (hereinafter referred to as "SAW (Surface)" have been used as resonators, bandpass filters, etc. in electronic parts and communication parts such as mobile phones and television receivers.
"Acoustic Wave) devices") are used.

【0003】このようなSAWデバイスを組み込むべき
各種機器は、小型に形成されるようになり、このため、
このようなSAWデバイスにも小型化の要請が強い。
Various devices into which such a SAW device is to be incorporated have become small in size, and as a result,
There is a strong demand for downsizing such SAW devices.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような課題に対す
る一つの解決策として、図20に示すようなSAWデバ
イスが提案されている。
As one solution to such a problem, a SAW device as shown in FIG. 20 has been proposed.

【0005】このSAWデバイス1は、すだれ状電極を
形成した圧電基板2と、この圧電基板2の電極部を気密
状態で覆うように装着されたキャップ6とを備えてい
る。
The SAW device 1 comprises a piezoelectric substrate 2 having a comb-shaped electrode formed thereon, and a cap 6 mounted so as to cover the electrode portion of the piezoelectric substrate 2 in an airtight state.

【0006】図21の平面図に示すように、圧電基板2
は、キャップ6よりも大きく形成されており、この圧電
基板2の表面には、すだれ状電極である櫛形電極(ID
T(Inter Digital Transduce
r))3及び反射器4を備えている。
As shown in the plan view of FIG. 21, the piezoelectric substrate 2
Are formed larger than the cap 6, and on the surface of the piezoelectric substrate 2, comb-shaped electrodes (ID
T (Inter Digital Transduce)
r)) 3 and a reflector 4.

【0007】圧電基板2は、例えば水晶で矩形板状に形
成されている。IDT3,3及び反射器4,4は、圧電
基板2の表面に導体金属を蒸着あるいはスパッタリング
等により薄膜状に形成した上で、フォトリソグラフィ等
によりすだれ状となるように形成されている。なお、す
だれ状電極の1本,1本は図示の都合上省略されてい
る。
The piezoelectric substrate 2 is formed of quartz, for example, in a rectangular plate shape. The IDTs 3 and 3 and the reflectors 4 and 4 are formed on the surface of the piezoelectric substrate 2 in a thin film shape by vapor deposition, sputtering, or the like, and then formed into a comb shape by photolithography or the like. Note that one of the interdigital electrodes is omitted for convenience of illustration.

【0008】具体的には、IDT3とIDT3は、2つ
の櫛形状の電極の各櫛歯部分が、所定距離を隔てて互い
違いに入り込むように形成されている。このIDT3
は、電気的に接続されている外部端子5,5を介して電
気信号と弾性表面波(SAW)との間の変換を行う機能
を有する。
Specifically, the IDT 3 and the IDT 3 are formed such that the comb-tooth portions of the two comb-shaped electrodes are alternately inserted at a predetermined distance. This IDT3
Has a function of converting between an electric signal and a surface acoustic wave (SAW) through the external terminals 5 and 5 that are electrically connected.

【0009】反射器4は、複数の電極指が所定のピッチ
で並設されて長手方向の各両端部が短絡されるように形
成されている。この反射器4は、IDT3から伝搬して
くる弾性表面波を反射して、弾性表面波のエネルギーを
内部に閉じこめる機能を有する。
The reflector 4 is formed such that a plurality of electrode fingers are arranged in parallel at a predetermined pitch so that both ends in the longitudinal direction are short-circuited. The reflector 4 has a function of reflecting the surface acoustic wave propagating from the IDT 3 and confining the energy of the surface acoustic wave inside.

【0010】このような構成において、電気信号が、外
部端子5を介してIDT3に入力されると、圧電効果に
より弾性表面波に変換される。この弾性表面波は、ID
T3の電極指の長手方向に対して直交方向に伝搬され、
IDT3の両側から反射器4に放射される。このとき、
圧電基板2の材質、電極の厚みや電極の幅等で決定され
る伝播速度とIDT3の電極指の電極周期に等しい波長
を持つ弾性表面波が、最も強く励振される。この弾性表
面波は、反射器4により多段反射されてIDT3に戻さ
れ、外部端子5を介して出力されるようになっている。
In such a structure, when an electric signal is input to the IDT 3 via the external terminal 5, it is converted into a surface acoustic wave by the piezoelectric effect. This surface acoustic wave is
Propagation in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the electrode finger of T3,
The reflector 4 is radiated from both sides of the IDT 3. At this time,
A surface acoustic wave having a wavelength equal to the propagation velocity determined by the material of the piezoelectric substrate 2, the thickness of the electrode, the width of the electrode, etc. and the electrode period of the electrode finger of the IDT 3 is excited most strongly. This surface acoustic wave is reflected by the reflector 4 in multiple stages, returned to the IDT 3, and output via the external terminal 5.

【0011】これに対して、近年、SAWデバイスが搭
載される各種情報機器類等は、きわめて小型化されてい
く傾向にあり、搭載機器の目的に応じて、高周波数対応
のSAWデバイスや、低周波数対応のSAWデバイス等
の各種SAWデバイスもさらに小型化される必要があ
る。
On the other hand, in recent years, various types of information equipment and the like in which SAW devices are mounted tend to be extremely miniaturized, and depending on the purpose of the mounted equipment, high frequency compatible SAW devices and low Various SAW devices such as frequency-compatible SAW devices also need to be further downsized.

【0012】しかし、上述したSAWデバイス1は、外
部端子5,5に接続するための引出し電極5aを必要と
し、図20及び図21から明らかなように、圧電基板2
をキャップ6よりも大きくして、キャップ6の外部に露
出した圧電基板2の表面に、引出し電極5a,5aを形
成して、外部端子5,5とそれぞれ電気的に接続して構
成されている。このため、圧電基板2がキャップ6より
も大きくされた分だけ、装置の小型化の妨げとなってい
た。
However, the SAW device 1 described above requires the extraction electrode 5a for connecting to the external terminals 5 and 5, and as is apparent from FIGS. 20 and 21, the piezoelectric substrate 2 is used.
Is formed larger than the cap 6, and the extraction electrodes 5a and 5a are formed on the surface of the piezoelectric substrate 2 exposed to the outside of the cap 6 and electrically connected to the external terminals 5 and 5, respectively. . Therefore, the size of the piezoelectric substrate 2 larger than the cap 6 hinders downsizing of the device.

【0013】また、圧電基板2の表面を加工したり、キ
ャップ6に切り欠きを設けて、キャップ6の内側の外部
端子5,5から導通線を引出す方法もあるが、この場合
には、キャップ6に切り欠き加工が必要となって、その
分製造工程が煩雑となるという問題がある。
There is also a method in which the surface of the piezoelectric substrate 2 is processed or a notch is provided in the cap 6 so as to draw out a conducting wire from the external terminals 5 and 5 inside the cap 6, but in this case, the cap is used. There is a problem that the notch processing is required in 6 and the manufacturing process becomes complicated accordingly.

【0014】本発明の目的は、上記課題を解消して、小
型に形成でき、キャップに所定の加工を行う必要がない
ことから簡単に製造することができる弾性表面波装置と
その製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to solve the above problems and provide a surface acoustic wave device which can be formed in a small size and can be easily manufactured because it is not necessary to perform a predetermined process on a cap, and a manufacturing method thereof. It is to be.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記目的は、請求項1の
発明によれば、すだれ状電極を形成した圧電基板とキャ
ップとが、シール材を介して接合されており、前記シー
ル材の外側端面に前記電極の端子から引きだされた導通
線の端面が配置されていて、前記導通線の端面の周囲の
領域に導通金属を被覆することにより、引出し電極が形
成されている、弾性表面波装置により、達成される。
According to the invention of claim 1, the above-mentioned object is that the piezoelectric substrate having the interdigital transducer and the cap are joined together via a sealing material, and the outside of the sealing material is provided. A surface acoustic wave in which an end face of a conducting wire drawn from a terminal of the electrode is arranged on the end face, and a lead-out electrode is formed by coating a region around the end face of the conducting wire with a conducting metal. Achieved by the device.

【0016】請求項1の構成によれば、すだれ状電極を
形成した圧電基板とキャップとが、シール材を介して接
合されており、前記シール材の外側端面に前記電極の端
子から引きだされた導通線の端面が配置されているの
で、導通線または導通線の代わりとなる電極等を設けて
キャップの外まで引き出す必要がない。このため、キャ
ップと圧電基板をほぼ同じ大きさとすることができる。
ダイシング加工でキャップも圧電基板も同時に切断する
ことが望ましい。しかし従来技術では電極5aを露出す
るためにはキャップに切り欠きを設ける、あるいは他の
方法としては、キャップにビアホールを設け、ビアホー
ルに接続される電極をキャップに設ける必要がある。し
たがって、本願は従来例と比較して、加工工数を大幅に
削減でき、製造も容易となる。
According to the structure of the first aspect, the piezoelectric substrate having the interdigital transducer and the cap are joined together via the sealing material, and the outer end surface of the sealing material is drawn out from the terminal of the electrode. Since the end face of the conducting wire is arranged, it is not necessary to provide the conducting wire or an electrode or the like in place of the conducting wire and draw it out of the cap. Therefore, the cap and the piezoelectric substrate can have substantially the same size.
It is desirable to simultaneously cut the cap and the piezoelectric substrate by dicing. However, in the prior art, it is necessary to provide a notch in the cap to expose the electrode 5a , or as another method, it is necessary to provide a via hole in the cap and provide an electrode connected to the via hole in the cap. Therefore, in the present application, the number of processing steps can be significantly reduced and the manufacturing becomes easy as compared with the conventional example.

【0017】さらに、シール材の外側端面に導通線の端
面が配置された状態,すなわち、導通線はシール材に包
囲されていることから、この導通線がキャップと圧電基
板との間に介在して、その線径によりクリアランスを均
一にすることができる。
Further, since the end face of the conducting wire is arranged on the outer end face of the sealing material, that is, the conducting wire is surrounded by the sealing material, the conducting wire is interposed between the cap and the piezoelectric substrate. Therefore, the clearance can be made uniform by the wire diameter.

【0018】請求項2の発明は、請求項1の構成におい
て、前記圧電基板と前記キャップとがほぼ同一の形状で
なることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the structure of the first aspect, the piezoelectric substrate and the cap have substantially the same shape.

【0019】請求項2の構成によれば、圧電基板とキャ
ップとはほぼ同一の形状であることから、基板側が大き
い従来検討されているSAWチップと比較すると格段に
小型化できる。
According to the structure of the second aspect, since the piezoelectric substrate and the cap have almost the same shape, the size can be remarkably reduced as compared with the SAW chip, which has been considered conventionally and has a large substrate side.

【0020】請求項3の発明は、請求項1または2の構
成において、前記導通線は、前記圧電基板上のすだれ状
電極の上方に重なる位置を避けて延びていることを特徴
とする。
According to a third aspect of the present invention, in the structure of the first or second aspect, the conducting wire extends so as to avoid a position overlapping above the interdigital electrode on the piezoelectric substrate.

【0021】請求項3の構成によれば、透明なキャップ
を透過させてレーザー光を圧電基板上の電極に照射し、
周波数調整する場合にも、前記導通線がその光路を妨げ
ることがない。
According to the structure of claim 3, laser light is radiated to the electrodes on the piezoelectric substrate through the transparent cap,
Even when the frequency is adjusted, the conducting wire does not obstruct the optical path.

【0022】また、上記目的は、請求項4の発明によれ
ば、圧電材料で形成された圧電基板用のウエハ状の材料
と、キャップ用のウエハ状の材料を用意し、圧電基板用
のウエハ状の材料の表面には、個別の製品となる大きさ
の単位毎にすだれ状電極を複数組同時に形成し、この圧
電基板用のウエハ状の材料における個別の製品となる隣
接した圧電基板上の端子どうしを導通線によりボンディ
ングし、前記キャップ用のウエハ状の材料または圧電基
板用のウエハ状の材料に対して、個別の製品となる大き
さの単位毎に周縁部にシール材を塗布しシール材の塗布
面を内側にして、前記キャップ用のウエハ状の材料を、
前記圧電基板用のウエハ状の材料の電極形成面に対向さ
せて重ねて、シール材を硬化させ、次いで、前記圧電基
板用のウエハ状の材料に前記キャップ用のウエハ状の材
料を重ねた状態で個別の製品となる大きさの単位毎にダ
イシングして、シール材の切断面に導通線の端面を露出
させ、各ダイシングされたチップについて、所定のマス
クを施して、前記導通線の端面の周囲の領域に導通金属
を被覆する、弾性表面波装置の製造方法により、達成さ
れる。
Further, according to the invention of claim 4, a wafer-shaped material for a piezoelectric substrate formed of a piezoelectric material and a wafer-shaped material for a cap are prepared, and a wafer for a piezoelectric substrate is prepared. A plurality of interdigital electrodes are simultaneously formed on the surface of the material in the shape of a unit for each unit of size to be an individual product. The terminals are bonded with a conductive wire, and a sealing material is applied to the periphery of the wafer-shaped material for the cap or the wafer-shaped material for the piezoelectric substrate in units of individual product sizes. With the coated surface of the material inside, the wafer-shaped material for the cap,
A state in which the sealing material is cured by stacking the wafer-shaped material for the piezoelectric substrate so as to face the electrode formation surface, and then the wafer-shaped material for the cap is stacked on the wafer-shaped material for the piezoelectric substrate. At each unit of the size to be an individual product in, to expose the end surface of the conductive wire to the cut surface of the sealing material, for each diced chip, given a predetermined mask, the end surface of the conductive wire This is achieved by a method of manufacturing a surface acoustic wave device, in which a peripheral region is coated with a conductive metal.

【0023】請求項4の構成によれば、圧電基板を形成
するためのウエハも、キャップ用の板状の材料も、共に
ウエハの状態で封止までの工程を行うことができる。こ
のために、多数のチップについて封止までの作業を同時
に進行させることができ、きわめて製造効率が高い。ま
た、圧電基板を形成するためのウエハも、キャップ用の
板状の材料について、クリアランスを形成したり、電極
を通したりする上で特別な研削加工等を必要とするもの
ではないので、面倒な作業がなく、この点でも製造が容
易となる。
According to the structure of claim 4, both the wafer for forming the piezoelectric substrate and the plate-like material for the cap can be subjected to the steps up to sealing in the state of the wafer. Therefore, the work up to encapsulation can be carried out simultaneously on a large number of chips, resulting in extremely high manufacturing efficiency. Further, the wafer for forming the piezoelectric substrate does not require special grinding or the like for forming a clearance or passing an electrode with respect to the plate-shaped material for the cap, which is troublesome. There is no work, and manufacturing is easy also in this respect.

【0024】請求項5の発明は、請求項4の構成におい
て、前記圧電基板と前記キャップとがほぼ同一の形状で
なることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the structure of the fourth aspect, the piezoelectric substrate and the cap have substantially the same shape.

【0025】請求項6の発明は、請求項4または5の構
成において、前記導通線が前記すだれ状電極の電極指の
延びる方向に対して斜めに延びるように接続されること
を特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the structure of the fourth or fifth aspect, the conductive line is connected so as to extend obliquely with respect to the extending direction of the electrode fingers of the interdigital transducer.

【0026】請求項6の構成によれば、各製品単位の大
きさに切断された場合に、導通線の切断端面はほぼ楕円
形となる。このため、引き出し電極と接触するための面
積が円形断面と比較すると大きくなり、電気的接続が確
実となる。
According to the structure of claim 6, the cut end face of the conducting wire becomes substantially elliptical when cut into the size of each product unit. Therefore, the area for contacting the extraction electrode is larger than that of the circular cross section, and the electrical connection is ensured.

【0027】請求項7の発明は、請求項6の構成におい
て、前記導通線が前記すだれ状電極の上方に重なる位置
を避けて延びるように接続されることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the structure of the sixth aspect, the conducting wire is connected so as to extend while avoiding a position overlapping above the interdigital electrode.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を図面に基づいて説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0029】図1は、本発明のSAWデバイスの第1の
実施形態の概略構成を示す斜視図であり、図2は、図1
のA−A線概略断面図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a SAW device according to a first embodiment of the present invention, and FIG.
3 is a schematic cross-sectional view taken along line AA of FIG.

【0030】このSAWデバイス10は、表面にすだれ
状電極である櫛形電極13及び反射器14を形成した圧
電基板12と、この圧電基板12の電極形成部を気密状
態で覆うキャップ16とを備えている。
This SAW device 10 is provided with a piezoelectric substrate 12 on the surface of which a comb-shaped electrode 13 and a reflector 14 which are interdigital electrodes are formed, and a cap 16 which covers the electrode forming portion of the piezoelectric substrate 12 in an airtight state. There is.

【0031】圧電基板12は、圧電材料として、例え
ば、水晶,リチウムタンタレート,LBO等の単結晶基
板やZnO/Si等の多層膜基板等でなり、圧電基板1
2の形状は、例えば、図示されているように、矩形板状
とされている。
The piezoelectric substrate 12 is made of, for example, a single crystal substrate such as quartz, lithium tantalate, or LBO, or a multilayer film substrate such as ZnO / Si as a piezoelectric material.
The shape of 2 is, for example, a rectangular plate shape as illustrated.

【0032】キャップ16は、例えば、圧電基板と熱膨
張係数が近い材料が適しており、例えば同じ圧電材料
で、好ましくは、圧電基板12と同じ形状で同じ大きさ
の外形を備え、レーザー光等を透過する透明な材料で形
成されている。図1では、キャップ16は表面に電極を
形成した部分以外透明に表されている。
For the cap 16, for example, a material having a coefficient of thermal expansion close to that of the piezoelectric substrate is suitable. For example, the same piezoelectric material, preferably the same shape as the piezoelectric substrate 12 and the same outer shape, is used. It is made of a transparent material that transmits light. In FIG. 1, the cap 16 is shown transparent except for the portion where the electrode is formed on the surface.

【0033】圧電基板12の周縁部には、シール材17
が配置されている。シール材17は、圧電基板12とキ
ャップ16の両方の周縁部の間に充填されて圧電基板1
2とキャップ16とを固定するとともに、図2に示すよ
うに、内部に空間Sを形成して気密に封止する機能を果
たすものである。このシール材17としては、例えば、
低融点ガラスや絶縁性接着材等が使用される。
A sealing material 17 is provided on the periphery of the piezoelectric substrate 12.
Are arranged. The sealing material 17 is filled between the peripheral portions of both the piezoelectric substrate 12 and the cap 16 to seal the piezoelectric substrate 1.
2 and the cap 16 are fixed, and as shown in FIG. 2, a space S is formed inside to perform airtight sealing. As the sealing material 17, for example,
Low melting point glass, insulating adhesive, etc. are used.

【0034】櫛形電極(IDT)13及び反射器14
は、圧電基板12の表面に、アルミニウムやチタン等の
導体金属を蒸着あるいはスパッタリング等により薄膜状
に形成した上で、フォトリソグラフィ等により、すだれ
状となるように形成されている。櫛形電極(IDT)1
3及び反射器14の形態は、他の図面を参照して後で詳
しく説明する。
Comb-shaped electrode (IDT) 13 and reflector 14
Is formed so that a conductive metal such as aluminum or titanium is formed into a thin film on the surface of the piezoelectric substrate 12 by vapor deposition, sputtering, or the like, and is then formed into a comb shape by photolithography or the like. Comb-shaped electrode (IDT) 1
The configurations of 3 and the reflector 14 will be described in detail later with reference to other drawings.

【0035】IDT13は、図2に示すように、キャッ
プ16に覆われた領域に形成されている。各外部端子2
5,26には導通線18,19の各一端部18a,19
aが接続されている。この導通線18,19の他端部1
8b,19bは、圧電基板12とキャップ16との間に
充填されたシール材17,17内に延びており、しか
も、導通線18,19の各他端部18b,19bの端面
は、シール材17,17の外側端面17a,17aに臨
んで位置している。
The IDT 13 is formed in a region covered with the cap 16 as shown in FIG. Each external terminal 2
5 and 26 have one ends 18a and 19 of the conducting wires 18 and 19, respectively.
a is connected. The other end 1 of the conducting wires 18 and 19
8b and 19b extend into the sealing materials 17 and 17 filled between the piezoelectric substrate 12 and the cap 16, and the end faces of the other ends 18b and 19b of the conducting wires 18 and 19 are the sealing materials. It is located so as to face the outer end surfaces 17a, 17a of the 17, 17.

【0036】さらに、図1及び図2に示されているよう
に、これら各導通線18,19の他端部18b,19b
の端面の周囲を含んで、SAWデバイス10の各両端の
外面には、導通金属が被覆されることにより、それぞれ
引出し電極21,22が形成されている。これら引出し
電極21,22は、各導通線18,19の他端部の端面
と接することによって、圧電基板12に形成されたID
T13と電気的に接続されている。
Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the other ends 18b and 19b of the respective conducting lines 18 and 19 are provided.
The lead-out electrodes 21 and 22 are formed by covering the outer surfaces of both ends of the SAW device 10 including the periphery of the end surface of FIG. These lead-out electrodes 21 and 22 are in contact with the end faces of the other ends of the conducting wires 18 and 19, respectively, so that the IDs formed on the piezoelectric substrate 12 are formed.
It is electrically connected to T13.

【0037】本実施形態のSAWデバイス10は以上の
ように構成されており、次にその製造方法を詳細に説明
する。
The SAW device 10 of this embodiment is configured as described above, and the manufacturing method thereof will be described in detail below.

【0038】図3は、圧電基板12を形成する様子を示
している。先ず、圧電材料として、例えば、水晶,リチ
ウムタンタレート,LBO等の単結晶基板やZnO/S
i等の多層膜基板によるウエハ31上に、所定の電極パ
ターンを形成する。図示の場合は、例えば、ウエハ31
を後の工程において、仮想の切断線C1,C2,C3,
C4にて切断して、全部で9個の圧電基板12を形成す
る例を示している。
FIG. 3 shows how the piezoelectric substrate 12 is formed. First, as a piezoelectric material, for example, a single crystal substrate such as quartz, lithium tantalate, LBO, or ZnO / S is used.
A predetermined electrode pattern is formed on the wafer 31 made of a multilayer substrate such as i. In the case shown, for example, the wafer 31
In the subsequent process, the virtual cutting lines C1, C2, C3
An example is shown in which nine piezoelectric substrates 12 are formed by cutting at C4.

【0039】ここで形成する電極パターンは、各ひとつ
の圧電基板12の単位で、一組の櫛形電極(IDT)1
3と、その両側に配置される各反射器14,14を備え
るように形成される。この場合、電極形成は、ウエハ3
1が備える圧電基板12について、まとめて行われ、ア
ルミニウムやチタン等の導体金属を蒸着あるいはスパッ
タリング等により薄膜状に形成した上で、フォトリソグ
ラフィ等により、すだれ状となるように形成する。そし
て、図3のひとつの圧電基板12に示されているよう
に、外部端子25,26も各圧電基板12について、同
時に形成される。
The electrode pattern formed here is a unit of one piezoelectric substrate 12, and a set of comb-shaped electrodes (IDT) 1 is formed.
3 and the respective reflectors 14 and 14 arranged on both sides thereof. In this case, electrodes are formed on the wafer 3
The piezoelectric substrate 12 included in 1 is collectively formed, and a conductive metal such as aluminum or titanium is formed into a thin film by vapor deposition, sputtering, or the like, and then formed into a comb shape by photolithography or the like. Then, as shown in one piezoelectric substrate 12 in FIG. 3, the external terminals 25 and 26 are simultaneously formed for each piezoelectric substrate 12.

【0040】次いで、図4に示すように、導通線を接続
する。導通線としては、電気抵抗の少ないよく延びる金
属が適しており、例えば、金(Au)線が好適に使用さ
れる。そして、この金線18,19の一端を圧電基板1
2上の例えば外部端子25にボンディングし、同じ金線
18,19を斜めに延ばして、他端を隣接する他の圧電
基板12の外部端子26とボンディングする。この時、
金線がIDT13や反射器14の電極の上を横切ること
がないようにされる。これらは、後の工程で仮想の切断
線C1,C2,C3,C4にそって切断されることで、
それぞれ外部端子25に接続された導通線18と外部端
子26に接続された導通線19とが構成されることにな
る。
Next, as shown in FIG. 4, the conducting wire is connected. A metal that extends well and has a low electric resistance is suitable for the conducting wire. For example, a gold (Au) wire is preferably used. Then, one end of each of the gold wires 18 and 19 is connected to the piezoelectric substrate 1
For example, it is bonded to the external terminal 25 on 2, and the same gold wires 18 and 19 are obliquely extended, and the other end is bonded to the external terminal 26 of another adjacent piezoelectric substrate 12. At this time,
The gold wire is prevented from crossing over the electrodes of the IDT 13 and the reflector 14. These are cut along the virtual cutting lines C1, C2, C3, C4 in a later process,
The conducting wire 18 connected to the external terminal 25 and the conducting wire 19 connected to the external terminal 26 are configured respectively.

【0041】ここで、図5は、図4で説明した導通線を
ボンディングする様子を示す部分拡大平面図である。こ
の図を用いて、圧電基板12に形成される電極の様子を
説明する。
Here, FIG. 5 is a partially enlarged plan view showing the manner of bonding the conducting wire described in FIG. The state of the electrodes formed on the piezoelectric substrate 12 will be described with reference to this drawing.

【0042】図において、IDT13は、複数の電極指
13aが所定のピッチで並設されて長手方向の各端部が
交互に短絡されるように形成されている。すなわち、2
つの櫛形状の電極の各櫛歯部分が、所定距離隔てて互い
違いに入り込むように形成されている。このIDT13
は、圧電基板12の長手方向の両端部付近の互いに対角
の位置にそれぞれ外部端子25,26を有している。す
なわち、外部端子25は圧電基板12の短辺方向の一方
の端部よりに設けられ、外部接続端子26は圧電基板1
2の短辺方向の他方の端部よりに設けられている。これ
によりIDT13は、電気的に接続されている外部端子
25,26を介して電気信号と弾性表面波(SAW)と
の間の変換を行う機能を有する。
In the figure, the IDT 13 is formed such that a plurality of electrode fingers 13a are juxtaposed at a predetermined pitch so that the ends in the longitudinal direction are alternately short-circuited. Ie 2
The comb-tooth portions of the two comb-shaped electrodes are formed so as to interleave with each other at a predetermined distance. This IDT13
Have external terminals 25 and 26 at positions diagonal to each other near both ends in the longitudinal direction of the piezoelectric substrate 12. That is, the external terminal 25 is provided from one end of the piezoelectric substrate 12 in the short side direction, and the external connection terminal 26 is the piezoelectric substrate 1.
It is provided from the other end in the short side direction of 2. As a result, the IDT 13 has a function of converting between an electric signal and a surface acoustic wave (SAW) via the external terminals 25 and 26 that are electrically connected.

【0043】IDT13の両側には、それぞれ所定のギ
ャップを隔てて、反射器14,14が設けられている。
反射器14は、複数の電極指14aが、IDT13と同
じように、所定のピッチで並設されて長手方向の各両端
部が短絡されるように形成されている。
Reflectors 14 and 14 are provided on both sides of the IDT 13 with a predetermined gap therebetween.
The reflector 14 is formed such that the plurality of electrode fingers 14a are arranged in parallel at a predetermined pitch and each end portion in the longitudinal direction is short-circuited, as in the IDT 13.

【0044】そして、例えば、同一構成の2つの反射器
14,14は、電極指14aがIDT13の電極指13
aと平行になるように、かつIDT13を弾性表面波の
伝播方向、すなわちIDT13の電極指13aの長手方
向に直交する方向に所定距離を隔てて挟み込むように形
成されている。この反射器14,14は、IDT13か
ら伝搬してくる弾性表面波を反射して、弾性表面波のエ
ネルギーを内部に閉じこめる機能を有している。
Then, for example, in the two reflectors 14 having the same structure, the electrode finger 14a has the electrode finger 13 of the IDT 13.
It is formed so as to be parallel to a and sandwich the IDT 13 at a predetermined distance in the propagation direction of the surface acoustic wave, that is, in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the electrode fingers 13a of the IDT 13. The reflectors 14 and 14 have a function of reflecting the surface acoustic wave propagating from the IDT 13 and confining the energy of the surface acoustic wave inside.

【0045】そして、導通線18,19は、図5におい
て左側の圧電基板12上の外部端子26と、この圧電基
板12と隣接する右側の圧電基板12上の外部端子25
とを接続するように設けられる。
The conductive lines 18 and 19 are connected to the external terminals 26 on the piezoelectric substrate 12 on the left side in FIG. 5 and the external terminals 25 on the piezoelectric substrate 12 on the right side adjacent to the piezoelectric substrate 12.
It is provided to connect with.

【0046】次に、図6に示すように、キャップを形成
するための厚みの薄い板状の材料32を用意する。板状
の材料32は、好ましくは、圧電基板12を形成するた
めのウエハ31と一致するかきわめて近い熱膨張係数を
備えた材料が選定され、例えば、SiO2 やガラス等が
適しており、ウエハ31と同じ圧電材料のものでもよ
い。
Next, as shown in FIG. 6, a thin plate-shaped material 32 for forming a cap is prepared. The plate-shaped material 32 is preferably selected from a material having a coefficient of thermal expansion that matches or is very close to that of the wafer 31 for forming the piezoelectric substrate 12. For example, SiO 2 or glass is suitable. The same piezoelectric material as 31 may be used.

【0047】図7は、キャップ用の板状の材料32にシ
ール材33を適用する様子を示している。キャップ用の
板状の材料32は、図示するような仮想の切断線C5,
C6,C7,C8に沿って後の工程で切りわけられる。
この切断線C5,C6,C7,C8は、ウエハ31側の
仮想の切断線C1,C2,C3,C4(図3,図4参
照)と一致する位置に設けられ、後の工程において、切
断線C1,C2,C3,C4と同時に切断される。
FIG. 7 shows how the sealing material 33 is applied to the plate-shaped material 32 for the cap. The plate-shaped material 32 for the cap has an imaginary cutting line C5 as shown.
It will be divided in a later step along C6, C7, and C8.
The cutting lines C5, C6, C7, C8 are provided at positions corresponding to the virtual cutting lines C1, C2, C3, C4 (see FIGS. 3 and 4) on the side of the wafer 31. It is cut at the same time as C1, C2, C3 and C4.

【0048】キャップ用の板状の材料32は、切断線C
5,C6,C7,C8により区分けされる各単位毎に、
その内周を囲むようにシール材33が適用され、区分け
されたひとつの単位のシール材が、図1及び図2で説明
したシール材17に相当する。ここで使用するシール材
としては、絶縁性で基板との密着性に優れた性質のもの
が適しており、例えば、ガラスフリットや絶縁性接着剤
等が使用される。具体的には、このシール材は、例え
ば、スクリーン印刷に使用されるスクリーンを使用し
て、図7のキャップ用の板状の材料32の下面にて、切
断線C5,C6,C7,C8により区分けされる領域の
内周を囲むように塗布される。
The plate-shaped material 32 for the cap has a cutting line C.
For each unit divided by 5, C6, C7, C8,
The sealing material 33 is applied so as to surround the inner periphery thereof, and one divided sealing material corresponds to the sealing material 17 described in FIGS. 1 and 2. As the sealing material used here, a material having an insulating property and excellent adhesion to the substrate is suitable, and for example, a glass frit or an insulating adhesive is used. Specifically, this sealing material is, for example, using a screen used for screen printing, on the lower surface of the plate-shaped material 32 for the cap of FIG. 7, by cutting lines C5, C6, C7, C8. It is applied so as to surround the inner circumference of the divided area.

【0049】したがって、キャップ用の板状の材料32
には、図20で説明した圧電デバイスのように、電極引
き出しのために隙間を形成する等の面倒な作業をする必
要はなく、何ら加工しないまま次の工程に移る。
Therefore, the plate-shaped material 32 for the cap is used.
However, unlike the piezoelectric device described with reference to FIG. 20, it is not necessary to perform a troublesome work such as forming a gap for drawing out an electrode, and the process proceeds to the next step without any processing.

【0050】ここで、上述のように、キャップ用の板状
の材料32にシール材33を適用するのではなく、これ
と対応した位置において、基板側であるウエハ31側に
同様の手法でシール材33を適用してもよい。
Here, as described above, instead of applying the sealing material 33 to the plate-shaped material 32 for the cap, at the position corresponding to this, sealing is performed on the wafer 31 side which is the substrate side by the same method. The material 33 may be applied.

【0051】次いで、図8に示すように、例えば、真空
雰囲気中において、図4で説明したウエハ31の上に、
図7で説明したキャップ用の板状の材料32を重ねる。
これにより、ウエハ31とキャップ用の板状の材料32
との間には、シール材33が介在した状態となる。これ
と同時に、各導通線18,19は、シール材33の中に
入り込んで、周囲をシール材33に包囲された状態とな
る。また、この状態において、キャップ用の板状の材料
32の切断線C5,C6,C7,C8とは、ウエハ31
側の切断線C1,C2,C3,C4の上方で重なる位置
とされる。この状態で加熱することによりシール材33
を硬化させることで、多数の圧電基板に対するキャップ
による封止が同時に行われる。
Then, as shown in FIG. 8, for example, in a vacuum atmosphere, on the wafer 31 described in FIG.
The plate-shaped material 32 for the cap described in FIG. 7 is overlaid.
As a result, the wafer 31 and the plate-shaped material 32 for the cap are formed.
The sealing material 33 is interposed between the and. At the same time, the conducting wires 18 and 19 enter the sealing material 33 and are surrounded by the sealing material 33. Further, in this state, the cutting lines C5, C6, C7, and C8 of the plate-shaped material 32 for the cap are the same as the wafer 31.
It is located above the cutting lines C1, C2, C3, C4 on the side. By heating in this state, the sealing material 33
By curing, the plurality of piezoelectric substrates are simultaneously sealed with the cap.

【0052】そして、図9に示すように、切断線C5,
C6,C7,C8に沿ってダイシングプレート等により
切断することにより、ひとつひとつの圧電基板12の大
きさ(SAWデバイスチップ)に切断される。
Then, as shown in FIG. 9, the cutting line C5,
By cutting along C6, C7, and C8 with a dicing plate or the like, each piezoelectric substrate 12 is cut into a size (SAW device chip).

【0053】この状態においては、圧電基板12の各長
手方向の切断面には、それぞれ導通線18,19の他端
側18b,19bの端面が露出している。
In this state, the end faces of the other ends 18b and 19b of the conducting wires 18 and 19 are exposed at the cut surfaces in the longitudinal direction of the piezoelectric substrate 12, respectively.

【0054】最後に、図10に示すように、切断したひ
とつのチップサイズの加工品の中央部にマスク28を形
成し、マスク28により隠されていない両端部に導通金
属をスパッタリングや蒸着等の手法により被覆すること
により、図1に示すような引き出し電極21,22が形
成されることになる。
Finally, as shown in FIG. 10, a mask 28 is formed at the center of the cut one-chip processed product, and conductive metal is sputtered or vapor-deposited at both ends not hidden by the mask 28. By applying the coating method, the extraction electrodes 21 and 22 as shown in FIG. 1 are formed.

【0055】SAWデバイス10は、以上のように製造
されるので、圧電基板12とキャップ16とはほぼ同一
の形状であることから、基板側が大きい図20のSAW
チップ1と比較すると格段に小型化されたSAWデバイ
スを得ることができる。勿論、セラミックパッケージへ
圧電基板12を収容する場合と比較すると、はるかに小
さい弾性表面波装置を得ることができる。
Since the SAW device 10 is manufactured as described above, since the piezoelectric substrate 12 and the cap 16 have substantially the same shape, the SAW shown in FIG.
Compared with the chip 1, it is possible to obtain a much smaller SAW device. Of course, as compared with the case where the piezoelectric substrate 12 is housed in the ceramic package, a much smaller surface acoustic wave device can be obtained.

【0056】また、圧電基板12を形成するためのウエ
ハ31も、キャップ用の板状の材料32も、共にウエハ
の状態で封止までの工程を行うことができる。このため
に、多数のチップについて封止までの作業を同時に進行
することができ、きわめて製造効率が高い。また、圧電
基板12を形成するためのウエハ31も、キャップ用の
板状の材料32について、クリアランスを形成したり、
電極を通したりする上で特別な研削加工等を必要とする
ものではないので、面倒な作業がなく、この点でも製造
が容易となる。
Both the wafer 31 for forming the piezoelectric substrate 12 and the plate-shaped material 32 for the cap can be subjected to the steps up to sealing in the wafer state. For this reason, the work up to sealing of many chips can be carried out at the same time, and the manufacturing efficiency is extremely high. Further, the wafer 31 for forming the piezoelectric substrate 12 also forms a clearance with respect to the plate-shaped material 32 for the cap,
Since no special grinding process or the like is required to pass the electrode through, there is no troublesome work, and the manufacturing is easy in this respect as well.

【0057】さらに、ウエハの状態において、シール部
材17により封止しているので、多数の製品について同
時に封止がされ、キャップ16と圧電基板12との間
は、シール材17に包囲された導通線が介在しているの
で、その線径により全ての製品のクリアランスCR(図
2参照)を同一にすることができる。
Further, in the wafer state, since the sealing member 17 is used for sealing, a large number of products are sealed at the same time, and the space between the cap 16 and the piezoelectric substrate 12 is surrounded by the sealing material 17 and is electrically conductive. Since the wire is interposed, the clearance CR (see FIG. 2) of all products can be made the same depending on the wire diameter.

【0058】また、特に、導通線18,19は、圧電基
板12の上方において、IDT13や反射器14の電極
と重ならないように配置されていることから、透明なキ
ャップを透過させてレーザー光を圧電基板12上の上記
電極に照射し、周波数調整する場合にも、これら導通線
18,19がその光路を妨げることがない。
Further, in particular, the conducting wires 18 and 19 are arranged above the piezoelectric substrate 12 so as not to overlap the electrodes of the IDT 13 and the reflector 14, so that the laser light is transmitted through the transparent cap. Even when the frequency is adjusted by irradiating the electrodes on the piezoelectric substrate 12, the conducting lines 18 and 19 do not interfere with the optical path.

【0059】さらに、導通線18,19は斜めに延びて
おり、切断線C5,C6,C7,C8に沿って切断され
た場合には、導通線18,19の他端18b,19bの
端面はほぼ楕円形となる。このため、引き出し電極2
1,22と接触するための面積が断面円形となる場合に
比べて大きくなり、その分電気的接続が確実となる。
Further, the conductive lines 18 and 19 extend obliquely, and when cut along the cutting lines C5, C6, C7 and C8, the end faces of the other ends 18b and 19b of the conductive lines 18 and 19 are It becomes almost oval. Therefore, the extraction electrode 2
The area for contacting the first and the second terminals 22 is larger than that in the case where the area is circular, and the electrical connection is assured accordingly.

【0060】図11は、第2の実施形態に係るSAWデ
バイスの圧電基板48を示している。圧電基板48は、
第1の実施形態の圧電基板12と同一の材料により形成
され、ほぼ同じプロセスで製造されるが、その表面に形
成される電極パターンだけが相違している。以下、第1
の実施形態と共通する点については、同じ符号を付して
重複する説明を省略し、相違点を中心に説明する。
FIG. 11 shows the piezoelectric substrate 48 of the SAW device according to the second embodiment. The piezoelectric substrate 48 is
The piezoelectric substrate 12 is made of the same material as the piezoelectric substrate 12 of the first embodiment, and is manufactured by almost the same process, except for the electrode pattern formed on the surface thereof. Below, the first
The same points as those of the first embodiment will be denoted by the same reference numerals, redundant description will be omitted, and different points will be mainly described.

【0061】図11において、IDT43は、圧電基板
48の短辺方向の一端(図において上側)に2つの外部
端子46,47を有し、圧電基板48の短辺方向の他端
(図において下側)に1つの外部端子45を備えてい
る。この圧電基板48は、ウエハの状態において、切り
離される前の左右方向に隣接する他の圧電基板48が図
示とは上下が反対のパターンで隣り合っている。また、
上下方向に隣接する他の圧電基板48は、そのIDT4
3の外部端子45が対向するように隣り合っている。
In FIG. 11, the IDT 43 has two external terminals 46 and 47 at one end (upper side in the drawing) of the piezoelectric substrate 48, and the other end (lower side in the drawing) of the piezoelectric substrate 48. The side) is provided with one external terminal 45. In the wafer state, this piezoelectric substrate 48 is adjacent to another piezoelectric substrate 48 adjacent to each other in the left-right direction before being separated in a pattern whose top and bottom are opposite to those shown in the drawing. Also,
The other piezoelectric substrate 48 adjacent in the vertical direction has the IDT 4
The three external terminals 45 are adjacent to each other so as to face each other.

【0062】これにより、外部端子46には、導通線1
8の一端部18aがボンディングされて、他端側は図1
1において、左側に隣接する図示しない他の圧電基板4
8の外部端子46に向かって延びており、この導通線1
8の他端18bは、上述した切断工程で切断されてい
る。また、外部端子47には、導通線19の一端部19
aがボンディングされて、他端側は図11において、右
側に隣接する図示しない他の圧電基板48の外部端子4
7に向かって延びており、この導通線19の他端19b
は、上述した切断工程で切断されている。さらに、外部
端子45には、導通線41の一端部41aがボンディン
グされて、他端側は図11において、下側に隣接する図
示しない他の圧電基板48の外部端子45に向かって延
びており、この導通線41の他端41bは、上述した切
断工程で切断されている。
As a result, the conducting wire 1 is connected to the external terminal 46.
1 is bonded to one end portion 18a of FIG.
1, another piezoelectric substrate 4 (not shown) adjacent to the left side
8 extending toward the external terminal 46,
The other end 18b of 8 is cut in the cutting step described above. In addition, the external terminal 47 has one end portion 19 of the conducting wire 19.
a is bonded, and the other end side is the external terminal 4 of another piezoelectric substrate 48 (not shown) adjacent to the right side in FIG.
7, the other end 19b of the conducting wire 19
Is cut in the cutting step described above. Further, one end portion 41a of the conducting wire 41 is bonded to the external terminal 45, and the other end side extends toward the external terminal 45 of another piezoelectric substrate 48 (not shown) adjacent to the lower side in FIG. The other end 41b of the conducting wire 41 is cut in the cutting step described above.

【0063】これにより、この圧電基板48を使用した
SAWデバイス40は、図12に示すような形態とな
る。すなわち、キャップ16は第1の実施形態と同じで
あるが、圧電基板48の外部端子45に対応して、引き
出し電極42が導通線41の端面41bの周囲の領域に
形成されている。
As a result, the SAW device 40 using this piezoelectric substrate 48 has a form as shown in FIG. That is, although the cap 16 is the same as that of the first embodiment, the lead electrode 42 is formed in a region around the end surface 41b of the conducting wire 41 corresponding to the external terminal 45 of the piezoelectric substrate 48.

【0064】以上のように、SAWデバイス40は、そ
のIDT43の3つの外部端子45,46,47に対応
して、3つの引き出し電極21,22,42を備える点
以外は、第1の実施形態と同じであり、同様の作用効果
を発揮する。
As described above, the SAW device 40 is the same as the first embodiment except that the three lead electrodes 21, 22, 42 are provided corresponding to the three external terminals 45, 46, 47 of the IDT 43. Is the same as and has the same effect.

【0065】図13のSAWデバイス50は、第2の実
施形態の変形例であり、キャップ16の中央部分につい
て、導通金属による被覆を行わないようにした引き出し
電極42aを備えている。これにより、透明なキャップ
16を介して、レーザー光を用いて、上述した周波数調
整を行う場合に、引き出し電極がレーザー光の光路を妨
げないようになっている。
The SAW device 50 of FIG. 13 is a modified example of the second embodiment, and is provided with the extraction electrode 42a which does not cover the central portion of the cap 16 with the conductive metal. This prevents the extraction electrode from blocking the optical path of the laser light when the above-mentioned frequency adjustment is performed using the laser light through the transparent cap 16.

【0066】図14は、第3の実施形態に係るSAWデ
バイスの圧電基板52を示している。圧電基板52は、
第1の実施形態の圧電基板12と同一の材料により形成
され、ほぼ同じプロセスで製造されるが、その表面に形
成される電極パターンだけが相違している。以下、第1
の実施形態と共通する点については、同じ符号を付して
重複する説明を省略し、相違点を中心に説明する。
FIG. 14 shows the piezoelectric substrate 52 of the SAW device according to the third embodiment. The piezoelectric substrate 52 is
The piezoelectric substrate 12 is made of the same material as the piezoelectric substrate 12 of the first embodiment, and is manufactured by almost the same process, except for the electrode pattern formed on the surface thereof. Below, the first
The same points as those of the first embodiment will be denoted by the same reference numerals, redundant description will be omitted, and different points will be mainly described.

【0067】図14において、IDT83は、上下左右
の各中心線に関して対称な形態であり、2つの同一の構
成のIDT83,83と各IDT83,83の間に配置
された反射器84とを備えており、また各IDT83,
83の外側にも、それぞれ反射器14,14が配置され
ている。そして、IDT83,83は2つの外部端子を
有しており、これにより、矩形の圧電基板52の各角部
に近い位置に、外部端子65,66,67,68の4つ
の外部端子が形成されている。この圧電基板52は、ウ
エハの状態において、切り離される前の左右方向に隣接
する他の圧電基板52に対して、各IDT83,83の
各外部端子65,66,67,68どうしが導通線によ
り接続されている。すなわち、外部端子65には、導通
線71の一端部71aがボンディングされて、他端側は
図14において、左側に隣接する図示しない他の圧電基
板52の外部端子68に向かって延びており、この導通
線71は好ましくはやや内側に向けて撓ませて、他端7
1bは、上述した切断工程で切断されている。外部端子
66には、導通線72の一端部72aがボンディングさ
れて、他端側は図14において、左側に隣接する図示し
ない他の圧電基板52の外部端子67に向かって延びて
おり、この導通線72は好ましくはやや内側に向けて撓
ませて、他端72bは、上述した切断工程で切断されて
いる。外部端子67には、導通線73の一端部73aが
ボンディングされて、他端側は図14において、右側に
隣接する図示しない他の圧電基板52の外部端子66に
向かって延びており、この導通線73は好ましくはやや
内側に向けて撓ませて、他端73bは、上述した切断工
程で切断されている。外部端子68には、導通線74の
一端部74aがボンディングされて、他端側は図14に
おいて、右側に隣接する図示しない他の圧電基板52の
外部端子65に向かって延びており、この導通線74は
好ましくはやや内側に向けて撓ませて、他端74bは、
上述した切断工程で切断されている。
In FIG. 14, the IDT 83 is symmetrical with respect to the upper, lower, left, and right centerlines, and is provided with two IDTs 83, 83 having the same structure and a reflector 84 arranged between the IDTs 83, 83. And each IDT 83,
The reflectors 14 and 14 are also arranged outside 83. The IDTs 83, 83 have two external terminals, whereby four external terminals 65, 66, 67, 68 are formed near the corners of the rectangular piezoelectric substrate 52. ing. In the state of a wafer, this piezoelectric substrate 52 is connected to another piezoelectric substrate 52 adjacent in the left-right direction before being separated by connecting the external terminals 65, 66, 67, 68 of the IDTs 83, 83 with conductive wires. Has been done. That is, one end 71a of the conducting wire 71 is bonded to the external terminal 65, and the other end extends toward the external terminal 68 of another piezoelectric substrate 52 (not shown) adjacent to the left side in FIG. This conducting wire 71 is preferably bent slightly inward so that the other end 7
1b is cut in the cutting step described above. One end 72a of the conducting wire 72 is bonded to the external terminal 66, and the other end extends toward the external terminal 67 of another piezoelectric substrate 52 (not shown) adjacent to the left side in FIG. The wire 72 is preferably deflected slightly inward and the other end 72b is cut in the cutting process described above. One end portion 73a of the conducting wire 73 is bonded to the external terminal 67, and the other end side extends toward the external terminal 66 of another piezoelectric substrate 52 (not shown) adjacent to the right side in FIG. The wire 73 is preferably bent slightly inward, and the other end 73b is cut in the cutting process described above. One end 74a of the conducting wire 74 is bonded to the external terminal 68, and the other end extends toward the external terminal 65 of another piezoelectric substrate 52 (not shown) adjacent to the right side in FIG. The wire 74 is preferably deflected slightly inward and the other end 74b is
It is cut in the cutting step described above.

【0068】これにより、この圧電基板52を使用した
SAWデバイス60は、図15に示すような形態とな
る。すなわち、キャップ16は第1の実施形態と同じで
あるが、圧電基板52の各外部端子65,66,67,
68に対応して、各引き出し電極は、それぞれの導通線
の端面周囲の領域に形成されている。このため、それぞ
れ引き出し電極61,62,63,63が直方体の角部
に形成されている。
As a result, the SAW device 60 using this piezoelectric substrate 52 has a form as shown in FIG. That is, the cap 16 is the same as that of the first embodiment, but the external terminals 65, 66, 67 of the piezoelectric substrate 52,
Corresponding to 68, each extraction electrode is formed in a region around the end face of each conduction line. Therefore, the extraction electrodes 61, 62, 63, 63 are formed at the corners of the rectangular parallelepiped, respectively.

【0069】以上のように、SAWデバイス60は、そ
のIDT83,83の4つの外部端子65,66,6
7,68に対応して、4つの引き出し電極61,62,
63,64を備える点以外は、第1の実施形態と同じで
あり、同様の作用効果を発揮する。
As described above, the SAW device 60 has the four external terminals 65, 66, 6 of the IDTs 83, 83.
Corresponding to 7, 68, four extraction electrodes 61, 62,
The third embodiment is the same as the first embodiment except that it is provided with 63 and 64, and exhibits the same effect.

【0070】図16及び図17は、上述した手法とやや
異なる切断端面の構成例を示している。圧電基板12と
圧電基板12とは隣り合って共通するウエハに形成され
ている。一方の圧電基板12のIDTの外部端子85と
他方の圧電基板12のIDTの外部端子86とは、複
数,この場合、3本の導通線81で接続するようにして
いる。これにより、電気的接続をより確実にすることが
できる。
FIGS. 16 and 17 show a configuration example of the cut end face which is slightly different from the above method. The piezoelectric substrate 12 and the piezoelectric substrate 12 are formed adjacent to each other on a common wafer. The IDT external terminal 85 of one piezoelectric substrate 12 and the IDT external terminal 86 of the other piezoelectric substrate 12 are connected by a plurality of, in this case, three conducting wires 81. Thereby, the electrical connection can be made more reliable.

【0071】さらに、この場合、切断線MC1と切断線
MC2の位置で、基板及びキャップを切断し、切断線M
C1と切断線MC2の間の切断線MC3で導通線81を
切断すれば、導通線81の他端側81bは、図17に示
すように、圧電基板12の切断面で垂れ下がる。これに
より、この上に被覆される導通金属により形成される引
き出し電極との電気的接続をより確実なものとすること
ができる。
Further, in this case, the substrate and the cap are cut at the positions of the cutting line MC1 and the cutting line MC2, and the cutting line M
If the conducting wire 81 is cut at the cutting line MC3 between the C1 and the cutting line MC2, the other end side 81b of the conducting wire 81 hangs down at the cutting surface of the piezoelectric substrate 12, as shown in FIG. As a result, the electrical connection with the lead electrode formed of the conductive metal coated thereon can be made more reliable.

【0072】図18は、圧電基板12と、これに隣接す
る圧電基板12には、互いに対角の位置に外部端子83
と外部端子84が配置されている。この場合、圧電基板
12の外部端子83と隣接する他の圧電基板12の外部
端子84との間に導通線87を接続すると、導通線87
は、切断線MC4に対して、図示のように斜めに延びる
ことになる。このため、導通線87の切断端面は、図1
9に示すように、ほぼ楕円形となり、断面が円形となる
場合と比べて切断面の面積が大きくなる。これにより、
その上に被覆される導通金属で形成される引き出し電極
との電気的接続はより確実となる。このような構成は、
第1の実施形態とも共通するものであり、図18,19
はIDTの電極指の延びる方向,すなわち切断線と同じ
方向に対して、導通線を斜めに延びるように配置して切
断した場合の効果をわかりやすく説明するためのもので
ある。
FIG. 18 shows that the piezoelectric substrate 12 and the piezoelectric substrate 12 adjacent thereto have external terminals 83 at diagonal positions.
And external terminals 84 are arranged. In this case, if the conducting wire 87 is connected between the external terminal 83 of the piezoelectric substrate 12 and the external terminal 84 of another adjacent piezoelectric substrate 12, the conducting wire 87 is connected.
Will extend obliquely with respect to the cutting line MC4 as shown. For this reason, the cut end face of the conducting wire 87 is as shown in FIG.
As shown in FIG. 9, the cross section is substantially elliptical, and the area of the cut surface is larger than that in the case where the cross section is circular. This allows
The electrical connection with the lead-out electrode formed of the conductive metal coated thereon becomes more reliable. Such a configuration
This is common to the first embodiment, and is similar to FIGS.
Is for explaining the effect in a case where the conducting wire is arranged so as to extend obliquely with respect to the extending direction of the electrode fingers of the IDT, that is, the same direction as the cutting line, and is cut.

【0073】本発明は、上述の実施形態に限定されるも
のではなく、請求項に記載の発明の趣旨を逸脱しない範
囲であらゆる形態のSAWデバイスに適用される。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, but is applied to all forms of SAW devices without departing from the spirit of the invention described in the claims.

【0074】特に、上述の各実施形態の個々の構成は、
必要により省略したり、これらと異なる他の構成と、あ
るいは個々の構成どうし任意に組み合わせることができ
る。
In particular, the individual configurations of the above-mentioned embodiments are as follows.
They may be omitted if necessary, or may be arbitrarily combined with other configurations different from these or the individual configurations.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、小
型に形成でき、キャップに所定の加工を行う必要がない
ことから簡単に製造することができる弾性表面波装置と
その製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided a surface acoustic wave device which can be formed in a small size and can be easily manufactured because it is not necessary to perform a predetermined process on the cap, and a manufacturing method thereof. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のSAWデバイスの第1の実施形態を示
す概略斜視図。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a first embodiment of a SAW device of the present invention.

【図2】図1のSAWデバイスのA−A線概略断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA of the SAW device shown in FIG.

【図3】図1のSAWデバイスの製造工程において、圧
電基板を製造するためのウエハに電極を形成した様子を
示す概略斜視図。
3 is a schematic perspective view showing a state in which electrodes are formed on a wafer for manufacturing a piezoelectric substrate in a manufacturing process of the SAW device of FIG.

【図4】図1のSAWデバイスの製造工程において、圧
電基板を製造するためのウエハに導通線を施した状態を
示す概略斜視図。
4 is a schematic perspective view showing a state in which a conductive wire is provided on a wafer for manufacturing a piezoelectric substrate in a manufacturing process of the SAW device of FIG.

【図5】図1のSAWデバイスの製造工程において、圧
電基板を製造するためのウエハに導通線を施した状態の
部分拡大平面図。
5 is a partially enlarged plan view showing a state in which a conductive wire is provided on a wafer for manufacturing a piezoelectric substrate in the manufacturing process of the SAW device of FIG.

【図6】図1のSAWデバイスの製造工程において、キ
ャップを製造するためのウエハを示す概略斜視図。
6 is a schematic perspective view showing a wafer for manufacturing a cap in the manufacturing process of the SAW device of FIG.

【図7】図5のキャップを製造するためのウエハにシー
ル材を塗布した様子を示す概略斜視図。
7 is a schematic perspective view showing a state in which a sealing material is applied to a wafer for manufacturing the cap of FIG.

【図8】図4の圧電基板を製造するためのウエハに図7
のキャップを製造するためのウエハを重ねた状態を示す
概略斜視図。
FIG. 8 shows a wafer for manufacturing the piezoelectric substrate of FIG.
Schematic perspective view showing a state in which wafers for manufacturing the cap of FIG.

【図9】図8の状態から切断線に沿ってダイシングした
状態を示す概略斜視図。
FIG. 9 is a schematic perspective view showing a state of being diced from the state of FIG. 8 along a cutting line.

【図10】図8の切断工程後のひとつのチップにマスク
を施した状態の概略斜視図。
10 is a schematic perspective view showing a state where one chip is masked after the cutting step of FIG. 8;

【図11】SAWデバイスの第2の実施形態に係る圧電
基板の概略平面図。
FIG. 11 is a schematic plan view of a piezoelectric substrate according to a second embodiment of a SAW device.

【図12】本発明のSAWデバイスの第2の実施形態を
示す概略斜視図。
FIG. 12 is a schematic perspective view showing a second embodiment of the SAW device of the present invention.

【図13】図11のSAWデバイスの変形例を示す概略
斜視図。
13 is a schematic perspective view showing a modified example of the SAW device of FIG.

【図14】SAWデバイスの第3の実施形態に係る圧電
基板の概略平面図。
FIG. 14 is a schematic plan view of a piezoelectric substrate according to a third embodiment of a SAW device.

【図15】本発明のSAWデバイスの第3の実施形態を
示す概略斜視図。
FIG. 15 is a schematic perspective view showing a third embodiment of the SAW device of the present invention.

【図16】外部端子の他の接続例を示す部分平面図。FIG. 16 is a partial plan view showing another example of connection of external terminals.

【図17】外部端子の他の接続例を示す部分側面図。FIG. 17 is a partial side view showing another example of connection of external terminals.

【図18】外部端子を斜めに延びる導通線で接続する様
子を示す部分平面図。
FIG. 18 is a partial plan view showing how external terminals are connected by diagonally extending conductive lines.

【図19】図18の切断線に沿った切断面を示す概略
図。
FIG. 19 is a schematic view showing a cut surface along a cutting line in FIG. 18.

【図20】SAWデバイスを示す概略斜視図。FIG. 20 is a schematic perspective view showing a SAW device.

【図21】図20のSAWデバイスの概略平面図。21 is a schematic plan view of the SAW device of FIG.

【図22】図20のSAWデバイスの概略正面図。22 is a schematic front view of the SAW device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,40,50,60 SAWデバイス(弾性表面
波装置) 12 圧電基板 13 櫛形電極(IDT) 13a 電極指 14 反射器 16 キャップ 17 シール材 18 導通線 19 導通線 21 引き出し電極 22 引き出し電極
10, 40, 50, 60 SAW device (surface acoustic wave device) 12 Piezoelectric substrate 13 Comb-shaped electrode (IDT) 13a Electrode finger 14 Reflector 16 Cap 17 Sealing material 18 Conducting wire 19 Conducting wire 21 Leading electrode 22 Leading electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03H 9/145 H03H 3/08 H03H 9/25 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H03H 9/145 H03H 3/08 H03H 9/25

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 すだれ状電極を形成した圧電基板とキャ
ップとが、シール材を介して接合されており、 前記シール材の外側端面に前記電極の端子から引きださ
れた導通線の端面が配置されていて、 前記導通線の端面の周囲の領域に導通金属を被覆するこ
とにより、引出し電極が形成されていることを特徴とす
る弾性表面波装置。
1. A piezoelectric substrate on which a comb-shaped electrode is formed and a cap are joined via a sealing material, and an end face of a conducting wire drawn from a terminal of the electrode is arranged on an outer end face of the sealing material. The surface acoustic wave device is characterized in that a lead-out electrode is formed by coating a region around the end face of the conducting wire with a conducting metal.
【請求項2】 前記圧電基板と前記キャップとがほぼ同
一の形状でなることを特徴とする、請求項1に記載の弾
性表面波装置。
2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the piezoelectric substrate and the cap have substantially the same shape.
【請求項3】 前記導通線は、前記圧電基板上のすだれ
状電極の上方に重なる位置を避けて延びていることを特
徴とする、請求項1または2のいずれかに記載の弾性表
面波装置。
3. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the conducting wire extends so as to avoid a position overlapping the interdigital electrode on the piezoelectric substrate. .
【請求項4】 圧電材料で形成された圧電基板用のウエ
ハ状の材料と、キャップ用のウエハ状の材料を用意し、 圧電基板用のウエハ状の材料の表面には、個別の製品と
なる大きさの単位毎にすだれ状電極を複数組同時に形成
し、 この圧電基板用のウエハ状の材料における個別の製品と
なる隣接した圧電基板上の端子どうしを導通線によりボ
ンディングし、 前記キャップ用のウエハ状の材料または圧電基板用のウ
エハ状の材料に対して、個別の製品となる大きさの単位
毎に周縁部にシール材を塗布しシール材の塗布面を内側
にして、前記キャップ用のウエハ状の材料を、前記圧電
基板用のウエハ状の材料の電極形成面に対向させて重ね
て、シール材を硬化させ、 次いで、前記圧電基板用のウエハ状の材料に前記キャッ
プ用のウエハ状の材料を重ねた状態で個別の製品となる
大きさの単位毎にダイシングして、シール材の切断面に
導通線の端面を露出させ、 各ダイシングされたチップについて、所定のマスクを施
して、前記導通線の端面の周囲の領域に導通金属を被覆
することを特徴とする、弾性表面波装置の製造方法。
4. A wafer-shaped material for a piezoelectric substrate formed of a piezoelectric material and a wafer-shaped material for a cap are prepared, and individual products are provided on the surface of the wafer-shaped material for the piezoelectric substrate. Multiple sets of interdigital electrodes are simultaneously formed for each unit of size, and terminals on adjacent piezoelectric substrates, which are individual products in this wafer-shaped material for piezoelectric substrates, are bonded to each other by conductive lines, With respect to the wafer-shaped material or the wafer-shaped material for the piezoelectric substrate, the sealing material is applied to the peripheral portion for each unit of the size to be an individual product, and the sealing material is applied to the inside, and A wafer-shaped material is laminated so as to face the electrode forming surface of the wafer-shaped material for the piezoelectric substrate to cure the sealing material, and then the wafer-shaped material for the piezoelectric substrate is bonded to the wafer-shaped material for the cap. Of material Dicing is performed in each unit of a size that becomes an individual product in a twisted state, the end face of the conducting wire is exposed on the cut surface of the sealing material, and a predetermined mask is applied to each dicing chip to obtain the conducting wire. A method for manufacturing a surface acoustic wave device, characterized in that a conductive metal is coated on a region around an end surface of the surface acoustic wave device.
【請求項5】 前記圧電基板と前記キャップとがほぼ同
一の形状でなることを特徴とする、請求項4に記載の弾
性表面波装置の製造方法。
5. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 4, wherein the piezoelectric substrate and the cap have substantially the same shape.
【請求項6】 前記導通線が前記すだれ状電極の電極指
の延びる方向に対して斜めに延びるように接続されるこ
とを特徴とする、請求項4または5のいずれかに記載の
弾性表面波装置の製造方法。
6. The surface acoustic wave according to claim 4, wherein the conducting wire is connected so as to extend obliquely with respect to the extending direction of the electrode fingers of the interdigital transducer. Device manufacturing method.
【請求項7】 前記導通線が前記すだれ状電極の上方に
重なる位置を避けて延びるように接続されることを特徴
とする、請求項6に記載の弾性表面波装置の製造方法。
7. The method for manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 6, wherein the conductive wire is connected so as to extend so as to avoid a position overlapping the interdigital electrode.
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