JP3439629B2 - Low temperature active getter and method for producing the same - Google Patents

Low temperature active getter and method for producing the same

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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は魔法瓶等の金属製真
空二重構造体の真空保持に使用する低温活性ゲッター及
びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low temperature active getter used for holding a vacuum double structure made of metal such as a thermos under vacuum and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】魔法瓶等の金属製真空二重構造体は、二
重構造体の適宜位置に排気孔を形成するとともにその排
気空間内にゲッターを配設し、該二重構造体を加熱しつ
つその排気孔より排気空間内の空気及びガスを排気した
後、ゲッターを活性化させるとともに排気孔を封止する
ことによって製造されている。排気孔の封止後に排気空
間に遊離するガスは活性化されたゲッターによって吸収
されるので、排気空間は真空状態に保持される。
2. Description of the Related Art In a vacuum double structure made of metal such as a thermos, an exhaust hole is formed at an appropriate position of the double structure and a getter is arranged in the exhaust space to heat the double structure. Meanwhile, after the air and gas in the exhaust space are exhausted from the exhaust hole, the getter is activated and the exhaust hole is sealed. The gas released into the exhaust space after the exhaust hole is sealed is absorbed by the activated getter, so that the exhaust space is maintained in a vacuum state.

【0003】前記ゲッターとしては、700℃以上の高
温で活性化するTi−Al、Zr−Al、Ti等の高温
活性ゲッター、100〜500℃のように比較的低温で
活性化する例えばFe−V−Zr合金等のような低温活
性ゲッターとがある。高温活性ゲッターは、種々の材料
があり、金属として多量に存在し、安価に入手できる。
しかしながら、高温活性ゲッターは、排気装置の耐熱
性、二重構造体自体の耐熱性、二重構造体がオーステナ
イト系ステンレス鋼の場合はその鋭敏化等の問題があ
る。このため、真空二重構造体に使用するゲッターとし
ては、高価ではあるが低温活性ゲッターの方が高温活性
ゲッターよりも好ましい。そこで、従来より、安価な低
温活性ゲッターが要望されている。
The getter may be a high temperature active getter such as Ti-Al, Zr-Al, or Ti which is activated at a high temperature of 700 ° C. or higher, and Fe-V which is activated at a relatively low temperature of 100 to 500 ° C. -There are low temperature active getters such as Zr alloys. There are various materials for the high temperature active getter, they are present in large amounts as metals, and they are available at low cost.
However, the high temperature active getter has problems such as heat resistance of the exhaust device, heat resistance of the double structure itself, and sensitization when the double structure is austenitic stainless steel. Therefore, as the getter used for the vacuum double structure, the low temperature activated getter is preferable to the high temperature activated getter, though it is expensive. Therefore, an inexpensive low-temperature active getter has been conventionally demanded.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
安価な低温活性ゲッター及びその製造方法を提供するこ
とを課題とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide such an inexpensive low temperature active getter and a manufacturing method thereof.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】ゲッター材料は大気中に
おいては酸化物、窒化物等で表面が覆われているので常
温ではゲッター作用は起こらないが、そのゲッター材料
を加熱すると表面の酸化物、窒化物等が分解して、酸素
原子、窒素原子等がゲッター材料の内部に拡散し、表面
にピュアな表面が露出する結果、真空中の気体分子を表
面に取り込むことができ、ゲッター作用が発揮されるこ
とが知られている。
Since the surface of the getter material is covered with oxides, nitrides, etc. in the atmosphere, the getter action does not occur at room temperature. However, when the getter material is heated, the surface oxide, Nitride decomposes and oxygen atoms, nitrogen atoms, etc. diffuse inside the getter material, exposing a pure surface on the surface.As a result, gas molecules in a vacuum can be taken into the surface and the getter action is exerted. It is known to be done.

【0006】本発明はかかる知見に基づいてなされたも
のである。すなわち、本発明にかかる低温活性ゲッター
は、活性化処理済みの高温活性化ゲッター材の表面に低
温活性化ゲッター材からなる薄膜を形成してなるもので
ある。
The present invention has been made based on such findings. That is, the low temperature activated getter according to the present invention is formed by forming a thin film of the low temperature activated getter material on the surface of the activated high temperature activated getter material.

【0007】前記構成からなる本発明の低温活性ゲッタ
ーは、真空中で表面の低温活性化ゲッター材の活性化温
度で加熱すると、該低温活性化ゲッター材が活性化し、
真空中の気体分子を表面に取り込むことができる。この
とき、内部の高温活性化ゲッター材は既に活性化されて
いるので、表面の低温活性化ゲッター材に取り込まれた
気体分子はさらに内部の高温活性化ゲッターに拡散され
る。本発明の低温活性化ゲッターは、安価な高温活性化
ゲッター材の表面に低温活性化ゲッター材の薄膜を形成
したので、結果的に安価となる。
The low temperature activated getter of the present invention having the above structure is activated by heating the low temperature activated getter material on the surface at the activation temperature of the low temperature activated getter material.
Gas molecules in vacuum can be incorporated on the surface. At this time, since the internal high temperature activated getter material has already been activated, the gas molecules taken into the surface low temperature activated getter material are further diffused to the internal high temperature activated getter. Since the low temperature activated getter material of the present invention has a thin film of the low temperature activated getter material formed on the surface of the inexpensive high temperature activated getter material, the cost is low as a result.

【0008】また本発明にかかる低温活性ゲッターの製
造方法は、真空雰囲気中で高温活性化ゲッター材を活性
化させ、その真空雰囲気のまま当該高温活性化ゲッター
材の表面に低温活性化材料を蒸着するものである。前記
高温活性化ゲッター材を活性化させる工程は、当該高温
活性化ゲッター材を約700℃以上に昇温させるか、あ
るいは当該高温活性化ゲッター材の表面を不活性ガス、
例えばアルゴンガスによるスパッタリングでクリーニン
グする工程とすることができる。
In the method for producing a low temperature activated getter according to the present invention, the high temperature activated getter material is activated in a vacuum atmosphere, and the low temperature activated material is deposited on the surface of the high temperature activated getter material in the vacuum atmosphere. To do. In the step of activating the high temperature activated getter material, the temperature of the high temperature activated getter material is raised to about 700 ° C. or higher, or the surface of the high temperature activated getter material is treated with an inert gas,
For example, the step of cleaning can be performed by sputtering with argon gas.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に従って説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0010】図1(A)は、本発明による低温活性ゲッ
ター1を示す。この低温活性ゲッター1は、ピル状で、
高温活性化ゲッター材2と該高温活性化ゲッター材2の
表面に形成された低温活性化ゲッター材3とからなって
いる。高温活性化ゲッター材2は、高温(700℃以
上)で活性化する例えばTi、Ti−Al合金、又はZ
r−Al等からなり、予め700℃以上で活性化処理さ
れている。低温活性化ゲッター3は、低温(100〜5
00℃)で活性化する例えばFe−V−Zr合金等から
なり、高温活性化ゲッター材2の外表面に蒸着されてい
る。低温活性化ゲッター材3の外表面は酸化物、窒化物
等で覆われている。なお、該酸化物、窒化物等はゲッタ
ー製造工程で意図的に付加する場合と真空機器へゲッタ
ーを取り付ける直前に大気暴露すること等により自然に
付加する場合がある。高温活性化ゲッター材2の外表
面、すなわち、高温活性化ゲッター材2と低温活性化ゲ
ッター材3の間の界面は、高温活性化ゲッター材2が活
性化されているために、ピュアのままとなっている。
FIG. 1A shows a low temperature active getter 1 according to the present invention. This low temperature active getter 1 is a pill,
The high temperature activated getter material 2 and the low temperature activated getter material 3 formed on the surface of the high temperature activated getter material 2. The high temperature activated getter material 2 is, for example, Ti, Ti—Al alloy, or Z that is activated at a high temperature (700 ° C. or higher).
It is made of r-Al or the like and has been previously activated at 700 ° C. or higher. The low temperature activated getter 3 has a low temperature (100-5
The getter material 2 is vapor-deposited on the outer surface of the high temperature activated getter material 2. The outer surface of the low temperature activated getter material 3 is covered with oxide, nitride or the like. The oxide, nitride, etc. may be added intentionally in the getter manufacturing process, or may be added naturally by exposing to the atmosphere immediately before attaching the getter to the vacuum equipment. The outer surface of the high temperature activated getter material 2, that is, the interface between the high temperature activated getter material 2 and the low temperature activated getter material 3 remains pure because the high temperature activated getter material 2 is activated. Has become.

【0011】上記構成の低温活性ゲッター1のゲッター
作用について説明すると、この低温活性ゲッター1は、
図1(A)に示すように、常温大気中では外表面が酸化
物又は窒化物等によって覆われているので、ゲッター作
用を有しない。次に、この低温活性ゲッター1を、例え
ば魔法瓶の内瓶と外瓶の間の空間等の真空にすべき空間
に配置し、該空間を真空に排気した後、低温活性化ゲッ
ター材3の活性化温度(250〜500℃)で加熱する
と、図1(B)に示すように、低温活性化ゲッター材3
の外表面の酸化物、窒化物等が分離し、酸素原子、窒素
原子等が内部へ拡散する。この結果、低温活性化ゲッタ
ー材3の外表面はピュアになり、図1(C)に示すよう
に、真空雰囲気中のO、N、CH等の気体分子が低温活
性化ゲッター材3の表面に取り込まれ、また真空雰囲気
中の水素が内部に拡散することで、ゲッター作用が生じ
る。内部の高温活性化ゲッター材2は既に活性化処理さ
れ、その表面はピュアのままになっているので、低温活
性化ゲッター材3の内部に拡散された水素はさらに高温
活性化ゲッター材2の内部にまで拡散する。これによ
り、十分なゲッター作用が発揮される。
The getter action of the low temperature active getter 1 having the above structure will be described below.
As shown in FIG. 1A, since the outer surface is covered with an oxide or a nitride in a room temperature atmosphere, it does not have a getter action. Next, this low-temperature activated getter 1 is placed in a space to be evacuated, such as the space between the inner bottle and the outer bottle of a thermos bottle, the space is evacuated to a vacuum, and the low-temperature activated getter material 3 is activated. When heated at the activation temperature (250 to 500 ° C.), as shown in FIG.
Oxides, nitrides, etc. on the outer surface of the are separated, and oxygen atoms, nitrogen atoms, etc. diffuse inside. As a result, the outer surface of the low temperature activated getter material 3 becomes pure, and gas molecules such as O, N and CH in a vacuum atmosphere are deposited on the surface of the low temperature activated getter material 3 as shown in FIG. 1 (C). The getter action occurs when hydrogen is taken in and hydrogen in the vacuum atmosphere diffuses inside. Since the high temperature activated getter material 2 inside has already been activated and its surface remains pure, the hydrogen diffused inside the low temperature activated getter material 3 is further absorbed inside the high temperature activated getter material 2. Spread to. Thereby, a sufficient getter action is exhibited.

【0012】図2は、本発明の低温活性ゲッターの製造
工程を示す。まず、図2(A)に示す高温活性ゲッター
材2を準備し、この高温活性ゲッター材2を真空中でそ
の活性化温度、例えば700℃に加熱する。あるいは、
高温活性化ゲッター材2をアルゴンガスによってスパッ
タリングする。このような加熱又はスパッタリングによ
り、図2(B)に示すように、高温活性ゲッター材2の
外表面の酸化物、窒化物等が分離して酸素原子、窒素原
子が内部に拡散し、活性化状態となる。次に、図2
(C)に示すように、活性化状態の高温活性化ゲッター
材2の外表面に低温活性化ゲッター材3を真空蒸着法に
よって付着させる。次に、これを大気中に暴露すると、
図2(D)に示すように、低温活性化ゲッター材3の外
表面に酸化物、窒化物等が付着し、低温活性ゲッター1
が製造される。
FIG. 2 shows the manufacturing process of the low temperature active getter of the present invention. First, the high temperature active getter material 2 shown in FIG. 2A is prepared, and this high temperature active getter material 2 is heated in vacuum to its activation temperature, for example, 700 ° C. Alternatively,
The high temperature activated getter material 2 is sputtered with argon gas. By such heating or sputtering, as shown in FIG. 2B, oxides, nitrides, etc. on the outer surface of the high temperature active getter material 2 are separated and oxygen atoms and nitrogen atoms are diffused inside and activated. It becomes a state. Next, FIG.
As shown in (C), the low temperature activated getter material 3 is attached to the outer surface of the activated high temperature activated getter material 2 by a vacuum deposition method. Next, when this is exposed to the atmosphere,
As shown in FIG. 2D, oxides, nitrides and the like are attached to the outer surface of the low temperature activated getter material 3, and
Is manufactured.

【0013】図3は、本発明の低温活性ゲッターを製造
する装置を示す。この装置は、真空排気ポンプ11によ
って真空状態を維持することができる密閉容器12を有
している。この容器12の内部の下方には、高温活性化
ゲッター材である幅5〜10mm、厚さ0.1〜2mm
のリボン状のチタン箔13が巻回された供給ローラ14
と、該供給ローラ14より巻き戻されるチタン箔13を
巻き取る巻取りローラ15とがそれぞれ回転駆動可能に
一定間隔をおいて配置されている。また、供給ローラ1
4と巻取りローラ15の間には、供給ローラ14から巻
取りローラ15に向かって移動するチタン箔13を加熱
するヒータ16が配置されている。さらに、容器12の
内部の下方には、低温活性化ゲッター材を構成する金属
材料であるFe金属塊17、V金属塊18、及びZr金
属塊19が配置されるとともに、これらの金属塊をそれ
ぞれ加熱するヒータ20、21、22が配置されてい
る。
FIG. 3 shows an apparatus for producing the low temperature active getter of the present invention. This apparatus has a closed container 12 capable of maintaining a vacuum state by a vacuum exhaust pump 11. Below the inside of the container 12, a high temperature activated getter material having a width of 5 to 10 mm and a thickness of 0.1 to 2 mm.
Supply roller 14 around which the ribbon-shaped titanium foil 13 of is wound.
And a take-up roller 15 for taking up the titanium foil 13 rewound from the supply roller 14 are arranged at a fixed interval so as to be rotationally driven. Also, the supply roller 1
A heater 16 for heating the titanium foil 13 moving from the supply roller 14 toward the take-up roller 15 is arranged between the winding roller 15 and the take-up roller 15. Further, below the inside of the container 12, an Fe metal block 17, a V metal block 18, and a Zr metal block 19, which are metal materials constituting the low temperature activated getter material, are arranged, and these metal blocks are respectively Heaters 20, 21 and 22 for heating are arranged.

【0014】この装置を用いた本発明の低温活性ゲッタ
ーの製造方法について説明すると、まず真空排気ポンプ
11を駆動して、容器12内を1×10-3Torr以下
の真空に維持した後、ヒータ20、21、22によりF
e金属塊17、V金属塊18,Zr金属塊19をそれぞ
れ250〜500℃で加熱する。次に、供給ローラ14
を矢印方向に回転駆動して、チタン箔13を繰り出すと
ともに該チタン箔13を巻取りローラ15で巻き取る。
供給ローラ14より繰り出されるチタン箔13をヒータ
16で700℃以上で加熱し、該チタン箔13を活性化
させる。活性化されたチタン箔13は加熱領域から遠ざ
かるにつれて冷却され、その表面にFe、V、及びZr
が蒸着し、 Fe−V−Zr合金からなる低温活性化ゲ
ッターの薄膜が形成されて、巻取りローラ15に巻き取
られる。このように、高温で活性化されたチタン箔13
の外表面にFe−V−Zr合金の薄膜が形成されたリボ
ンは、低温活性ゲッターとして使用することができる。
A method of manufacturing a low temperature active getter of the present invention using this apparatus will be described. First, the vacuum exhaust pump 11 is driven to maintain the inside of the container 12 at a vacuum of 1 × 10 −3 Torr or less, and then the heater. F by 20, 21, 22
The metal ingot 17, the V metal ingot 18, and the Zr metal ingot 19 are heated at 250 to 500 ° C., respectively. Next, the supply roller 14
Is rotationally driven in the direction of the arrow to feed out the titanium foil 13 and the titanium foil 13 is wound up by the winding roller 15.
The titanium foil 13 fed from the supply roller 14 is heated by the heater 16 at 700 ° C. or higher to activate the titanium foil 13. The activated titanium foil 13 is cooled as it moves away from the heating area, and Fe, V, and Zr are formed on its surface.
Is vapor-deposited, and a thin film of a low-temperature activated getter made of an Fe-V-Zr alloy is formed and wound on the winding roller 15. Thus, the titanium foil 13 activated at high temperature
The ribbon having a thin film of Fe-V-Zr alloy formed on the outer surface thereof can be used as a low temperature active getter.

【0015】前記装置では、高温活性化ゲッター材とし
てリボン状のチタン箔13を用いたが、線材や板材を用
いることもできる。また、前記装置では、チタン箔13
を加熱することによって活性化したが、アルゴンガスの
スパッタリングによるクリーニングによって活性化させ
ることも可能である。さらに、図3中破線で示すヒータ
16によるチタン箔13の加熱領域を断熱壁で覆って、
熱の逃げを防止するとともに、Fe、V、Zrの蒸着を
防止するようにしてもよい。
Although the ribbon-shaped titanium foil 13 is used as the high temperature activated getter material in the above apparatus, a wire material or a plate material may be used. Further, in the above device, the titanium foil 13
Was activated by heating, but it can also be activated by cleaning by sputtering argon gas. Furthermore, the heating region of the titanium foil 13 by the heater 16 shown by the broken line in FIG. 3 is covered with a heat insulating wall,
It is also possible to prevent the escape of heat and prevent the vapor deposition of Fe, V, and Zr.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の低温活性ゲッターは、安価な高温活性化ゲッター材の
表面に低温活性化ゲッター材の薄膜を形成したので安価
であり、魔法瓶をはじめ各種の真空二重容器の製造にお
いて低温で活性化させることができるゲッター材として
広範に使用することができる。
As is clear from the above description, the low temperature activated getter of the present invention is inexpensive because a thin film of the low temperature activated getter material is formed on the surface of the inexpensive high temperature activated getter material. It can be widely used as a getter material that can be activated at low temperature in the production of various vacuum double containers.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明による低温活性ゲッターの内部構成と
そのゲッター作用を示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing the internal structure of a low temperature active getter according to the present invention and its getter action.

【図2】 本発明による低温活性ゲッターの製造工程を
示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing process of a low temperature active getter according to the present invention.

【図3】 本発明による低温活性ゲッターの製造装置を
示す図。
FIG. 3 is a view showing an apparatus for manufacturing a low temperature active getter according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…低温活性ゲッター、2…高温活性化ゲッター材、3
…低温活性化ゲッター材。
1 ... Low temperature activated getter, 2 ... High temperature activated getter material, 3
… Low temperature activated getter material.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−165243(JP,A) 実開 昭51−62762(JP,U) 特公 昭61−33613(JP,B2) 実公 昭43−2086(JP,Y1) 特表 平8−512435(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) A47J 41/02 102 C23C 14/02 H01J 7/18 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-56-165243 (JP, A) SAIKAI 51-62762 (JP, U) JP-B 61-33613 (JP, B2) SAKURA 43- 2086 (JP, Y1) Tokuyo HEI 8-512435 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) A47J 41/02 102 C23C 14/02 H01J 7/18

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 活性化処理済みの高温活性化ゲッター材
の表面に低温活性化ゲッター材からなる薄膜を形成して
なることを特徴とする低温活性ゲッター。
1. A low temperature activated getter, comprising a thin film of a low temperature activated getter material formed on the surface of an activated high temperature activated getter material.
【請求項2】 真空雰囲気中で高温活性化ゲッター材を
活性化させ、その真空雰囲気のまま当該高温活性化ゲッ
ター材の表面に低温活性化材料を蒸着することを特徴と
する低温活性ゲッターの製造方法。
2. A low-temperature activated getter characterized by activating a high-temperature activated getter material in a vacuum atmosphere and depositing a low-temperature activated material on the surface of the high-temperature activated getter material in the vacuum atmosphere. Method.
【請求項3】 前記高温活性化ゲッター材を活性化させ
る工程は、当該高温活性化ゲッター材を約700℃以上
に昇温させることを特徴とする請求項2に記載の低温活
性ゲッターの製造方法。
3. The method for producing a low temperature activated getter according to claim 2, wherein the step of activating the high temperature activated getter material comprises raising the temperature of the high temperature activated getter material to about 700 ° C. or higher. .
【請求項4】 前記高温活性化ゲッター材を活性化させ
る工程は、当該高温活性化ゲッター材の表面を不活性ガ
スによるスパッタリングでクリーニングすることを特徴
とする請求項2に記載の低温活性ゲッターの製造方法。
4. The low temperature activated getter according to claim 2, wherein in the step of activating the high temperature activated getter material, the surface of the high temperature activated getter material is cleaned by sputtering with an inert gas. Production method.
【請求項5】 前記不活性ガスによるスパッタリング
は、アルゴンガスによるスパッタリングであることを特
徴とする請求項4に記載の低温活性ゲッターの製造方
法。
5. The method for manufacturing a low temperature active getter according to claim 4, wherein the sputtering with the inert gas is sputtering with an argon gas.
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