JP3433998B2

JP3433998B2 - 濾過装置及びそれによる真空ポンプ系保護方法

Info

Publication number: JP3433998B2
Application number: JP01189994A
Authority: JP
Inventors: 昭馬場; 守之福島
Original assignee: Kanto Denka Kyogyo Co.,Ltd.
Current assignee: Kanto Denka Kyogyo Co.,Ltd.
Priority date: 1994-02-03
Filing date: 1994-02-03
Publication date: 2003-08-04
Anticipated expiration: 2018-08-04
Also published as: JPH07213844A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空ポンプを保護する
ために、真空ポンプで排気されるべきガス中の粒子、反
応生成物、揮発性固体物質等を予め除去する濾過装置、
殊に種々の半導体デバイス製造装置からの排ガスを濾過
するための装置に関する。本発明の濾過装置は、特に半
導体デバイス製造装置等の排ガスを排気するとき、活性
ガス除害装置と組合せて使用することにより、後続の真
空ポンプの保護に顕著な効果を示す濾過装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】種々の半導体デバイス製造装置、例えば
ＣＶＤ装置、ドライエッチング装置、アッシング装置、
イオン注入装置等から発生する有害排ガスの排気のため
には真空ポンプが使用されてきている。このような真空
ポンプにより排気されるべきガス中に含まれる粒子等固
形物による損傷から真空ポンプを保護する方法として、
従来、例えばダストフィルターと称されるような装置を
使用することが提案され、このような装置は、一部の真
空ポンプメーカーから提供されているが、主に軸回転真
空ポンプ用で、適用ポンプ機種が限定されている。また
このものは小型であるため、真空ポンプの用途によって
は（例えば夾雑物負荷の大きい排ガスについて連続的に
使用される場合等）、ダストフィルター部のメンテナン
スを頻繁に行う必要がある。

【０００３】半導体デバイス製造装置等からの排ガスの
排気のために使用されることがあるドライポンプでは、
排ガス中のレジスト滓のような粒子、反応生成物、揮発
性固体物質等によって破損事故が発生する例が少なくな
い。ドライポンプには、粒子及びその他固形物に対する
保護対策が採られておらず、従って適宜な時間間隔で行
なう分解清掃が唯一ともいえる対応ないしメンテナンス
方法である。

【０００４】また真空ポンプの材質を腐食させるような
活性ガスに対し、真空ポンプを保護する目的で耐食コー
ティングを施すことによって対応している。しかし、そ
の効果は長期間持続しないのが実情である。

【０００５】一部の真空ポンプメーカーは、吸着剤を充
填したトラップを真空ポンプの吸入口に取付けることを
提案し、そのようなトラップを提供している。しかしな
がら、そのようなトラップは油回転真空ポンプで使用さ
れ、真空装置系への油分子の逆拡散を防止するものであ
って、活性ガスから真空ポンプを保護するものではな
い。

【０００６】半導体デバイス製造装置、特にＣＶＤ装
置、ドライエッチング装置、アッシング装置、イオン注
入装置などでは、多くの場合に、ターボ分子ポンプ、ド
ライポンプ、メカニカルブースターポンプ、油回転真空
ポンプ等の真空ポンプが単独で、あるいは適宜に組合せ
られ使用されている。

【０００７】ＣＶＤやドライエッチング等のプロセスか
ら排出される排ガス中には様々なレジスト滓のような粒
子、反応生成物、揮発性固体物質や活性ガス等の夾雑物
が含まれている。これらの物質は、真空ポンプに対し
て、次のようなトラブルの発生源となっている。

【０００８】（１）真空ポンプのガス吸入部に内蔵され
ている固形異物混入防止メッシュを目詰まりさせる。（２）真空ポンプのローター、ローター軸や軸受、また
はこれらの近傍に付着、堆積し、ローターや軸受等を破
損させるに至ることもある。（３）ケーシング等の真空ポンプ構成部品の材質を劣化
させたり腐食させる。（４）真空ポンプの潤滑油または
作動油を劣化させる。（５）上記（１）から（４）の原因で圧力到達時間が遅
くなったり、所要の圧力低下が達成されなくなる。（６）上記（１）から（４）の処置のために必要なメン
テナンスの実施により、高額な費用が発生し、さらには
ポンプ交換作業時に作業者が危険なガス等で薬傷を負う
事故が発生しうる。

【０００９】また真空ポンプ内に滞留する活性ガスを希
釈するために、乾燥窒素を多量に送入する等の手段を採
らなければならない。いずれにしても、ユーティリティ
ーがコストアップになるという欠点がある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は比較的簡単な
構造の気体濾過装置により、上記の如き従来技術におけ
る諸問題を解決ないし軽減し、長時間にわたり真空ポン
プの劣化や機能低下を防止し、メンテナンスが必要とさ
れるまでの期間を大幅に延長し、かつメンテナンス関連
費用（例えば乾燥窒素費用等）を低減することを可能と
することが、主要な目的である。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明による濾過装置
は、高真空下で排気されるガス中の粒子、反応生成物、
揮発性固体物質等の夾雑物を効率よく除去し、かつ圧力
損失の目安となるコンダクタンスが大きく、長時間にわ
たってコンダクタンスが低下しない構造を持っている。

【００１２】かくして本発明は、半導体デバイス製造装
置からの排ガスを排出するための真空ポンプ系の前に設
置して真空ポンプ系に入る前の排ガスを濾過するため
に、外殻ダクト、中間ダクト及び排ガス導入用内側ダク
トをほぼ同軸に配置してなり、内側ダクトと中間ダクト
との間に形成される環状空間部に同じ環状形状の２枚ま
たはそれ以上の多孔板の間に挟持された耐食性繊維から
なる濾材層を架設した三重ダクト構造の濾過装置であ
り、外殻ダクトの一端部を閉じてその閉鎖端部に両端開
口内側ダクトの一端部を貫通、突出せしめた状態として
排ガス導入部となし；中間ダクトの一端部は、中間ダク
トと外殻ダクトとの間に形成される大径環状空間と前記
濾材層架設環状空間との間に気体連通部を形成する状態
で前記閉鎖端部へ固着し；中間ダクトの他端部は内側ダ
クトの開口内端部よりも遠方にまで延在して、閉鎖され
て導入排ガス衝突板を形成すると共に内側ダクトと前記
濾材層架設環状空間とを連通させ；外殻ダクトの他端部
は、中間ダクトの閉鎖端部よりも遠方にまで延在して、
濾過済排ガス排出部を残して閉鎖されており；そして後
続の真空ポンプ系の排気速度の０．１〜１０倍に相当す
るコンダクタンス値を有することを特徴とする上記濾過
装置を提供する。

【００１３】本発明の濾過装置の一具体例を図１を参照
して説明する。この装置は外殻ダクト、中間ダクト及び
排ガス導入用の内側ダクトをほぼ同軸に配置した三重ダ
クト構造であり、内側〜中間ダクト間には環状空間、そ
して中間〜外殻ダクト間にはそれよりも大径の環状空間
が形成され、その比較的小径の環状空間には多孔板３，
３に挟持された金属繊維からなる濾材層４が架設されて
いる。外殻ダクトの両端部は排ガス導入部１及び濾過済
排ガス排出部５を残して閉鎖されている。中間ダクトの
一端部（図１の上方）は、小径及び大径の両環状空間の
間を連通する部分を形成するようにして、外殻ダクトの
一閉鎖端部に固着されている。中間ダクトの他端部（図
１の下方）は、内側ダクトの内端部（図１の下方）より
も遠方に伸びて、閉鎖されて導入排ガス衝突板２を形成
すると共に、内側ダクトと前記濾材層架設環状空間との
気体連通を確保している。内側ダクトの一端部（図１の
上方）は、外方へ延在して排ガス導入部を形成してい
る。かくしてこの三重構造体内には往−復−往の屈曲ガ
ス流路（６で代表される矢印の方向）が設けられてい
る。

【００１４】例えばＣＶＤやドライエッチング等のプロ
セスで発生した排ガスは、本発明の濾過装置の排ガス導
入部１から矢印６の方向に高速で導入される。その排ガ
ス流の高速度のために、排ガス中のレジスト滓のような
粒子、反応生成物、揮発性固体物質は進路を曲げること
ができず直進して衝突板２に衝突し、多くの部分がこれ
に付着、堆積していく。排ガス流は方向を変えて、小径
の環状空間に入り、２枚の多孔板３，３に挟持された金
属繊維からなる濾材層４を通過する。衝突板２のところ
に付着、堆積しなかった比較的小さいまたは軽い粒子、
反応生成物、揮発性固体物質が、濾材層４でほとんど捕
捉される。かくして粒子、反応生成物、揮発性固体物質
等をほとんど除去された排ガスは、小径の環状空間の終
点付近の連通部を経て再び方向を変え大口径の環状空間
を進行し、排出部５を経て、後続の装置（例えば活性ガ
ス除害装置、真空ポンプ、排ガス処理装置）へ送られ
る。排ガス導入部１及び排出部５は、フランジあるいは
その他の適当な管継手方式で他の装置に接合できる。

【００１５】濾過装置の本体の構造材料は、耐腐食性金
属材料、例えば、ＳＵＳ−３０４、−３１６及び−３１
６Ｌのようなステンレス鋼、あるいはニッケル、モネ
ル、ハステロイ等とすることができる。また炭素鋼に耐
食コーティングを施した材料であってもよい。しかし実
用的にはステンレス鋼が好適である。

【００１６】装置の大きさの単なる一例として挙げる
と、外殻ダクトとして、外径１６５．２〜２１６．３ｍ
ｍ、長さ３００〜４００ｍｍの鋼管を使用する場合、概
略の内容積は、ほぼ５〜１４ｌである。装置の内部は図
１に示したように「往−復−往」の屈曲をなす長いガス
流路（内側ダクト−小径環状空間−大径環状空間）が設
けられている。濾材層が架設される小径環状空間及び大
径環状空間のそれぞれの断面積は、導入部１（内側ダク
ト）及び排出部５の断面積よりも大きくするのが、配置
抵抗を小さくするために必要である。

【００１７】濾材層を支持するための多孔板の孔径は例
えば２〜２０ｍｍの範囲であり、６〜１０ｍｍが好まし
い。

【００１８】濾材として用いられる繊維は、耐食性金属
繊維またはテフロン繊維であり、メッシュ状に織合せた
もの、あるいはマットの形状で使用されうる。織合せた
織布は、例えば１〜５０メッシュの範囲でありうる。

【００１９】排ガス中の粒子、反応生成物、揮発性固体
物質の除去効率は、金属繊維の充填密度を大きくすれば
向上するが、それに伴なってコンダクタンスも小さくな
り、真空ポンプの排気速度が低下する。真空ポンプの排
気速度を低下させないためには、真空ポンプの排気速度
の０．１〜１０倍のコンダクタンスとなるように金属繊
維の充填細孔度及び充填密度を選定すべきである。この
充填密度は０．０５〜０．３０ｇ／ｃｍ³ 、特に好まし
くは０．１２〜０．１７ｇ／ｃｍ³ の範囲である。コン
ダクタンスは大きい方が好ましいが、実用的な装置寸法
を考慮すると上記範囲内のコンダクタンス値となる。

【００２０】なお図示の具体例においては、多孔板を２
枚使用しているが、多孔板を３枚またはそれ以上使用し
て異なる濾過特性（例えば充填密度の異なるもの）を有
する複数の濾材層を設けることもできる。このような複
数の特性の異なる濾材層の使用により目詰まり寿命を延
長することができる。

【００２１】濾過装置における排ガス中の粒子、反応生
成物、揮発性固体物質等の除去効率、殊に揮発性固体物
質あるいは露点の比較的高い気状物質の除去効率を高め
るには、導入排ガスを濾過前に冷却するのが好ましい。
このような冷却は、内部ダクトの壁の全部または一部分
を二重構造として冷却ジャケットとして作用させること
により実施するのが好ましい。このような冷却ジャケッ
トの具体例は図２の濾過装置に見出される。図２におい
て冷却ジャケット１３は内部ダクトの壁を二重構造とす
ることにより構成されており、冷媒は入口１２から供給
され、排ガス流を間接熱交換で冷却した後に、出口１４
から取り出される。ここで使用される冷媒の初期温度
は、例えば常温から−２０℃程度とすることができ、目
的に応じて適当な温度を選定する。冷媒は、目的温度に
よって、例えば水、アルコール、エチレングリコール等
及びそれらの適当な組合せから選択できる。また必要に
よっては、チーリングユニットなどの冷却設備を採用す
ることもできる。

【００２２】本発明の濾過装置の使用態様の典型的な一
例を図３にフローシートで示す。図３はガス導入ライン
１８、チャンバー１６及びターボ分子ポンプ等を設けた
ドライエッチング装置１５からの排ガスをドライポンプ
２１で排気するに際して、本発明の濾過装置１９を吸着
剤方式の活性ガス除害装置２０と併用してドライポンプ
２１を保護する態様のフローシートであり、ドライポン
プ２１によって排出される排ガスは吸着剤方式の排ガス
処理装置２２において有害ガス濃度を恕限度以下にまで
低減されてから大気放出される。上記ドライエッチング
装置１５ではガス導入ライン１８からエッチングガス
（ＣＨＦ₃ とＮ₂ 及びＯ₂ ）がチャンバー１６に導入さ
れ、印加によってＨＦ、Ｆ₂ 等の活性ガスが生成され
る。これらを含んだ排ガスはターボ分子ポンプ１７によ
ってチャンバー１６から濾過装置１９へ送られる。

【００２３】活性ガス除害装置２０は、高真空下で排ガ
ス中の活性ガスを除害するものである。すなわち真空ポ
ンプのトラブル発生源になる排ガス中の活性ガスを吸着
剤に吸着させて、真空ポンプを攻撃しないような活性ガ
ス濃度以下にまで（例えば５０〜９９．９９９％吸着）
低減させるものである。従って、排ガス中に残存しうる
未除去の活性ガス濃度は、大気中への放出前に排ガス処
理装置２２によって恕限度以下にまで低減されなければ
ならない。

【００２４】真空ポンプ系（図３中の２１）の上流で濾
過装置（本発明）を活性ガス除害装置とを組合せて使用
することで、コンダクタンスが大きく、真空ポンプの排
気速度を損わずに、真空ポンプをトラブルから有効に保
護することができ、メンテナンスの頻度及びメンテナン
ス関連費用を低減できる。これらの濾過装置及び活性ガ
ス除害装置の配列は、大きなコンダクタンスを維持する
ために、最初に濾過装置で排ガス中の粒子、反応生成
物、揮発性固体物質等を除去し、次に活性ガスを活性ガ
ス除害装置によって除害するようにするのが好ましい。
実用的な配置構成例として、濾過装置を内蔵した形の活
性ガス除害装置を使用することも可能である。

【００２５】

【実施例】以下、本発明を具体的実施例によりさらに説
明する。〔実施例１〕図３は、ドライエッチング装置に濾過装置
と活性ガス除害装置を使用した場合のフローシートであ
る。ドライエッチング装置１５は、チャンバー１６、タ
ーボ分子ポンプ１７、ガス導入ライン１８などから構成
される。ガス導入ライン１８から、ＣＨＦ₃ とＮ₂ およ
びＯ₂ ガスが約１ａｔｍ・ｌ／分でチャンバー１６に導
入され、印加によってＨＦ，Ｆ₂ 等の活性ガスが生成さ
れる。これらを含んだ排ガスは、ターボ分子ポンプ１７
によってチャンバー１６から排出され、濾過装置１９、
活性ガス除害装置２０を通してドライポンプ２１によっ
て排気される。ドライポンプ２１では、ポンプの保護の
ために乾燥窒素を２０ａｔｍ・ｌ／分送入している。ド
ライポンプ２１の排気速度は、１５００ｌ／分であり、
これによって排出された約２１ａｔｍ・ｌ／分の排ガス
は、排ガス処理装置２２で活性ガスを恕限度以下まで除
害し、大気放出される。

【００２６】なお濾過装置１９は、ステンレスＳＵＳ−
３０４の鋼材を用いて、外径２１６．３ｍｍ×長さ４０
０ｍｍの鋼管を外殻ダクトとし、排ガス導入部および濾
過済排ガス排出部のフランジおよび排ガス導入用内側ダ
クトに内径５４．９ｍｍの口径のものを使用し、内径１
６３ｍｍの中間ダクト、孔径５ｍｍの多孔板を有する濾
過装置を製作した。排ガス導入部および濾過済排ガス排
出部のフランジおよび内側ダクトの断面積は２３．７ｃ
ｍ² であり、内側ダクトと中間ダクトとの間に形成され
る環状空間部、多孔板、中間ダクトと外殻ダクトとの間
に形成される大径環状空間の断面積は、それぞれ１７
９．８ｃｍ² 、６０．４ｃｍ² 、１２６．９ｃｍ² であ
った。濾材を挟持する２枚の多孔板の間隔を３０ｍｍに
し、ここにＳＵＳ−３０４の金属繊維からなる１〜２０
メッシュの濾材を７５ｇ充填したところ、充填密度０．
１４ｇ／ｃｍ³ を得た。

【００２７】このような濾過装置を排気速度が１５００
ｌ／分の真空ポンプ系で排気したときの到達圧力は、ガ
スを流さないとき約１０^-5トールに達し、またコンダク
タンス値は、平均１４５００ｌ／分の結果を得た。

【００２８】また活性ガス除害装置２０は、ステンレス
ＳＵＳ−３０４を用いた外径３１８．５ｍｍ×高さ４７
０ｍｍの容器に、ＨＦ，Ｆ₂ 等の活性ガスの吸着剤とし
て、乾燥したソーダライムを充填した。吸着剤の充填高
さは２００ｍｍであり、充填量は、１５ｋｇであった。

【００２９】また排ガス処理装置２２は、炭素鋼を用い
た横幅３００ｍｍ×奥行３００ｍｍ×高さ５２０ｍｍの
容器の内面にニッケルコーティングを施し、これに吸着
剤を充填した。吸着剤は、ソーダライムと活性アルミナ
を、容積比１：１に混合したものを使用した。吸着剤の
充填高さは４００ｍｍであり、充填量は、３０ｋｇであ
った。この排ガス処理装置によって、排ガス中のＨＦ，
Ｆ₂ を、恕限度以下、例えばＨＦを３ｐｐｍ以下まで除
害することができる。

【００３０】上記実施例装置を、ドライエッチング装置
にて６ヶ月使用した。使用後、ドライポンプを分解し内
部点検を実施したところ、レジスト滓のような粒子、反
応生成物、揮発性固体物質等の付着、堆積および材質の
劣化、腐食は認められなかった。

【００３１】濾過装置で除去された、付着、堆積物の重
量は、１００ｇ／６ヶ月であった。表１に使用初期、２
ヶ月経過後、４ヶ月経過後および６ヶ月経過後に、図３
中の位置Ａ、ＢおよびＣにおいて実施したピラニ真空計
による圧力測定結果を示した。

【００３２】また、表２に使用初期、２ヶ月経過後、４
ヶ月経過後および６ヶ月経過後に、図３中の位置Ｄ、Ｅ
およびＦにおいて実施したガス分析（ＨＦおよびＦ₂ ）
の結果を示す。ここに示すように、恕限度以下まで除害
することは困難であるが、活性ガスの５０％以上を除害
処理することができた。

【００３３】

【００３４】

【００３５】〔実施例２〕濾過装置を構成する部品の一
部を二重構造にした冷却型濾過装置を、ドライエッチン
グ装置に使用したときの実施例を述べる。実施例１の条
件の濾過装置１９を冷却型濾過装置に入替えて６ヶ月の
使用を行った。

【００３６】なお冷却型濾過装置は図２に示した構造
で、ステンレスＳＵＳ−３０４の鋼材を用いて、外径２
１６．３ｍｍ×長さ４００ｍｍの鋼管を外殻ダクトと
し、排ガス導入部および濾過済排ガス排出部のフランジ
および排ガス導入用内側ダクトに内径５４．９ｍｍの口
径のもので、内側ダクトは冷媒が循環できる外径１１
４．３ｍｍのジャケット付きで、内径１６３ｍｍの中間
ダクト、孔径５ｍｍの多孔板を有している。排ガス導入
部および濾過済排ガス排出部のフランジおよび内側ダク
トの断面積は２３．７ｃｍ² であり、ジャケット付き内
側ダクトと中間ダクトとの間に形成される環状空間部、
多孔板、中間ダクトと外殻ダクトとの間に形成される大
径環状空間の断面積は、それぞれ１０６．０ｃｍ² 、３
５．６ｃｍ² 、１２６．９ｃｍ² であった。濾材を挟持
する２枚の多孔板の間隔を３０ｍｍにし、ここにＳＵＳ
−３０４の金属繊維からなる１〜２０メッシュの濾材を
５５ｇ充填したところ、充填密度０．１７ｇ／ｃｍ³ を
得た。

【００３７】このような冷却型濾過装置を排気速度が１
５００ｌ／分の真空ポンプ系で排気したときの到達圧力
は、ガスを流さないとき約１０^-5トールに達し、またコ
ンダクタンス値は、平均１４０００ｌ／分の結果を得
た。

【００３８】上記装置により、エッチング装置にて６ヶ
月間使用した。使用後、ドライポンプを分解し内部点検
を実施したところ、レジスト滓のような粒子、反応生成
物、揮発性固体物質等の付着、堆積および材質の劣化、
腐食は認められなかった。さらに、真空ポンプにも異常
はなかった。

【００３９】濾過装置で除去された、付着、堆積物の重
量は、１１７ｇ／６ヶ月であった。

【００４０】表３に使用初期、２ヶ月経過後、４ヶ月経
過後および６ヶ月経過後に、図３中の位置Ａ、Ｂおよび
Ｃにおいて実施したピラニ真空計による圧力測定結果を
示した。ここに示すように、真空ポンプの排気速度を損
なわない圧力損失で、６ヶ月使用できた。

【００４１】

【００４２】〔実施例３〕ドライエッチング装置に当該
濾過装置と活性ガス除害装置を使用し、６ヶ月毎に当該
装置をメンテナンス済みのものと交換し、通算１２ヶ月
使用した。この間、ドライポンプは同一のものが使用で
き、途中、異常音の発生、始動しないといったトラブル
はなかった。また、真空ポンプの性能に影響を与える当
該装置のコンダクタンス値の低下もなかった。

【００４３】１２ヶ月使用したドライポンプの内部点検
を行ったが、ケーシングなどの腐食、劣化およびレジス
ト滓のような粒子、反応生成物、揮発性固体物質等の付
着、堆積は、認められなかった。

【００４４】〔比較例１〕エッチング装置に、当該濾過
装置と活性ガス除害装置を使用しないで６ヶ月間使用し
たドライポンプの内部点検を行ったところ、ドライポン
プのケーシングに、腐食が原因と考えられる材質表面の
凹凸が、またガス吐出側に近いローター軸受け付近に
は、レジスト滓のような粒子、あるいは反応生成物と思
われる白っぽい粉が堆積しているのが、認められた。

【００４５】〔比較例２〕エッチング装置に、活性ガス
除害装置のみ使用して６ヶ月間使用したドライポンプの
内部点検を行った。その結果、レジスト滓のような粒
子、反応生成物、揮発性固体物質等の付着、堆積および
材質の劣化、腐食は認められなかった。しかし、エッチ
ング装置の運転に支障が出なかったものの、活性ガス除
害装置の圧力損失が、実施例１および２よりかなり大き
くなった。これは、活性ガス除害装置に充填した吸着剤
が、レジスト滓のような粒子、反応生成物、揮発性固体
物質等で目詰まりを起こし、ガスが流れにくくなったた
めである。

【００４６】

【発明の効果】本発明によれば、ドライエッチング装置
などに使用している真空ポンプに与えるダメージを、従
来より大幅に軽減することができ、真空ポンプの性能低
下およびトラブル発生により、そのメンテナンスが必要
になるまでの期間を大幅に延長できた。

【００４７】また本発明によれば、真空ポンプに与える
ダメージを大幅に軽減することができるので、従来ダメ
ージを緩和させるため真空ポンプに送入していた乾燥窒
素の使用量を削減でき、コストダウンが実施できる。

【００４８】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の濾過装置の内部構造を示す断面図であ
る。

【図２】本発明の冷却ジャケット付き濾過装置の断面図
である。

【図３】本発明の実施例フローシートである。

【符号の説明】

１排ガス導入部２導入排ガス衝突板３多孔板４濾材層５濾過済排ガス排出部６ガスの流れ７排ガス導入部８導入排ガス衝突板９多孔板１０濾材層１１濾過済排ガス排出部１２冷媒入口１３冷却二重構造部１４冷媒出口１５ドライエッチング装置１６チャンバー１７ターボ分子ポンプ１８ガス導入ライン１９濾過装置２０活性ガス除害装置２１ドライポンプ２２排ガス処理装置Ａ、ＢおよびＣ圧力測定位置Ｄ、ＥおよびＦガス分析試料採取位置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩ // Ｈ０１Ｌ 21/3065 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｂ (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 50/00 501 B01D 50/00 502 B01D 45/08 B01D 46/30 H01L 21/3065

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】半導体デバイス製造装置からの排ガスを
排出するための真空ポンプ系の前に設置して真空ポンプ
系に入る前の排ガスを濾過するために、外殻ダクト、中
間ダクト、および排ガス導入用内側ダクトをほぼ同軸に
配置してなり、内側ダクトと中間ダクトとの間に形成さ
れる環状空間部に同じ環状形状の２枚またはそれ以上の
多孔板の間に挟持された耐食性繊維からなる濾材層を架
設した三重ダクト構造の濾過装置であり、外殻ダクトの
一端部を閉じてその閉鎖端部に両端開口内側ダクトの一
端部を貫通突出せしめた状態として排ガス導入部とな
し、中間ダクトの一端部は、中間ダクトと外殻ダクトと
の間に形成される大径環状空間と前記濾材層架設環状空
間との間に気体連通部を形成する状態で前記閉鎖端部へ
固着し、中間ダクトの他端部は内側ダクトの開口内端部
よりも遠方にまで延在して、閉鎖されて導入ガス衝突板
を形成すると共に内側ダクトと前記濾材層架設環状空間
とを連通させ、外殻ダクトの他端部は、中間ダクトの閉
鎖端部よりも遠方にまで延在して濾過済排ガス排出部を
残して閉鎖されており、そして後続の真空ポンプ系の排
気速度の０．１〜１０倍に相当するコンダクタンス値を
有することを特徴とする上記濾過装置。
【請求項２】内側ダクトの壁面の少なくとも一部を二
重構造として冷却ジャケットとしたことを特徴とする請
求項１の濾過装置。
【請求項３】半導体デバイス製造装置において、請求
項１または２の濾過装置を活性ガス除害装置と組合せて
使用することを特徴とする後続配置真空ポンプ系を保護
する方法。