JP3430864B2 - Transfer method of conductive ball - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の電極上に導
電性ボールを移載する導電性ボールの移載方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】基板の電極上にバンプを形成する方法と
して、半田ボールなどの導電性ボールを用いる方法が知
られている。この方法は、導電性ボールを基板の電極上
に移載し、その後基板を加熱することにより、導電性ボ
ールを電極に半田付けしてバンプを形成するものであ
る。このとき導電性ボールと電極の半田付けを良好に行
うために一般にフラックスが用いられ、導電性ボールを
電極上に移載する前に、導電性ボールまたは電極のいず
れかにフラックスを塗布することが行われる。このとき
に塗布されるフラックスは、導電性ボールを電極上に移
載した後に、フラックスの粘着性により導電性ボールを
電極上に保持する役割をも有している。
【0003】従来はフラックスを塗布する方法として、
導電性ボールを真空吸着した吸着ヘッドを容器に貯溜さ
れたフラックスの表面に下降させ、真空吸着された導電
性ボールの先端部にフラックスを付着させる方法が実施
されている。この方法は、吸着ヘッドの下降ストローク
を制御することにより、導電性ボールの先端部のみにフ
ラックスを付着させるものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記方法では、吸着ヘ
ッドを下降させて導電性ボールの先端部にフラックスを
付着させる時には、導電性ボールだけでなく吸着ヘッド
の下面にもフラックスが付着することがある。そして吸
着ヘッドの下面にフラックスが付着すると、真空吸着解
除後も導電性ボールが吸着ヘッドの下面に付着して残留
する移載ミスの原因となるため、フラックスの付着が発
生しないよう吸着ヘッドの下降ストロークを厳密に制御
する必要がある。
【0005】しかしながら、導電性ボールの小径化が進
むにしたがって、フラックスの転写時に吸着ヘッドの下
降ストロークを制御することのみでは、吸着ヘッドの下
面へのフラックスの付着を完全に防止することが困難に
なってきている。また、他の塗布方法についても同様に
導電性ボールの小径化に伴う種々の問題点がある。例え
ばピンの先端部にフラックスを付着させてフラックスを
基板の電極に転写して塗布する方法では、転写用の小径
のピンの製作が困難である。またスクリーン印刷により
フラックスを基板の電極に塗布する方法では、基板の電
極の小型化にともない、スクリーンマスクの開口面積が
小さくなってフラックスを安定して基板の電極に塗布で
きない。以上のように、いずれの従来方法も、殊に小径
の導電性ボールの場合には、移載ミスのない安定した移
載が困難であるという問題点があった。
【0006】そこで本発明は、小径の導電性ボールであ
っても移載ミスがなく安定して移載できる導電性ボール
の移載方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の導電性ボールの
移載方法は、基板の電極上に導電性ボールを移載する導
電性ボールの移載方法であって、溶剤で希釈したフラッ
クスを基板上に塗布し、揮発成分を揮発させることによ
ってフラックスを薄膜化した後に導電性ボールを基板の
電極上に移載するようにした。
【0008】
【発明の実施の形態】上記構成の本発明によれば、溶剤
で希釈したフラックスを基板上に塗布し、揮発成分を揮
発させることによってフラックスを薄膜化した後に導電
性ボールを基板の電極上に移載することにより、吸着ヘ
ッドにフラックスが付着せず、移載ミスのない安定した
導電性ボールの移載を行うことができる。
【0009】次に、本発明の実施の形態を図面を参照し
て説明する。図1は本発明の一実施の形態のフラックス
塗布装置の斜視図、図2は同フラックス塗布装置の塗布
ノズルユニットの断面図、図3(a)、(b)、図4
(a)、(b)、(c)は同導電性ボールの移載方法の
工程説明図である。
【0010】まず、図1を参照してフラックスの塗布装
置について説明する。図1において、基台1上には基板
2が載置されている。基板2上には複数の電極3が形成
されている。基台1の上方には、Xテーブル4およびY
テーブル5から成る可動テーブル6が配設されている。
可動テーブル6にはアーム7が設けられ、アーム7の先
端部には塗布ノズルユニット8が装着されている。塗布
ノズルユニット8はパイプ9を介してフラックスタンク
11に連結されており、パイプ9の中間にはバルブ10
が設けられている。フラックスタンク11には圧力源1
2が接続されている。フラックスタンク11にはイソプ
ロピルアルコールなどの溶剤で希釈されたフラックス1
3が貯留されており、圧力源12から供給される空気圧
により塗布ノズルユニット8にフラックス13を圧送す
る。塗布ノズルユニット8は、基板2の上面にフラック
ス13を霧状に噴出して塗布する。
【0011】次に、図2を参照して塗布ノズルユニット
8の構造を説明する。21は本体ケースであり、上ケー
ス21aと下ケース21bをねじ部22で着脱自在に結
合して成っている。本体ケース21の中央にはノズル2
3が立設されている。ノズル23の下端部23aは下ケ
ース21bの下方へ延出している。
【0012】ノズル23の下部にはつば部24が形成さ
れており、つば部24は下ケース21bの底面に設けら
れたシール25上に接地している。またノズル23はブ
ロック26にねじ部27で螺着されている。つば部24
と、ブロック26の間には超音波振動子28が設けられ
ている。超音波振動子28はコード29で駆動回路39
に接続されている。したがって超音波振動子28が駆動
すると、ノズル23は超音波振動し、ノズル23に送ら
れてきたフラックス13は霧化してノズル23の下端部
23aから霧状に噴出し(矢印イ参照)、基板2の上面
に塗布される。このとき、基板2の表面にフラックス1
3を塗布するに際し、塗布ノズルユニット8には精密な
位置制御は必要とされないため、ラフな位置決め機構及
び制御方法が使用できる。
【0013】このフラックス塗布装置は上記のような構
成より成り、以下その動作を説明する。まず、基台1上
に基板2が載置され、基板2に対して塗布ノズルユニッ
ト8が位置決めされる。次いで、バルブ10が開にされ
ると、図3(a)に示すようにノズルの下端部23aか
ら溶剤で希釈されたフラックス13が霧状に噴出され、
基板2の表面に塗布される。このとき、塗布されるフラ
ックス13の膜厚Tが所定の膜厚(例えば約100ミク
ロン程度)となるよう、空気圧の大きさや塗布時間など
の塗布条件が調整される。
【0014】次に基板2に塗布されたフラックス13か
ら溶剤の揮発成分を揮発手段により揮発させる。単に揮
発成分を自然蒸発させることもできるが、揮発を促進さ
せる揮発手段として、基板2を加熱することにより、ま
た真空チャンバ内などの減圧雰囲気下に置くことにより
揮発成分を揮発させるのに要する時間を短縮することが
できる。揮発成分が揮発するとフラックス13は薄膜化
する。このとき膜厚が大幅に減少するとともに、揮発成
分が揮発する過程で膜厚が均一化され、最終的には図3
(b)に示すように、基板2の表面に膜厚tが約10ミ
クロン程度の薄くて均一なフラックス13の膜が形成さ
れる。
【0015】次に、このようにしてフラックス13の薄
膜が形成された基板2に対して導電性ボールである半田
ボール30が移載される。図4(a)に示すように、吸
着ヘッド31に真空吸着された半田ボール30を基板2
に対して位置決めし、半田ボール30を基板2の電極3
上に移載する。図4(b)は半田ボール30が電極3上
に移載された状態を示している。このとき電極3上のフ
ラックス13の薄膜は揮発成分が揮発して粘度が増大し
十分な粘着性を有しているため、導電性ボール13を十
分な固着力で電極3上に保持することができる。
【0016】ここで、揮発成分が揮発する前後でのフラ
ックス13の成分比について、(表1)を参照して説明
する。
【0017】
【表1】
【0018】(表1)において、フラックスAは、本発
明の一実施の形態のフラックスであり、フラックスBは
フラックスAの揮発成分が揮発した後の成分比を示す。
また、フラックスCは、従来の導電性ボールの移載方法
にて用いられていたフラックスである。(表1)に示す
ように、揮発後のフラックスBのロジンや活性剤の成分
比は、従来のフラックスCと同等以上となっており、十
分な粘着性を有している。
【0019】また、塗布時のフラックスAは、フラック
スCと比較して溶剤の割合が格段に高く、より粘度の小
さい噴霧による塗布に適した成分比となっている。
【0020】次に、基板2はリフロー炉に送られ加熱さ
れる。これにより電極3上の半田ボール30は溶融し、
電極3の表面で冷却固化することにより半田バンプ3
0’を形成する。このときフラックス13の薄膜は電極
3上を完全に覆っているため、溶融半田30は電極3に
むらなく均一に接合される。
【0021】
【発明の効果】本発明によれば、溶剤で希釈したフラッ
クスを基板上に塗布し、揮発成分を除去することによっ
てフラックスを薄膜化した後に導電性ボールを基板の電
極上に移載するので、小径の導電性ボールの場合にも吸
着ヘッドにはフラックスが付着せず、したがって吸着ヘ
ッドの下面に導電性ボールが付着することによる移載ミ
スがない安定した導電性ボールの移載を行うことができ
る。また薄膜化したフラックスは揮発分が揮発して十分
な粘着性を有しているので、移載後の導電性ボールを電
極上に安定して保持できる。さらに、フラックスは電極
を完全に覆って均一に塗布されるので、導電性ボールを
電極上に半田付けする際に接合むらのない均一な半田付
けを行うことができる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for transferring conductive balls onto electrodes on a substrate. 2. Description of the Related Art As a method for forming bumps on electrodes on a substrate, a method using conductive balls such as solder balls is known. In this method, a conductive ball is transferred onto an electrode of a substrate, and then the substrate is heated, so that the conductive ball is soldered to the electrode to form a bump. At this time, flux is generally used to perform good soldering of the conductive ball and the electrode, and it is necessary to apply the flux to either the conductive ball or the electrode before transferring the conductive ball onto the electrode. Done. The flux applied at this time also has a role of holding the conductive ball on the electrode due to the adhesiveness of the flux after the conductive ball is transferred onto the electrode. [0003] Conventionally, as a method of applying a flux,
A method has been practiced in which a suction head that vacuum-adsorbs a conductive ball is lowered to the surface of a flux stored in a container, and the flux adheres to the tip of the vacuum-adsorbed conductive ball. In this method, the flux is attached only to the tip of the conductive ball by controlling the descending stroke of the suction head. [0004] In the above method, when the suction head is lowered to cause the flux to adhere to the tip of the conductive ball, the flux adheres not only to the conductive ball but also to the lower surface of the suction head. May be. If the flux adheres to the lower surface of the suction head, the conductive balls adhere to the lower surface of the suction head even after the vacuum suction is released, causing a transfer error. The stroke must be strictly controlled. However, as the diameter of the conductive ball is reduced, it is difficult to completely prevent the flux from adhering to the lower surface of the suction head only by controlling the downward stroke of the suction head during the transfer of the flux. It has become to. In addition, other coating methods also have various problems associated with reducing the diameter of the conductive ball. For example, it is difficult to produce a small-diameter pin for transfer by a method in which a flux is attached to the tip of a pin and the flux is transferred to an electrode of a substrate and applied. Further, in the method of applying the flux to the electrodes of the substrate by screen printing, the opening area of the screen mask is reduced due to the miniaturization of the electrodes of the substrate, so that the flux cannot be applied to the electrodes of the substrate stably. As described above, any of the conventional methods has a problem that it is difficult to perform a stable transfer without a transfer error, particularly in the case of a small-diameter conductive ball. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method of transferring a conductive ball which can stably transfer even a small-diameter conductive ball without a transfer error. [0007] A method for transferring conductive balls according to the present invention is a method for transferring conductive balls onto electrodes of a substrate, the method comprising diluting with a solvent. The flux was applied to a substrate, and the flux was thinned by volatilizing volatile components. Then, the conductive balls were transferred onto the electrodes of the substrate. According to the present invention having the above-mentioned structure, a flux diluted with a solvent is applied to a substrate, and a volatile component is volatilized to thin the flux. By transferring the conductive balls on the electrodes, it is possible to stably transfer the conductive balls without the flux adhering to the suction head and without transferring errors. Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a flux coating device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a coating nozzle unit of the flux coating device, FIGS. 3 (a), (b), and FIG.
(A), (b), (c) is process explanatory drawing of the transfer method of the same conductive ball. First, a flux coating apparatus will be described with reference to FIG. In FIG. 1, a substrate 2 is mounted on a base 1. A plurality of electrodes 3 are formed on the substrate 2. Above the base 1, an X table 4 and a Y table
A movable table 6 composed of a table 5 is provided.
An arm 7 is provided on the movable table 6, and a coating nozzle unit 8 is mounted on a tip of the arm 7. The coating nozzle unit 8 is connected to a flux tank 11 through a pipe 9, and a valve 10 is provided in the middle of the pipe 9.
Is provided. The flux tank 11 has a pressure source 1
2 are connected. Flux tank 11 diluted with a solvent such as isopropyl alcohol
3 is stored, and the flux 13 is pressure-fed to the application nozzle unit 8 by air pressure supplied from a pressure source 12. The coating nozzle unit 8 sprays and applies the flux 13 to the upper surface of the substrate 2 in a mist state. Next, the structure of the coating nozzle unit 8 will be described with reference to FIG. Reference numeral 21 denotes a main body case, which is formed by detachably connecting an upper case 21a and a lower case 21b with a screw portion 22. The nozzle 2 is located at the center of the main body case 21.
3 are erected. The lower end 23a of the nozzle 23 extends below the lower case 21b. A flange 24 is formed below the nozzle 23, and the flange 24 is grounded on a seal 25 provided on the bottom surface of the lower case 21b. The nozzle 23 is screwed to the block 26 with a screw portion 27. Collar 24
, An ultrasonic transducer 28 is provided between the blocks 26. The ultrasonic vibrator 28 has a drive circuit 39 with a cord 29.
It is connected to the. Accordingly, when the ultrasonic vibrator 28 is driven, the nozzle 23 ultrasonically vibrates, and the flux 13 sent to the nozzle 23 is atomized and jets out from the lower end 23a of the nozzle 23 in a mist (see arrow A). 2 is applied to the upper surface. At this time, the flux 1
When applying 3, the application nozzle unit 8 does not require precise position control, so that a rough positioning mechanism and control method can be used. This flux coating apparatus has the above-described configuration, and its operation will be described below. First, the substrate 2 is placed on the base 1, and the application nozzle unit 8 is positioned with respect to the substrate 2. Next, when the valve 10 is opened, as shown in FIG. 3A, the flux 13 diluted with the solvent is ejected in a mist form from the lower end 23a of the nozzle,
It is applied on the surface of the substrate 2. At this time, the application conditions such as the magnitude of the air pressure and the application time are adjusted so that the film thickness T of the applied flux 13 becomes a predetermined film thickness (for example, about 100 microns). Next, the volatile component of the solvent is volatilized from the flux 13 applied to the substrate 2 by a volatilizing means. It is possible to simply evaporate the volatile components spontaneously. However, as a volatilizing means for accelerating the volatilization, the time required for volatilizing the volatile components by heating the substrate 2 or by placing the substrate 2 under a reduced pressure atmosphere such as in a vacuum chamber. Can be shortened. When the volatile components evaporate, the flux 13 becomes thin. At this time, the film thickness is greatly reduced, and the film thickness is made uniform in the process of evaporating the volatile components.
As shown in (b), a thin and uniform film of the flux 13 having a thickness t of about 10 microns is formed on the surface of the substrate 2. Next, solder balls 30 which are conductive balls are transferred to the substrate 2 on which the thin film of the flux 13 is formed. As shown in FIG. 4A, the solder balls 30 vacuum-sucked on the suction head 31 are
, And the solder ball 30 is positioned on the electrode 3 of the substrate 2.
Transfer to the top. FIG. 4B shows a state in which the solder balls 30 have been transferred onto the electrodes 3. At this time, the thin film of the flux 13 on the electrode 3 has sufficient viscosity because the volatile component evaporates and the viscosity increases, so that the conductive ball 13 can be held on the electrode 3 with a sufficient fixing force. it can. Here, the component ratio of the flux 13 before and after the volatile component is volatilized will be described with reference to (Table 1). [Table 1] In Table 1, flux A is a flux according to an embodiment of the present invention, and flux B indicates a component ratio after the volatile components of flux A have volatilized.
The flux C is a flux used in a conventional method for transferring conductive balls. As shown in Table 1, the component ratio of the rosin and the activator of the flux B after volatilization is equal to or higher than that of the conventional flux C, and has sufficient tackiness. The flux A at the time of application has a much higher solvent ratio than the flux C, and has a component ratio suitable for application by spraying with a lower viscosity. Next, the substrate 2 is sent to a reflow furnace and heated. Thereby, the solder balls 30 on the electrodes 3 are melted,
By cooling and solidifying on the surface of the electrode 3, the solder bump 3
0 'is formed. At this time, since the thin film of the flux 13 completely covers the electrode 3, the molten solder 30 is uniformly joined to the electrode 3. According to the present invention, a flux diluted with a solvent is applied to a substrate, and the flux is thinned by removing volatile components, and then the conductive balls are transferred onto the electrodes of the substrate. Therefore, even in the case of a small-diameter conductive ball, flux does not adhere to the suction head, and therefore a stable transfer of the conductive ball without a transfer error due to the conductive ball adhering to the lower surface of the suction head can be achieved. It can be carried out. In addition, since the thinned flux has sufficient adhesiveness due to volatilization of volatile components, the transferred conductive balls can be stably held on the electrodes. Furthermore, since the flux is completely applied to completely cover the electrodes, it is possible to perform uniform soldering without uneven bonding when soldering the conductive balls onto the electrodes.
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態のフラックス塗布装置の
斜視図
【図2】本発明の一実施の形態のフラックス塗布装置の
塗布ノズルユニットの断面図
【図3】(a)本発明の一実施の形態の導電性ボールの
移載方法の工程説明図
(b)本発明の一実施の形態の導電性ボールの移載方法
の工程説明図
【図4】(a)本発明の一実施の形態の導電性ボールの
移載方法の工程説明図
(b)本発明の一実施の形態の導電性ボールの移載方法
の工程説明図
(c)本発明の一実施の形態の導電性ボールの移載方法
の工程説明図
【符号の説明】
1 基台
2 基板
3 電極
6 可動テーブル
8 塗布ノズルユニット
10 バルブ
11 フラックスタンク
12 圧力源
13 フラックス
23 ノズル
28 超音波振動子
30 半田ボール
31 吸着ヘッドBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a flux coating device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of a coating nozzle unit of the flux coating device according to an embodiment of the present invention. (A) Process explanatory view of a method for transferring conductive balls according to an embodiment of the present invention (b) Process explanatory view of a method for transferring conductive balls according to an embodiment of the present invention a) Process explanatory view of a conductive ball transfer method according to one embodiment of the present invention (b) Process explanatory view of a conductive ball transfer method according to one embodiment of the present invention (c) One embodiment of the present invention Process explanation drawing of conductive ball transfer method of embodiment [Description of reference numerals] 1 base 2 substrate 3 electrode 6 movable table 8 coating nozzle unit 10 valve 11 flux tank 12 pressure source 13 flux 23 nozzle 28 ultrasonic vibration Child 30 Solder ball 31 Suction head
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/34 B23K 3/00 B23P 21/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/34 B23K 3/00 B23P 21/00
Claims (1)
電性ボールの移載方法であって、溶剤で希釈したフラッ
クスを基板上に塗布し、揮発成分を揮発させることによ
ってフラックスを薄膜化した後に導電性ボールを基板の
電極上に移載することを特徴とする導電性ボールの移載
方法。(57) [Claim 1] A method of transferring conductive balls to transfer conductive balls onto electrodes of a substrate, wherein a flux diluted with a solvent is applied to the substrate and volatilized. A method for transferring conductive balls, comprising transferring a conductive ball onto an electrode of a substrate after thinning a flux by volatilizing a component.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17355497A JP3430864B2 (en) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | Transfer method of conductive ball |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17355497A JP3430864B2 (en) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | Transfer method of conductive ball |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1126923A JPH1126923A (en) | 1999-01-29 |
JP3430864B2 true JP3430864B2 (en) | 2003-07-28 |
Family
ID=15962704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17355497A Expired - Fee Related JP3430864B2 (en) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | Transfer method of conductive ball |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3430864B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005064461A (en) * | 2003-07-28 | 2005-03-10 | Nippon Steel Corp | Conductive ball mounting method, bump forming method, and conductive ball mounting substrate |
JP4531485B2 (en) * | 2004-08-17 | 2010-08-25 | 黒田テクノ株式会社 | Liquid application equipment |
JP5579219B2 (en) * | 2012-03-29 | 2014-08-27 | 富士通テン株式会社 | Nozzle device and spray device |
JP5506991B1 (en) * | 2013-07-31 | 2014-05-28 | 富士通テン株式会社 | Nozzle device |
CN112789705B (en) * | 2018-09-28 | 2024-07-26 | 柏锐科技有限公司 | Multi-module chip manufacturing device |
-
1997
- 1997-06-30 JP JP17355497A patent/JP3430864B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1126923A (en) | 1999-01-29 |
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