JP3430141B2 - 異なる厚さの基板のパターンを測定するための測定器および方法 - Google Patents
異なる厚さの基板のパターンを測定するための測定器および方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、周回縁によって繰
り抜き部が画成されているＸＹ往復台と、照明光学系
と、複数個の光学的補償要素とを備えた、異なる厚さの
基板のパターンを測定するための測定器および方法に関
するものである。
り抜き部が画成されているＸＹ往復台と、照明光学系
と、複数個の光学的補償要素とを備えた、異なる厚さの
基板のパターンを測定するための測定器および方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】透過光で測定される基板（マスクとも言
う）は、異なる厚さを持っている。測定器で測定できる
基板はＳＥＭＩ規格（ＳＥＭＩ Ｐ１−９２ ＳＥＭＩ
１９８１，１９９９）を充足していなければならない。
いくつかの例を挙げると、タイプ６０２５（６×６イン
チと０．２５インチの厚さ）、タイプ５００９（５×５
インチと０．０９インチの厚さ）の石英マスク、或いは
２３０×２３０×９ｍｍのサイズの石英マスクがある。
半導体の製造業者によって使用される規格化された厚さ
は２．３ｍｍ,３．２ｍｍ,６．３５ｍｍ,９ｍｍであ
る。基板のすべての厚さに対し同じ測定条件（よって比
較可能な測定結果）が得られるようにするには、基板の
材料（石英）を透過する測定光線の光路長が基板のすべ
ての厚さに対し等しくなければならない。したがって光
学系は９ｍｍ厚の石英ガラスに対し設計されている。よ
り薄い基板を測定する場合は、光路内に補償要素を挿入
し、全体で等しい光路長が得られるようにする。
う）は、異なる厚さを持っている。測定器で測定できる
基板はＳＥＭＩ規格（ＳＥＭＩ Ｐ１−９２ ＳＥＭＩ
１９８１，１９９９）を充足していなければならない。
いくつかの例を挙げると、タイプ６０２５（６×６イン
チと０．２５インチの厚さ）、タイプ５００９（５×５
インチと０．０９インチの厚さ）の石英マスク、或いは
２３０×２３０×９ｍｍのサイズの石英マスクがある。
半導体の製造業者によって使用される規格化された厚さ
は２．３ｍｍ,３．２ｍｍ,６．３５ｍｍ,９ｍｍであ
る。基板のすべての厚さに対し同じ測定条件（よって比
較可能な測定結果）が得られるようにするには、基板の
材料（石英）を透過する測定光線の光路長が基板のすべ
ての厚さに対し等しくなければならない。したがって光
学系は９ｍｍ厚の石英ガラスに対し設計されている。よ
り薄い基板を測定する場合は、光路内に補償要素を挿入
し、全体で等しい光路長が得られるようにする。
【０００３】米国特許第５７８６８９７号公報には、基
板の表面のパターンの座標を決定するための方法および
装置が記載されている。この装置はＸＹ方向に可動な往
復台を有し、往復台上には、測定されるパターンを備え
た透明の基板が下向きに設けられている。検出装置は基
板の上方に装着されている。Ｘ軸とY軸に対し干渉計が
設けられ、ＸＹ面内での往復台の位置を決定できるよう
になっている。異なる厚さの基板を測定できるようにす
るには、光路長のための補償手段が設けられていなけれ
ばならない。補償手段は円形の板からなり、板内にはた
とえば４個のガラス要素が設けられている。基板の厚さ
の測定に対応して、適当なガラス要素が円板の回転によ
り光路内へ持ちきたされる。円板の回転は電動機または
駆動ベルトを用いて行なうことができる。電動駆動部の
位置に応じて熱源が測定部位付近に設けられているが、
これは測定の再現性を阻害するものである。さらに、レ
ボルバーまたはスライダの格納および運動に大きなスペ
ースを要する。
板の表面のパターンの座標を決定するための方法および
装置が記載されている。この装置はＸＹ方向に可動な往
復台を有し、往復台上には、測定されるパターンを備え
た透明の基板が下向きに設けられている。検出装置は基
板の上方に装着されている。Ｘ軸とY軸に対し干渉計が
設けられ、ＸＹ面内での往復台の位置を決定できるよう
になっている。異なる厚さの基板を測定できるようにす
るには、光路長のための補償手段が設けられていなけれ
ばならない。補償手段は円形の板からなり、板内にはた
とえば４個のガラス要素が設けられている。基板の厚さ
の測定に対応して、適当なガラス要素が円板の回転によ
り光路内へ持ちきたされる。円板の回転は電動機または
駆動ベルトを用いて行なうことができる。電動駆動部の
位置に応じて熱源が測定部位付近に設けられているが、
これは測定の再現性を阻害するものである。さらに、レ
ボルバーまたはスライダの格納および運動に大きなスペ
ースを要する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、異な
る厚さの基板のパターンを測定するための測定器におい
て、再現可能な測定結果を提供し、その際測定器の測定
領域内にある熱源をできるだけ少なくするようにするこ
とである。また、できるだけ省スペースの構成を達成さ
せるようにすることである。
る厚さの基板のパターンを測定するための測定器におい
て、再現可能な測定結果を提供し、その際測定器の測定
領域内にある熱源をできるだけ少なくするようにするこ
とである。また、できるだけ省スペースの構成を達成さ
せるようにすることである。
【０００５】さらに本発明の課題は、測定の再現性に影
響することなく、いくつかの光学的補償要素を測定器の
光路内へ持ちきたす方法を提供することである。
響することなく、いくつかの光学的補償要素を測定器の
光路内へ持ちきたす方法を提供することである。
【０００６】この課題は、本発明によれば、前記測定器
においては、光学的補償要素のための複数個の保管区画
部がＸＹ往復台の繰り抜き部の周回縁に成形されている
こと、必要な光学的補償要素を照明光学系によって付設
の保管区画部から取り出し可能であることによって解決
される。
においては、光学的補償要素のための複数個の保管区画
部がＸＹ往復台の繰り抜き部の周回縁に成形されている
こと、必要な光学的補償要素を照明光学系によって付設
の保管区画部から取り出し可能であることによって解決
される。
【０００７】また方法においては、測定に使用するタイ
プの基板を決定するステップと、この基板の光路長を補
償するために必要な補償要素を選択するステップと、照
明光学系が選択した補償要素の下に位置決めされるよう
にＸＹ往復台を移動させるステップと、照明光学系を持
ち上げ、その際補償要素を収容するステップと、ＸＹ往
復台を基板の領域に移動させ、補償要素とともに照明光
学系を測定位置に位置決めするステップとを含むことを
特徴とするものである。
プの基板を決定するステップと、この基板の光路長を補
償するために必要な補償要素を選択するステップと、照
明光学系が選択した補償要素の下に位置決めされるよう
にＸＹ往復台を移動させるステップと、照明光学系を持
ち上げ、その際補償要素を収容するステップと、ＸＹ往
復台を基板の領域に移動させ、補償要素とともに照明光
学系を測定位置に位置決めするステップとを含むことを
特徴とするものである。
【０００８】本発明による測定器の構成により、再現可
能な測定結果を提供し、補償要素を交換するための運動
による不具合な影響を阻止することができる。補償要素
はＸＹ往復台の下部構造に設けた保管区画部で保管され
ている。ＸＹ往復台の移動範囲は透過光での測定範囲よ
りも大きい。測定範囲は、ＸＹ往復台内に画成されてい
る繰り抜き部にほぼ相当している。これにより、ＸＹ往
復台に対しては、適当な位置へ移動させ、補償要素を受
容することが可能である。間違った補償要素を積載し
て、基板を損傷させないようにするため（積載した補償
要素が厚すぎる場合）、或いは測定精度に誤差が出ない
ようにするため（積載した補償要素が薄すぎる場合）、
補償要素はコード化される。このためその形状（幾何学
的形状）は、常に適正な補償要素だけが対応する位置に
収まるように構成される。補償要素を持ち上げるため、
集光器の運動機構が使用される。本発明の他の利点は、
種々の光学的補償要素を測定器の光路内へもちきたすこ
とができる点である。
能な測定結果を提供し、補償要素を交換するための運動
による不具合な影響を阻止することができる。補償要素
はＸＹ往復台の下部構造に設けた保管区画部で保管され
ている。ＸＹ往復台の移動範囲は透過光での測定範囲よ
りも大きい。測定範囲は、ＸＹ往復台内に画成されてい
る繰り抜き部にほぼ相当している。これにより、ＸＹ往
復台に対しては、適当な位置へ移動させ、補償要素を受
容することが可能である。間違った補償要素を積載し
て、基板を損傷させないようにするため（積載した補償
要素が厚すぎる場合）、或いは測定精度に誤差が出ない
ようにするため（積載した補償要素が薄すぎる場合）、
補償要素はコード化される。このためその形状（幾何学
的形状）は、常に適正な補償要素だけが対応する位置に
収まるように構成される。補償要素を持ち上げるため、
集光器の運動機構が使用される。本発明の他の利点は、
種々の光学的補償要素を測定器の光路内へもちきたすこ
とができる点である。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明による測定器および
方法を添付の図面を用いて詳細に説明する。図１に図示
した高精度測定器１００は、ベース２,３で防振支持さ
れているグラニットブロック１を有している。グラニッ
トブロック１上では、フレームとして構成されているＸ
Ｙ往復台４が空気軸受５,６上を矢印で示した２つの方
向に滑動するように変位可能である。ＸＹ往復台４のフ
レームは、熱膨張率の低いガラスセラミックスからなっ
ているのが有利である。ＸＹ往復台４の駆動部は図示し
ていない。ＸＹ往復台４の位置はレーザー干渉計システ
ム７を用いてＸ方向とＹ方向とで測定される。
方法を添付の図面を用いて詳細に説明する。図１に図示
した高精度測定器１００は、ベース２,３で防振支持さ
れているグラニットブロック１を有している。グラニッ
トブロック１上では、フレームとして構成されているＸ
Ｙ往復台４が空気軸受５,６上を矢印で示した２つの方
向に滑動するように変位可能である。ＸＹ往復台４のフ
レームは、熱膨張率の低いガラスセラミックスからなっ
ているのが有利である。ＸＹ往復台４の駆動部は図示し
ていない。ＸＹ往復台４の位置はレーザー干渉計システ
ム７を用いてＸ方向とＹ方向とで測定される。
【００１０】ＸＹ往復台４のフレームには基板８が挿入
されている。基板８はたとえば石英ガラスからなってい
る。基板８の表面にはパターン９が設けられている。ＸＹ
往復台８はフレームとして構成されているので、基板８
は下からも照射される。光を透過させない基板の場合
は、落射照明が適用される。以下では、光を透過させる
基板に限定して説明するが、本発明はこれに限定される
ものではない。
されている。基板８はたとえば石英ガラスからなってい
る。基板８の表面にはパターン９が設けられている。ＸＹ
往復台８はフレームとして構成されているので、基板８
は下からも照射される。光を透過させない基板の場合
は、落射照明が適用される。以下では、光を透過させる
基板に限定して説明するが、本発明はこれに限定される
ものではない。
【００１１】基板８の上方には、光学的に高品質の結像
系１０が設けられている。結像系１０は、フォーカシン
グのためその光軸１１に沿ってＺ方向へ位置調整可能で
ある。ビームスプリッターミラー１２を介して光源１３
の光が光路内へ導入されるとともに、他方結像光線が検
出装置１４へ誘導される。検出装置１４は、たとえば、
高解像度ピクセルアレイを備えたＣＣＤカメラである。
光源１３は近紫外線スペクトル範囲の光を放出する。
系１０が設けられている。結像系１０は、フォーカシン
グのためその光軸１１に沿ってＺ方向へ位置調整可能で
ある。ビームスプリッターミラー１２を介して光源１３
の光が光路内へ導入されるとともに、他方結像光線が検
出装置１４へ誘導される。検出装置１４は、たとえば、
高解像度ピクセルアレイを備えたＣＣＤカメラである。
光源１３は近紫外線スペクトル範囲の光を放出する。
【００１２】グラニットブロック１には別の照明装置が
装着されている。この照明装置は、高さ調整可能な集光
器１５と、光源１６とを有している。光源１６として、
光ガイドの出射面を設けてもよい。集光器１５の光軸は
結像系１０の光軸１１と整列している。集光器１５と光
源１６の高さ調整は、パターン９に指向されるべき照明
光線を種々の基板８の異なる光学的厚さに適合させるた
めに用いる。集光器１５のヘッドは、特にＸＹ往復台４
のフレームの開口部分の中に突出してよい。基板の全面
にわたってテーブルを移動する際の損傷を防止するた
め、集光器１５のヘッドはグラニットブロック１の表面
下方へ引張ることができる。光源１３と１６は互いに独
立に通電可能である。
装着されている。この照明装置は、高さ調整可能な集光
器１５と、光源１６とを有している。光源１６として、
光ガイドの出射面を設けてもよい。集光器１５の光軸は
結像系１０の光軸１１と整列している。集光器１５と光
源１６の高さ調整は、パターン９に指向されるべき照明
光線を種々の基板８の異なる光学的厚さに適合させるた
めに用いる。集光器１５のヘッドは、特にＸＹ往復台４
のフレームの開口部分の中に突出してよい。基板の全面
にわたってテーブルを移動する際の損傷を防止するた
め、集光器１５のヘッドはグラニットブロック１の表面
下方へ引張ることができる。光源１３と１６は互いに独
立に通電可能である。
【００１３】図２はＸＹ往復台４の斜視図で、ＸＹ往復
台４には複数個の補償要素２０がそのために設けられた
保管区画部２２内に設置されている。この図では、図面
を簡単にして本発明の本質をわかりやすくするため、測
定器のいくつかの構成要素は省略してある。ＸＹ往復台
４には、周回する縁２６を決定（画成）している繰り抜
き部２４が形成されている。保管区画部２２は周回して
いる縁２６に沿って形成されている。集光器１５は繰り
抜き部２４の領域に設けられている。集光器１５は位置
固定であり、すなわちＸＹ往復台４の運動面内へ変位す
ることはできない。ＸＹ往復台４は同時に測定器１００
の測定テーブルでもあり、集光器１５が繰り抜き部２４
のどのポイントにも到達できるような大きさの変位経路
を有している。補償要素はガラス板２８からなり、マウ
ント３０に固定されている。透過光で測定される基板８
は、種々の厚さを持っている。基板８の厚さは典型的に
は２．３ｍｍ,３．２ｍｍ,６．３５ｍｍ,９ｍｍである
（ＳＥＭＩ規格）。あらゆる種類の基板に対し同一の測
定条件（よって比較可能な測定結果）を得るため、基板
８の素材（石英）を通過する測定光線の経路長さが等し
くなければならない。このため照明光学系（集光器１
５）は最も厚い基板に対して設計されている。より薄い
基板を測定する場合は、補償要素を光路内へ持ちきたし
て、全体で常に同一の光路長が基板により達成されるよ
うにする。
台４には複数個の補償要素２０がそのために設けられた
保管区画部２２内に設置されている。この図では、図面
を簡単にして本発明の本質をわかりやすくするため、測
定器のいくつかの構成要素は省略してある。ＸＹ往復台
４には、周回する縁２６を決定（画成）している繰り抜
き部２４が形成されている。保管区画部２２は周回して
いる縁２６に沿って形成されている。集光器１５は繰り
抜き部２４の領域に設けられている。集光器１５は位置
固定であり、すなわちＸＹ往復台４の運動面内へ変位す
ることはできない。ＸＹ往復台４は同時に測定器１００
の測定テーブルでもあり、集光器１５が繰り抜き部２４
のどのポイントにも到達できるような大きさの変位経路
を有している。補償要素はガラス板２８からなり、マウ
ント３０に固定されている。透過光で測定される基板８
は、種々の厚さを持っている。基板８の厚さは典型的に
は２．３ｍｍ,３．２ｍｍ,６．３５ｍｍ,９ｍｍである
（ＳＥＭＩ規格）。あらゆる種類の基板に対し同一の測
定条件（よって比較可能な測定結果）を得るため、基板
８の素材（石英）を通過する測定光線の経路長さが等し
くなければならない。このため照明光学系（集光器１
５）は最も厚い基板に対して設計されている。より薄い
基板を測定する場合は、補償要素を光路内へ持ちきたし
て、全体で常に同一の光路長が基板により達成されるよ
うにする。
【００１４】図３は補償要素２０と集光器１５の横断面
図で、集光器１５の上に補償要素２０が機械的に載置さ
れているのを示したものである。集光器１５は、補償要
素２０をその保管区画部から取り出すために利用される
（図５のａ,ｂ,ｃはこれを正確に描写している）。ガラ
ス板２８はマウント３０のなかに固定されている。マウ
ント３０は外壁３２と内壁３４を備えた中空筒体の形状
を有している。内壁３４には周回する縁３６が形成さ
れ、縁３６にガラス板２８が固定され静止している。マ
ウント３０の内径は、集光器１５の外径よりもいくぶん
大きいように選定されている。さらにマウント３０の内
壁３４には、補償要素２０を集光器１５上に確実に且つ
心合わせして座着させるための異形部が形成されてい
る。
図で、集光器１５の上に補償要素２０が機械的に載置さ
れているのを示したものである。集光器１５は、補償要
素２０をその保管区画部から取り出すために利用される
（図５のａ,ｂ,ｃはこれを正確に描写している）。ガラ
ス板２８はマウント３０のなかに固定されている。マウ
ント３０は外壁３２と内壁３４を備えた中空筒体の形状
を有している。内壁３４には周回する縁３６が形成さ
れ、縁３６にガラス板２８が固定され静止している。マ
ウント３０の内径は、集光器１５の外径よりもいくぶん
大きいように選定されている。さらにマウント３０の内
壁３４には、補償要素２０を集光器１５上に確実に且つ
心合わせして座着させるための異形部が形成されてい
る。
【００１５】図４は、光学的補償要素２０のための保管
区画部２２の構成の１実施形態を示している。保管区画
部２２は円形に形成されている。保管区画部２２には、
ＸＹ往復台の繰り抜き部２４の方向へ先細りになってい
る先細り部３８が設けられている。先細り部３８は、補
償要素２０が保管区画部２２から抜け落ちないようにし
ている。保管区画部２２の縁に沿って、補償要素２０を
担持する載置面４０が形成されている。常に同じ補償要
素２０が同じ保管区画部２２に保管されるようにするた
め、補償要素２０にはコード部が取り付けられている。
本実施形態においては、コード部は機械的なものであ
る。このため、たとえば保管区画部２２には溝４２が形
成されている。これらの溝の配置または配分は保管区画
部２２ごとに異なっている。補償要素２０にもコード部
を設けてもよく、このようにすると正確な割り当てが保
証される。もちろん、ここに示したコード部の構成はこ
れに限定されるものではない。
区画部２２の構成の１実施形態を示している。保管区画
部２２は円形に形成されている。保管区画部２２には、
ＸＹ往復台の繰り抜き部２４の方向へ先細りになってい
る先細り部３８が設けられている。先細り部３８は、補
償要素２０が保管区画部２２から抜け落ちないようにし
ている。保管区画部２２の縁に沿って、補償要素２０を
担持する載置面４０が形成されている。常に同じ補償要
素２０が同じ保管区画部２２に保管されるようにするた
め、補償要素２０にはコード部が取り付けられている。
本実施形態においては、コード部は機械的なものであ
る。このため、たとえば保管区画部２２には溝４２が形
成されている。これらの溝の配置または配分は保管区画
部２２ごとに異なっている。補償要素２０にもコード部
を設けてもよく、このようにすると正確な割り当てが保
証される。もちろん、ここに示したコード部の構成はこ
れに限定されるものではない。
【００１６】図５のａないしｃは補償要素２０の取り出
し方法を図示したものである。図５のａに示すように、
補償要素２０はそのために設けられた保管区画部２２に
保管されている。集光器１５はＸＹ往復台４の繰り抜き
部２４の領域にある。被測定基板の厚さに応じた補償要
素２０が必要である場合には（図５のａを参照）、ＸＹ
往復台４を移動させて、集光器１５が必要とする補償要
素２０の保管区画部２２の下に位置付けされるようにす
る。集光器１５をＺ方向（ＸＹ往復台４の運動面に対し
垂直な方向）へ持ち上げ、これにより補償要素２０は保
管区画部２２から離間する。図５のｃのように、補償要
素２０が集光器１５上にあれば、集光器１５と補償要素
２０のユニットが保管区画部２２から離間するようにＸ
Ｙ往復台を移動させる。このとき集光器１５と補償要素
２０のユニットは繰り抜き部２４の領域にある。
し方法を図示したものである。図５のａに示すように、
補償要素２０はそのために設けられた保管区画部２２に
保管されている。集光器１５はＸＹ往復台４の繰り抜き
部２４の領域にある。被測定基板の厚さに応じた補償要
素２０が必要である場合には（図５のａを参照）、ＸＹ
往復台４を移動させて、集光器１５が必要とする補償要
素２０の保管区画部２２の下に位置付けされるようにす
る。集光器１５をＺ方向（ＸＹ往復台４の運動面に対し
垂直な方向）へ持ち上げ、これにより補償要素２０は保
管区画部２２から離間する。図５のｃのように、補償要
素２０が集光器１５上にあれば、集光器１５と補償要素
２０のユニットが保管区画部２２から離間するようにＸ
Ｙ往復台を移動させる。このとき集光器１５と補償要素
２０のユニットは繰り抜き部２４の領域にある。
【００１７】図６は、本発明による方法を実施するため
のフローチャートである。第１ステップ５０において、
測定のために使用する基板を決定する。センサ（図示せ
ず）の測定結果はこのために必要な情報を必要とする。
どのようなタイプの基板を測定するかが既知であれば、
この情報によりＸＹ往復台４を移動させて、基板８に適
した補償要素２０を取り出す。ＸＹ往復台４が、対応す
る補償要素２０がある保管区画部２２の位置に移動する
と、集光器１５は正確に補償要素２０の下に位置決めさ
れている。次のステップ５２で集光器１５を持ち上げ
る。集光器１５の運動はＸＹ往復台４の運動面に対し垂
直である。この場合補償要素２０はその保管区画部２２
から持ち上げられて、集光器１５の上に持ちきたされ
る。次のステップ５３でＸＹ往復台４は基板８の測定領
域へ移動する。この場合集光器１５は補償要素２０とと
もに保管区画部２２から離間し、測定位置に位置決めさ
れる。その際集光器１５と補償要素２０はＸＹ往復台４
の繰り抜き部２４の領域にある。
のフローチャートである。第１ステップ５０において、
測定のために使用する基板を決定する。センサ（図示せ
ず）の測定結果はこのために必要な情報を必要とする。
どのようなタイプの基板を測定するかが既知であれば、
この情報によりＸＹ往復台４を移動させて、基板８に適
した補償要素２０を取り出す。ＸＹ往復台４が、対応す
る補償要素２０がある保管区画部２２の位置に移動する
と、集光器１５は正確に補償要素２０の下に位置決めさ
れている。次のステップ５２で集光器１５を持ち上げ
る。集光器１５の運動はＸＹ往復台４の運動面に対し垂
直である。この場合補償要素２０はその保管区画部２２
から持ち上げられて、集光器１５の上に持ちきたされ
る。次のステップ５３でＸＹ往復台４は基板８の測定領
域へ移動する。この場合集光器１５は補償要素２０とと
もに保管区画部２２から離間し、測定位置に位置決めさ
れる。その際集光器１５と補償要素２０はＸＹ往復台４
の繰り抜き部２４の領域にある。
【００１８】以上本発明を上記実施形態に関し説明した
が、特許請求の範囲の権利範囲を逸脱することなく、当
業者による変更、変形を行なってよいことは言うまでも
ない。
が、特許請求の範囲の権利範囲を逸脱することなく、当
業者による変更、変形を行なってよいことは言うまでも
ない。
【図１】測定器の側面図である。
【図２】補償要素を埋設したＸＹ往復台の斜視図であ
る。
る。
【図３】補償要素と集光器の横断面図で、補償要素が集
光器の上に機械的に載置されているのを示す前記横断面
図である。
光器の上に機械的に載置されているのを示す前記横断面
図である。
【図４】光学的補償要素のための保管区画部の実施形態
を示す図である。
を示す図である。
【図５】ａ，ｂ，ｃは補償要素を保管区画部の１つから
取り出すためのそれぞれの段階を示す図である。
取り出すためのそれぞれの段階を示す図である。
【図６】本発明による方法を実施するためのフローチャ
ートである。
ートである。
１ グラニットブロック
２ ベース
３ ベース
４ ＸＹ往復台
５ 空気軸受
６ 空気軸受
７ レーザー干渉計
８ 基板
９ パターン
１０ 結像系
１１ 光軸
１２ ビームスプリッターミラー
１３ 光源
１４ 検出装置
１５ 高さ調整可能な集光器
１６ 光源
２０ 補償要素
２２ 保管区画部
２４ 繰り抜き部
２６ 周回縁
２８ ガラス板
３０ マウント
３２ 外壁
３４ 内壁
３６ 周回する突出部
３８ 先細り部
４０ 載置面
４２ 溝
５０ 第１ステップ
５１ 第２ステップ
５２ 第３ステップ
５３ 第４ステップ
１００ 測定器
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平10−38538（ＪＰ，Ａ)
特開 平11−51875（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01B 11/24
G12B 5/00
Claims (5)
- 【請求項１】周回縁（２６）によって繰り抜き部（２
４）が画成されているＸＹ往復台（４）と、照明光学系
（１５）と、複数個の光学的補償要素（２０）とを備え
た、異なる厚さの基板のパターンを測定するための測定
器（１００）において、 光学的補償要素（２０）のための複数個の保管区画部
（２２）がＸＹ往復台（４）の繰り抜き部（２４）の周
回縁（２６）に成形されていること、 必要な光学的補償要素（２０）を照明光学系（１５）に
よって付設の保管区画部（２２）から取り出し可能であ
ること、を特徴とする測定器。 - 【請求項２】照明光学系（１５）が、運動機構によって
ＸＹ往復台（４）の運動方向に対し垂直に位置調整可能
な集光器を有していることを特徴とする、請求項１に記
載の測定器。 - 【請求項３】補償要素（２０）がコード部を備えている
ことを特徴とする、請求項１に記載の測定器。 - 【請求項４】異なる厚さの基板（８）のパターン（９）
を測定するための方法において、 測定に使用するタイプの基板（８）を決定するステップ
と、 この基板の光路長を補償するために必要な補償要素（２
０）を選択するステップと、 照明光学系（１５）が選択した補償要素（２０）の下に
位置決めされるようにＸＹ往復台（３）を移動させるス
テップと、 照明光学系（１５）を持ち上げ、その際補償要素（２
０）を収容するステップと、 ＸＹ往復台（４）を基板（８）の領域に移動させ、補償
要素（２０）とともに照明光学系（１５）を測定位置に
位置決めするステップと、 を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項５】使用するタイプの基板の決定を、センサの
測定結果に基づいて行なうこと、基板（８）に適した補
償要素（２０）が取り出されるようにＸＹ往復台（４）
の駆動を制御することを特徴とする、請求項４に記載の
方法。
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