JP3425190B2 - Ｍｒｉ装置 - Google Patents
Ｍｒｉ装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＭＲＩ装置（磁気共鳴
映像装置）に係り、特に、血流や体動等に起因して発生
するアーチファクトを除去するために行われるプリサチ
ュレーションパルスの印加方法に関する。
映像装置）に係り、特に、血流や体動等に起因して発生
するアーチファクトを除去するために行われるプリサチ
ュレーションパルスの印加方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、医用診断装置の開発が進められる
中で、ＭＲＩ装置が多く用いられるようになってきた。
ＭＲＩ装置は、静磁場下に置かれた被検体に対し、所定
のパルスシーケンスで傾斜磁場及び高周波パルスを印加
し、これによって発生したエコー信号を収集して磁気共
鳴画像を得るものである。
中で、ＭＲＩ装置が多く用いられるようになってきた。
ＭＲＩ装置は、静磁場下に置かれた被検体に対し、所定
のパルスシーケンスで傾斜磁場及び高周波パルスを印加
し、これによって発生したエコー信号を収集して磁気共
鳴画像を得るものである。
【０００３】このようなＭＲＩ装置においては、被検体
内の血流や体動によるエンコード方向のゴースト状アー
チファクト（偽像）を低減するための一つの方法とし
て、プリサチュレーション法が実用に供されている。プ
リサチュレーション法は、撮影対象となる関心領域周辺
の不要な領域に対し、予め選択的に高周波パルスを印加
して縦磁化を抑制し、その後、関心領域に対して所定の
パルスシーケンスを実行してエコー信号を収集し、ＭＲ
画像を得るものである。
内の血流や体動によるエンコード方向のゴースト状アー
チファクト（偽像）を低減するための一つの方法とし
て、プリサチュレーション法が実用に供されている。プ
リサチュレーション法は、撮影対象となる関心領域周辺
の不要な領域に対し、予め選択的に高周波パルスを印加
して縦磁化を抑制し、その後、関心領域に対して所定の
パルスシーケンスを実行してエコー信号を収集し、ＭＲ
画像を得るものである。
【０００４】プリサチュレーション法には、例えばスラ
イス面外から流入する血流によるアーチファクトを低減
するために用いる面外サチュレーションと、スライス面
内で動く腹壁や咽頭によるアーチファクトを低減するた
めに用いる面内サチュレーションとがあり、図９，図１
０はそれぞれ面外サチュレーション，面内サチュレーシ
ョンの説明図である。
イス面外から流入する血流によるアーチファクトを低減
するために用いる面外サチュレーションと、スライス面
内で動く腹壁や咽頭によるアーチファクトを低減するた
めに用いる面内サチュレーションとがあり、図９，図１
０はそれぞれ面外サチュレーション，面内サチュレーシ
ョンの説明図である。
【０００５】図９において、１は被検体であり、当該被
検体１に所望のスライス面２が決められると、これに隣
接する面がサチュレーション領域３ａ，３ｂとして設定
され、スライス面２を撮影するためのシーケンスが実行
される前このサチュレーション領域３ａ，３ｂにプリパ
ルスが印加される。即ち、パルスシーケンスは図１１に
示すように、本シーケンス部の前にプリサチュレーショ
ン部が設けられる。なお、同図において、ＲＦは高周波
パルス，Ｇs ，Ｇr ，Ｇe はそれぞれスライス方向，リ
ード方向，エンコード方向の傾斜磁場である。
検体１に所望のスライス面２が決められると、これに隣
接する面がサチュレーション領域３ａ，３ｂとして設定
され、スライス面２を撮影するためのシーケンスが実行
される前このサチュレーション領域３ａ，３ｂにプリパ
ルスが印加される。即ち、パルスシーケンスは図１１に
示すように、本シーケンス部の前にプリサチュレーショ
ン部が設けられる。なお、同図において、ＲＦは高周波
パルス，Ｇs ，Ｇr ，Ｇe はそれぞれスライス方向，リ
ード方向，エンコード方向の傾斜磁場である。
【０００６】その結果、図９における血管４にてスライ
ス面２に流入する血液はサチュレーション領域３ａ，３
ｂにてその縦磁化が抑制されるので、得られるＭＲ画像
に発生する血流アーチファクトを防止することができ
る。
ス面２に流入する血液はサチュレーション領域３ａ，３
ｂにてその縦磁化が抑制されるので、得られるＭＲ画像
に発生する血流アーチファクトを防止することができ
る。
【０００７】また、図１０に示す面内サチュレーション
の場合についても面外サチュレーションの場合と略同様
に、被検体１のスライス面２内に例えば臓器等の動く部
分がある場合には、この部分をサチュレーション領域３
ｃとして予めプリパルスを印加する。その結果、得られ
るＭＲ画像に発生する動きによるアーチファクトを低減
することができる。
の場合についても面外サチュレーションの場合と略同様
に、被検体１のスライス面２内に例えば臓器等の動く部
分がある場合には、この部分をサチュレーション領域３
ｃとして予めプリパルスを印加する。その結果、得られ
るＭＲ画像に発生する動きによるアーチファクトを低減
することができる。
【０００８】このようなプリサチュレーション法におい
て、サチュレーション領域のスライス位置及びスライス
厚を決めるために傾斜磁場と周波数を制御する必要があ
る。ところが、例えば水／脂肪のように核種の違いによ
るケミカルシフトの差によって水と脂肪のサチュレーシ
ョン位置がずれてしまい、水に対する関心領域内に脂肪
のサチュレーション領域がオーバラップすることがあり
Ｓ／Ｎ比の低下をもたらしてしまう。また、ケミカルシ
フトによるサチュレーション領域のオーバラップを避け
るために、関心領域とサチュレーション領域との間隔を
大きくすると動く部分は流入する血流の縦磁化が十分抑
制できない為アーチファクトの増大をもたらしてしま
う。
て、サチュレーション領域のスライス位置及びスライス
厚を決めるために傾斜磁場と周波数を制御する必要があ
る。ところが、例えば水／脂肪のように核種の違いによ
るケミカルシフトの差によって水と脂肪のサチュレーシ
ョン位置がずれてしまい、水に対する関心領域内に脂肪
のサチュレーション領域がオーバラップすることがあり
Ｓ／Ｎ比の低下をもたらしてしまう。また、ケミカルシ
フトによるサチュレーション領域のオーバラップを避け
るために、関心領域とサチュレーション領域との間隔を
大きくすると動く部分は流入する血流の縦磁化が十分抑
制できない為アーチファクトの増大をもたらしてしま
う。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のＭ
ＲＩ装置においてはケミカルシフトの差により、例えば
水に対する関心領域と脂肪に対するサチュレーション領
域とがオーバラップしてしまい、Ｓ／Ｎ比が低下してし
まうという欠点があった。
ＲＩ装置においてはケミカルシフトの差により、例えば
水に対する関心領域と脂肪に対するサチュレーション領
域とがオーバラップしてしまい、Ｓ／Ｎ比が低下してし
まうという欠点があった。
【００１０】この発明はこのような従来の課題を解決す
るためになされたもので、その目的とするところは、関
心領域とサチュレーション領域との間隔をできるだけ小
さくし、かつ、イメージング対象となる核種の関心領域
と他の核種のサチュレーション領域のオーバラップを防
止することのできるＭＲＩ装置及びＭＲＩ装置における
プリサチュレーション印加方法を提供することにある。
るためになされたもので、その目的とするところは、関
心領域とサチュレーション領域との間隔をできるだけ小
さくし、かつ、イメージング対象となる核種の関心領域
と他の核種のサチュレーション領域のオーバラップを防
止することのできるＭＲＩ装置及びＭＲＩ装置における
プリサチュレーション印加方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明に係るＭＲＩ装置
は、第１プレサチュレーション領域内の撮影対象核種を
飽和させるために第１高周波パルスと前記第１高周波パ
ルスと共に印加される第１傾斜磁場パルスとを含むプレ
サチュレーション部を実行する手段と、前記第１プレサ
チュレーション領域と異なる位置に設定された撮影領域
内の前記撮影対象核種を励起するために第２高周波パル
スと前記第２高周波パルスと共に印加される第２傾斜磁
場パルスとを含む本シーケンス部を実行する手段と、前
記本シーケンス部において検出された磁気共鳴信号に基
づいて磁気共鳴画像を生成する手段と、前記撮影対象核
種とは異なるケミカルシフトを有する撮影非対象核種
が、前記撮影対象核種が飽和する前記第１プレサチュレ
ーション領域よりも、前記撮影領域から遠い位置におい
て飽和するように、前記第１傾斜磁場パルスの傾斜方向
及び前記第１高周波パルスの変調周波数を制御する手段
と、を備えたことを特徴とする。
は、第１プレサチュレーション領域内の撮影対象核種を
飽和させるために第１高周波パルスと前記第１高周波パ
ルスと共に印加される第１傾斜磁場パルスとを含むプレ
サチュレーション部を実行する手段と、前記第１プレサ
チュレーション領域と異なる位置に設定された撮影領域
内の前記撮影対象核種を励起するために第２高周波パル
スと前記第２高周波パルスと共に印加される第２傾斜磁
場パルスとを含む本シーケンス部を実行する手段と、前
記本シーケンス部において検出された磁気共鳴信号に基
づいて磁気共鳴画像を生成する手段と、前記撮影対象核
種とは異なるケミカルシフトを有する撮影非対象核種
が、前記撮影対象核種が飽和する前記第１プレサチュレ
ーション領域よりも、前記撮影領域から遠い位置におい
て飽和するように、前記第１傾斜磁場パルスの傾斜方向
及び前記第１高周波パルスの変調周波数を制御する手段
と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
【００１３】
【作用】撮影対象となる核種のｄ0 の共鳴周波数ｆ0 よ
りも小さい共鳴周波数ｆ11の核種ｄ11のサチュレーショ
ン領域はケミカルシフトにより核種ｄ0 のサチュレーシ
ョン領域よりも傾斜磁場の正方向へシフトする。また、
これとは反対に共鳴周波数ｆ0 よりも大きい共鳴周波数
ｆ12の核種ｄ12のサチュレーション領域は傾斜磁場の負
方向へシフトする。このことを利用してプリサチュレー
ションパルス印加時における変調周波数，及び傾斜磁場
の符号，強度を制御すれば、関心領域とサチュレーショ
ン領域とのオーバラップを防止することができる。
りも小さい共鳴周波数ｆ11の核種ｄ11のサチュレーショ
ン領域はケミカルシフトにより核種ｄ0 のサチュレーシ
ョン領域よりも傾斜磁場の正方向へシフトする。また、
これとは反対に共鳴周波数ｆ0 よりも大きい共鳴周波数
ｆ12の核種ｄ12のサチュレーション領域は傾斜磁場の負
方向へシフトする。このことを利用してプリサチュレー
ションパルス印加時における変調周波数，及び傾斜磁場
の符号，強度を制御すれば、関心領域とサチュレーショ
ン領域とのオーバラップを防止することができる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明が適用されるＭＲＩ装置の一般的な
構成を示す図であり、図示のように被検体Ｐの周囲には
該被検体Ｐに傾斜磁場を印加するための傾斜磁場コイル
１２が配されている。
する。図１は本発明が適用されるＭＲＩ装置の一般的な
構成を示す図であり、図示のように被検体Ｐの周囲には
該被検体Ｐに傾斜磁場を印加するための傾斜磁場コイル
１２が配されている。
【００１５】傾斜磁場コイル１２は、それぞれＸ軸，Ｙ
軸，Ｚ軸の方向に傾斜磁場を印加するＸ軸方向傾斜磁場
コイル１２ａ，Ｙ軸方向傾斜磁場コイル１２ｂ，Ｚ軸方
向傾斜磁場コイル１２ｃを有しており、各コイル１２ａ
〜１２ｃはそれぞれＸ軸傾斜磁場電源１４ａ，Ｙ軸傾斜
磁場電源１４ｂ，Ｚ軸傾斜磁場電源１４ｃと接続されて
電力が供給されるようになっている。
軸，Ｚ軸の方向に傾斜磁場を印加するＸ軸方向傾斜磁場
コイル１２ａ，Ｙ軸方向傾斜磁場コイル１２ｂ，Ｚ軸方
向傾斜磁場コイル１２ｃを有しており、各コイル１２ａ
〜１２ｃはそれぞれＸ軸傾斜磁場電源１４ａ，Ｙ軸傾斜
磁場電源１４ｂ，Ｚ軸傾斜磁場電源１４ｃと接続されて
電力が供給されるようになっている。
【００１６】また、被検体Ｐの撮影部位近傍には高周波
パルスを印加するとともに、発生したエコー信号を受信
するＲＦコイル１３が配設されており、該ＲＦコイル１
３は高周波パルスを発振する送信回路系１５，及びエコ
ー信号を受信する受信回路系１６と接続されている。
パルスを印加するとともに、発生したエコー信号を受信
するＲＦコイル１３が配設されており、該ＲＦコイル１
３は高周波パルスを発振する送信回路系１５，及びエコ
ー信号を受信する受信回路系１６と接続されている。
【００１７】シーケンサ１７は、前記各傾斜磁場電源１
４ａ〜１４ｃ及び送信回路系１５，受信回路系１６の各
動作タイミングを制御するものであり、コンピュータシ
ステム１８の制御下で動作する。また、コンピュータシ
ステム１８は、受信回路系１６から得られた信号を処理
してＭＲ画像を構成し、これをディスプレイ１９に表示
する。
４ａ〜１４ｃ及び送信回路系１５，受信回路系１６の各
動作タイミングを制御するものであり、コンピュータシ
ステム１８の制御下で動作する。また、コンピュータシ
ステム１８は、受信回路系１６から得られた信号を処理
してＭＲ画像を構成し、これをディスプレイ１９に表示
する。
【００１８】このようなＭＲＩ装置では、通常イメージ
ング対象となる核種としてプロトンを用いている。ま
た、実際に生体での主要なケミカルシフト（核種の化学
的な性質の違いによる共鳴周波数のずれ）の成分は脂肪
であり、共鳴周波数が水に比べて約３．５ppm 小さい。
従って、スライス位置を決めた場合、脂肪のスライス部
分は水に対して傾斜磁場の正方向へシフトする。このシ
フト量をΔＺとすると、ΔＺは次の（１）式で算出でき
ることが知られている。
ング対象となる核種としてプロトンを用いている。ま
た、実際に生体での主要なケミカルシフト（核種の化学
的な性質の違いによる共鳴周波数のずれ）の成分は脂肪
であり、共鳴周波数が水に比べて約３．５ppm 小さい。
従って、スライス位置を決めた場合、脂肪のスライス部
分は水に対して傾斜磁場の正方向へシフトする。このシ
フト量をΔＺとすると、ΔＺは次の（１）式で算出でき
ることが知られている。
【００１９】
【数１】
ΔＺ＝δ・γＨ0 ／Ｇ …（１）
ただし、Ｇは傾斜磁場強度，γはラーマー定数，Ｈ0 は
静磁場強度，δはケミカルシフト（脂肪の場合は３．５
ppm ）である。つまり、図２に示すように被検体Ｐに対
してＺ方向に静磁場が印加され、図中Ｇz の如く傾斜磁
場が印加されている場合には水のスライス部分２１に対
し脂肪のスライス部分はΔＺだけＧz の正方向へシフト
する。
静磁場強度，δはケミカルシフト（脂肪の場合は３．５
ppm ）である。つまり、図２に示すように被検体Ｐに対
してＺ方向に静磁場が印加され、図中Ｇz の如く傾斜磁
場が印加されている場合には水のスライス部分２１に対
し脂肪のスライス部分はΔＺだけＧz の正方向へシフト
する。
【００２０】また、反対に水よりも共鳴周波数の高い核
種は傾斜磁場の負方向にシフトする。
種は傾斜磁場の負方向にシフトする。
【００２１】つまり、実際にプリサチュレーションする
際にはこのシフト量を考慮してサチュレーション領域を
決めれば関心領域とサチュレーション領域とのオーバラ
ップを防止することができる。
際にはこのシフト量を考慮してサチュレーション領域を
決めれば関心領域とサチュレーション領域とのオーバラ
ップを防止することができる。
【００２２】次に、面外サチュレーション及び面内サチ
ュレーションのそれぞれの場合についてプリサチュレー
ションパルスの印加手順について説明する。図３は、面
外サチュレーションのスライス位置及びサチュレーショ
ン領域を示す説明図である。図示のようにスライス面２
５に対し、その両側にサチュレーション領域２３，２４
が設定されている。いま、撮影対象とする核種をｄ
0 （共鳴周波数がｆ0 ）とすると他の核種ｄ1 ，ｄ2 ，
…，ｄn （共鳴周波数がｆ1 ，ｆ2 ，…，ｆn ）のサチ
ュレーション位置がスライス面２５の外側に来るように
Ｚ軸方向の傾斜磁場Ｇz 及び選択励起パルスの変調周波
数ＳＳＧを制御すれば良い。
ュレーションのそれぞれの場合についてプリサチュレー
ションパルスの印加手順について説明する。図３は、面
外サチュレーションのスライス位置及びサチュレーショ
ン領域を示す説明図である。図示のようにスライス面２
５に対し、その両側にサチュレーション領域２３，２４
が設定されている。いま、撮影対象とする核種をｄ
0 （共鳴周波数がｆ0 ）とすると他の核種ｄ1 ，ｄ2 ，
…，ｄn （共鳴周波数がｆ1 ，ｆ2 ，…，ｆn ）のサチ
ュレーション位置がスライス面２５の外側に来るように
Ｚ軸方向の傾斜磁場Ｇz 及び選択励起パルスの変調周波
数ＳＳＧを制御すれば良い。
【００２３】そして、この制御方法には２種類の場合が
あり対象核種ｄ0 の共鳴周波数ｆ0が他の核種の（共鳴
周波数ｆ1 ，ｆ2 ，…，ｆn ）よりも大きい場合、即
ち、ｆ0 ＞ｆ1 ＞ｆ2 ＞…＞ｆn の場合と、その反対の
場合、即ち、ｆ0 ＜ｆ1 ＜ｆ2＜…＜ｆn の場合とがあ
り、以下、これらについて説明する。
あり対象核種ｄ0 の共鳴周波数ｆ0が他の核種の（共鳴
周波数ｆ1 ，ｆ2 ，…，ｆn ）よりも大きい場合、即
ち、ｆ0 ＞ｆ1 ＞ｆ2 ＞…＞ｆn の場合と、その反対の
場合、即ち、ｆ0 ＜ｆ1 ＜ｆ2＜…＜ｆn の場合とがあ
り、以下、これらについて説明する。
【００２４】まず、ｆ0 ＞ｆ1 ＞ｆ2 ＞…＞ｆn の場合
についてのパルスシーケンス図を図４に示す。この場合
は、対象核種ｄ0 の共鳴周波数ｆ0 は全ての核種の共鳴
周波数の中で最大であるので、前記したように他の核種
ｄ1 〜ｄn のサチュレーション領域は核種ｄ0 に対して
Ｚ軸の正方向へシフトすることになる。従って、図３に
示した説明図中でスライス面２５の右側のサチュレーシ
ョン領域２４には正方向，左側のサチュレーション領域
２３には負方向のＧz を印加すれば良い。即ち、図４に
示す如く、プリサチュレーション部において図３のサチ
ュレーション領域２３に対する選択励起パルスＰ１を印
加する際には負方向のＧz を印加し、これとは反対にサ
チュレーション領域２４に対する選択励起パルスＰ２を
印加する際には正方向のＧz を印加する。また、変調周
波数ＳＳＧはＰ１，Ｐ２共に正方向とする。これによ
り、他の核種ｄ1 ，ｄ2 ，…，ｄn のサチュレーション
領域がスライス面２５の外側となる。
についてのパルスシーケンス図を図４に示す。この場合
は、対象核種ｄ0 の共鳴周波数ｆ0 は全ての核種の共鳴
周波数の中で最大であるので、前記したように他の核種
ｄ1 〜ｄn のサチュレーション領域は核種ｄ0 に対して
Ｚ軸の正方向へシフトすることになる。従って、図３に
示した説明図中でスライス面２５の右側のサチュレーシ
ョン領域２４には正方向，左側のサチュレーション領域
２３には負方向のＧz を印加すれば良い。即ち、図４に
示す如く、プリサチュレーション部において図３のサチ
ュレーション領域２３に対する選択励起パルスＰ１を印
加する際には負方向のＧz を印加し、これとは反対にサ
チュレーション領域２４に対する選択励起パルスＰ２を
印加する際には正方向のＧz を印加する。また、変調周
波数ＳＳＧはＰ１，Ｐ２共に正方向とする。これによ
り、他の核種ｄ1 ，ｄ2 ，…，ｄn のサチュレーション
領域がスライス面２５の外側となる。
【００２５】次いで、ｆ0 ＜ｆ1 ＜ｆ2 ＜…＜ｆn の場
合についてのパルスシーケンス図を図５に示す。この場
合は、対象核種ｄ0 の共鳴周波数ｆ0 は全ての核種の共
鳴周波数の中で最小であるので、前記した最大である場
合と反対となる。即ち、他の核種ｄ1 〜ｄn のサチュレ
ーション領域は核種ｄ0 に対してＺ軸の負方向へシフト
することになる。従って、図３に示した説明図中でスラ
イス面２５の右側のサチュレーション領域２４には負方
向，左側のサチュレーション領域２３には正方向のＧz
を印加すれば良い。即ち、図５において選択励起パルス
Ｐ１印加時には正方向のＧz ，選択励起パルスＰ２印加
時には負方向のＧz を印加すれば良い。また、このとき
の変調周波数ＳＳＧはＰ１，Ｐ２共に負方向とする。こ
れによって、他の核種ｄ1 ，ｄ2 ，…，ｄn のサチュレ
ーション領域がスライス面２５の外側となる。
合についてのパルスシーケンス図を図５に示す。この場
合は、対象核種ｄ0 の共鳴周波数ｆ0 は全ての核種の共
鳴周波数の中で最小であるので、前記した最大である場
合と反対となる。即ち、他の核種ｄ1 〜ｄn のサチュレ
ーション領域は核種ｄ0 に対してＺ軸の負方向へシフト
することになる。従って、図３に示した説明図中でスラ
イス面２５の右側のサチュレーション領域２４には負方
向，左側のサチュレーション領域２３には正方向のＧz
を印加すれば良い。即ち、図５において選択励起パルス
Ｐ１印加時には正方向のＧz ，選択励起パルスＰ２印加
時には負方向のＧz を印加すれば良い。また、このとき
の変調周波数ＳＳＧはＰ１，Ｐ２共に負方向とする。こ
れによって、他の核種ｄ1 ，ｄ2 ，…，ｄn のサチュレ
ーション領域がスライス面２５の外側となる。
【００２６】いま、例えば水の共鳴周波数をｆ0 ，脂肪
の共鳴周波数をｆ1 とすると、ｆ0＞ｆ1 より図４のパ
ルスシーケンスを適用すれば良い。
の共鳴周波数をｆ1 とすると、ｆ0＞ｆ1 より図４のパ
ルスシーケンスを適用すれば良い。
【００２７】次に、面内サチュレーションの場合につい
て説明する。図６は面内のサチュレーション領域を示す
説明図である。図示のように断層像３２に対してサチュ
レーション領域３１が設定され、その他の領域が関心領
域３３とされている。ここで、サチュレーション領域３
１が関心領域３３とオーバラップしないためには対象核
種ｄ0 に対し、他の核種ｄ1 ，ｄ2 ，…，ｄn のサチュ
レーション領域が関心領域３３の外側に来るように制御
すれば良い。
て説明する。図６は面内のサチュレーション領域を示す
説明図である。図示のように断層像３２に対してサチュ
レーション領域３１が設定され、その他の領域が関心領
域３３とされている。ここで、サチュレーション領域３
１が関心領域３３とオーバラップしないためには対象核
種ｄ0 に対し、他の核種ｄ1 ，ｄ2 ，…，ｄn のサチュ
レーション領域が関心領域３３の外側に来るように制御
すれば良い。
【００２８】即ち、前記した面外サチュレーションの場
合と同様に、対象核種ｄ0 よりも共鳴周波数の小さい核
種のサチュレーション領域は傾斜磁場Ｇx の正方向へシ
フトする。従って、対象核種ｄ0 の共鳴周波数が他の核
種ｄ1 〜ｄn の共鳴周波数ｆ1 〜ｆn よりも大きい場
合、即ち、ｆ0 ＞ｆ1 ＞ｆ2 …ｆn の場合には図７に示
すようにプリサチュレーションパルスＰ３印加時に正方
向Ｇx を印加すれば、関心領域３３とサチュレーション
領域３１とのオーバラップを防止することができる。ま
た、このときの変調周波数ＳＳＧを正とする。
合と同様に、対象核種ｄ0 よりも共鳴周波数の小さい核
種のサチュレーション領域は傾斜磁場Ｇx の正方向へシ
フトする。従って、対象核種ｄ0 の共鳴周波数が他の核
種ｄ1 〜ｄn の共鳴周波数ｆ1 〜ｆn よりも大きい場
合、即ち、ｆ0 ＞ｆ1 ＞ｆ2 …ｆn の場合には図７に示
すようにプリサチュレーションパルスＰ３印加時に正方
向Ｇx を印加すれば、関心領域３３とサチュレーション
領域３１とのオーバラップを防止することができる。ま
た、このときの変調周波数ＳＳＧを正とする。
【００２９】また、反対にｆ0 ＜ｆ1 ＜ｆ2 …＜ｆn の
場合には、図８に示すようにプリサチュレーションパル
スＰ３印加時に負方向のＧx を印加する。これによって
関心領域３３とサチュレーション領域３１とのオーバラ
ップを防止することができる。また、このときのＳＳＧ
を負とする。
場合には、図８に示すようにプリサチュレーションパル
スＰ３印加時に負方向のＧx を印加する。これによって
関心領域３３とサチュレーション領域３１とのオーバラ
ップを防止することができる。また、このときのＳＳＧ
を負とする。
【００３０】このようにして、本実施例では、プリサチ
ュレーションパルス印加時の変調周波数ＳＳＧの符号、
及び傾斜磁場を制御することによりケミカルシフトによ
るサチュレーション領域と関心領域とのオーバラップを
防止することが可能となる。従って、プリサチュレーシ
ョン法を有効に実施することができるようになり、Ｓ／
Ｎ比の低下やアーチファクトの増大を防止することがで
きる。
ュレーションパルス印加時の変調周波数ＳＳＧの符号、
及び傾斜磁場を制御することによりケミカルシフトによ
るサチュレーション領域と関心領域とのオーバラップを
防止することが可能となる。従って、プリサチュレーシ
ョン法を有効に実施することができるようになり、Ｓ／
Ｎ比の低下やアーチファクトの増大を防止することがで
きる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プリサチュレーションパルス印加時の変調周波数，及び
傾斜磁場の符号，強度を制御することにより、核種の違
いにより発生するケミカルシフトによる関心領域とサチ
ュレーション領域とのオーバラップを防止することがで
きる。
プリサチュレーションパルス印加時の変調周波数，及び
傾斜磁場の符号，強度を制御することにより、核種の違
いにより発生するケミカルシフトによる関心領域とサチ
ュレーション領域とのオーバラップを防止することがで
きる。
【００３２】これにより、関心領域とサチュレーション
領域とのオーバラップに起因するＭＲ画像のＳ／Ｎ比の
低下やアーチファクトの発生を抑制することができ、解
像度の高いＭＲ画像を得ることができるようになる。
領域とのオーバラップに起因するＭＲ画像のＳ／Ｎ比の
低下やアーチファクトの発生を抑制することができ、解
像度の高いＭＲ画像を得ることができるようになる。
【図１】本発明に係るＭＲＩ装置の構成図である。
【図２】核種の違いによって発生するケミカルシフトの
説明図である。
説明図である。
【図３】スライス面の位置とサチュレーション領域のシ
フトを示す説明図である。
フトを示す説明図である。
【図４】面外サチュレーションのパルスシーケンスの第
１の例を示す図である。
１の例を示す図である。
【図５】面外サチュレーションのパルスシーケンスの第
２の例を示す図である。
２の例を示す図である。
【図６】面内サチュレーションを実施する際の関心領域
とサチュレーション領域を示す説明図である。
とサチュレーション領域を示す説明図である。
【図７】面内サチュレーションのパルスシーケンスの第
１の例を示す図である。
１の例を示す図である。
【図８】面内サチュレーションのパルスシーケンスの第
２の例を示す図である。
２の例を示す図である。
【図９】面外サチュレーションの説明図である。
【図１０】面内サチュレーションの説明図である。
【図１１】従来におけるプリサチュレーション法のパル
スシーケンス図である。
スシーケンス図である。
２，２５ スライス面
３ａ，３ｂ，３ｃ，２３，２４，３１ サチュレーショ
ン領域 ４ 血管 ２１ 水のスライス部分 ２２ 脂肪のスライス部分 ３３ 関心領域
ン領域 ４ 血管 ２１ 水のスライス部分 ２２ 脂肪のスライス部分 ３３ 関心領域
Claims (4)
- 【請求項１】 第１プレサチュレーション領域内の撮影
対象核種を飽和させるために第１高周波パルスと前記第
１高周波パルスと共に印加される第１傾斜磁場パルスと
を含むプレサチュレーション部を実行する手段と、 前記第１プレサチュレーション領域と異なる位置に設定
された撮影領域内の前記撮影対象核種を励起するために
第２高周波パルスと前記第２高周波パルスと共に印加さ
れる第２傾斜磁場パルスとを含む本シーケンス部を実行
する手段と、 前記本シーケンス部において検出された磁気共鳴信号に
基づいて磁気共鳴画像を生成する手段と、 前記撮影対象核種とは異なるケミカルシフトを有する撮
影非対象核種が、前記撮影対象核種が飽和する前記第１
プレサチュレーション領域よりも、前記撮影領域から遠
い位置において飽和するように、前記第１傾斜磁場パル
スの傾斜方向及び前記第１高周波パルスの変調周波数を
制御する手段と、を備えたことを特徴とするＭＲＩ装
置。 - 【請求項２】 前記撮影非対象核種が前記プレサチュレ
ーション部により飽和する領域は、前記撮影領域の外側
に位置することを特徴とする請求項１記載のＭＲＩ装
置。 - 【請求項３】 前記撮影非対象核種が前記プレサチュレ
ーション部により飽和する領域は、前記撮影領域と部分
的に重なることを特徴とする請求項１記載のＭＲＩ装
置。 - 【請求項４】 前記プレサチュレーション部には、前記
撮影領域を挟んで前記第１プレサチュレーション領域と
は反対側に位置する第２プレサチュレーション領域内の
撮影対象核種を飽和させるために第３高周波パルスと前
記第３高周波パルスと共に印加される第３傾斜磁場パル
スとが含まれ、 前記第３傾斜磁場パルスの傾斜方向は、前記第１傾斜磁
場パルスの傾斜方向と逆向きに設定されることを特徴と
する請求項１記載のＭＲＩ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18403593A JP3425190B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | Ｍｒｉ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18403593A JP3425190B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | Ｍｒｉ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0779940A JPH0779940A (ja) | 1995-03-28 |
| JP3425190B2 true JP3425190B2 (ja) | 2003-07-07 |
Family
ID=16146226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18403593A Expired - Fee Related JP3425190B2 (ja) | 1993-07-26 | 1993-07-26 | Ｍｒｉ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3425190B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015093222A1 (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-25 | 株式会社 日立メディコ | 磁気共鳴イメージング装置および磁気共鳴イメージング装置における撮像条件設定支援方法 |
-
1993
- 1993-07-26 JP JP18403593A patent/JP3425190B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015093222A1 (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-25 | 株式会社 日立メディコ | 磁気共鳴イメージング装置および磁気共鳴イメージング装置における撮像条件設定支援方法 |
| JPWO2015093222A1 (ja) * | 2013-12-16 | 2017-03-16 | 株式会社日立製作所 | 磁気共鳴イメージング装置および磁気共鳴イメージング装置における撮像条件設定支援方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0779940A (ja) | 1995-03-28 |
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Legal Events
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