JP3421477B2 - 半導体式ガスセンサ及び一酸化炭素ガスの検知方法 - Google Patents
半導体式ガスセンサ及び一酸化炭素ガスの検知方法Info
- Publication number
- JP3421477B2 JP3421477B2 JP16036095A JP16036095A JP3421477B2 JP 3421477 B2 JP3421477 B2 JP 3421477B2 JP 16036095 A JP16036095 A JP 16036095A JP 16036095 A JP16036095 A JP 16036095A JP 3421477 B2 JP3421477 B2 JP 3421477B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon monoxide
- gas
- sensor
- temperature
- monoxide gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Description
技術に関するものであり、さらに詳細には、原子価制御
された酸化スズ半導体を主成分とするセンサ感応部を備
えた半導体式ガスセンサ(例えば熱線型)を使用して一
酸化炭素ガスを検知する場合に使用できる半導体式ガス
センサ及びその検知方法に関する。
スの検知にあっては、一酸化炭素検知用に、酸化スズに
一酸化炭素ガス増感剤としてRu、Au、Pt、Pd、
Rh、Ag等の貴金属を添加したものが知られている。
これらのセンサでは、一酸化炭素ガス感度が150℃以
下、室温までの低温側で高く、また、H2 、エタノール
等の妨害ガスに対する感度が、逆に100℃以下におい
て低くなる。そのため一酸化炭素ガス選択性を得るため
に一酸化炭素ガスの検知温度を80〜130℃にして使
用される。しかし、このように素子温度が、100℃程
度の低温になると、吸着した一酸化炭素ガスが脱着しに
くいため、一旦素子温度を上昇させ脱着しなければなら
ず、そのためのパージが必要であった(特公昭53−4
3320号公報、特公昭58−30535号公報)。そ
れに対し、より高温で動作できる(250℃以上)酸化
スズ半導体一酸化炭素ガス検出用のセンサとして、酸化
スズにPt、Au、Pd等の貴金属を、上述のセンサよ
り少量(0.045重量%以下)添加したものが知られ
ている(特公平6−17884号)。このセンサにあっ
ては、一酸化炭素ガス感度のピークが250℃前後まで
上昇し、この温度より少し低い温度域(これが一酸化炭
素ガス検知温度)で一酸化炭素ガスを検知する。センサ
は、比較的高温の前記一酸化炭素ガス検知温度域におい
て、速い応答速度で、妨害ガスである水素(H2),メ
タン(CH4)さらには、イソブタン(i−C4H10)等
の炭化水素に対して、選択性を有して一酸化炭素ガスを
検知できる。
術で説明した前者のものでは、100℃前後の低温動作
であるため、一酸化炭素ガスの吸脱着が遅く、特に毒性
ガス警報器の基準である”CO50ppmで60%応答
1分以内”を満たすことが困難である。一方、後者のセ
ンサは、一酸化炭素ガスの吸脱着の起こりやすい250
℃程度の比較的高温で定常動作するため、前者の問題点
は解決できる。しかしながら、このセンサを常時250
℃で長期間動作していると、一酸化炭素ガスに対する感
度が不安定になり、特に高湿な場所で使用されると感度
劣化の傾向が強く見られてくる。そこで、250℃程度
で一酸化炭素ガスを検知でき、かつ、より高温である4
00〜500℃で高温パージができ、更に検知周期も1
分以内であるようなセンサが必要となってくる。このよ
うな状況から、後者のセンサを、高温パージを伴ったヒ
ートサイクルで動作させることが考えられるが、これを
従来型のセンサでおこなうと、一酸化炭素ガスの選択性
が得られなくなる。このことは、一酸化炭素検知温度よ
り高い温度範囲で一酸化炭素の選択性がない(H2 、イ
ソブタン感度が高い)ため、高温パージを行うと、その
高温部の感度が一酸化炭素検知温度においても現れてく
るためである。一例として、図6に示される感度特性を
持ったセンサ(酸化スズ半導体にパラジウムを0.01
mol%添加したもの)を所定のヒートサイクル(25
0℃、25secでガス検知、450℃、5secで高
温パージを交互に繰り返す)で使用した場合のセンサ感
度を図7に示した。この例では、高温域(300℃以
上)で、水素(H2),イソブタン(i−C4H10)感度
が高感度であるため、結果的に、一酸化炭素ガスの選択
性は得られない。このように、センサの長期感度安定を
目的として定期的にヒートクリーニングをおこなう場合
は、一酸化炭素ガスの選択性を確保するためには、比較
的高温の一酸化炭素ガス検知温度よりさらに高温の領域
においても一酸化炭素ガスの選択性がある必要がある。
しかしながら、従来、このような特性の半導体式ガスセ
ンサは得られていない。従って、本発明の目的は、一酸
化炭素ガスを長期的に安定して検出するために、たと
え、定期的な高温パージをおこなう場合にあっても、一
酸化炭素ガスを選択的に良好に検知することができるセ
ンサを得る、さらには、このセンサを使用して一酸化炭
素ガスを良好に検知できる方法を得ることにある。
の本発明による請求項1に係わる原子価制御された酸化
スズ半導体を主成分とするセンサ感応部を備えた半導体
式ガスセンサの第1の特徴構成は、前記酸化スズ半導体
に鉛(Pb)、ランタン(La)の酸化物及びパラジウ
ム(Pd)を添加したことにある。さらに、前記第1の
特徴構成を備えた半導体式ガスセンサにおいて、前記酸
化スズ半導体に対する添加物の割合が、前記鉛(Pb)
について0.05〜0.5mol%、前記ランタン(L
a)について0.5〜5mol%、前記パラジウム(P
d)について0.005〜0.05mol%であること
が好ましい。この構成が請求項2に係わる本願発明の第
2の特徴構成である。さらに、上記の目的を達成するた
めの請求項3に係わる一酸化炭素ガスの検知方法の特徴
手段は、原子価制御された酸化スズ半導体を主成分とす
るセンサ感応部を備えた半導体式ガスセンサを使用し、
前記センサ感応部の温度を、高温パージ用のパージ温度
と、一酸化炭素ガスを検知するための前記パージ温度よ
り低い一酸化炭素ガス検知温度とに交互に切替えて一酸
化炭素ガスを検知するに、前記半導体式ガスセンサとし
て、請求項1または請求項2に係わる一酸化炭素ガス検
知用の半導体式ガスセンサを使用し、前記パージ温度を
400〜500℃に、前記一酸化炭素ガス検知温度を2
00〜300℃に設定して検知することにある。そし
て、それらの作用・効果は次の通りである。
知用の半導体ガスセンサにあっては、酸化スズ半導体に
鉛、ランタン、パラジウムが添加される。ここで、酸化
スズ半導体に鉛及びパラジウムを添加すると、実施例で
詳述するように、メタン、イソブタン等の炭化水素に対
する一酸化炭素ガスの選択性を向上することができる。
さらに、上記両者を添加されたものに、ランタンを添加
することにより、水素に対する選択性も向上させること
ができる。しかも、妨害ガスに対する一酸化炭素ガスの
選択性の向上の効果は、図4に示すように、一酸化炭素
ガス検知温度域である200〜300℃近傍のみなら
ず、比較的高温で、センサに於いてそのパージ効果を期
待できる400℃前後の温度域にあっても、選択性があ
る程度確保できるようになる。従って、このような半導
体式センサにあっては、たとえ、定期的なパージ操作
(定期的にセンサを高温にする)をおこなった場合にあ
っても図5に示すようにその出力において、妨害ガスに
対する一酸化炭素ガスの選択性を維持できる。結果、長
期安定性に優れ、一酸化炭素ガスを安定的に検出できる
一酸化炭素ガス検知用の半導体式ガスセンサを得ること
ができた。さらに、本願第2の特徴構成を備えた一酸化
炭素ガス検知用の半導体ガスセンサにあっては、酸化ス
ズ半導体に対する各添加物の添加割合を、上記のように
適切に選択することにより、一酸化炭素ガスに対して5
倍の濃度を有する妨害ガスとしての水素、イソブタン
(これは炭化水素を代表できる)に対して、選択性を備
えて一酸化炭素ガスを検知できる。さらに、本願の一酸
化炭素ガスの検知方法を適用する場合は、本願第1、第
2の特徴構成を備えた一酸化炭素ガス検知用の半導体式
ガスセンサで、そのセンサ感応部の温度(実質上はセン
サ温度)を高温のパージ温度と低温の一酸化炭素ガス検
知温度とに切替えて検知をおこなう。このパージ温度に
センサを定期的に設定することにより、センサ内に蓄積
されて感度低下を招来するガス等のセンサからの脱離さ
れる。即ち、検知動作に於けるセンサ感応部の温度は、
一酸化炭素ガス検知温度である200〜300℃と、パ
ージ温度である400〜500℃とに、交互に切替えら
れる。これまで説明して来たように、この半導体式ガス
センサは、例えば、300℃以下の温度域で、他の妨害
ガスに対して一酸化炭素ガスの高い選択性を確保できる
ものであるとともに、温度上昇に伴って選択性は低下す
るものの、なお選択性を確保でき、なおかつ、400℃
前後にあっては、その高温パージ(ヒートクリーニン
グ)効果を得ることができる。従って、この方法にあっ
ては、一酸化炭素ガスの選択検知と高温パージを、その
好ましい温度域で良好におこなって、長期的に安定で、
且つ速い応答速度で検知をおこなうことができる。
酸化炭素ガス検知用の半導体式ガスセンサを使用するこ
とにより、さらには本願の一酸化炭素ガスの検知方法を
採用することにより、一酸化炭素ガスを長期的に安定し
て、速い応答速度で検知できるようになった。
センサ、一酸化炭素ガスの検知方法、ガス検知装置を以
下、図面に基づいて説明する。ガス検知装置1は、本願
独特の構成の半導体式ガスセンサ2(具体的には熱線
型)を備え、本願の一酸化炭素ガスの検知方法を使用し
て、一酸化炭素ガスを検知する。図1に熱線型半導体式
ガスセンサの構成を、図2に本願のガス検知装置の検知
回路のブロック構成を、さらに、図3に本願のセンサが
動作時に受ける熱披瀝を示した。 1 一酸化炭素ガス検知用の半導体式ガスセンサの構成 図1に、本願のガス検知装置1に採用される所謂、熱線
型半導体式ガスセンサ2の構成が示されている。この熱
線型半導体式ガスセンサ2は、主として酸化スズ半導体
よりなるセンサ感応部3と、このセンサ感応部3内に備
えられる白金等の貴金属線(合金線であってもよい)で
あるコイル抵抗体4を備えて構成されており、ガス吸着
による酸化物半導体の抵抗値変化を、コイル両端におい
てコイル抵抗体4と酸化物半導体との合成抵抗の変化と
して検知する。センサの概略構造は以上のとおりである
が、前述のセンサ感応部3を構成する酸化スズ半導体に
は、鉛(Pb)、ランタン(La)の酸化物及びパラジ
ウム(Pd)が添加されている。そして、各添加物の添
加割合は、酸化スズ半導体に対する割合が、鉛(Pb)
について0.05〜0.5mol%、ランタン(La)
について0.5〜5mol%、パラジウム(Pd)につ
いて0.005〜0.05mol%に設定されている。
センサの製作 熱線型半導体式ガスセンサ2の製作は以下の工程を経て
行われる。 1 四塩化スズを用い、一定濃度の水溶液を調整する。
この水溶液にアンモニア水を滴下して得た水酸化スズの
沈殿物を乾燥後、電気炉(図外)で650℃で2時間焼
成して酸化スズを得る。これを粉砕して微粉末とし水で
練ってペースト状とし、白金コイル(コイル抵抗体4の
一実施例)へ付着させ、焼結する。 2 添加物としての鉛、ランタン、パラジウムについて
は、これらの水溶性の塩(例えば硝酸塩)の水溶液を、
前述の酸化スズに対して、鉛においては、0.05〜
0.5mol%、ランタンにおいて0.5〜5mol
%、パラジウムにおいて0.005〜0.05mol%
になるように調整して、それぞれ1種づつ又は混合液を
焼結体に含浸する。更に、これを乾燥後600℃で1時
間加熱し、センサを得る。
2)内の一抵抗として、この熱線型半導体式ガスセンサ
2を組み込んで、その合成抵抗値の変化を検出してガス
の検知をおこなう。ガス検知装置1の検出系10のブロ
ック構成を図2に示した。この系10は、マイコン回路
部11(この部位にはセンサ電源制御部11aとセンサ
警報発生部11bが備えられている)、センサ用Hi/
Lo切替え電源回路部12及び検出回路部13とを備え
ている。センサ電源制御部11aとセンサ用Hi/Lo
切替え電源回路部12により、熱線型半導体ガスセンサ
2に印加される電圧が切替え制御され、センサ感応部3
の温度(具体的にはセンサ温度)が、前述の一酸化炭素
ガス検知温度とパージ温度との間で切替えられる。系に
備えられる抵抗R1、R2、R3は、検知ガスに対して
適切に選択される。即ち、ガス検知装置1は、熱線型半
導体ガスセンサ2に対して、コイル抵抗体4に掛かる電
圧(電流)を制御することにより、センサ感応部3の温
度を、一酸化炭素ガスを検知するための一酸化炭素ガス
検知温度と、この一酸化炭素ガス検知温度に対して高
く、且つ、高温パージを行えるパージ温度とに交互に切
替える切替え手段(印加電圧切替え手段)を備えてい
る。図3に、センサに於ける温度切替え状況を示した。
この例の場合は、前述の一酸化炭素ガス検知温度が25
0℃とされ、この検知時間が25secとされている。
さらに、この工程に引き続いて、センサはパージされ
る。ここで、パージ温度は450℃であり、パージ時間
は5secである。そして、検知工程とパージ工程が交
互に繰り返される。このようにして高温パージを伴いな
がら、一酸化炭素ガスが検知できる。
添加物の添加量との関係を含めて説明する。
して、酸化スズ半導体に対する各添加物の添加割合が、
鉛について0.2mol%、ランタンについて1.5m
ol%、パラジウムについて0.02mol%のものを
とって説明する。
タンガス(各500ppm)に対するセンサ感度を示し
た。図4からも明らかなように、一酸化炭素ガスに対す
る感度は250℃付近で最も高く、それ以上の温度域に
おいては次第に低下している。一方他のガス(これらは
妨害ガスとなる)は、200〜400℃において一酸化
炭素ガスに比べ感度は低く、一酸化炭素ガスの選択性が
高温側、低温側共に確保されている。これは、図6に示
す従来型のものとの大きな差異である。
温度を450℃、パージ時間を5秒とした場合のガス濃
度とガス感度の関係を示す。図示されるように一酸化炭
素ガスに対して高感度、高選択性の非常に良好なセンサ
が得られている。ここで、検知周期は、30秒程度と短
く、従来のものにくらべても検知時間は、大差ない。さ
らに、図7に示す従来型のセンサの特性と比較すると、
一酸化炭素ガスの選択検知において、大きな差がある。
即ち、従来型のものでは、一酸化炭素ガスの選択検知は
不可能である。
する。ガスの感度、感度比を表1に示すように定義す
る。
a Va:清浄空気中での出力電圧 Vg:ガス(CO)中での出力電圧 感度比CO/H2 =CO100ppmの感度/H
2 500ppmの感度 感度比CO/i−C4H10=CO100ppmの感度/
i−C4H10500ppmの感度
濃度が検知対象ガス濃度(一酸化炭素ガス濃度)に対し
て5倍ある場合にあっても、これを同等程度の感度で検
知できることを意味し、このような感度比を確保できれ
ば、充分な選択性が確保できることを意味する。
る感度変化 酸化スズ半導体に対して、鉛を0、0.01、0.0
5、0.1、0.5、1mol%、パラジウムを0、
0.001、0.005、0.01、0.05、0.1
mol%、夫々、添加した場合の水素ガス及びイソブタ
ンガスに対する一酸化炭素ガスの感度比の変化状況を表
2に示した。
ブタンガス(炭化水素ガスの代表とみなすことができ
る)に対する選択性が得られるようになっていることが
判る。鉛の添加範囲としては、0.05〜0.5mol
%が好ましく、パラジウムの添加範囲としては、0.0
05〜0.05mol%が好ましい。
添加したものに対して、ランタンを添加する場合のセン
サの感度特性を表3に示した。この表にあっては、鉛及
びパラジウムの添加範囲として好ましい上述の範囲と、
最適添加量として鉛を0.02mol%、パラジウムを
0.2mol%添加したものとを検討対象とした。一
方、ランタンに対しては、その添加範囲として、0、
0.1、0.5、1.0、5.0、10mol%のもの
を検討対象とした。妨害ガスとしては、水素とイソブタ
ンを検討した。結果を表3に示した。
てのイソブタンガスに対して共に、選択性が得られてい
ることがわかる。ここで、ランタンの添加割合として
は、0.5〜5.0が好ましいことが判る。
ス検知装置に採用すべき検知素子として熱線型半導体式
のガスセンサを採用したが、これは、基板型等任意の構
成が採用できる。
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
す模式図
示す図
す図
示す図
す図
Claims (3)
- 【請求項1】 原子価制御された酸化スズ半導体を主成
分とするセンサ感応部(3)を備えた半導体式ガスセン
サであって、前記酸化スズ半導体に鉛(Pb)、ランタ
ン(La)の酸化物及びパラジウム(Pd)を添加した
一酸化炭素ガス検知用の半導体式ガスセンサ。 - 【請求項2】 前記酸化スズ半導体に対する添加物の割
合が、前記鉛(Pb)について0.05〜0.5mol
%、前記ランタン(La)について0.5〜5mol
%、前記パラジウム(Pd)について0.005〜0.
05mol%である請求項1記載の一酸化炭素ガス検知
用の半導体式ガスセンサ。 - 【請求項3】 原子価制御された酸化スズ半導体を主成
分とするセンサ感応部(3)を備えた半導体式ガスセン
サを使用し、前記センサ感応部(3)の温度を、高温パ
ージ用のパージ温度と、一酸化炭素ガスを検知するため
の前記パージ温度より低い一酸化炭素ガス検知温度とに
交互に切替えて一酸化炭素ガスを検知するに、前記半導
体式ガスセンサとして、請求項1または請求項2に記載
される一酸化炭素ガス検知用の半導体式ガスセンサを使
用し、前記パージ温度を400〜500℃に、前記一酸
化炭素ガス検知温度を200〜300℃に設定して検知
する一酸化炭素ガスの検知方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16036095A JP3421477B2 (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 半導体式ガスセンサ及び一酸化炭素ガスの検知方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16036095A JP3421477B2 (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 半導体式ガスセンサ及び一酸化炭素ガスの検知方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0915182A JPH0915182A (ja) | 1997-01-17 |
JP3421477B2 true JP3421477B2 (ja) | 2003-06-30 |
Family
ID=15713298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16036095A Expired - Fee Related JP3421477B2 (ja) | 1995-06-27 | 1995-06-27 | 半導体式ガスセンサ及び一酸化炭素ガスの検知方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3421477B2 (ja) |
-
1995
- 1995-06-27 JP JP16036095A patent/JP3421477B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0915182A (ja) | 1997-01-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3146111B2 (ja) | ガスの検知方法及びガス検知装置 | |
JP2702279B2 (ja) | ガス検知素子 | |
EP0772042B1 (en) | Hydrocarbon sensor | |
JPH09503587A (ja) | 窒素酸化物を検出するためのセンサー | |
EP0059557A2 (en) | Method and apparatus for measuring the concentration of gases | |
JPH11501710A (ja) | 酸素センサを用いて触媒の機能性を検査する方法 | |
JP3795944B2 (ja) | 半導体式ガスセンサの製造方法 | |
JP3421477B2 (ja) | 半導体式ガスセンサ及び一酸化炭素ガスの検知方法 | |
JP4497676B2 (ja) | ガス検知装置及びその運転方法 | |
JP4010738B2 (ja) | ガスセンサ及びガス検出器及びガス検出方法 | |
JP3171734B2 (ja) | 一酸化炭素ガス検知素子 | |
JPH0225456B2 (ja) | ||
JP3897459B2 (ja) | ガス濃度検知方法及び装置 | |
JP3933500B2 (ja) | 半導体式ガス検知素子 | |
Sukhdev et al. | Modeling the Effect of Additives on Metal Oxide Chemiresistor Gas Sensors | |
TW202011020A (zh) | 氣體偵測裝置 | |
JP3115955B2 (ja) | 酸化窒素ガスセンサ | |
JP4129253B2 (ja) | 半導体ガスセンサ | |
JP5903353B2 (ja) | ガス検出装置 | |
JP3371358B2 (ja) | 酸素ガス・一酸化炭素ガスセンサ、酸素・一酸化炭素測定装置及び酸素・一酸化炭素測定方法 | |
TWI295371B (en) | Stabilization method for signal of resistive oxygen sensor using cerium oxide | |
JPH07218461A (ja) | ガスセンサーの駆動方法及びそれを用いたガスの検知方法 | |
JPH11271255A (ja) | 半導体ガスセンサ | |
JP3669807B2 (ja) | 一酸化炭素検出センサー | |
JP3549322B2 (ja) | ガス検知方法及びガス検知装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080418 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090418 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100418 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110418 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110418 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120418 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120418 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130418 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130418 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140418 Year of fee payment: 11 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |