JP3415730B2 - Gaseous impurity treatment system and particle removal filter - Google Patents
Gaseous impurity treatment system and particle removal filterInfo
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Landscapes
- Filtering Materials (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子（ＬＳ
Ｉ）や液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などを製造するクリ
ーンルームの雰囲気中に含まれるガス状不純物を除去す
る技術に関する。The present invention relates to a semiconductor device (LS)
The present invention relates to a technique for removing gaseous impurities contained in an atmosphere of a clean room for manufacturing I) and a liquid crystal display (LCD).
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＬＳＩやＬＣＤ製造工程における歩留ま
り及び信頼性を向上させた製造技術の一つに、いわゆる
ＨＥＰＡフィルタ（Ｈｉｇｈ Ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ
Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ Ａｉｒ Ｆｉｌｔｅｒ）やＵ
ＬＰＡフィルタ（ＵｌｔｒａＬｏｗ Ｐｅｎｅｔｒａｔ
ｉｏｎ Ａｉｒ Ｆｉｌｔｅｒ）と称される微粒子除去
用フィルタがある。これらのフィルタ技術は、製造プロ
セスのクリーン化に多いに貢献してきた。ＨＥＰＡフィ
ルタが保証している公称の捕捉粒径サイズは現在０．０
５μｍであるが、実際にはナノメータ（μｍの千分の一
の単位）サイズの微粒子もほとんど全て除去可能であ
る。つまり、微粒子除去用フィルタは既に完成された技
術と言っても良い。2. Description of the Related Art A so-called HEPA filter (High Efficiency) is one of manufacturing techniques for improving the yield and reliability in LSI and LCD manufacturing processes.
Particulate Air Filter) or U
LPA filter (UltraLow Penetrat)
There is a filter for removing fine particles called an ion air filter. These filter technologies have greatly contributed to clean manufacturing processes. The nominal trapped particle size guaranteed by the HEPA filter is currently 0.0
Although it is 5 μm, practically, almost all fine particles of nanometer (thousandths of μm) size can be removed. That is, the filter for removing fine particles may be said to be an already completed technology.
【０００３】近年量産体制に入った高集積半導体素子
は、１６Ｍ−ＤＲＡＭに代表されるように、配線サイズ
０．５μｍ、ゲート酸化膜厚１０ｎｍの微細構造であ
る。かかる高集積半導体素子の製造工程においても、も
ちろん微粒子は製品不良を起こす汚染源として問題にな
っている。しかし、上記のようなＨＥＰＡフィルタやＵ
ＬＰＡフィルタを透過してクリーンルームに供給される
空気中には汚染源となり得る微粒子はほとんど存在しな
い。従って、クリーンルーム内に存在する微粒子は、ク
リーンルームの内部にあるロボットやオペレータや製造
装置からの発塵によって生じたものであると考えられ
る。A highly integrated semiconductor device which has recently entered mass production has a fine structure with a wiring size of 0.5 μm and a gate oxide film thickness of 10 nm, as typified by a 16M-DRAM. In the manufacturing process of such a highly integrated semiconductor device, the fine particles are of course a problem as a contamination source that causes a product defect. However, the HEPA filter and U
There are almost no particulates that can be a source of contamination in the air that passes through the LPA filter and is supplied to the clean room. Therefore, it is considered that the fine particles existing in the clean room are generated by dust generation from a robot, an operator, or a manufacturing device inside the clean room.
【０００４】また、配線サイズがサブミクロン以下の高
集積半導体素子の製造工程においては、微粒子よりもさ
らに小さいガス状不純物が製品の清浄表面に付着して、
素子の電気特性ニーズやドライエッチングの選択性やＣ
ＶＤの多層膜の接着性などに影響し始めている。ガス状
不純物は、ＨＥＰＡフィルタで除去不可能なオングスト
ロームからｎｍ（１ｎｍ＝１０オングストローム）程度
の大きさを有する原子／分子状、イオン状物質である。
ガス状不純物汚染の性状は粒子汚染と比較すると、物理
的な現象である吸着・脱着、界面現象や化学反応的現象
などがより活性であることが知られている。クリーンル
ーム雰囲気内に存在することが知られているガス状不純
物及びその発生原因を示せば次の通りである。In the process of manufacturing a highly integrated semiconductor device having a wiring size of submicron or less, gaseous impurities smaller than fine particles adhere to a clean surface of a product.
Needs of electrical characteristics of device, selectivity of dry etching and C
It is beginning to affect the adhesiveness of the multilayer film of VD. The gaseous impurities are atomic / molecular or ionic substances having a size of about Å to nm (1 nm = 10 Å) which cannot be removed by the HEPA filter.
It is known that the properties of gaseous impurity contamination are more active in physical phenomena such as adsorption / desorption, interface phenomena, and chemical reaction phenomena, as compared with particle contamination. The following is a list of gaseous impurities known to be present in the atmosphere of the clean room and their causes.
【０００５】（１）製造装置類、排気系などから漏洩し
たガス状不純物
Ｆ-、Ｃｌ-、ＳＯ4 2-、ＮＯ2 -、ＮＯ3 -、ＰＯ4 3-、有機
溶剤など
（２）取り入れ外気に由来するガス状不純物
ＮＯｘ- 、ＳＯｘ2- 、Ｃｌ-、有機物など
（３）オペレータなどに由来するガス状不純物
ＮＨ4 +、Ｃｌ-、Ｎａ+、Ｋ+、有機物など
（４）カセット治具やウェハ収納部材などからの揮発性
不純物
Ｆ-、有機物など
（５）構造物や装置の材質に由来する揮発性不純物
ホウ素化合物、有機リン化合物など(1) Gaseous impurities F − , Cl −, SO 4 2− , NO 2 − , NO 3 − , PO 4 3− , and organic solvents leaked from manufacturing equipment, exhaust systems, etc. gaseous impurities NOx derived from ambient air -, SOx 2-, Cl -, organic, etc. (3) gaseous impurities NH 4 derived from such an operator +, Cl -, Na +, K +, organic matter, etc. (4) cassette Osamu volatile impurities F from such ingredients and wafer receiving member -, organics, etc. (5) structures and devices volatile impurities boron compounds from the material of the organic phosphorus compound such as
【０００６】かかるガス状不純物を除去するための装置
として、いわゆるケミカルフィルタが知られている。大
部分のケミカルフィルタは、活性炭をベースとするもの
で、有機性ガスについてはそのまま物理吸着して除去す
ることができる。これに対して、酸系ガス、アルカリ系
ガス、イオウ系ガスに対しては、種々の添着物質を活性
炭表面に付加することで、中和反応による化学吸着で除
去することができる。A so-called chemical filter is known as an apparatus for removing such gaseous impurities. Most chemical filters are based on activated carbon, and organic gases can be removed by physical adsorption as it is. On the other hand, an acid-based gas, an alkali-based gas, and a sulfur-based gas can be removed by chemical adsorption by a neutralization reaction by adding various impregnating substances to the activated carbon surface.
【０００７】これらのケミカルフィルタは、通常中性能
エアフィルタ、ＨＥＰＡまたはＵＬＰＡと称される高性
能フィルタの前段（上流側）に取り付ける形で使用され
る。この理由は、ケミカルフィルタの吸着濾材に活性炭
を使用しているためで、活性炭は自身が破砕した粒子状
の汚染物を発生するためである。しかし、ｐｐｂオーダ
の低濃度のガス状不純物を問題とした場合、中性能エア
フィルタや高性能フィルタの濾材（例えば、不織布、バ
インダなど）そのものや、濾材を固着するために用いる
シール材（例えば、ネオプレンゴムやシリコンゴムな
ど）や接着剤（例えば、ネオプレン系樹脂、ウレタン系
樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂など）などから
脱離するガス状不純物がクリーンルーム中に浮遊し、デ
バイスに悪影響を与える可能性がある。なお、本明細書
においては、中性能エアフィルタを単に中性能フィル
タ、ＨＥＰＡまたはＵＬＰＡフィルタのことを高性能フ
ィルタと称する。[0007] These chemical filters are used in a form attached to the upstream (upstream side) of a high-performance filter usually called a medium-performance air filter, HEPA or ULPA. The reason for this is that activated carbon is used as the adsorbing filter medium of the chemical filter, and the activated carbon itself generates crushed particulate contaminants. However, when gaseous impurities having a low concentration on the order of ppb are considered, a filter material (for example, a nonwoven fabric or a binder) of a medium-performance air filter or a high-performance filter itself, or a sealing material used for fixing the filter material (for example, Gaseous impurities that desorb from neoprene rubber, silicone rubber, etc. or adhesives (eg, neoprene resin, urethane resin, epoxy resin, silicon resin, etc.) float in the clean room and adversely affect devices. there is a possibility. In this specification, the medium performance air filter is simply referred to as a medium performance filter, and the HEPA or ULPA filter is referred to as a high performance filter.
【０００８】また、接触触媒燃焼法を利用したガス状不
純物の除去装置も知られている。このガス状不純物除去
装置は、加熱された処理空気を白金やパラジウムなどの
貴金属触媒や銅、マンガン、クロム、ニッケル、鉄など
の酸化物触媒と接触させる、いわゆる接触触媒法によ
り、処理空気中に含まれるガス状有機不純物を製品に無
害な炭酸ガスと水に分解するものである。しかし、かか
る装置でも、触媒燃焼筒の内部の触媒から微粒子が発生
するおそれがあり、下流側に高性能フィルタを取り付け
ることは必須である。また、この場合にも、ケミカルフ
ィルタの場合と同様に、ガス状不純物除去装置下流側の
高性能フィルタの構成部材にガス状不純物を発生する素
材が利用されていると、脱離したガス状不純物がクリー
ンルーム中に浮遊し、デバイスに悪影響を与える可能性
がある。There is also known an apparatus for removing gaseous impurities using a catalytic catalytic combustion method. This gaseous impurity removal device uses a so-called contact catalytic method that brings heated process air into contact with a noble metal catalyst such as platinum or palladium or an oxide catalyst such as copper, manganese, chromium, nickel, or iron. It decomposes gaseous organic impurities contained into carbon dioxide and water that are harmless to products. However, even in such an apparatus, there is a possibility that fine particles may be generated from the catalyst inside the catalytic combustion cylinder, and it is essential to attach a high-performance filter on the downstream side. Also, in this case, as in the case of the chemical filter, if a material that generates gaseous impurities is used for the components of the high-performance filter on the downstream side of the gaseous impurity removal device, the desorbed gaseous impurities may be used. Can float in the clean room and adversely affect the device.
【０００９】さらに、流動層吸着塔を利用したガス状不
純物の除去装置も知られている。この流動層吸着塔は、
多段に積層された多孔板上に粒状活性炭などの吸着濾材
による流動層を形成し、この流動層を各段ごとに流動移
動させながら順次下段に落下させるように構成されてい
る。この間、処理空気を上向き流として、各段において
吸着濾材の流動層と均一に接触させ、処理空気中のガス
状不純物を吸着させる。浄化された空気は吸着塔の上部
から放出される。また吸着塔底部に到達した吸着濾材
は、気流搬送器によって吸着塔の最上段に戻され、再び
落下する。このような流動吸着塔において、流動状態に
ある吸着濾材は、互いに擦れ合うことで夥しいミクロン
サイズの微粒子を発生する。このような微粒子をＨＥＰ
ＡやＵＬＰＡと称される高性能フィルタで除去しようと
すると、僅かな期間で目詰まりを起こしてしまう。そこ
で、まず中性能フィルタでミクロンサイズの濾材摩耗粒
子を除去し、中性能フィルタで除去できなかった僅かの
サブミクロンサイズの微粒子はさらに下流側に設けた高
性能フィルタで除去している。従って、この場合にも、
ガス状不純物除去装置下流側の中性能フィルタまたは高
性能フィルタの構成部材に先に示したようなガス状不純
物を発生する素材が利用されていると、脱離したガスが
クリーンルーム中に浮遊し、デバイスに悪影響を与える
可能性がある。[0009] Further, an apparatus for removing gaseous impurities using a fluidized bed adsorption tower is also known. This fluidized bed adsorption tower,
A fluidized bed made of an adsorption filter medium such as granular activated carbon is formed on a multi-layered perforated plate, and the fluidized bed is configured to be successively dropped to a lower stage while flowing and moving in each stage. During this time, the treated air is made to flow upward, and is brought into uniform contact with the fluidized bed of the adsorption filter medium at each stage to adsorb gaseous impurities in the treated air. The purified air is discharged from the upper part of the adsorption tower. In addition, the adsorption filter medium that has reached the bottom of the adsorption tower is returned to the uppermost stage of the adsorption tower by the airflow carrier, and falls again. In such a fluidized adsorption tower, the adsorbed filter media in a fluidized state generate numerous micron-sized fine particles by rubbing each other. Such fine particles are HEP
Attempts to remove with a high performance filter called A or ULPA will cause clogging in a short period of time. Therefore, first, micron-sized filter medium wear particles are removed by a medium-performance filter, and a small amount of submicron-sized particles that cannot be removed by the medium-performance filter are removed by a high-performance filter provided further downstream. Therefore, also in this case,
If the material that generates gaseous impurities as described above is used for the components of the medium-performance filter or high-performance filter downstream of the gaseous impurity removal device, the desorbed gas floats in the clean room, Devices can be adversely affected.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来のガス状不純物の除去装置が有する問題点に鑑み
てなされたものであり、フィルタ自身がガス状不純物汚
染の原因となることを防止するとともに、フィルタの寿
命を延長することが可能な新規かつ改良されたクリーン
ルーム雰囲気中のガス状不純物の除去装置を提供するこ
とである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the conventional apparatus for removing gaseous impurities, and the filter itself causes gaseous impurity contamination. It is an object of the present invention to provide a new and improved apparatus for removing gaseous impurities in a clean room atmosphere, which can prevent the occurrence of air pollution and extend the life of the filter.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第１の観点によれば、気相中に含まれるガ
ス状不純物を除去して清浄空気を生成するガス状不純物
処理システムが提供される。そして、そのガス状不純物
処理システムは、未処理空気中に含まれるガス状不純物
は除去するが、それ自体が処理済空気中に粒子状不純物
を発生するガス状不純物除去手段と、そのガス状不純物
除去手段の下流側に配され、ガス状不純物を発生しない
素材のみから構成される高性能フィルタ、または中性能
フィルタと高性能フィルタからなるフィルタ手段とから
構成される。According to a first aspect of the present invention, a gaseous impurity treatment for removing gaseous impurities contained in a gas phase to generate clean air is provided. A system is provided. Then, the gaseous impurity treatment system removes gaseous impurities contained in the untreated air, but itself generates gaseous impurities in the treated air, and the gaseous impurity removal means. High-performance filter consisting only of materials that do not generate gaseous impurities, located downstream of the removal means , or medium-performance
It comprises a filter and a filter means comprising a high-performance filter .
【００１２】ガス状不純物除去手段としては、気相中に
含まれるガス状不純物を高性能に除去することができる
吸着濾材や流動層吸着塔、あるいは接触触媒燃焼筒のよ
うにガス状有機不純物を製品に無害な炭酸ガスと水に分
解するものを使用することができる。いずれのガス状不
純物除去手段でも吸着材や触媒から粒子状不純物を発生
するものである。従って、それらの下流側にはガス状不
純物を発生しない素材のみから構成される粒子状不純物
を除去するフィルタ手段を設けなければならない。As the gaseous impurity removing means, gaseous organic impurities such as an adsorption filter medium, a fluidized bed adsorption tower, or a catalytic catalytic combustion tube capable of removing gaseous impurities contained in a gas phase with high performance can be used. Products that decompose into carbon dioxide and water that are harmless to products can be used. Any of the gaseous impurity removing means generates particulate impurities from the adsorbent or the catalyst. Therefore, a filter means for removing particulate impurities composed only of a material that does not generate gaseous impurities must be provided downstream of them.
【００１３】なお、ガス状不純物除去手段の下流側に、
ガス状不純物を発生しない素材のみから構成される粒子
状不純物を除去するバックアップ用フィルタ手段を、上
記フィルタ手段に対して並列にかつ選択的に切り換え可
能に接続することもできる。かかる構成によれば、目詰
まりを起こしたフィルタ手段を交換する際に、空気経路
をバックアップ用フィルタ手段に切り換えることで、シ
ステムの運転を中断する必要がない。[0013] In addition, on the downstream side of the gaseous impurity removing means,
Backup filter means for removing particulate impurities composed only of a material which does not generate gaseous impurities may be connected to the filter means in parallel and selectively switchable. According to such a configuration, when replacing the clogged filter means, the operation of the system does not need to be interrupted by switching the air path to the backup filter means.
【００１４】ガス状不純物除去手段の下流に配置される
ガス状不純物を発生しないフィルタ手段として、例え
ば、ＨＥＰＡフィルタまたはＵＬＰＡフィルタと称され
る粒径が０．３μｍの大きさの微粒子を９９．９７％以
上捕集できる高性能フィルタを使用することができる。
また、その高性能フィルタの上流側に、中性能エアフィ
ルタとも称される粒径が０．３μｍまたは０．３μｍ以
上の大きさの微粒子を９９．９７％未満で捕集できる中
性能フィルタを配しても良い。その中性能フィルタに
は、捕捉された微粒子を払い落として再生するフィルタ
再生手段、例えば、捕捉された微粒子を機械的振動また
は逆洗ガス気流により払い落とすものを設けても良い。
ガス状不純物を発生しない素材（例えば、金属、セラミ
ックス、ガラス繊維など）のみから構成されるフィルタ
手段は、例えば、金属製フレーム要素とガラス繊維製フ
ィルタ要素のみから、あるいは、金属製フレーム要素と
金属製フィルタ要素のみから構成することができる。ま
たフィルタ手段の取り付けにあたっては、ガス状不純物
を発生しない無機素材パッキンやフッ素樹脂パッキンを
用いることが好ましい。また有機系の樹脂であっても、
加熱処理により揮発性成分を除去し、表面汚染に関与す
る脱ガスが生じないように処理が施されたものであれば
用いることができる。As a filter means which is disposed downstream of the gaseous impurity removing means and which does not generate gaseous impurities, for example, fine particles having a particle diameter of 0.3 μm called a HEPA filter or an ULPA filter are 99.97. % High performance filter can be used.
In addition, a medium-performance filter, which is also called a medium-performance air filter and can collect fine particles having a particle diameter of 0.3 μm or 0.3 μm or more at less than 99.97%, is disposed upstream of the high-performance filter. You may. The medium-performance filter may be provided with a filter regenerating means for removing and regenerating the captured fine particles, for example, a filter for removing the captured fine particles by mechanical vibration or a backwash gas stream.
The filter means composed only of a material that does not generate gaseous impurities (for example, metal, ceramics, glass fiber, etc.) is, for example, composed of only a metal frame element and a glass fiber filter element, or a metal frame element and a metal fiber element. It can be constituted only by the filter element made of the material. When the filter means is attached, it is preferable to use an inorganic material packing or a fluororesin packing which does not generate gaseous impurities. Also, even if it is an organic resin,
Any substance can be used as long as it has been subjected to a heat treatment to remove volatile components and to be treated so as to prevent degassing relating to surface contamination.
【００１５】[0015]
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら、
本発明にかかるガス状不純物の処理システム及びそのシ
ステムに実装される粒子除去フィルタの好適な実施の形
態について詳細に説明する。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
A preferred embodiment of a gaseous impurity treatment system and a particle removal filter mounted on the system according to the present invention will be described in detail.
【００１７】図１には、本発明にかかるガス状不純物処
理システムの実施の第１の形態が示されている。図示の
ように、本システム１００は、ケーシング１０２内に、
その上流側にはガス状不純物の吸着濾材１１０として、
活性炭繊維をベースとした３種のケミカルフィルタ、す
なわち酸性ガス処理用フィルタ１１２、アルカリ性ガス
処理用フィルタ１１４、有機系ガス処理用フィルタ１１
６を３層重ね、その下流側に、高性能フィルタ１２０を
取り付けたものである。図中１０４は送風機を内蔵した
ファンモジュールであって、ケーシング１０２の上流側
に取り付けられ、吸着濾材１１０と高性能フィルタ１２
０に未処理空気を送風する役割を果たす。高性能フィル
タ１２０は、後述するように、金属またはセラミックス
のいずれか一方、または両方の素材で構成されるフレー
ム要素とフィルタ要素のみから構成されるもので、それ
自体からガス状不純物を発生しない素材から構成される
か、あるいは有機系樹脂のように揮発性成分を含むもの
であっても、加熱処理などにより脱ガスが生じないよう
に処理されたものである。なお図示の例では、高性能フ
ィルタ１２０のみを設置しているが、その上流側に中性
能フィルタを設置しても良い。また、後述するように、
その中性能フィルタに再生装置を設けてフィルタの交換
寿命を延長させても良い。なお高性能フィルタ１２０を
ケーシング１０２に取り付ける際には、有機物ガスの発
生のないシール部材、例えば無機素材パッキンやテフロ
ンなどのフッ素樹脂パッキンを使用することが好まし
い。また、有機系樹脂であっても、加熱処理により揮発
性成分を除去したものであれば、表面汚染に関与するガ
ス状不純物を発生しないので使用することができる。FIG. 1 shows a first embodiment of a gaseous impurity treatment system according to the present invention. As shown, the system 100 includes a casing 102,
On the upstream side, as a gaseous impurity adsorption filter medium 110,
Three types of chemical filters based on activated carbon fiber, namely, a filter 112 for treating an acidic gas, a filter 114 for treating an alkaline gas, and a filter 11 for treating an organic gas.
6 are stacked in three layers, and a high-performance filter 120 is attached on the downstream side. In the drawing, reference numeral 104 denotes a fan module having a built-in blower, which is mounted on the upstream side of the casing 102, and which has an adsorbing filter medium 110 and a high-performance filter
It plays the role of blowing untreated air to zero. As described later, the high-performance filter 120 is composed of only a frame element and a filter element made of one or both of metal and ceramics, and is made of a material that does not generate gaseous impurities from itself. Or a material containing a volatile component such as an organic resin, which has been subjected to heat treatment or the like to prevent degassing. Although only the high-performance filter 120 is installed in the illustrated example, a medium-performance filter may be installed on the upstream side. Also, as described below,
A regeneration device may be provided in the medium performance filter to extend the replacement life of the filter. When attaching the high-performance filter 120 to the casing 102, it is preferable to use a seal member that does not generate an organic substance gas, for example, an inorganic material packing or a fluororesin packing such as Teflon. In addition, even if an organic resin is obtained by removing volatile components by heat treatment, it can be used because it does not generate gaseous impurities related to surface contamination.
【００１８】さて、すでに説明したように、システムの
上流側に設置されるケミカルフィルタの吸着濾材１１０
は活性炭をベースとしており、活性炭自身が破砕した粒
子状の汚染物を発生する汚染源となり得る。すなわち、
吸着濾材１１０は未処理空気中に含まれるガス状不純物
は除去するが、それ自体が粒子状不純物の発生源となり
得る。そこでその下流側には粒子状不純物を除去するフ
ィルタ手段が必要になる。従来のＨＥＰＡフィルタやＵ
ＬＰＡフィルタの高性能フィルタでは、これらのフィル
タ自体を構成する濾材、シール材、接着剤などからガス
状不純物が発生する。ガス状不純物除去後の処理済み空
気は、これらのフィルタを通気する際に、粒子状不純物
は完全に除去できたとしても、ガス状不純物によって再
度汚染されてしまう。しかし、本発明の形態によれば、
吸着濾材１１０の下流側にガス状不純物を発生しない高
性能フィルタ１２０が設置されるので、ガス状不純物を
含まないクリーンエアを供給することができる。As described above, the adsorbing filter material 110 of the chemical filter installed on the upstream side of the system is used.
Is based on activated carbon, which itself can be a source of pollutants that generate crushed particulate contaminants. That is,
The adsorption filter medium 110 removes gaseous impurities contained in the untreated air, but can itself be a source of particulate impurities. Therefore, a filter means for removing particulate impurities is required on the downstream side. Conventional HEPA filter or U
In a high-performance LPA filter, gaseous impurities are generated from a filter medium, a sealing material, an adhesive, and the like that constitute the filter itself. The treated air from which the gaseous impurities have been removed is contaminated again by the gaseous impurities, even if the particulate impurities can be completely removed when passing through these filters. However, according to an embodiment of the present invention,
Since the high-performance filter 120 that does not generate gaseous impurities is provided downstream of the adsorption filter medium 110, clean air containing no gaseous impurities can be supplied.
【００１９】図２には、本発明にかかるガス状不純物処
理システムの実施の第２の形態が示されている。このガ
ス状不純物処理システム１００’は、システムの上流側
に設置されるガス状不純物処理装置として接触触媒燃焼
筒１３０を使用し、その下流側に本発明に基づいて構成
されたガス状不純物を発生しない高性能フィルタ１２
０’を設置したものである。この接触触媒燃焼筒１３０
は、取り入れた空気を圧縮する圧縮機１３２と、空気を
加熱し触媒と反応させる反応塔１３４と、処理済みの空
気を冷却する熱交換器１３６とから主に構成されてい
る。さらに接触触媒燃焼筒１３０は、圧縮機１３２と反
応塔１３４との間の送気経路中に、粒子除去フィルタ１
３８、圧力計１４０、流量計１４２が介装されており、
生成される清浄空気の清浄度、圧力、流量をそれぞれ調
整することが可能である。また、反応塔１３４内には、
例えば白金やパラジウムなどの酸化触媒が置かれてお
り、加熱器１４４により、空気中に含まれる炭化水素類
を次式に示されるように燃焼させ分解することができ
る。なお、図中１４６は、反応塔１３４の過熱を防止す
るための温度指示調節警報器である。
２ＣｎＨｍ＋（ｍ／２＋２ｎ）Ｏ2 → ２ｎＣＯ2＋ｍ
Ｈ2ＯFIG. 2 shows a second embodiment of the gaseous impurity treatment system according to the present invention. This gaseous impurity treatment system 100 ′ uses a catalytic catalytic combustion cylinder 130 as a gaseous impurity treatment device installed upstream of the system, and generates gaseous impurities configured according to the present invention downstream thereof. High performance filter 12
0 'is set. This contact catalytic combustion cylinder 130
Is mainly composed of a compressor 132 for compressing the introduced air, a reaction tower 134 for heating the air to react with the catalyst, and a heat exchanger 136 for cooling the processed air. Further, the catalytic catalytic combustion cylinder 130 is provided between the compressor 132 and the reaction tower 134 in the air supply path.
38, a pressure gauge 140 and a flow meter 142 are interposed,
It is possible to adjust the cleanliness, pressure, and flow rate of the generated clean air, respectively. In the reaction tower 134,
For example, an oxidation catalyst such as platinum or palladium is placed, and the hydrocarbons contained in the air can be burned and decomposed by the heater 144 as shown by the following formula. In the figure, reference numeral 146 denotes a temperature instruction adjusting alarm for preventing the reaction tower 134 from overheating. 2CnHm + (m / 2 + 2n) O 2 → 2nCO 2 + m
H 2 O
【００２０】このようにして、クリーンルーム内の清浄
空気または外気は、圧縮機１３２により、例えば４２０
℃に加熱された反応塔１３４に送気され、反応塔１３４
内において酸化触媒と反応し、炭化水素類が水と炭酸ガ
スに分解され除去される。かかる装置でも、接触触媒燃
焼筒１３０の内部の触媒から微粒子が発生するおそれが
ある。しかし、本実施の形態によれば、接触触媒燃焼筒
１３０の下流側にガス状不純物を発生しない高性能フィ
ルタ１２０’が設置されるので、ガス状不純物を含まな
いクリーンエアを供給することができる。なお、高性能
フィルタ１２０’の詳細については後述する。また図示
の例では、高性能フィルタ１２０’のみを設置している
が、その上流側に中性能フィルタを設置しても良い。ま
た、後述するように、その中性能フィルタに再生装置を
設けてフィルタの交換寿命を延長させても良い。なお高
性能フィルタ１２０’をシステムに取り付ける際には、
有機物ガスの発生のないシール部材、例えば無機素材パ
ッキンやテフロンなどのフッ素樹脂パッキンを使用する
ことが好ましい。また、本実施の形態の場合にも、図４
および図５に関連して後述するように、高性能フィルタ
１２０’に対するバックアップ用フィルタを並列に接続
し、高性能フィルタ１２０’の交換時に空気経路を切り
換えるように構成しても良い。In this manner, the clean air or the outside air in the clean room is, for example, 420
The gas is sent to the reaction tower 134 heated to
Reacts with the oxidation catalyst inside, and hydrocarbons are decomposed into water and carbon dioxide gas and removed. Even in such a device, there is a possibility that fine particles are generated from the catalyst inside the catalytic catalytic combustion tube 130. However, according to the present embodiment, since the high-performance filter 120 'that does not generate gaseous impurities is installed downstream of the catalytic catalytic combustion tube 130, clean air that does not contain gaseous impurities can be supplied. . The details of the high-performance filter 120 'will be described later. Although only the high-performance filter 120 'is installed in the illustrated example, a medium-performance filter may be installed upstream of the high-performance filter 120'. Further, as described later, a regeneration device may be provided in the medium-performance filter to extend the replacement life of the filter. When attaching the high performance filter 120 'to the system,
It is preferable to use a seal member that does not generate an organic substance gas, for example, an inorganic material packing or a fluororesin packing such as Teflon. Also, in the case of the present embodiment, FIG.
As will be described later with reference to FIG. 5 and FIG. 5, a backup filter for the high performance filter 120 ′ may be connected in parallel so that the air path is switched when the high performance filter 120 ′ is replaced.
【００２１】図３には、本発明にかかるガス状不純物処
理システムの実施の第３の態様が示されている。このガ
ス状不純物処理システム１００”は、システムの上流側
に設置されるガス状不純物処理装置として流動層吸着塔
１５０を使用し、その下流側に本発明に基づいて構成さ
れたガス状不純物を発生しない中性能フィルタ１２２及
び高性能フィルタ１２４を上流側から順次直列に設置し
たものである。なお、後述するように、中性能フィルタ
１２２に再生装置を設けてフィルタの交換寿命を延長さ
せても良い。また、中性能フィルタ１２２や高性能フィ
ルタ１２４をシステムに取り付ける際には、有機物ガス
の発生のないシール部材、例えば無機素材パッキンやテ
フロンなどのフッ素樹脂パッキンを使用することが好ま
しい。なお有機系樹脂であっても、加熱処理により揮発
性物質を除去し、表面汚染に関与するガス状不純物の発
生をなくした素材であれば使用することができる。FIG. 3 shows a third embodiment of the gaseous impurity treatment system according to the present invention. This gaseous impurity treatment system 100 ″ uses a fluidized bed adsorption tower 150 as a gaseous impurity treatment device installed on the upstream side of the system, and generates gaseous impurities configured according to the present invention on the downstream side thereof. A medium-performance filter 122 and a high-performance filter 124 are sequentially provided in series from the upstream side, and a regeneration device may be provided in the medium-performance filter 122 to extend the replacement life of the filter, as described later. When attaching the medium-performance filter 122 or the high-performance filter 124 to the system, it is preferable to use a seal member that does not generate an organic substance gas, for example, a fluorine resin packing such as an inorganic packing or Teflon. Even for resin, heat treatment removes volatile substances and eliminates the generation of gaseous impurities related to surface contamination. It can be used as long as the material.
【００２２】この流動層吸着塔１５０は、大きく分けて
流動層吸着部１５２、シール部１５４、吸着濾材搬送部
１５６から成る。流動層吸着部１５２は、吸着塔１５８
内に多段に積層された多孔板１６０を備えている。吸着
濾材（例えば、粒状活性炭）は、この流動層吸着部１５
２において、多段の多孔板１６０上で、例えば静止層高
１０〜２０ｍｍ、流動層高２０〜４０ｍｍの流動層１６
２を形成し、多段毎に流動移動しながら各段の流下部１
６０ａから逐次下段に落下して行く。この間、吸着濾材
は、空気取入口１６３からダンパ１６３ｂと渦巻送風機
１６３ａを経由して取り入れられた上向流の処理空気１
６４と均一に接触し、処理空気中の不純物ガス成分を吸
着する。他方、浄化された空気１６６は吸着塔１５８の
上部１５８ａから放出される。またシール部１５４をな
す吸着塔底部１５８ｂに達した吸着濾材は、吸着濾材搬
送部１５６によって吸着塔の最上段に戻され、再び吸着
工程に移って行く。The fluidized bed adsorption tower 150 is roughly divided into a fluidized bed adsorption section 152, a seal section 154, and an adsorption filter medium transport section 156. The fluidized bed adsorption section 152 includes an adsorption tower 158.
A multi-layered perforated plate 160 is provided therein. The adsorption filter medium (for example, granular activated carbon) is supplied to the fluidized bed adsorption section 15.
2, the fluidized bed 16 having, for example, a stationary bed height of 10 to 20 mm and a fluidized bed height of 20 to 40 mm on the multi-stage perforated plate 160
2 and flow down in each stage while moving and moving in each stage.
From 60a, it sequentially falls down. During this time, the adsorbed filter medium is supplied from the air inlet 163 through the damper 163b and the vortex blower 163a, and the processing air 1 flowing upward.
64 and uniformly adsorbs impurity gas components in the processing air. On the other hand, the purified air 166 is discharged from the upper portion 158a of the adsorption tower 158. In addition, the adsorption filter medium that has reached the adsorption tower bottom 158b forming the seal section 154 is returned to the uppermost stage of the adsorption tower by the adsorption filter medium transport section 156, and moves to the adsorption step again.
【００２３】かかる流動層吸着塔１５０を利用したガス
状不純物の除去装置は、流動状態にある吸着濾材の層の
中を被処理空気が通過するため、通気抵抗が極めて低い
という利点がある。例えば０．７ｍｍ直径の粒状活性炭
からなる静止層高１．５ｃｍの流動層を１ｍ／ｓの被処
理空気が通過する場合の通気抵抗はわずか１０ｍｍＨ2
Ｏである。また、被処理空気中に含まれるｐｐｍオーダ
のガス状有機不純物を１ｐｐｂ以下の濃度にするために
はせいぜい７段の流動層、つまり７０ｍｍＨ2Ｏの通気
抵抗を見込んでおけば十分である。なお、長期連続運転
中に、吸着塔内の吸着濾材は不純物を吸着して破過（飽
和して吸着性能を失う状態）に近づく。従って、破過す
る前に安全を見込んで早目に吸着濾材の交換が必要であ
る。例えば、破過するまでの寿命が２年であれば半年置
きに交換することができる。The apparatus for removing gaseous impurities using such a fluidized bed adsorption tower 150 has an advantage that the air to be treated passes through the bed of the adsorbing filter medium in a fluidized state, so that the ventilation resistance is extremely low. For example, when the air to be treated at 1 m / s passes through a fluidized bed having a height of 1.5 cm, which is a stationary bed made of granular activated carbon having a diameter of 0.7 mm, the airflow resistance is only 10 mmH 2.
O. In order to reduce the concentration of gaseous organic impurities on the order of ppm contained in the air to be treated to 1 ppb or less, it is sufficient to allow at least seven stages of fluidized beds, that is, a ventilation resistance of 70 mmH 2 O. During long-term continuous operation, the adsorption filter medium in the adsorption tower adsorbs impurities and approaches breakthrough (a state in which the adsorption performance is lost due to saturation). Therefore, it is necessary to replace the adsorption filter medium as soon as possible in anticipation of safety before the breakthrough. For example, if the life until the breakthrough is two years, it can be replaced every six months.
【００２４】図３に示す吸着濾材搬送部１５６について
説明する。吸着濾材搬送部１５６は、ターボ送風機１６
８を備えており、このターボ送風機１６８によりダンパ
１７４と三方管１７２と気流輸送管１７６を経由して圧
縮空気１７８が吸着塔の最上段に送られる。三方管１７
２において、圧縮空気１７８と、取り出し口１７０から
出た吸着濾材とが混合される。取り出し口１７０から吸
着濾材を取り出す経路には、第１経路１７０ａと第２経
路１７０ｂの２系統があり、第１経路１７０ａから取り
出された吸着濾材が圧縮空気１７８によって吸着塔の最
上段まで気流搬送される。この際、第２経路１７０ｂは
ダンパ１７４ａおよびバルブ１８０を閉じることによっ
て閉鎖されている。A description will now be given of the adsorbing filter medium conveying section 156 shown in FIG. The adsorption filter medium transport unit 156 is provided with the turbo blower 16.
The compressed air 178 is sent to the uppermost stage of the adsorption tower by the turbo blower 168 via the damper 174, the three-way pipe 172, and the airflow transport pipe 176. Three-way pipe 17
In 2, the compressed air 178 and the adsorbing filter medium coming out of the outlet 170 are mixed. There are two systems for taking out the adsorbing filter medium from the outlet 170, a first path 170a and a second path 170b. The adsorbing filter medium taken out of the first path 170a is transported by compressed air 178 to the uppermost stage of the adsorption tower. Is done. At this time, the second path 170b is closed by closing the damper 174a and the valve 180.
【００２５】一方、吸着濾材を交換する場合は、渦巻送
風機１６３ａを停止し、ダンパ１７４を閉じて第１経路
１７０ａを閉鎖する。逆に第２経路１７０ｂは開放し、
三方管１７２ａにおいて、ダンパ１７４ａを経由した圧
縮空気１７８ａと、取り出し口１７０から出た吸着濾材
とを混合する。この吸着濾材はバルブ１８０を経由して
使用済み濾材貯槽１８２まで気流搬送される。気流搬送
に使用された圧縮空気１７８ａは貯槽１８２に取り付け
た排気口１８２ａから外部に排出される。On the other hand, when replacing the adsorption filter medium, the spiral blower 163a is stopped, the damper 174 is closed, and the first path 170a is closed. Conversely, the second path 170b opens,
In the three-way pipe 172a, the compressed air 178a that has passed through the damper 174a and the adsorption filter medium that has come out of the outlet 170 are mixed. This adsorbed filter medium is transported by air to the used filter medium storage tank 182 via the valve 180. The compressed air 178a used for the airflow is discharged to the outside from an exhaust port 182a attached to the storage tank 182.
【００２６】吸着塔１５８の使用済み濾材を全て貯槽１
８２に気流搬送した後、貯槽下部に取り付けたバルブ１
８２ｂを開いて使用済み濾材を外部に取り出す。一方、
未使用の吸着濾材は供給口１８４ａから未使用濾材貯槽
１８４に入れる。その後未使用の吸着濾材は、バルブ１
８６を経由して取り入れ口１８８から吸着塔１５８内に
入る。All used filter media of the adsorption tower 158 are stored in the storage tank 1
After the air stream is conveyed to the storage tank 82, the valve 1
Open 82b and take out the used filter medium to the outside. on the other hand,
The unused adsorption filter medium is put into the unused filter medium storage tank 184 from the supply port 184a. After that, the unused adsorption filter medium is
The gas enters the adsorption tower 158 from the intake port 188 via 86.
【００２７】ところで、かかる流動層吸着塔１５０で
は、流動状態にある吸着濾材自体が微粒子の発生源とな
る。しかし、本実施の形態によれば、流動層吸着塔１５
０の下流側にガス状不純物を発生しない中性能フィルタ
１２２および高性能フィルタ１２４が設置されるので、
ガス状不純物と粒子状不純物の両方とも含まないクリー
ンエアを供給することができる。なお、中性能フィルタ
１２２および高性能フィルタ１２４の詳細については後
述する。また図示の例では、中性能フィルタ１２２と高
性能フィルタ１２４を直列に配列しているが、高性能フ
ィルタ１２４のみを設置する構成にしても良い。ただ
し、かかる流動層吸着塔１５０では、流動状態にある吸
着濾材は、互いに擦れ合うことで夥しいミクロンサイズ
の微粒子を発生するため、このような微粒子をＨＥＰＡ
やＵＬＰＡと称される高性能フィルタで除去しようとす
れば、例えば、粉塵濃度１ｍｇ／ｍ3、通気風速０．３
ｍ／ｓｅｃの場合、２ヶ月程度で完全に目詰まりを起こ
してしまう。従って、本実施の形態に示すように、まず
中性能フィルタ１２２でミクロンサイズの濾材摩耗粒子
を除去し、中性能フィルタ１２２で除去できなかった僅
かのサブミクロンサイズの微粒子をさらに下流側に設け
た高性能フィルタ１２４で除去する構成を採用すること
が好ましい。さらにまた、後述するように、中性能フィ
ルタ１２２に再生装置を設けてフィルタの交換寿命を延
長させても良い。なお中性能フィルタ１２２や高性能フ
ィルタ１２４をシステムに取り付ける際には、有機物ガ
スの発生のないシール部材、例えば無機素材パッキンや
テフロンなどのフッ素樹脂パッキンを使用することが好
ましい。また、有機系の樹脂を使用する場合には、加熱
処理により揮発性成分を除去し、表面汚染に関与するガ
ス状不純物をなくす必要がある。In the fluidized bed adsorption tower 150, the adsorbing filter medium in a fluidized state itself is a source of fine particles. However, according to the present embodiment, the fluidized bed adsorption tower 15
0, a medium-performance filter 122 and a high-performance filter 124 that do not generate gaseous impurities are installed.
It is possible to supply clean air containing neither gaseous impurities nor particulate impurities. The details of the medium performance filter 122 and the high performance filter 124 will be described later. In the illustrated example, the medium-performance filter 122 and the high-performance filter 124 are arranged in series, but a configuration in which only the high-performance filter 124 is provided may be adopted. However, in such a fluidized bed adsorption tower 150, the adsorbing filter media in a fluidized state generate numerous micron-sized fine particles by rubbing against each other.
Or a high-performance filter called ULPA, for example, a dust concentration of 1 mg / m 3 and a ventilation air velocity of 0.3
In the case of m / sec, clogging occurs completely in about two months. Therefore, as shown in the present embodiment, first, micron-sized filter medium wear particles are removed by the medium-performance filter 122, and slight submicron-size particles that cannot be removed by the medium-performance filter 122 are further provided on the downstream side. It is preferable to adopt a configuration in which the filter is removed by the high-performance filter 124. Furthermore, as described later, a regeneration device may be provided in the medium-performance filter 122 to extend the replacement life of the filter. When attaching the medium-performance filter 122 or the high-performance filter 124 to the system, it is preferable to use a seal member that does not generate an organic substance gas, for example, a fluorine resin packing such as an inorganic packing or Teflon. When an organic resin is used, it is necessary to remove volatile components by heat treatment to eliminate gaseous impurities involved in surface contamination.
【００２８】かかる流動層吸着塔１５０の下流側にガス
状不純物を発生しない中性能フィルタ１２２および高性
能フィルタ１２４を設置した場合には、吸着濾材から発
生する微粒子で中性能フィルタ１２２が目詰まりを起こ
すことは既に述べた。このような目詰まりを起こしたフ
ィルタは、新しいフィルタと交換しなければならない
が、交換作業中には、図３に示す本実施例の形態による
ガス状不純物除去システムの稼働を停止しなければなら
ない。本実施例の形態によるガス状不純物除去システム
はＬＳＩやＬＣＤを製造するクリーンルームの雰囲気中
に含まれるガス状不純物を除去する技術に関するもので
あり、例えば、ＬＳＩやＬＣＤの基板の保管庫雰囲気を
充満させるためのガス状不純物と粒子状不純物のいずれ
も含まないクリーンエアを供給するために使用される。
通常、ＬＳＩやＬＣＤの基板はクリーンルーム中で昼夜
を問わず２４時間体制で休みなく製造されるから、フィ
ルタの交換作業中といえども本システムの稼働は停止し
ないことが望ましい。そこで、図４および図５に示すよ
うなバックアップとなる別系統のフィルタを流動層吸着
塔１５０の下流側に最初から設けておくことが望まし
い。When the medium-performance filter 122 and the high-performance filter 124 that do not generate gaseous impurities are installed on the downstream side of the fluidized bed adsorption tower 150, the medium-performance filter 122 is clogged with fine particles generated from the adsorption filter medium. What has happened has already been mentioned. Such a clogged filter must be replaced with a new filter. During the replacement operation, the operation of the gaseous impurity removing system according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 3 must be stopped. . The gaseous impurity removal system according to the embodiment of the present invention relates to a technology for removing gaseous impurities contained in an atmosphere of a clean room for manufacturing an LSI or an LCD, and for example, fills a storage atmosphere of an LSI or an LCD substrate. It is used to supply clean air containing neither gaseous impurities nor particulate impurities.
Usually, LSI and LCD substrates are manufactured in a clean room 24 hours a day, seven days a week, so it is desirable that the operation of this system should not be stopped even during the filter replacement work. Therefore, it is desirable to provide a separate filter serving as a backup as shown in FIGS. 4 and 5 on the downstream side of the fluidized bed adsorption tower 150 from the beginning.
【００２９】バックアップとなる別系統のフィルタとし
ては、主フィルタと同等の性能を有するものが使用され
るが、通常運転時は、使用しない。しかし、目詰まりを
起こしたフィルタの交換時には、空気経路をバックアッ
プ用フィルタに切り換えて、システムを中断することな
くフィルタの交換を行うことができる。フィルタ交換後
には、空気経路を更新された元の系統に切り換えて、バ
ックアップ用フィルタの使用を再度停止する。このよう
に、バックアップ用フィルタは交換作業の間、一時待避
的に使用することができる。As a backup filter of another system, a filter having the same performance as the main filter is used, but is not used during normal operation. However, when replacing a clogged filter, the air path can be switched to a backup filter to replace the filter without interrupting the system. After the filter is replaced, the air path is switched to the updated system, and the use of the backup filter is stopped again. In this way, the backup filter can be used temporarily during the replacement operation.
【００３０】また、バックアップとなる別系統のフィル
タを、目詰まりを起こしたフィルタの交換後も、引き続
き使用し、この別系統のフィルタが目詰まりを起こして
使用出来なくなった場合には、元の系統のフィルタに切
り替えるというふうに、２系統のフィルタを交互運転す
ることもできる。In addition, if another filter serving as a backup is used even after the clogged filter is replaced, and the other filter is clogged and cannot be used, the original filter is not used. It is also possible to alternately operate two systems of filters, such as switching to a system of filters.
【００３１】図４は、中性能フィルタ１２２に対してバ
ックアップ用の中性能フィルタ１２２’をダンパ１２２
ａ〜１２２ｄにより選択的に切り換え可能に並列に接続
したものである。中性能フィルタ１２２の運転時には、
ダンパ１２２ａ、１２２ｂは開けられ、ダンパ１２２
ｃ、１２２ｄは閉じられている。一方、中性能フィルタ
１２２の交換時には、ダンパ１２２ａ、１２２ｂは閉
じ、ダンパ１２２ｃと１２２ｄを開ける。このように、
本実施の形態によれば、目詰まりを起こしていない中性
能フィルタ１２２’が交換作業中に使用されるため、シ
ステムの稼働が停止することはない。なお、図４中のダ
ンパ開閉状態は中性能フィルタ１２２の運転時に相当す
る。FIG. 4 shows a configuration in which a backup medium performance filter 122 ′ is replaced with a medium performance filter 122 by a damper 122.
a to 122d are connected in parallel so as to be selectively switchable. During operation of the medium performance filter 122,
The dampers 122a and 122b are opened, and the dampers 122a and 122b are opened.
c and 122d are closed. On the other hand, when replacing the medium performance filter 122, the dampers 122a and 122b are closed and the dampers 122c and 122d are opened. in this way,
According to the present embodiment, since the medium-performance filter 122 'which is not clogged is used during the replacement work, the operation of the system does not stop. Note that the open / close state of the damper in FIG. 4 corresponds to the operation of the medium-performance filter 122.
【００３２】図５は中性能フィルタ１２２または高性能
フィルタ１２４のどちらか一方、または中性能フィルタ
１２２と高性能フィルタ１２４の両方の交換を想定した
ものである。中性能フィルタ１２２および高性能フィル
タ１２４の運転時には、ダンパ１２２ａ、１２２ｂ、１
２４ａは開けられ、ダンパ１２２ｃ、１２２ｄ、１２４
ｂは閉じられている。一方、中性能フィルタ１２２のみ
の交換時には、ダンパ１２２ａ、１２２ｂ、１２４ｂは
閉じ、ダンパ１２２ｃ、１２２ｄ、１２４ａを開ける。
このように目詰まりを起こしていない中性能フィルタ１
２２’を交換作業中に使用することができるので、本実
施の形態によれば、システムの駆動がフィルタ交換作業
中でも停止することはない。さらに、高性能フィルタ１
２４のみの交換時には、ダンパ１２２ｃ、１２２ｄ、１
２４ａは閉じ、ダンパ１２２ａ、１２２ｂ、１２４ｂを
開ける。このように目詰まりを起こしていない高性能フ
ィルタ１２４’を交換作業中に使用することができるの
で、本実施の形態によれば、システムの稼働が交換作業
中でも停止することはない。さらに、中性能フィルタ１
２２と高性能フィルタ１２４の両方の交換時には、ダン
パ１２２ａ、１２２ｂ、１２４ａを閉じ、１２２ｃ，１
２２ｄ，１２４ｂを開ける。このように目詰まりを起こ
していない中性能フィルタ１２２’と高性能フィルタ１
２４’が交換作業中に使用されるため、本実施の形態に
よれば、システムの稼働が交換作業中でも停止すること
はない。なお、図５中のダンパ開閉状態は高性能フィル
タ１２４の交換時に相当する。FIG. 5 assumes replacement of either the medium performance filter 122 or the high performance filter 124, or both the medium performance filter 122 and the high performance filter 124. During operation of the medium performance filter 122 and the high performance filter 124, the dampers 122a, 122b, 1
24a is opened and the dampers 122c, 122d, 124
b is closed. On the other hand, when only the medium-performance filter 122 is replaced, the dampers 122a, 122b, and 124b are closed, and the dampers 122c, 122d, and 124a are opened.
Medium-performance filter 1 that is not clogged in this way
According to the present embodiment, the drive of the system does not stop even during the filter replacement work because the 22 'can be used during the replacement work. Furthermore, high performance filter 1
When replacing only 24, the dampers 122c, 122d, 1
24a is closed and the dampers 122a, 122b, 124b are opened. Since the high-performance filter 124 'that is not clogged can be used during the replacement work, according to the present embodiment, the operation of the system does not stop even during the replacement work. Furthermore, the medium performance filter 1
When replacing both the filter 22 and the high-performance filter 124, the dampers 122a, 122b and 124a are closed, and 122c and 1 are replaced.
Open 22d and 124b. The medium-performance filter 122 'and the high-performance filter 1 which are not clogged as described above.
Since 24 ′ is used during the replacement work, according to the present embodiment, the operation of the system does not stop during the replacement work. The open / close state of the damper in FIG. 5 corresponds to the time when the high-performance filter 124 is replaced.
【００３３】次に、図６〜図１６を参照しながら、本発
明に基づいて構成されたそれ自体がガス状不純物を発生
しない粒子除去フィルタのいくつかの好適な実施の形態
について説明する。Next, with reference to FIGS. 6 to 16, some preferred embodiments of a particle removing filter constructed according to the present invention which does not generate gaseous impurities will be described.
【００３４】図６（ａ）（ｂ）および図７（ａ）（ｂ）
に示す粒子除去フィルタ４１０は、例えばステンレスや
アルミニウムのような金属やガラスのようなセラミック
スから成るフレーム４１２、４１８とスペーサ４１６
と、ガラス繊維素材の濾紙４１４のみから構成されてい
る。フレーム４１２、４１８とスペーサ４１６はフレー
ム要素であり、濾紙４１４はフィルタ要素である。図６
（ａ）、（ｂ）に示すように、製造時にはまず、凹字形
状のスペーサ４１６を使用してガラス繊維濾紙をプリー
ツ形状に織る。さらに図７（ａ）、（ｂ）に示すよう
に、スペーサ４１６を挟んだガラス繊維濾紙４１４の両
側を、有機物ガスの発生のないフッ素樹脂パッキン４２
０を介してフレーム４１２で挟んで圧縮し、両側のフレ
ーム４１２を側面のフレーム４１８に機械的に（例え
ば、ネジ留めにより）固定する。この粒子除去フィルタ
４１０は使用前に、例えば２００℃でベーキングして、
製作中に粒子除去フィルタ４１０に汚れとして付着（主
として雰囲気由来のガス状有機物が付着）した全ての不
純物を脱離させる。なお、図７（ａ）、（ｂ）は、粒子
除去フィルタ４１０のＢ−Ｂ、Ａ−Ａ断面をそれぞれ示
し、切り口に相当する部分にはハッチングを施した。ま
た、Ａ−Ａ断面図（図７（ｂ））にはフィルタ４１０内
における処理対象空気の流れ方向を破線矢印４２２で示
した。この粒子除去フィルタ４１０は、後述する図１１
に示す実施の形態と同様に、金属製ダクトに取り付ける
ことができるが、取付部のシールにも有機物ガスの発生
のないフッ素樹脂パッキンを使用することが好ましい。
またスペーサ４１６やフレーム４１２、４１８などの材
質も、不純物ガス発生のない素材、例えば金属やセラミ
ックスなどで構成されることは既に述べたとおりであ
る。FIGS. 6A and 6B and FIGS. 7A and 7B
The filter 414 includes a frame 412, 418 made of a metal such as stainless steel or aluminum or a ceramic such as glass, and a spacer 416.
And only the filter paper 414 made of glass fiber material. The frames 412, 418 and the spacer 416 are frame elements, and the filter paper 414 is a filter element. FIG.
As shown in (a) and (b), at the time of manufacturing, first, glass fiber filter paper is woven in a pleated shape using a concave spacer 416. Further, as shown in FIGS. 7A and 7B, the both sides of the glass fiber filter paper 414 sandwiching the spacer 416 are sandwiched between the fluororesin packings 42 without generation of organic gas.
The frames 412 on both sides are compressed mechanically (for example, by screwing) on both sides of the frame 418 via the frame 0. Before use, the particle removal filter 410 is baked at, for example, 200 ° C.
All impurities adhering as dirt to the particle removal filter 410 during the production (mainly gaseous organic matter derived from the atmosphere) are desorbed. 7 (a) and 7 (b) show BB and AA cross sections of the particle removal filter 410, respectively, and a portion corresponding to a cut is hatched. In the AA cross-sectional view (FIG. 7B), the flow direction of the air to be processed in the filter 410 is indicated by a broken arrow 422. This particle removal filter 410 is provided in FIG.
In the same manner as in the embodiment described in (1), it can be attached to a metal duct, but it is preferable to use a fluororesin packing that does not generate an organic gas for the seal of the attachment portion.
Also, as described above, the materials of the spacer 416, the frames 412, 418, and the like are made of a material that does not generate impurity gas, such as a metal or a ceramic.
【００３５】図８および図１０に示す粒子除去フィルタ
４２０も、例えばステンレスやアルミニウムなどから成
る金属製フレーム４１２ａ、４１２ｂとガラス繊維素材
のフィルタ４１４のみから構成されている。図８に示す
ように、本実施の形態では、バインダを含まないガラス
繊維のみからなる濾紙形平板フィルタ濾材４１４を凹凸
に折り曲げてフィルタ要素を構成する。そして、凹凸形
状のフィルタの上下端部４１４ａは、フィルタの凹凸形
状に対応して凹凸形状に成形された金属製型枠４１２
ａ、４１２ｂの凹凸部間（図１０（ａ）（ｂ）に示す金
属製型枠４１２ａ、４１２ｂの上面および下面）に挟み
込む。また凹凸形状のフィルタの左右端部４１４ｂは金
属製型枠４１２ａ、１４２ｂの平坦面間（図１０（ａ）
（ｂ）に示す金属製型枠４１２ａ、４１２ｂの左右側
面）に挟み込む。このようにすれば、ガス状不純物など
を発生するシール材などを使用せずに、図１０（ａ）に
示すような粒子除去フィルタを構成することができる。
なお図１０（ａ）は、粒子除去フィルタを組み立てた状
態を示し、図１０（ｂ）は一方の金属枠４１２ａを取り
外した状態を示す斜視図である。このようして組み立て
られた粒子除去フィルタ４２０についても、金属製型枠
４１２ａ、４１２ｂごと濾材４１４を、例えば２００℃
でベーキングして、全ての有機物を脱離させる。なお、
図８および図１０において、フレーム要素は金属型枠４
１２ａ、４１２ｂに相当し、フィルタ要素はフィルタ４
１４に相当する。The particle removal filter 420 shown in FIGS. 8 and 10 also includes only metal frames 412a and 412b made of, for example, stainless steel or aluminum and a filter 414 made of a glass fiber material. As shown in FIG. 8, in the present embodiment, a filter element is formed by bending a filter paper-type flat filter medium 414 made of only glass fibers without a binder into irregularities. The upper and lower end portions 414a of the filter having the uneven shape are formed with metal mold frames 412 formed in an uneven shape corresponding to the uneven shape of the filter.
a and 412b (the upper and lower surfaces of the metal mold frames 412a and 412b shown in FIGS. 10A and 10B). Also, the left and right end portions 414b of the filter having the uneven shape are formed between the flat surfaces of the metal mold frames 412a and 142b (FIG. 10A).
(The left and right side surfaces of the metal mold frames 412a and 412b shown in FIG. In this way, a particle removal filter as shown in FIG. 10A can be configured without using a sealing material that generates gaseous impurities and the like.
FIG. 10A is a perspective view showing a state where the particle removing filter is assembled, and FIG. 10B is a perspective view showing a state where one metal frame 412a is removed. Also for the particle removal filter 420 assembled in this manner, the filter medium 414 together with the metal molds 412a and 412b is, for example, 200 ° C.
Baking to remove all organic matter. In addition,
8 and 10, the frame element is a metal form 4
12a and 412b, and the filter element is the filter 4
14 equivalents.
【００３６】なお、図９に示す粒子除去フィルタ４２
０’は、図８の粒子除去フィルタ４２０と異なり、バイ
ンダを含まないガラス繊維のみからなる濾紙形平板フィ
ルタ濾材４１４’をジグザグに折り曲げてフィルタ要素
を構成し、そのジグザグ形状のフィルタ４１４’を、そ
のジグザグ形状に対応してジグザグ形状に成形された金
属製型枠４１２ａ’、４１２ｂ’の間に挟み込んだもの
である。かかる形状の相違を除けば、図９に示す粒子除
去フィルタ４２０’は、図８に示す粒子除去フィルタ４
２０と実質的には同一の構成を有しているので、詳細な
説明は省略する。また、図９において、フレーム要素は
金属型枠４１２ａ’、４１２ｂ’に相当し、フィルタ要
素はフィルタ４１４’に相当する。The particle removing filter 42 shown in FIG.
8 is different from the particle removal filter 420 of FIG. 8 in that a filter element 414 ′ made of only a glass fiber containing no binder is bent in a zigzag manner to form a filter element, and the zigzag filter 414 ′ is formed. It is sandwiched between metal mold frames 412a 'and 412b' formed in a zigzag shape corresponding to the zigzag shape. Except for such a difference in shape, the particle removal filter 420 ′ shown in FIG.
Since it has substantially the same configuration as 20, the detailed description is omitted. In FIG. 9, the frame element corresponds to the metal molds 412a 'and 412b', and the filter element corresponds to the filter 414 '.
【００３７】図１１には、図８および図１０に示す粒子
除去フィルタ４２０を風道４３０ａ、４３０ｂに取り付
ける様子を示すものである。風道４３０ａ、４３０ｂの
フランジ４３２ａ、４３２ｂに形成された孔に全螺子ボ
ルト４３４がナット４３６で取り付けられており、ナッ
ト４３６により、風道４３０ａ、４３０ｂ間の間隔を調
整することができる。そして、本実施の形態にかかる粒
子除去フィルタ４２０は、風道４３０ａ、４３０ｂ間
に、ガス状不純物を発生しない無機素材パッキンやフッ
素樹脂パッキン４３８を介して、気密に取り付けること
ができる。FIG. 11 shows how the particle removing filter 420 shown in FIGS. 8 and 10 is attached to the air passages 430a and 430b. All screw bolts 434 are attached to holes formed in the flanges 432a and 432b of the air paths 430a and 430b with nuts 436, and the gap between the air paths 430a and 430b can be adjusted by the nut 436. Then, the particle removal filter 420 according to the present embodiment can be hermetically attached between the air passages 430a and 430b via an inorganic material packing or a fluorine resin packing 438 that does not generate gaseous impurities.
【００３８】図１２（ａ）〜（ｄ）には、本発明にかか
る粒子除去フィルタのさらに別の実施例が示されてい
る。この粒子除去フィルタ４４０は、ステンレスやアル
ミニウムなどの金属製フレームと金属製フィルタのみか
ら構成されるものである。図１２（ａ）（ｂ）に示すよ
うに、この粒子除去フィルタ４４０のフィルタ部４４２
はステンレスメッシュ４４２ａ、４４２ｂ、４４２ｃ・
・・を複数枚積層して構成される。さらに、フィルタ部
４４２は、図１２（ｃ）に示すように、通気抵抗を少な
くするためにプリーツ形状に加工され、図１２（ｄ）に
示すように、その周囲を金属製フレーム４４４で固定す
ることにより組み立てられる。金属製フレーム４４４の
形状の詳細は特に示さないが、図１０の金属製型枠４１
２ａ、４１２ｂの凹凸形状をプリーツ形状（波形形状）
に変えたものである。なお、図１２（ｃ）は図１２
（ｄ）のＣ−Ｃ断面を示す。もちろんこの場合にも、フ
ィルタ４４２を金属製フレーム４４４とともにベーキン
グし、全ての有機物を除去することが好ましい。もちろ
んこの場合にも、フィルタ４４２を金属製フレーム４４
４とともにベーキングし、全ての有機物を除去すること
が好ましい。また取り付けにあたっては、無機素材パッ
キンやフッ素樹脂パッキンなどのガス状不純物を発生し
ないシール部材を使用することが好ましい。なお上記例
では、金属製フィルタとして金属製メッシュを使用した
例を示したが、代わりに金属製多孔板を使用しても良
い。なお、図１２（ａ）〜（ｄ）において、フレーム要
素は金属製フレーム４４４に相当し、フィルタ要素はフ
ィルタ４４２に相当する。FIGS. 12A to 12D show still another embodiment of the particle removal filter according to the present invention. The particle removal filter 440 is composed of only a metal frame such as stainless steel or aluminum and a metal filter. As shown in FIGS. 12A and 12B, the filter unit 442 of the particle removal filter 440
Are stainless steel meshes 442a, 442b, 442c.
.. are laminated. Further, as shown in FIG. 12C, the filter portion 442 is processed into a pleated shape in order to reduce airflow resistance, and the periphery thereof is fixed with a metal frame 444 as shown in FIG. 12D. Assembled by Although details of the shape of the metal frame 444 are not particularly shown, the metal mold 41 shown in FIG.
Pleated (corrugated) 2a, 412b irregularities
It is changed to. FIG. 12 (c) is the same as FIG.
(D) shows a CC cross section. Of course, also in this case, it is preferable to bake the filter 442 together with the metal frame 444 to remove all organic substances. Of course, also in this case, the filter 442 is connected to the metal frame 44.
It is preferable to bake with 4 to remove all organic substances. In mounting, it is preferable to use a seal member that does not generate gaseous impurities, such as an inorganic material packing or a fluororesin packing. In the above example, an example in which a metal mesh is used as a metal filter is shown, but a metal perforated plate may be used instead. In FIGS. 12A to 12D, the frame element corresponds to the metal frame 444, and the filter element corresponds to the filter 442.
【００３９】図１３（ａ）〜（ｄ）には、本発明にかか
る粒子除去フィルタのさらに別の実施例が示されてい
る。この粒子除去フィルタ４５０は、金属製フレームと
濾材保持用金属メッシュまたは金属製多孔板とガラス繊
維製フィルタとを組み合わせて構成されるものである。
図１３（ａ）（ｂ）に示すように、フィルタ部４５２
は、金属製メッシュまたは金属製多孔板のフレーム４５
２ａ、４５２ｂの間にバインダなどのガス状不純物を発
生する素材を含まないガラス繊維製フィルタ４５４を挟
持することにより構成される。ガラス繊維製フィルタの
代わりに金属繊維製フィルタを用いても良い。さらに、
フィルタ部４５２は、図１３（ｃ）に示すように、通気
抵抗を少なくするためにプリーツ形状に加工され、図１
３（ｄ）に示すように、その周囲を金属製フレーム４５
６で固定することにより組み立てられる。もちろんこの
場合にも、フィルタ４５２を金属製フレーム４５６とと
もにベーキングし、全ての有機物を除去することが好ま
しい。また取り付けにあたっては、無機素材パッキンや
フッ素樹脂パッキンなどのガス状不純物を発生しないシ
ール部材を使用することが好ましい。また、図１３
（ａ）〜（ｄ）においては、フレーム要素は金属製フレ
ーム４５２ａ、４５２ｂ、４５６に相当し、フィルタ要
素は４５４に相当する。FIGS. 13A to 13D show still another embodiment of the particle removal filter according to the present invention. The particle removal filter 450 is configured by combining a metal frame and a metal mesh for holding a filter medium or a metal perforated plate and a glass fiber filter.
As shown in FIGS. 13A and 13B, the filter unit 452
Is a frame 45 made of a metal mesh or a metal perforated plate.
It is configured by sandwiching a glass fiber filter 454 containing no material that generates gaseous impurities such as a binder between 2a and 452b. A metal fiber filter may be used instead of a glass fiber filter. further,
As shown in FIG. 13C, the filter portion 452 is processed into a pleated shape in order to reduce airflow resistance.
As shown in FIG.
Assembled by fixing at 6. Of course, in this case as well, it is preferable to bake the filter 452 together with the metal frame 456 to remove all organic substances. In mounting, it is preferable to use a seal member that does not generate gaseous impurities, such as an inorganic material packing or a fluororesin packing. FIG.
In (a) to (d), the frame element corresponds to the metal frames 452a, 452b, and 456, and the filter element corresponds to 454.
【００４０】図１４〜図１６には、本発明に基づいて構
成される粒子除去フィルタのさらに別の実施の形態が示
されている。この粒子除去フィルタ４６０は、金属製フ
レーム４６２（図１６）と、ガス状不純物を発生しない
フィルタ部４６４のみから構成される。フィルタ部４６
４は、一端が閉じた円筒状の金属製メッシュまたは多孔
板から成る外枠４６４ａと内枠４６４ｂとの間にガラス
繊維製フィルタ４６６を挟み込むようにして構成され
る。ガラス繊維製フィルタの代わりに金属繊維製フィル
タを用いても良い。そして、このように構成されたフィ
ルタ部４６４を、図１６に示すように複数個、金属フレ
ーム４６２に取り付けることにより構成される。なお図
１６に示す例では、フィルタ部４６４の開放端側に、そ
の開放端内枠４６４ｂの寸法に対応する開口が穿設され
た平板状の金属製フレーム４６２を取り付けている。組
立にあたっては、フィルタ部４６４の開放端外枠４６４
ａを金属製フレーム４６２の開口に同心円状に取り付け
る。つまり、外枠４６４ａと内枠４６４ｂに挟まれた環
状の開放端部分は金属製フレーム４６２によって閉鎖さ
れる。こうして、ガス状不純物を発生しない素材のみで
粒子除去フィルタ４６０を構成することができる。もち
ろんこの場合にも、フィルタ４６４を金属製フレーム４
６２とともにベーキングし、全ての有機物を除去するこ
とが好ましい。また取り付けにあたっては、無機素材パ
ッキンやフッ素樹脂パッキンなどのガス状不純物を発生
しないシール部材を使用することが好ましい。FIGS. 14 to 16 show still another embodiment of the particle removing filter constructed according to the present invention. The particle removal filter 460 includes only a metal frame 462 (FIG. 16) and a filter portion 464 that does not generate gaseous impurities. Filter section 46
Reference numeral 4 is configured such that a glass fiber filter 466 is sandwiched between an outer frame 464a and an inner frame 464b formed of a cylindrical metal mesh or a perforated plate having one end closed. A metal fiber filter may be used instead of a glass fiber filter. Then, a plurality of the filter portions 464 configured as described above are attached to the metal frame 462 as shown in FIG. In the example shown in FIG. 16, a flat metal frame 462 having an opening corresponding to the size of the open end inner frame 464b is attached to the open end side of the filter portion 464. When assembling, the open end outer frame 464 of the filter portion 464 is used.
a is concentrically attached to the opening of the metal frame 462. That is, the annular open end portion sandwiched between the outer frame 464a and the inner frame 464b is closed by the metal frame 462. In this manner, the particle removal filter 460 can be formed only of the material that does not generate gaseous impurities. Of course, also in this case, the filter 464 is connected to the metal frame 4.
It is preferable to bake together with 62 to remove all organic substances. In mounting, it is preferable to use a seal member that does not generate gaseous impurities, such as an inorganic material packing or a fluororesin packing.
【００４１】図１５（ａ）（ｂ）には処理対象空気の流
れ方向を矢印４６８で示した。図１５（ａ）は、例えば
風道内に粒子除去フィルタ４６０を取り付けるに当たっ
て、フィルタ部４６４の開放端側を風道内空気流れの上
流方向、閉鎖端側を下流方向になるように配置した場合
である。一方、図１５（ｂ）は図１５（ａ）とは逆に、
例えば風道内に粒子除去フィルタ４６０を取り付けるに
当たって、フィルタ部４６４の開放端側を風道内空気流
れの下流方向、閉鎖端側を上流方向になるように配置し
た場合である。図１５（ａ）（ｂ）いずれの場合もフィ
ルタ部４６４の中心線に対してはほぼ放射状に処理対象
空気がガラス繊維製フィルタ４６６を透過する。なお、
図１４〜図１６において、フレーム要素は金属製フレー
ム４６２、外枠４６４ａ、内枠４６４ｂに相当し、フィ
ルタ要素はガラス繊維製フィルタ４６６に相当する。The flow direction of the air to be treated is shown by arrows 468 in FIGS. FIG. 15A shows a case where, for example, in mounting the particle removal filter 460 in the air passage, the open end side of the filter portion 464 is arranged in the upstream direction of the air flow in the air passage, and the closed end side is arranged in the downstream direction. . On the other hand, FIG. 15B is the opposite of FIG.
For example, when the particle removal filter 460 is mounted in the air passage, the filter unit 464 is arranged so that the open end is located downstream of the air flow in the air passage and the closed end is located upstream. 15A and 15B, the air to be processed passes through the glass fiber filter 466 almost radially with respect to the center line of the filter section 464. In addition,
14 to 16, the frame element corresponds to the metal frame 462, the outer frame 464a, and the inner frame 464b, and the filter element corresponds to the glass fiber filter 466.
【００４２】次に、図１７〜図１９を参照しながら、本
発明に基づいて構成されたフィルタ再生装置付の粒子除
去フィルタ（中性能フィルタ）のいくつかの実施の形態
について説明する。Next, with reference to FIGS. 17 to 19, several embodiments of a particle removing filter (medium-performance filter) equipped with a filter regenerating apparatus constructed according to the present invention will be described.
【００４３】図１７に示す装置２００において、空気入
口２０４と空気出口２０６を備えたチャンバ２０２は、
空気入口２０４側のエクスパンションチャンバ２０２ｂ
と空気出口側の処理チャンバ２０２ａを備えている。処
理チャンバ２０２ａ内には、本発明に基づいて構成され
たガス状不純物を発生しない粒子除去フィルタ２０８、
例えば金属製メッシュをチューブ式の濾布状（封筒状）
に加工した複数のフィルタ部２０８ａを金属フレーム２
０８ｂ（例えば、図１６に示す金属製フレーム４６２に
相当するもの）に取り付けたものが収納されている。な
お、複数のフィルタ部２０８ａの閉止端は処理チャンバ
２０２ａの天井部のロッド２０２ｃに設けられた複数の
フック２０２ｄに取り付けられている。In the apparatus 200 shown in FIG. 17, a chamber 202 having an air inlet 204 and an air outlet 206
Expansion chamber 202b on the side of air inlet 204
And a processing chamber 202a on the air outlet side. Inside the processing chamber 202a, a particle removal filter 208 configured according to the present invention that does not generate gaseous impurities,
For example, a metal mesh is a tube-type filter cloth (envelope)
The plurality of filter portions 208a processed into a metal frame 2
08b (for example, equivalent to the metal frame 462 shown in FIG. 16) is stored. The closed ends of the plurality of filter units 208a are attached to a plurality of hooks 202d provided on a rod 202c on the ceiling of the processing chamber 202a.
【００４４】さらに、この装置２００は、機械振動式の
フィルタ再生装置２１０を備えている。このフィルタ再
生装置２１０は、ロッド２０２ｃを振動させることによ
り、各フック２０２ｄにつり下げられたチューブ状粒子
除去フィルタ２０８に振動を伝達するものである。すな
わち、長期間にわたり空気処理を行うと、チューブ式粒
子除去フィルタ２０８のフィルタ部２０８ａの粉塵層が
段々厚くなり、圧力損失が高くなり、濾過効率が落ちて
しまう。そこで、本実施の形態によれば、例えば、不図
示の圧力センサにより圧力損失を計測し、圧力損失が例
えば３０ｍｍＨ2Ｏ程度になると、空気を遮断して、振
動装置２１０を駆動して、振動をロッド２０２ｃ、フッ
ク２０２ｄを介してフィルタ部２０８ａに伝達し、その
振動によりフィルタ部２０８ａに付着した粉塵を払い落
とすことができる。このように、適宜フィルタの再生を
行うことにより、本発明に基づいて構成されたガス状不
純物を発生しない中性能フィルタの寿命を延ばすことが
できる。払い落とされた粉塵はチャンバの底部のホッパ
２０２ｅから排出される。The apparatus 200 further includes a mechanical vibration type filter regeneration apparatus 210. The filter regeneration device 210 transmits vibration to the tubular particle removal filter 208 suspended by each hook 202d by vibrating the rod 202c. That is, if air treatment is performed for a long period of time, the dust layer of the filter part 208a of the tubular particle removal filter 208 becomes thicker, the pressure loss increases, and the filtration efficiency decreases. Therefore, according to the present embodiment, for example, the pressure loss is measured by a pressure sensor (not shown), and when the pressure loss becomes, for example, about 30 mmH 2 O, the air is shut off, Is transmitted to the filter unit 208a via the rod 202c and the hook 202d, and the vibration can remove dust adhering to the filter unit 208a. As described above, by appropriately regenerating the filter, the life of the medium-performance filter configured according to the present invention that does not generate gaseous impurities can be extended. The dust that has been blown off is discharged from a hopper 202e at the bottom of the chamber.
【００４５】なお、図１７には、塵埃がある程度堆積す
るとファンを止めて払い落としをする間欠式の装置２０
０を示したが、長時間連続運転を必要とする場合には、
図１８に示すような連続式の装置２００’を使用するこ
とが好ましい。なお図１８（ａ）は装置２００’の側面
図、図１８（ｂ）は装置２００’の正面図をそれぞれ示
している。図示のように、装置２００’は、図１７に示
す装置２００を複数（図示の例では３つ）併置したもの
であり、処理チャンバ２００Ａ〜２００Ｃを備えてい
る。そして、各処理チャンバ２００Ａ〜２００Ｃには対
応する空気入口２０４Ａ〜２０４Ｃが取り付けられてお
り、清浄化された空気は空気出口２０６Ａ〜２０６Ｃか
ら清浄空気用ダクト２１２に送られる。このように、本
実施の形態によれば、複数の処理チャンバ２００Ａ〜２
００Ｃが設けられているので、再生処理が必要な処理チ
ャンバが出現した場合には、不図示のダンパ切り換えに
よりそのチャンバへの空気供給を遮断して払い落とし
（フィルタ再生処理）を行なうことができる。このよう
に、本実施の形態によれば、順次再生処理を行うので、
再生処理により清浄空気の供給が中断することがない。
また再生処理のサイクルは、例えば含塵濃度や圧力損失
により決定される。FIG. 17 shows an intermittent device 20 for stopping the fan and removing the dust when a certain amount of dust accumulates.
0, but when continuous operation is required for a long time,
It is preferable to use a continuous apparatus 200 'as shown in FIG. FIG. 18A is a side view of the device 200 ′, and FIG. 18B is a front view of the device 200 ′. As shown in the drawing, the device 200 'is a plurality of (three in the example shown) devices 200 shown in FIG. 17 arranged side by side, and includes processing chambers 200A to 200C. Each of the processing chambers 200A to 200C is provided with a corresponding air inlet 204A to 204C, and the purified air is sent from the air outlets 206A to 206C to the clean air duct 212. Thus, according to the present embodiment, the plurality of processing chambers 200A to 200A-2
Since 00C is provided, when a processing chamber requiring a regeneration process appears, the air supply to the chamber is shut off by switching a damper (not shown) to perform a cleaning (filter regeneration process). . As described above, according to the present embodiment, since the sequential reproduction process is performed,
The supply of clean air is not interrupted by the regeneration process.
The cycle of the regeneration process is determined by, for example, the dust concentration or the pressure loss.
【００４６】図１７および図１８には、機械振動式のフ
ィルタ再生機構を備えた装置を示したが、本発明はかか
る例に限定されない。例えば図１９に示すように、逆洗
ガス気流式のフィルタ再生機構を備えた装置２５０を使
用することができる。この装置２５０は、本発明に基づ
いて構成された粒子除去フィルタ２６０が収納される処
理チャンバ２５２を備えている。粒子除去フィルタ２６
０は、例えば図１６に示すものと同様の構成を有してお
り、複数の金属製メッシュ（または濾材保持用金属製メ
ッシュや金属製多孔板の間にガラス繊維または金属繊維
を挟み込んだもの）から成るフィルタ部２６２を金属製
フレーム２６４に取り付けたものである。従って、図中
で矢印で示すように、金属製フレーム２６４の開口部２
６４ａからフィルタ部２６２で清浄化された空気を得る
ことができる。FIGS. 17 and 18 show an apparatus having a mechanical vibration type filter regeneration mechanism, but the present invention is not limited to such an example. For example, as shown in FIG. 19, an apparatus 250 having a backwash gas flow type filter regeneration mechanism can be used. The apparatus 250 includes a processing chamber 252 in which a particle removal filter 260 configured according to the present invention is housed. Particle removal filter 26
Numeral 0 has, for example, the same configuration as that shown in FIG. 16 and is made of a plurality of metal meshes (or a glass mesh or a metal fiber sandwiched between a metal mesh for holding a filter medium or a metal porous plate). The filter unit 262 is attached to a metal frame 264. Accordingly, as indicated by the arrow in the figure, the opening 2 of the metal frame 264 is
Air purified by the filter unit 262 can be obtained from the filter 64a.
【００４７】この処理チャンバ２５２の上部には、各金
属パネル２６４の開口部２６４ａに対応する位置に複数
のノズル２６１を設けられている。このノズル２６１は
不図示の窒素源より高圧の高純度窒素ガスを噴射するこ
とができるものである。なお、ノズル２６１は電磁弁２
６３を備えており、高圧窒素の噴射時間およびタイミン
グを制御することができる。また、フィルタ部２６２の
上部にはベンチュリ部２６２ａが形成されている。従っ
て、ノズル２６１から高速度で噴射された窒素ガスはベ
ンチュリ部２６２ａにおいて周囲の空気を吸引してチュ
ーブ状のフィルタ部２６２内に入るから、フィルタ部２
６２の内部は瞬間的に高圧となり、フィルタ部２６２の
外周より内部に流入していた空気は逆流して、フィルタ
部２６２の外面に付着している粉塵は清掃される。噴射
のサイクルは粉塵の種類、含塵濃度によって調整でき
る。また、除去された粉塵は処理チャンバ２５２の底部
に設けられたホッパ２５８から適宜排出される。なお、
図１９中の２５４は空気入口、２５６は空気出口をそれ
ぞれ示している。A plurality of nozzles 261 are provided above the processing chamber 252 at positions corresponding to the openings 264a of the metal panels 264. The nozzle 261 is capable of injecting high-purity nitrogen gas at a higher pressure than a nitrogen source (not shown). The nozzle 261 is connected to the solenoid valve 2
63 is provided to control the injection time and timing of high-pressure nitrogen. Further, a venturi portion 262a is formed above the filter portion 262. Therefore, the nitrogen gas injected at a high speed from the nozzle 261 sucks the surrounding air in the venturi portion 262a and enters the tubular filter portion 262.
The inside of the filter 62 has a high pressure instantaneously, the air flowing into the inside from the outer periphery of the filter 262 flows backward, and the dust adhering to the outer surface of the filter 262 is cleaned. The injection cycle can be adjusted according to the type of dust and the dust concentration. The removed dust is appropriately discharged from a hopper 258 provided at the bottom of the processing chamber 252. In addition,
In FIG. 19, 254 indicates an air inlet, and 256 indicates an air outlet.
【００４８】[0048]
【実施例】次に本発明にかかるガス状不純物処理システ
ムのいくつかの実施例について説明する。Next, several embodiments of the gaseous impurity treatment system according to the present invention will be described.
【００４９】［実施例１］まず、図１に示すガス状不純
物処理システム（すなわち、下流側フィルタ１２０とし
て図８、図１０および図１１に示すガス状不純物を発生
しない粒子除去フィルタ４２０を用いたもの）の場合
と、図１に示すシステムと同様に、ガス状不純物の吸着
濾材として活性炭繊維をベースとした３種のケミカルフ
ィルタ、すなわち酸性ガス処理用フィルタ、アルカリ性
ガス処理用フィルタ、有機系ガス処理用フィルタを３層
重ね、その下流側に従来のＵＬＰＡフィルタ（すなわ
ち、それ自体がガス状不純物を発生するもの）を取り付
けた場合について、フィルタ下流側に置いたガラス基板
表面の有機物による汚れ方を比較した。ガラス基板はＣ
ＯＲＮＩＮＧ＃７０５９、１００ｍｍ×１００ｍｍ×
１．１ｍｍtである。ガラス基板表面に付着している有
機物は、紫外線オゾン洗浄によって全て除去した後、試
験に供し、接触角評価法により評価した。Embodiment 1 First, the gaseous impurity treatment system shown in FIG. 1 (that is, the particle removal filter 420 which does not generate gaseous impurities shown in FIGS. 8, 10 and 11 was used as the downstream filter 120). 1) and three types of chemical filters based on activated carbon fibers as adsorption filter media for gaseous impurities, that is, an acid gas treatment filter, an alkaline gas treatment filter, and an organic gas as in the system shown in FIG. In the case where a treatment filter is stacked in three layers and a conventional ULPA filter (that is, one that itself generates gaseous impurities) is attached downstream of the treatment filter, how the organic substance on the surface of the glass substrate placed downstream of the filter is contaminated is reduced. Were compared. Glass substrate is C
ORNING # 7059, 100mm x 100mm x
1.1 mm t . Organic substances adhering to the surface of the glass substrate were all removed by ultraviolet ozone washing, and then subjected to a test, and evaluated by a contact angle evaluation method.
【００５０】その結果を図２１に示す。なお、図２１に
示すグラフは、縦軸に接触角、横軸に暴露時間を示すも
のである。なお、本実施例においては、ガラス基板表面
の汚染状態を評価するために、接触角評価法を用いた。
接触角評価法で測定する接触角はガラス基板表面に滴下
された超純水の液滴の接触角であり、ＸＰＳ（Ｘ線光電
子分光法）により測定したガラス表面の有機物による汚
染状態（炭素／ケイ素比）と接触角との間には、図２０
に示すような関係がある。炭素／ケイ素比は表面に付着
している有機物量に比例する指標であり、接触角は表面
の疎水性有機物による汚染の程度を表す指標である。し
たがって、接触角を観察することにより、ガラス基板表
面の有機物汚染状態を簡便かつ短時間に測定できる。な
お、ＸＰＳと接触角測定法については、本発明とは直接
的に関係するものではないので、その詳細な説明は省略
する。なお、その詳細については、本件出願人と同一出
願人にかかる特願平７−１７１３７３号を参照された
い。FIG. 21 shows the result. The graph shown in FIG. 21 shows the contact angle on the vertical axis and the exposure time on the horizontal axis. In this example, a contact angle evaluation method was used to evaluate the contamination state of the glass substrate surface.
The contact angle measured by the contact angle evaluation method is the contact angle of a droplet of ultrapure water dropped on the surface of a glass substrate, and the state of contamination of the glass surface with organic substances (carbon / carbon) measured by XPS (X-ray photoelectron spectroscopy). 20) between the silicon angle) and the contact angle.
There is a relationship as shown in The carbon / silicon ratio is an index proportional to the amount of organic substances attached to the surface, and the contact angle is an index indicating the degree of contamination of the surface with hydrophobic organic substances. Therefore, by observing the contact angle, the state of organic substance contamination on the surface of the glass substrate can be measured simply and in a short time. Note that the XPS and the contact angle measuring method are not directly related to the present invention, and thus detailed description thereof is omitted. For details, refer to Japanese Patent Application No. 7-171373 filed by the same applicant as the present applicant.
【００５１】ガラス表面の接触角の経時変化を、洗浄直
後のガラス基板が、本実施の形態による不純物ガスの発
生のない高性能フィルタの下流側に置かれた場合と、同
ガラス基板が従来のＵＬＰＡフィルタ下流側に置かれた
場合について比較した。図２１に示すように、本発明の
場合には、３日間経過後も接触角の増加はわずか３度で
あったが、従来のＵＬＰＡフィルタを使用した場合に
は、ＵＬＰＡフィルタの構成素材からの脱ガスの影響に
より、接触角は２０度も増えた。なお、図２１中には、
ケミカルフィルタを設けないクリーンルーム雰囲気に曝
された場合のデータも参考までに示した。The change with time in the contact angle of the glass surface was determined by comparing the case where the glass substrate immediately after the cleaning was placed downstream of the high-performance filter according to the present embodiment where no impurity gas was generated, with the conventional glass substrate. A comparison was made for the case where the filter was placed downstream of the ULPA filter. As shown in FIG. 21, in the case of the present invention, the contact angle increased by only 3 degrees even after 3 days, but when the conventional ULPA filter was used, the increase in the contact material from the constituent materials of the ULPA filter was observed. Due to the effect of degassing, the contact angle increased by 20 degrees. In FIG. 21,
Data when exposed to a clean room atmosphere without a chemical filter is also shown for reference.
【００５２】〔実施例２〕同様に図２に示すガス状不純
物処理システムに、高性能フィルタ１２０’として、図
８、図１０および図１１に示す本発明による金属製フレ
ームとガラス繊維素材から構成される高性能フィルタ４
２０を取り付け、実施例１と同様に、フィルタ下流側に
洗浄直後のガラス基板を置いて、接触角の経時変化を調
べたところ、３日間経過後も接触角の増加は全く観察さ
れなかった。Embodiment 2 Similarly, in the gaseous impurity treatment system shown in FIG. 2, a high performance filter 120 'is constituted by a metal frame and a glass fiber material according to the present invention shown in FIGS. 8, 10 and 11. High performance filter 4
No. 20 was attached, and a glass substrate immediately after washing was placed on the downstream side of the filter in the same manner as in Example 1. When the change over time in the contact angle was examined, no increase in the contact angle was observed even after 3 days.
【００５３】〔実施例３〕さらにまた、図３に示すガス
状不純物処理システムに、中性能フィルタ１２２とし
て、図１７に示す横振動型払い落とし機構を備えた金属
製メッシュ濾材から成る中性能フィルタを使用し、さら
に下流側に設置される高性能フィルタ１２４として、図
８、図１０および図１１に示す本発明による金属製フレ
ームとガラス繊維素材から構成される高性能フィルタ４
２０を取り付け、実施例１と同様に、最終段の高性能フ
ィルタ下流側に洗浄直後のガラス基板を置いて、接触角
の経時変化を調べたところ、３日間経過後も接触角の増
加は全く観察されなかった。Embodiment 3 Further, in the gaseous impurity treatment system shown in FIG. 3, as the medium performance filter 122, a medium performance filter made of a metal mesh filter provided with a lateral vibration type removing mechanism shown in FIG. And a high-performance filter 124 comprising a metal frame and a glass fiber material according to the present invention shown in FIG. 8, FIG. 10 and FIG.
20 was attached and the glass substrate immediately after washing was placed downstream of the high-performance filter in the final stage in the same manner as in Example 1, and the time-dependent change in the contact angle was examined. Not observed.
【００５４】以上、本発明に基づいて構成されたガス状
不純物処理システムおよび粒子除去フィルタの好適な実
施の形態について添付図面を参照しながら説明したが、
本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもな
い。特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内に
おいて、当業者であれば、さまざまな変形例および修正
例に想到することは明らかであり、それらについても、
本発明の技術的範囲に属するものと了解される。The preferred embodiments of the gaseous impurity treatment system and the particle removal filter according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings.
It goes without saying that the present invention is not limited to such an example. It is clear that, within the scope of the technical idea described in the claims, those skilled in the art can arrive at various modifications and alterations, and those modifications are also described.
It is understood that they belong to the technical scope of the present invention.
【００５５】例えば、上記実施の形態においては、ガス
状不純物を発生しない素材として、金属、セラミックス
およびガラス繊維などの無機素材や、フッ素樹脂パッキ
ンなどを使用する例を示したが、本発明はかかる例に限
定されない。本発明にいわゆるガス状不純物を発生しな
い素材には、加熱処理により揮発性成分を除去し、表面
汚染に関与するガス状不純物（フタル酸エステル類（Ｄ
ＯＰ、ＤＢＰなどの樹脂可塑剤）、シロキサン類（シー
ル材など）、リン酸エステル類（ＴＢＰなどの樹脂可塑
剤）、ＢＨＴ（樹脂参加防止剤））の発生をなくした素
材が含まれる。For example, in the above-described embodiment, an example is shown in which an inorganic material such as metal, ceramics and glass fiber, a fluororesin packing or the like is used as a material that does not generate gaseous impurities. It is not limited to the example. In a material that does not generate so-called gaseous impurities in the present invention, volatile components are removed by heat treatment, and gaseous impurities (phthalate esters (D
Materials that eliminate generation of OPs, DBPs and other resin plasticizers, siloxanes (such as sealing materials), phosphate esters (such as TBP and other resin plasticizers), and BHT (resin participation inhibitors).
【００５６】例えば、通常のフィルタの構成素材の中に
は、ガスケット、接着剤、フィルタ濾材などに各種有機
系の樹脂が使用されているが、これらの素材は、例え
ば、９０℃でベーキングすることで表面汚染に関与する
ガス状有機物の発生をなくすことが可能である。For example, among the constituent materials of ordinary filters, various organic resins are used for gaskets, adhesives, filter media, etc., and these materials are baked at 90 ° C., for example. Thus, it is possible to eliminate the generation of gaseous organic substances involved in surface contamination.
【００５７】以下、評価素材として、フィルタのシール
材などに使用されるウレタン樹脂を用いて、加熱処理に
よりガス状不純物の発生をなくした場合の効果について
説明すると、脱脂処理を施したステンレス製容器の中
に、清浄なシリコンウェハと評価素材を一緒に密封し、
３日間放置した。評価素材として、未処理のウレタン樹
脂と加熱処理を施したウレタン樹脂とを用い、放置後の
シリコンウェハ表面の純粋滴下接触角の値を比較した。The effect of eliminating the generation of gaseous impurities by heat treatment using a urethane resin used as a sealing material for a filter or the like as an evaluation material will be described below. Inside, seal the clean silicon wafer and the evaluation material together,
Left for 3 days. As an evaluation material, an untreated urethane resin and a heat-treated urethane resin were used, and the value of a pure drop contact angle on the silicon wafer surface after being left was compared.
【００５８】その結果、紫外線／オゾン洗浄で表面付着
有機物を完全に除去した清浄なシリコンウェハの接触角
は約３度であった。そして、未処理のウレタン樹脂と一
緒に密封したシリコンウェハ表面はウレタン樹脂からの
脱ガスに汚染され、接触角は２０度以上まで上昇した。
一方、加熱処理を施したシリコンウェハの接触角は清浄
なシリコンウェハの接触角とほとんど変わらなかった。
以上より、有機系樹脂を含む素材であっても、加熱処理
により揮発性成分を除去すれば、表面汚染に関与するガ
ス状有機物の発生を低減できることが判明した。As a result, the contact angle of the clean silicon wafer from which organic substances adhering to the surface were completely removed by ultraviolet / ozone cleaning was about 3 degrees. Then, the surface of the silicon wafer sealed together with the untreated urethane resin was contaminated by degassing from the urethane resin, and the contact angle increased to 20 degrees or more.
On the other hand, the contact angle of the heat-treated silicon wafer was almost the same as that of a clean silicon wafer.
From the above, it has been found that even when a material containing an organic resin is used, the removal of volatile components by heat treatment can reduce the generation of gaseous organic substances involved in surface contamination.
【００５９】[0059]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
未処理空気中に含まれるガス状不純物は除去するが、そ
れ自体が処理済空気中に粒子状不純物を発生するガス状
不純物除去手段の下流側に、ガス状不純物を発生しない
素材（例えば、金属やガラス繊維）のみから構成される
粒子状不純物を除去するフィルタ手段を設けているの
で、ガス状不純物除去手段により発生した粒子状不純物
も除去することが可能となり、装置自体が汚染源となら
ない。As described above, according to the present invention,
A material that does not generate gaseous impurities is removed downstream of the gaseous impurity removing means that removes gaseous impurities contained in the untreated air but generates particulate impurities in the treated air. Since the filter means for removing the particulate impurities composed only of the gaseous impurity is provided, it is also possible to remove the particulate impurities generated by the gaseous impurity removing means, and the apparatus itself does not become a pollution source.
【図１】本発明にかかるガス状不純物除去システムの実
施の一態様を示す概略的な構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing one embodiment of a gaseous impurity removal system according to the present invention.
【図２】本発明にかかるガス状不純物除去システムの実
施の別の態様を示す概略的な構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing another embodiment of the gaseous impurity removal system according to the present invention.
【図３】本発明にかかるガス状不純物除去システムの実
施のさらに別の態様を示す概略的な構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing still another embodiment of the gaseous impurity removal system according to the present invention.
【図４】本発明にかかるガス状不純物除去システムにバ
ックアップ用フィルタを設けた実施の態様を示す概略的
な構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an embodiment in which a backup filter is provided in the gaseous impurity removal system according to the present invention.
【図５】本発明にかかるガス状不純物除去システムにバ
ックアップ用フィルタを設けた実施の別の態様を示す概
略的な構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing another embodiment in which a backup filter is provided in the gaseous impurity removal system according to the present invention.
【図６】本発明にかかる粒子除去フィルタの実施の一態
様を示す概略的な分解組立図である。FIG. 6 is a schematic exploded view showing one embodiment of a particle removal filter according to the present invention.
【図７】図６に示す粒子除去フィルタの断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of the particle removal filter shown in FIG.
【図８】本発明にかかる粒子除去フィルタの実施の別の
態様を示す概略的な分解組立図である。FIG. 8 is a schematic exploded view showing another embodiment of the particle removal filter according to the present invention.
【図９】本発明にかかる粒子除去フィルタの実施のさら
に別の態様を示す概略的な分解組立図である。FIG. 9 is a schematic exploded view showing still another embodiment of the implementation of the particle removing filter according to the present invention.
【図１０】図１０（ａ）は、図８に示す粒子除去フィル
タの組立後の概略的な斜視図であり、図１０（ｂ）は、
図８に示す粒子除去フィルタに使用される金属枠の概略
を示す斜視図である。10 (a) is a schematic perspective view after assembling the particle removal filter shown in FIG. 8, and FIG. 10 (b)
It is a perspective view which shows the outline of the metal frame used for the particle removal filter shown in FIG.
【図１１】図８に示す粒子除去フィルタを風道に取り付
ける様子を示す概略的な説明図である。FIG. 11 is a schematic explanatory view showing a state in which the particle removal filter shown in FIG. 8 is attached to an airway.
【図１２】本発明にかかる粒子除去フィルタの実施のさ
らに別の態様を示している説明図である。FIG. 12 is an explanatory view showing still another embodiment of the implementation of the particle removal filter according to the present invention.
【図１３】本発明にかかる粒子除去フィルタの実施のさ
らに別の態様を示している説明図である。FIG. 13 is an explanatory view showing still another embodiment of the implementation of the particle removal filter according to the present invention.
【図１４】本発明にかかる粒子除去フィルタの実施のさ
らに別の態様を示している説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing still another embodiment of the particle removal filter according to the present invention.
【図１５】図１４に示す粒子除去フィルタの空気流れの
様子を示す説明図であり、（ａ）は空気流れが下向きの
場合、（ｂ）は空気流れが上向きの場合をそれぞれ示し
ている。FIGS. 15A and 15B are explanatory diagrams showing the state of air flow of the particle removal filter shown in FIG. 14, wherein FIG. 15A shows a case where the air flow is downward, and FIG. 15B shows a case where the air flow is upward.
【図１６】図１４に示す粒子除去フィルタの組立後の様
子を示す概略的な斜視図である。FIG. 16 is a schematic perspective view showing a state after assembling the particle removal filter shown in FIG. 14;
【図１７】本発明にかかるフィルタ再生機構つきの粒子
除去フィルタの実施の一態様を示す構成図である。FIG. 17 is a configuration diagram showing one embodiment of a particle removal filter with a filter regeneration mechanism according to the present invention.
【図１８】本発明にかかるフィルタ再生機構つきの粒子
除去フィルタの実施の別の態様を示す構成図である。FIG. 18 is a configuration diagram showing another embodiment of a particle removal filter with a filter regeneration mechanism according to the present invention.
【図１９】本発明にかかるフィルタ再生機構つきの粒子
除去フィルタの実施のさらに別の態様を示す構成図であ
る。FIG. 19 is a configuration diagram showing still another embodiment of a particle removal filter with a filter regeneration mechanism according to the present invention.
【図２０】接触角判定法における接触角とガラス基板の
有機物汚染状態との関係を示すグラフである。FIG. 20 is a graph showing the relationship between the contact angle and the state of organic substance contamination of the glass substrate in the contact angle determination method.
【図２１】ガラス基板に滴下された超純水の液滴の接触
角と暴露時間の関係を示すグラフであり、本発明にかか
るガス状不純物を発生しない素材のみで構成した粒子除
去フィルタを有するガス状不純物除去システムを使用し
た場合、ケミカルフィルタの下流側にガス状不純物の発
生がある素材を有する従来のＵＬＰＡフィルタを取り付
けたガス状不純物除去システムを使用した場合、ガス状
不純物の除去されていないクリーンルーム雰囲気を直接
使用した場合を、それぞれ示している。FIG. 21 is a graph showing a relationship between a contact angle of a droplet of ultrapure water dropped on a glass substrate and an exposure time, and has a particle removal filter according to the present invention composed only of a material that does not generate gaseous impurities. When a gaseous impurity removal system is used, when a conventional gaseous impurity removal system equipped with a conventional ULPA filter having a material that generates gaseous impurities downstream of the chemical filter is used, the gaseous impurities are removed. No clean room atmosphere is used, respectively.
１００ ガス状不純物処理システム １０２ ケーシング １１０ ケミカルフィルタ １２０ ガス状不純物を発生しない粒子除去フィルタ ４１０ 粒子除去フィルタ ４１２ フレーム ４１４ フィルタ ４１６ スペーサ 100 Gaseous impurity treatment system 102 Casing 110 chemical filter 120 Particle removal filter that does not generate gaseous impurities 410 Particle Removal Filter 412 frames 414 Filter 416 spacer
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 46/42 Ｂ０１Ｄ 46/42 Ｃ 46/52 46/52 Ｃ Ｚ (56)参考文献 特開 平７−136450（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−302487（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−183780（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−26605（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−64712（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−23522（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−149218（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 46/00 - 46/54 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI B01D 46/42 B01D 46/42 C 46/52 46/52 CZ (56) References JP-A-7-136450 (JP, A) JP JP-A-6-302487 (JP, A) JP-A-3-183780 (JP, A) JP-A-2-26605 (JP, A) JP-A-5-64712 (JP, A) JP-A-5-23522 (JP , A) JP-A-61-149218 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B01D 46/00-46/54
Claims (3)
除去するが、それ自体が処理済空気中に粒子状不純物を
発生するガス状不純物除去手段と、 前記ガス状不純物除去手段の下流側に配され、ガス状不
純物を発生しない素材のみから構成される粒子状不純物
を除去する高性能フィルタからなるフィルタ手段とを備
え、生成したクリーンエアを供給するガス状不純物処理
システムにおいて、前記ガス状不純物除去手段は、取り入れたクリーンルー
ム内での空気を圧縮する圧縮機と、前記空気を加熱し触
媒と反応させる反応塔と、処理済みの前記空気を冷却す
る熱交換器とから構成される接触触媒燃焼筒を含むもの
である ことを特徴とする、ガス状不純物処理システム。1. A gaseous impurity removal means for removing gaseous impurities contained in untreated air, which itself generates particulate impurities in the treated air, and a downstream side of the gaseous impurity removal means. A filter means comprising a high-performance filter for removing particulate impurities composed only of a material that does not generate gaseous impurities, wherein the gaseous impurity treatment system for supplying the generated clean air, The impurity removal means is the clean room
A compressor for compressing air in the system, and heating and contacting the air.
A reaction tower for reacting with the medium, and cooling the treated air.
Including a catalytic catalytic combustion cylinder comprising a heat exchanger
A gaseous impurity treatment system, characterized in that:
除去するが、それ自体が処理済空気中に粒子状不純物を
発生するガス状不純物除去手段と、 前記ガス状不純物除去手段の下流側に配され、ガス状不
純物を発生しない素材のみから構成される粒子状不純物
を除去する中性能及び高性能フィルタからなるフィルタ
手段とを備え、生成したクリーンエアを供給するガス状
不純物処理システムにおいて、前記ガス状不純物除去手段は、流動層吸着部と、シール
部と、吸着濾材搬送部とから構成される流動層吸着塔を
含むものである ことを特徴とする、ガス状不純物処理シ
ステム。2. A gaseous impurity removal means for removing gaseous impurities contained in untreated air, which itself generates particulate impurities in the treated air, and a downstream side of the gaseous impurity removal means. In the gaseous impurity processing system, which comprises medium-performance and high-performance filters for removing particulate impurities composed only of a material that does not generate gaseous impurities, and which supplies the generated clean air , The gaseous impurity removing means includes a fluidized bed adsorbing section, a seal
Fluidized bed adsorption tower consisting of
A gaseous impurity treatment system characterized by including:
除去するが、それ自体が処理済空気中に粒子状不純物を
発生するガス状不純物除去手段と、 前記ガス状不純物除去手段の下流側に配され、ガス状不
純物を発生しない素材のみから構成される粒子状不純物
を除去するフィルタ手段とを備え、生成したクリーンエ
アを供給するガス状不純物処理システムにおいて、 前記フィルタ手段は、中性能フィルタ及び高性能フィル
タを直列に設置され構成されるか、前記高性能フィルタ
のみで構成され、前記フィルタ手段に対し、前記フィル
タ手段のバックアップ用フィルタ手段が具備され、前記
バックアップ用フィルタ手段が、前記フィルタ手段の交
換時にクリーンエアの流路が切り換わる前 記中性能フィ
ルタと前記高性能フィルタの少なくとも一方に接続され
ていることを特徴とする、ガス状不純物処理システム。3. The gaseous impurities contained in the untreated air are:
Removes particulate impurities in the treated air
A means for removing gaseous impurities generated, and a gaseous impurity disposed downstream of the means for removing gaseous impurities.
Particulate impurities composed only of materials that do not generate pure substances
Filter means for removing the
In the gaseous impurity treatment system for supplying a filter , the filter means includes a medium-performance filter and a high-performance filter.
Or the high-performance filter
Only the filter means and the filter means
Backup filter means of the filter means, wherein the backup filter means exchanges the filter means .
Before in Symbol performance replace clean air flow path is cut in-over Fi
A gaseous impurity treatment system, wherein the gaseous impurity treatment system is connected to at least one of a filter and the high-performance filter .
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