JP3415039B2 - 弁装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば蒸気の流
れを調節するための弁装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、発電などに供されるタービンの
翼車回転用高圧蒸気は、ジェット噴流エネルギが消費さ
れた後でも高温エネルギを残留しているため、この余熱
を再利用すること、すなわち熱交換作用によりドレン化
した蒸気を再び高圧蒸気化してタービン翼の回転に供す
ることが行われている。

【０００３】ここで、このような蒸気の循環過程の調節
は、通常、流路の途中に設けられた弁装置によって行わ
れるが、その際に酸化物等の「水あか（スケール）」
が弁装置内に析出し、弁の動作を阻害するといった問題
が生じている。そこで、このようなスケールを掻き取る
ための掻き取り構造を持たせた弁装置が提案されてい
る。

【０００４】図１２は、特開昭５９−１５５６７５号公
報に示された従来の弁装置を示す断面図であり、図にお
いて、１０１は弁本体、１０２は流体の流入口、１０３
は流体の流出口、１０４は前記流入口１０２と流出口１
０３を結ぶ流路の途中に設けられた環状弁座、１０５は
前記環状弁座１０４内を往復移動することによって、流
路を接続または遮断する円筒プラグ、１０５ａは前記円
筒プラグ１０５の上面中心部に取り付けられたプラグ
軸、１０５ｃは前記円筒プラグ１０５の流路側の面から
流路とは反対側の面に貫通する貫通孔、１０６は前記環
状弁座１０４との同軸上に形成された開口部、１０７は
前記開口部１０６に嵌合された円筒状のガイド部材、１
０８は前記弁本体１０１の上部に固定された上蓋であ
り、プラグ軸１０５ａが挿通される挿通孔１０８ａが形
成されている。また、１０９は前記ガイド部材１０７の
下端部に取り付けられた環状スクレーパ、１１０は環状
スクレーパ１０９をガイド部材１０７に取り付けるため
のキャップ部材である。

【０００５】次に動作について説明する。この弁装置に
おいては、上記挿通孔１０８ａに挿通されたプラグ軸１
０５ａを支持して上下に往復操作すると、これに追従し
て上記円筒プラグ１０５が環状弁座１０４内を往復移動
する。ここで、円筒プラグ１０５が環状弁座１０４内を
進行することによって弁座が閉じたときには、流入口１
０２から流出口１０３への流体の流れは遮断される。一
方、円筒プラグ１０５が後退することによって弁座が開
口したときには、流入口１０２から流入した流体は環状
弁座１０４を通過して流出口１０３から流出される。

【０００６】このとき、流体が水蒸気であるような場合
には、水蒸気によって直撃される円筒プラグ１０５の外
周面にスケールが付着しやすい。これに対してこの弁装
置では、上記ガイド部材１０７の下端部に環状スクレー
パ１０９が取り付けられており、円筒プラグ１０５が上
下に往復移動する際に、上記環状スクレーパ１０９が円
筒プラグ１０５の外周面上を摺動する。この環状スクレ
ーパ１０９の摺動によって上記円筒プラグ１０５の外周
面に付着したスケールは掻き取られ、除去されることに
なる。

【０００７】また、図１３は、掻き取り部の他の例を示
す断面図であり、図において、２０５は円筒プラグ、２
０７はガイド部材、２０９は下端部にテーパ部を有する
スクレーパ、２１０はスクレーパ２０９をガイド部材２
０７に取り付けるためのキャップ部材である。

【０００８】この弁装置においても、円筒プラグ２０５
が上下に往復移動する際に、上記スクレーパ２０９の下
端部が円筒プラグ２０５の外周面上を摺動し、これによ
って円筒プラグ２０５の外周面に付着したスケールが掻
き取られ、除去されることになる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】従来の調節弁は以上の
ように構成されているので、スケールを十分に除去する
ことができないという課題があった。

【００１０】すなわち、蒸気に由来するスケールは、上
述の如く、主に円筒プラグ１０５，２０５の外周面に付
着するが、ガイド部材１０７，２０７の内周面に付着す
るものも無視できない。図１４は、図１２および図１３
に示す弁装置において、ガイド部材１０７，２０７の内
周面に付着したスケールが円筒プラグ１０５，２０５の
上側方向への移動に際して圧縮される様子を示す模式図
であり、図において２１１はスケールである。このよう
に、これらの弁装置では、ガイド部材１０７，２０７の
内周面に付着したスケール２１１は、円筒プラグ１０
５，２０５が上側方向へ移動する際に当該ガイド部材１
０７，２０７の内周面と円筒プラグ１０５，２０５の外
周面との間で圧縮されたり、あるいは一部削り取られて
ガイド部材１０７，２０７と円筒プラグ１０５，２０５
の隙間に入り込み、ガイド部材１０７，２０７や円筒プ
ラグ１０５，２０５を傷付けたり、円筒プラグ１０５，
２０５の往復移動を阻害してしまう。

【００１１】また、図１５は、上記弁装置において、円
筒プラグ１０５，２０５の外周面に付着したスケール２
１１が円筒プラグ１０５，２０５の下側方向への移動に
際して環状弁座１０４と円筒プラグ１０５，２０５の間
で圧縮される様子を示す模式図である。すなわち、これ
らの弁装置では、円筒プラグ１０５，２０５の外周面に
付着したスケール２１１のうち、スクレーパ１０９，２
０９によって摺動される領域に付着しているものは掻き
取り除去されるものの、スクレーパ１０９，２０９によ
って摺動される領域よりも下側の領域に付着したものは
そのまま残存したり、環状弁座１０４に当たることで一
部掻き取られる。そして、この残存したスケール２１１
や掻き取られたスケール２１１は、図１５に示すよう
に、環状弁座１０４と円筒プラグ１０５，２０５の隙間
で圧縮され、これら環状弁座１０４や円筒プラグ１０
５，２０５を傷つけたり、円筒プラグ１０５，２０５の
往復移動を阻害する。

【００１２】さらに、図１３に示すようなスクレーパ２
０９が取り付けられた弁装置においては、ガイド部材２
０７と円筒プラグ２０５の隙間に侵入した水蒸気によっ
て、ガイド部材２０７の内周面や、円筒プラグ２０５の
外周面のうちスクレーパ２０９によって摺動される領域
よりも上側の領域にスケールが堆積し、このスケールに
よっても各種部材の傷つきや弁の動作不良が誘発されて
しまう。

【００１３】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、弁内部に付着したスケールを確実
に除去することができ、円筒プラグ等の各種部材をスケ
ールによって傷つけることなく、円筒プラグが円滑に動
作する弁装置を得ることを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】この発明に係る弁装置
は、流体の流入口と流出口を有するとともに、これら流
入口と流出口を結ぶ流路の途中に環状弁座を有する弁本
体と、前記弁本体内に、前記環状弁座と同軸上となるよ
うに設けられた円筒状のガイド部材と、前記ガイド部材
に案内されつつ前記環状弁座内を往復移動することによ
って流入口側の流路と流出口側の流路を接続または遮断
する円筒プラグとを備えて構成され、上記環状弁座は、
円筒プラグが後退する方向側の内周縁部に、付着物を掻
き取るための掻き取り部が軸方向に立ち上がった凸部と
して設けられているものである。

【００１５】この発明に係る弁装置は、流体の流入口と
流出口を有するとともに、これら流入口と流出口を結ぶ
流路の途中に環状弁座を有する弁本体と、前記弁本体内
に、前記環状弁座と同軸上となるように設けられた円筒
状のガイド部材と、前記ガイド部材に案内されつつ前記
環状弁座内を往復移動することによって流入口側の流路
と流出口側の流路を接続または遮断する円筒プラグとを
備えて構成され、上記円筒プラグは、流路とは反対側の
外周縁部に、付着物を掻き取るための掻き取り部が軸方
向に立ち上がった凸部として形成されているとともに、
前記掻き取り部に対して内周側の領域に、貫通孔が形成
されているものである。

【００１６】この発明に係る弁装置は、環状弁座は、円
筒プラグが後退する方向側の内周縁部に付着物を掻き取
るための掻き取り部が軸方向に立ち上がった凸部として
形成され、円筒プラグは、前記流路とは反対側の外周縁
部に付着物を掻き取るための掻き取り部が設けられると
ともに、前記掻き取り部に対して内周側の領域に貫通孔
が形成されているものである。

【００１７】

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態１．図１はこの実施の形態１による弁装置を
示す断面図、図２は前記弁装置の環状弁座を示す断面
図、図３は前記弁装置の円筒プラグを示す断面図であ
る。図１〜図３において、１は弁本体、２は弁本体１の
流入口、３は弁本体１の流出口、４は流入口から流出口
を結ぶ流路の途中に設けられた環状弁座、４ａは前記環
状弁座４に形成された溝、４ｂは前記環状弁座４に形成
された掻き取り部、５は前記環状弁座４内を往復移動す
ることによって、上記流路を接続または遮断する円筒プ
ラグ、５ａは前記円筒プラグ５の上面中心部に取り付け
られたプラグ軸、５ｂは前記円筒プラグ５に形成された
掻き取り部、５ｃは前記円筒プラグ５の流路側の面から
流路とは反対側の面に貫通する貫通孔、６は前記環状弁
座４との同軸上に形成された開口部、７は前記開口部６
に嵌合された円筒状のガイド部材、８は前記弁本体１の
上部に固定された上蓋、８ａは上蓋８に形成されたプラ
グ軸５ａが挿通される挿通孔である。

【００１９】この弁装置において、環状弁座４は、図２
に示すように円筒状に形成され、その外周面及び内周面
の上部に段差が形成されている。そして、この環状弁座
４の上側（円筒プラグ５が後退する方向側）の端面に
は、内周円に沿って溝４ａが形成されるとともに、この
溝４ａに対して内周側の丘部に、内周側に向かって高さ
が高くなるように斜面が形成されており、この斜面の鋭
角状の内周縁部がスケールの掻き取り部４ｂとして機能
する。

【００２０】また、円筒プラグ５は、図３に示すように
上側（流路とは反対側）が閉塞された円筒状に形成され
ている。そして、この上側の外周縁部が、外周側に向か
って高さが高くなるように斜面が形成されることで鋭角
状とされており、この鋭角状の外周縁部がスケールの掻
き取り部５ｂとして機能する。また、この掻き取り部５
ｂに対して内周側の平坦部には貫通孔５ｃが複数形成さ
れている。この貫通孔５ｃは、流体圧力のバランス用孔
となるものであり、これによって円筒プラグ５の上下方
向から付与される流体圧力が互いに相殺され、円筒プラ
グに対する流体圧力の影響が抑えられる。

【００２１】次に動作について説明する。この弁装置に
おいては、上記挿通孔８ａに挿通されたプラグ軸５ａを
支持して上下に往復操作すると、これに追従して上記円
筒プラグ５が往復移動する。ここで、円筒プラグ５が環
状弁座４内を進行することによって弁座が閉じたときに
は、流入口２から流出口３への流体の流れは遮断され
る。一方、円筒プラグ５が環状弁座４内を後退すること
によって弁座が開口したときには、流入口２から流入し
た流体は環状弁座４を通過して流出口３から流出され
る。

【００２２】このとき、例えば流体が水蒸気であるよう
な場合には、水蒸気によって直撃される円筒プラグ５の
外周面にスケールが付着し易く、さらにガイド部材７と
円筒プラグ５および上蓋８によって囲まれた空間に侵入
してきた水蒸気によって、ガイド部材７の内周面にもス
ケールが析出する。これに対して、この弁装置では、環
状弁座４の内周縁部と円筒プラグ５の外周縁部にスケー
ルの掻き取り部４ｂ，５ｂが設けられ、これらの掻き取
り部４ｂ，５ｂによってスケールが確実に掻き取られ、
除去される。以下、このスケールの掻き取り過程を図
４，図５を参照しながら説明する。

【００２３】図４は、環状弁座４の掻き取り部４ｂによ
って円筒プラグ５の外周面が摺動されている様子を示す
構成図であり、（ａ）は円筒プラグ５が下側に移動して
いる場合の模式図、（ｂ）は円筒プラグ５が上側に移動
している場合の模式図である。また、図５は、円筒プラ
グ５の掻き取り部５ｂによってガイド部材７の内周面が
摺動されている様子を示す模式図である。図４，図５に
おいて、９はスケール（付着物）である。

【００２４】まず、図４（ａ）に示すように、円筒プラ
グ５の外周面に付着したスケール９は、当該円筒プラグ
５が下側に移動する際に環状弁座４の掻き取り部４ｂに
掻き取られ、環状弁座４の端面上に落下する。また、図
４（ｂ）に示すように円筒プラグが上側に移動する際
に、円筒プラグ５の外周面の下部に付着したスケール９
は、掻き取り部４ｂに掻き取られ、流体とともに流出さ
れる。

【００２５】一方、図５に示すように、ガイド部材７の
内周面に付着したスケール９は、円筒プラグ５が上側に
移動する際に当該円筒プラグ５の掻き取り部５ｂによっ
て掻き落とされる。そして、掻き落とされたスケール９
は、そのまま貫通孔５ｃを通過して流路に流れ落ち、流
体とともに流出される。

【００２６】以上のように、この実施の形態１によれ
ば、円筒プラグ５の外周面に析出したスケール９は、環
状弁座４の内周縁部に設けられた掻き取り部４ｂによっ
て確実に掻き取り除去され、ガイド部材７の内周面に析
出したスケール９は、円筒プラグ５の外周縁部に設けら
れた掻き取り部５ｂによって確実に掻き取り除去され
る。したがって、環状弁座４やガイド部材７、円筒プラ
グ５等をスケール９によって傷つけることなく、弁の開
閉動作を安定に行うことができるという効果が得られ
る。

【００２７】実施の形態２．この実施の形態２による弁
装置は、環状弁座の掻き取り部の形状を変えたこと以外
は実施の形態１の弁装置と同一構成とされており、ここ
では変更部分以外の説明は省略する。

【００２８】図６は、この実施の形態による環状弁座に
形成された掻き取り部を示す断面図であり、図におい
て、１０は環状弁座、１０ｂは掻き取り部、１０ｃは斜
面と平坦部の境界部である。

【００２９】図６に示すように、この環状弁座１０で
は、内周縁部に、内周側に向かって高さが高くなるよう
な斜面が形成されることで鋭角部が形成されており、こ
の鋭角部がスケールの掻き取り部１０ｂとして機能す
る。なお、この環状弁座１０において斜面と平坦部の境
界部１０ｃは曲面状とされている。

【００３０】以上のようにこの実施の形態２によれば、
環状弁座１０の内周縁部と円筒プラグ５の外周縁部に掻
き取り部５ｂ，１０ｂが形成されており、円筒プラグ５
の外周面に析出したスケール９は、環状弁座１０の内周
縁部に設けられた掻き取り部１０ｂによって確実に掻き
取り除去され、ガイド部材７の内周面に析出したスケー
ル９は、円筒プラグ５の外周縁部に設けられた掻き取り
部５ｂによって確実に掻き取り除去される。したがっ
て、環状弁座１０やガイド部材７、円筒プラグ５等をス
ケール９によって傷つけることなく、弁の開閉動作を安
定に行うことができるという効果が得られる。

【００３１】実施の形態３．この実施の形態３による弁
装置は、環状弁座の掻き取り部の形状を変えたこと以外
は実施の形態１の弁装置と同一構成とされており、ここ
では変更部分以外の説明は省略する。

【００３２】図７は、この実施の形態による環状弁座に
形成された掻き取り部を示す断面図であり、図におい
て、１１は環状弁座、１１ｂは掻き取り部である。図７
に示すように、この環状弁座１１では、内周縁部に断面
長方形状の凸部が内周円に沿って形成されており、この
凸部がスケールの掻き取り部１１ｂとして機能する。

【００３３】以上のようにこの実施の形態３によれば、
環状弁座１１の内周縁部と円筒プラグ５の外周縁部に掻
き取り部５ｂ、１１ｂが形成されており、円筒プラグ５
の外周面に析出したスケールは、環状弁座１１の内周縁
部に設けられた掻き取り部１１ｂによって確実に掻き取
り除去され、ガイド部材７の内周面に析出したスケール
は、円筒プラグ５の外周縁部に設けられた掻き取り部５
ｂによって確実に掻き取り除去される。したがって、環
状弁座１１やガイド部材７、円筒プラグ５等をスケール
によって傷つけることなく、弁の開閉動作を安定に行う
ことができるという効果が得られる。また、この実施の
形態３では特に、環状弁座１１の掻き取り部１１ｂが断
面長方形状であるので、鋭角状の掻き取り部に比べて摺
動に対する強度が強く、弁装置の耐久性を確保するのに
有利であるという効果がある。

【００３４】実施の形態４．この実施の形態４による弁
装置は、環状弁座の掻き取り部の形状を変えたこと以外
は実施の形態１の弁装置と同一構成とされており、ここ
では変更部分以外の説明は省略する。

【００３５】図８は、この実施の形態による環状弁座に
形成された掻き取り部を示す断面図であり、図におい
て、１２は環状弁座、１２ｂは掻き取り部である。図８
に示すように、この環状弁座１２では、内周縁部に断面
円弧状の凸部が内周円に沿って形成されており、この凸
部がスケールの掻き取り部１２ｂとして機能する。

【００３６】以上のようにこの実施の形態４によれば、
環状弁座１２の内周縁部と円筒プラグ５の外周縁部に掻
き取り部５ｂ，１２ｂが形成されており、円筒プラグ５
の外周面に析出したスケールは、環状弁座１２の内周縁
部に設けられた掻き取り部１２ｂによって確実に掻き取
り除去され、ガイド部材７の内周面に析出したスケール
は、円筒プラグ５の外周縁部に設けられた掻き取り部５
ｂによって確実に掻き取り除去される。したがって、環
状弁座１２やガイド部材７、円筒プラグ５等をスケール
によって傷つけることなく、弁の開閉動作を安定に行う
ことができるという効果が得られる。また、この実施の
形態４では特に、環状弁座１２の掻き取り部１２ｂが断
面円弧状であるので、断面長方形状の掻き取り部に比べ
て効率良くスケールを掻き取ることができ、また鋭角状
の掻き取り部に比べて摺動に対する強度が強く、弁装置
の耐久性を確保するのに有利であるという効果もある。

【００３７】

【００３８】

【００３９】

【００４０】

【００４１】

【００４２】

【００４３】実施の形態５． この実施の形態５による弁装置は、円筒プラグの掻き取
り部の形状を変えたこと以外は実施の形態１の弁装置と
同一構成とされており、ここでは変更部分以外の説明は
省略する。

【００４４】図９は、この実施の形態による円筒プラグ
に形成された掻き取り部を示す断面図であり、図におい
て、１５は円筒プラグ、１５ｂは掻き取り部、１５ｃは
斜面と平坦部の境界部である。図９に示すように、この
円筒プラグ１５では、外周縁部に、外周側に向かって高
さが高くなるような斜面が形成されることで鋭角部が形
成されており、この鋭角部がスケールの掻き取り部１５
ｂとして機能する。なお、この円筒プラグ１５において
斜面と平坦部の境界部１５ｃは曲面状とされている。

【００４５】以上のようにこの実施の形態５によれば、
環状弁座４の内周縁部と円筒プラグ１５の外周縁部に掻
き取り部４ｂ，１５ｂが形成されており、円筒プラグ１
５の外周面に析出したスケールは、環状弁座４の内周縁
部に設けられた掻き取り部４ｂによって確実に掻き取り
除去され、ガイド部材７の内周面に析出したスケール
は、円筒プラグ１５の外周縁部に設けられた掻き取り部
１５ｂによって確実に掻き取り除去される。したがっ
て、環状弁座４やガイド部材７、円筒プラグ１５等をス
ケールによって傷つけることなく、弁の開閉動作を安定
に行うことができるという効果が得られる。また、この
実施の形態５では特に、円筒プラグ１５の外周縁部に形
成された斜面と平坦部との境界部１５ｃが曲面状とされ
ているので、掻き取り部１５ｂで掻き取られたスケール
が曲面に沿って円滑に貫通孔まで移動する。したがっ
て、スケールを効率良く排出することができるという効
果がある。

【００４６】実施の形態６． この実施の形態６による弁装置は、円筒プラグの掻き取
り部の形状を変えたこと以外は実施の形態１の弁装置と
同一構成とされており、ここでは変更部分以外の説明は
省略する。

【００４７】図１０は、この実施の形態による円筒プラ
グに形成された掻き取り部を示す断面図であり、図にお
いて、１６は円筒プラグ、１６ｂは掻き取り部である。
図１０に示すようには、この円筒プラグでは、外周縁部
に断面長方形状の凸部が外周円に沿って形成されてお
り、この凸部がスケールの掻き取り部１６ｂとして機能
する。

【００４８】以上のようにこの実施の形態６によれば、
環状弁座４の内周縁部と円筒プラグ１６の外周縁部に掻
き取り部４ｂ，１６ｂが形成されており、円筒プラグ１
６の外周面に析出したスケールは、環状弁座４の内周縁
部に設けられた掻き取り部４ｂによって確実に掻き取り
除去され、ガイド部材７の内周面に析出したスケール
は、円筒プラグ１６の外周縁部に設けられた掻き取り部
１６ｂによって確実に掻き取り除去される。したがっ
て、環状弁座４やガイド部材７、円筒プラグ１６等をス
ケールによって傷つけることなく、弁の開閉動作を安定
に行うことができるという効果が得られる。また、この
実施の形態６では特に、円筒プラグ１６の掻き取り部１
６ｂが断面長方形状であるので、鋭角状の掻き取り部に
比べて摺動に対する強度が強く、弁装置の耐久性を確保
するのに有利であるという効果がある。

【００４９】実施の形態７． この実施の形態７による弁装置は、円筒プラグの掻き取
り部の形状を変えたこと以外は実施の形態１の弁装置と
同一構成とされており、ここでは変更部分以外の説明は
省略する。

【００５０】図１１は、この実施の形態による円筒プラ
グに形成された掻き取り部を示す断面図であり、図にお
いて、１７は円筒プラグ、１７ｂは掻き取り部である。
図１１に示すように、この円筒プラグ１７では、外周縁
部に断面円弧状の凸部が外周円に沿って形成されてお
り、この凸部がスケールの掻き取り部１７ｂとして機能
する。

【００５１】以上のようにこの実施の形態７によれば、
環状弁座４の内周縁部と円筒プラグ１７の外周縁部に掻
き取り部４ｂ，１７ｂが形成されており、円筒プラグ１
７の外周面に析出したスケールは、環状弁座４の内周縁
部に設けられた掻き取り部４ｂによって確実に掻き取り
除去され、ガイド部材７の内周面に析出したスケール
は、円筒プラグ１７の外周縁部に設けられた掻き取り部
１７ｂによって確実に掻き取り除去される。したがっ
て、環状弁座４やガイド部材７、円筒プラグ１７等をス
ケールによって傷つけることなく、弁の開閉動作を安定
に行うことができるという効果が得られる。また、この
実施の形態７では特に、円筒プラグ１７の掻き取り部１
７ｂが断面円弧状であるので、断面長方形状の掻き取り
部に比べて効率良くスケールを掻き取ることができ、ま
た鋭角状の掻き取り部に比べて摺動に対する強度が強
く、弁装置の耐久性を確保するのに有利であるという効
果もある。

【００５２】

【００５３】

【００５４】

【００５５】

【００５６】

【００５７】

【００５８】以上、この発明の弁装置の具体的構成を実
施の形態１〜実施の形態７によって説明したが、環状弁
座の掻き取り部と円筒プラグの掻き取り部の組み合わせ
はこれに限るものではなく、他の組み合わせを採用して
も構わない。また、この実施の形態では、環状弁座と円
筒プラグの両方に掻き取り部を設けた場合を例にして説
明したが、いずれか一方であっても効果はある。但し、
各種部材の傷つき防止、弁の動作の安定化を十分に図る
ためには、環状弁座と円筒プラグの両方に掻き取り部を
設けるのが望ましい。また、環状弁座の掻き取り部は、
環状弁座の上端のみまたは、上端および下端に設けるこ
ととし、上端部および下端部の形状の組み合わせは任意
である。

【００５９】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、流体
の流入口と流出口を有するとともに、これら流入口と流
出口を結ぶ流路の途中に環状弁座を有する弁本体と、前
記弁本体内に、前記環状弁座と同軸上となるように設け
られた円筒状のガイド部材と、前記ガイド部材に案内さ
れつつ前記環状弁座内を往復移動することによって流入
口側の流路と流出口側の流路を接続または遮断する円筒
プラグとによって弁装置を構成し、上記環状弁座の円筒
プラグが後退する方向側の内周縁部に、付着物を掻き取
るための掻き取り部が軸方向に立ち上がった凸部として
設けたので、円筒プラグの外周面に析出した付着物を確
実に掻き取り除去することができ、環状弁座や円筒プラ
グを傷つけることなく、弁の開閉動作を安定に行うこと
ができるという効果がある。

【００６０】この発明によれば、流体の流入口と流出口
を有するとともに、これら流入口と流出口を結ぶ流路の
途中に環状弁座を有する弁本体と、前記弁本体内に、前
記環状弁座と同軸上となるように設けられた円筒状のガ
イド部材と、前記ガイド部材に案内されつつ前記環状弁
座内を往復移動することによって流入口側の流路と流出
口側の流路を接続または遮断する円筒プラグとによって
弁装置を構成し、上記円筒プラグの流路とは反対側の外
周縁部に、付着物を掻き取るための掻き取り部が軸方向
に立ち上がった凸部として形成されているとともに、前
記掻き取り部に対して内周側の領域に貫通孔を形成した
ので、ガイド部材の内周面に析出した付着物を確実に掻
き取り除去することができ、ガイド部材や円筒プラグを
傷つけることなく、弁の開閉動作を安定に行うことがで
きるという効果がある。

【００６１】この発明によれば、環状弁座の円筒プラグ
が後退する方向側の内周縁部に、付着物を掻き取るため
の掻き取り部が軸方向に立ち上がった凸部として設け、
且つ、円筒プラグの前記流路とは反対側の外周縁部に、
付着物を掻き取るための掻き取り部を設けるとともに前
記掻き取り部に対して内周側の領域に貫通孔を形成した
ので、円筒プラグの外周面に析出した付着物とガイド部
材の内周面に析出した付着物を確実に掻き取り除去する
ことができ、環状弁座やガイド部材、円筒プラグ等を傷
つけることなく、弁の開 閉動作を安定に行うことがで
きるという効果がある。

【００６２】

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態１による弁装置を示す断
面図である。

【図２】この発明の実施の形態１による弁装置の環状弁
座を示す断面図である。

【図３】この発明の実施の形態１による弁装置の円筒プ
ラグを示す断面図である。

【図４】この発明の実施の形態１による弁装置におい
て、円筒プラグに付着したスケールが環状弁座の掻き取
り部によって掻き取られる様子を示す構成図であり、
（ａ）は円筒プラグが下側に移動する際の様子を示す模
式図、（ｂ）は円筒プラグが上側に移動する際の様子を
示す模式図である。

【図５】この発明の実施の形態１による弁装置におい
て、ガイド部材に付着したスケールが円筒プラグの掻き
取り部によって掻き取られる様子を示す模式図である。

【図６】この発明の実施の形態２による弁装置の、環状
弁座に形成された掻き取り部を示す断面図である。

【図７】この発明の実施の形態３による弁装置の、環状
弁座に形成された掻き取り部を示す断面図である。

【図８】この発明の実施の形態４による弁装置の、環状
弁座に形成された掻き取り部を示す断面図である。

【図９】この発明の実施の形態５による弁装置の、環状
弁座に形成された掻き取り部を示す断面図である。

【図１０】この発明の実施の形態６による弁装置の、環
状弁座に形成された掻き取り部を示す断面図である。

【図１１】この発明の実施の形態７による弁装置の、円
筒プラグに形成された掻き取り部を示す断面図である。

【図１２】従来の弁装置を示す断面図である。

【図１３】従来の弁装置の他の例を示す断面図である。

【図１４】従来の弁装置において、ガイド部材と円筒プ
ラグの間でスケールが圧縮されている状態を示す模式図
である。

【図１５】従来の弁装置において、環状弁座と円筒プラ
グの間でスケールが圧縮されている状態を示す模式図で
ある。

【符号の説明】 １ 弁本体 ２ 流入口 ３ 流出口 ４，１０，１１，１２ 環状弁座 ４ｂ，５ｂ，１０ｂ，１１ｂ，１２ｂ，１５ｂ，１６
ｂ，１７ｂ 掻き取り部 ５，１５，１６，１７ 円筒プラグ ５ｃ 貫通孔 ７ ガイド部材 ９ スケール（付着物）

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−155509（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−273638（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−155675（ＪＰ，Ａ) 実開 平５−96642（ＪＰ，Ｕ) 欧州特許出願公開362518（ＥＰ，Ａ ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) F16K 3/24 F16K 51/00

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 流体の流入口と流出口を有するととも
   に、これら流入口と流出口を結ぶ流路の途中に環状弁座
   を有する弁本体と、前記弁本体内に、前記環状弁座と同
   軸上となるように設けられた円筒状のガイド部材と、前
   記ガイド部材に案内されつつ前記環状弁座内を往復移動
   することによって流入口側の流路と流出口側の流路を接
   続または遮断する円筒プラグとを備えた弁装置におい
   て、 上記環状弁座は、円筒プラグが後退する方向側の内周縁
   部に、付着物を掻き取るための掻き取り部が軸方向に立
   ち上がった凸部として設けられていることを特徴とする
   弁装置。
2. 【請求項２】 流体の流入口と流出口を有するととも
   に、これら流入口と流出口を結ぶ流路の途中に環状弁座
   を有する弁本体と、前記弁本体内に、前記環状弁座と同
   軸上となるように設けられた円筒状のガイド部材と、前
   記ガイド部材に案内されつつ前記環状弁座内を往復移動
   することによって流入口側の流路と流出口側の流路を接
   続または遮断する円筒プラグとを備えた弁装置におい
   て、 上記円筒プラグは、流路とは反対側の外周縁部に、付着
   物を掻き取るための掻き取り部が軸方向に立ち上がった
   凸部として形成されているとともに、前記掻き取り部に
   対して内周側の領域に、貫通孔が形成されていることを
   特徴とする弁装置。
3. 【請求項３】 円筒プラグは、前記流路とは反対側の外
   周縁部に、付着物を掻き取るための掻き取り部が設けら
   れるとともに、前記掻き取り部に対して内周側の領域
   に、貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項１
   記載の弁装置。