JP3413377B2 - 光学系評価用試料、光学系評価方法および光学系調整方法 - Google Patents
光学系評価用試料、光学系評価方法および光学系調整方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、操作光のスポット
の径、形状および位置を評価する光学系評価方法、この
光学系評価方法による評価結果に基づいて操作光の光学
系を調整する光学系調整方法、ならびに、この光学系評
価方法および光学系調整方法において用いられる光学系
評価用試料に関するものである。
の径、形状および位置を評価する光学系評価方法、この
光学系評価方法による評価結果に基づいて操作光の光学
系を調整する光学系調整方法、ならびに、この光学系評
価方法および光学系調整方法において用いられる光学系
評価用試料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】顕微鏡下で試料を観察しつつ該試料を光
で操作する場合、試料を観察するための照明光（可視
光）を出力する光源と、試料を操作するための操作光
（一般には紫外光）を出力する光源とが必要である。通
常の場合、照明光は顕微鏡下の視野の全面に照射され、
操作光は視野中の特定の位置に集光照射される。そし
て、試料の観察は対物レンズを通して行われ、また、操
作光も該対物レンズを通して試料に集光照射される。
で操作する場合、試料を観察するための照明光（可視
光）を出力する光源と、試料を操作するための操作光
（一般には紫外光）を出力する光源とが必要である。通
常の場合、照明光は顕微鏡下の視野の全面に照射され、
操作光は視野中の特定の位置に集光照射される。そし
て、試料の観察は対物レンズを通して行われ、また、操
作光も該対物レンズを通して試料に集光照射される。
【０００３】このように顕微鏡下で試料の観察および操
作を行う際には、試料観察時の像面位置と操作光の集光
位置との間の関係を明確にすることが重要である。ま
た、操作光の集光位置におけるスポットの大きさや形状
も確認することが重要である。これらの事項を評価する
光学系評価方法として、透明基板上に蒸着された金属薄
膜、透明基板上に塗布された色素薄膜、または、感熱紙
を、光学系評価用試料として用いる方法が考えられる。
この方法では、光学系評価用試料を操作光により爆蝕す
ることで、スポットの径、形状および位置を求める。或
いは、操作光の反射光に基づいて確認する方法も考えら
れる。さらに、この光学系評価方法による評価結果に基
づいて操作光の光学系を調整する光学系調整方法が考え
られる。
作を行う際には、試料観察時の像面位置と操作光の集光
位置との間の関係を明確にすることが重要である。ま
た、操作光の集光位置におけるスポットの大きさや形状
も確認することが重要である。これらの事項を評価する
光学系評価方法として、透明基板上に蒸着された金属薄
膜、透明基板上に塗布された色素薄膜、または、感熱紙
を、光学系評価用試料として用いる方法が考えられる。
この方法では、光学系評価用試料を操作光により爆蝕す
ることで、スポットの径、形状および位置を求める。或
いは、操作光の反射光に基づいて確認する方法も考えら
れる。さらに、この光学系評価方法による評価結果に基
づいて操作光の光学系を調整する光学系調整方法が考え
られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
光学系評価方法および光学系調整方法は以下のような問
題点を有している。すなわち、透明基板上に蒸着された
金属薄膜を光学系評価用試料として用いる場合、操作光
強度が比較的小さいときには光学系評価用試料が爆蝕さ
れないので、スポットの径や形状を確認することができ
る操作光の強度の範囲が制限される。また、この場合、
爆蝕されるスポットの径や形状が操作光強度に依存して
異なることから、スポットの径や形状を正確に評価する
ことが困難である。透明基板上に塗布された色素薄膜ま
たは感熱紙を光学系評価用試料として用いる場合、スポ
ットの径や形状を確認することができる操作光の強度の
範囲が広くなるものの、スポットの径や形状を正確に評
価することが困難である。また、これら何れの場合も、
試料観察時の像面位置と操作光の集光位置との間の関係
を確認するには、光学系評価用試料を微小距離ずつ移動
させながら爆蝕させる必要があることから、その確認は
極めて困難である。さらに、操作光の反射光に基づいて
確認する場合、試料観察時の像面位置と操作光の集光位
置とが一致していないときには、スポットの径や形状を
評価することができない。
光学系評価方法および光学系調整方法は以下のような問
題点を有している。すなわち、透明基板上に蒸着された
金属薄膜を光学系評価用試料として用いる場合、操作光
強度が比較的小さいときには光学系評価用試料が爆蝕さ
れないので、スポットの径や形状を確認することができ
る操作光の強度の範囲が制限される。また、この場合、
爆蝕されるスポットの径や形状が操作光強度に依存して
異なることから、スポットの径や形状を正確に評価する
ことが困難である。透明基板上に塗布された色素薄膜ま
たは感熱紙を光学系評価用試料として用いる場合、スポ
ットの径や形状を確認することができる操作光の強度の
範囲が広くなるものの、スポットの径や形状を正確に評
価することが困難である。また、これら何れの場合も、
試料観察時の像面位置と操作光の集光位置との間の関係
を確認するには、光学系評価用試料を微小距離ずつ移動
させながら爆蝕させる必要があることから、その確認は
極めて困難である。さらに、操作光の反射光に基づいて
確認する場合、試料観察時の像面位置と操作光の集光位
置とが一致していないときには、スポットの径や形状を
評価することができない。
【０００５】本発明は、上記問題点を解消する為になさ
れたものであり、操作光のスポットの径、形状および位
置を正確かつ容易に評価することができる光学系評価方
法、操作光の光学系を正確かつ容易に調整することがで
きる光学系調整方法、ならびに、この光学系評価方法お
よび光学系調整方法において好適に用いられる光学系評
価用試料を提供することを目的とする。
れたものであり、操作光のスポットの径、形状および位
置を正確かつ容易に評価することができる光学系評価方
法、操作光の光学系を正確かつ容易に調整することがで
きる光学系調整方法、ならびに、この光学系評価方法お
よび光学系調整方法において好適に用いられる光学系評
価用試料を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光学系評価
用試料は、透明基板の表面上に粒子が存在し、光試薬を
含む膜が透明基板の表面上の粒子を覆って形成されてい
ることを特徴とする。本発明に係る光学系評価方法は、
(1) 上記の光学系評価用試料の粒子に試料観察時の像面
位置を合わせ、(2) 光学系評価用試料に操作光を照射し
てスポット領域を形成し、(3) 光学系評価用試料のスポ
ット領域の位置に試料観察時の像面位置を合わせるとと
もに、この像面位置合わせに際して要した像面位置の移
動量を求め、(4) この像面位置の移動量に基づいて操作
光の光学系を評価する、ことを特徴とする。また、本発
明に係る光学系評価方法において、スポット領域の径ま
たは形状の観察にも基づいて操作光の光学系を評価する
のも好適である。さらに、本発明に係る光学系調整方法
は、上記の光学系評価方法による操作光の光学系の評価
結果に基づいて操作光の光学系を調整することを特徴と
する。
用試料は、透明基板の表面上に粒子が存在し、光試薬を
含む膜が透明基板の表面上の粒子を覆って形成されてい
ることを特徴とする。本発明に係る光学系評価方法は、
(1) 上記の光学系評価用試料の粒子に試料観察時の像面
位置を合わせ、(2) 光学系評価用試料に操作光を照射し
てスポット領域を形成し、(3) 光学系評価用試料のスポ
ット領域の位置に試料観察時の像面位置を合わせるとと
もに、この像面位置合わせに際して要した像面位置の移
動量を求め、(4) この像面位置の移動量に基づいて操作
光の光学系を評価する、ことを特徴とする。また、本発
明に係る光学系評価方法において、スポット領域の径ま
たは形状の観察にも基づいて操作光の光学系を評価する
のも好適である。さらに、本発明に係る光学系調整方法
は、上記の光学系評価方法による操作光の光学系の評価
結果に基づいて操作光の光学系を調整することを特徴と
する。
【０００７】この光学系調整用試料を用いた光学系評価
方法および光学系調整方法によれば、操作光強度が比較
的小さくても光学系評価用試料の膜に含まれる光試薬が
光反応するので、スポットの径や形状を確認することが
できる操作光の強度の範囲が広い。また、得られるスポ
ットの径や形状が操作光強度に依存して異なることがな
いから、スポットの径や形状を正確に評価することが容
易である。試料観察時の像面位置と操作光の集光位置と
の間の関係を確認する際には、光学系評価用試料を微小
距離ずつ移動させながら爆蝕させる必要がなく、１回の
操作光の照射により確認することができるので、その確
認は容易である。また、試料観察時の像面位置と操作光
の集光位置とが一致していないときであっても、スポッ
トの径や形状を評価することができる。
方法および光学系調整方法によれば、操作光強度が比較
的小さくても光学系評価用試料の膜に含まれる光試薬が
光反応するので、スポットの径や形状を確認することが
できる操作光の強度の範囲が広い。また、得られるスポ
ットの径や形状が操作光強度に依存して異なることがな
いから、スポットの径や形状を正確に評価することが容
易である。試料観察時の像面位置と操作光の集光位置と
の間の関係を確認する際には、光学系評価用試料を微小
距離ずつ移動させながら爆蝕させる必要がなく、１回の
操作光の照射により確認することができるので、その確
認は容易である。また、試料観察時の像面位置と操作光
の集光位置とが一致していないときであっても、スポッ
トの径や形状を評価することができる。
【０００８】本発明に係る光学系調整用試料において、
粒子が蛍光性のものである場合には、落射蛍光照明によ
り粒子をＳ／Ｎ比よく認識できるので好適である。膜が
ゲルである場合には、膜の屈折率の値が水の屈折率の値
と近くなり、水浸系の顕微鏡の光学系の評価または調整
を行う上で好適である。光試薬がケイジド蛍光色素であ
る場合には、スポットを記録する上で好適であり、光試
薬がフォトクロミック化合物である場合には、繰り返し
使用する場合に好適である。
粒子が蛍光性のものである場合には、落射蛍光照明によ
り粒子をＳ／Ｎ比よく認識できるので好適である。膜が
ゲルである場合には、膜の屈折率の値が水の屈折率の値
と近くなり、水浸系の顕微鏡の光学系の評価または調整
を行う上で好適である。光試薬がケイジド蛍光色素であ
る場合には、スポットを記録する上で好適であり、光試
薬がフォトクロミック化合物である場合には、繰り返し
使用する場合に好適である。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明にお
いて同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を
省略する。
の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明にお
いて同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を
省略する。
【００１０】先ず、本実施形態に係る光学系評価用試料
について説明する。図１は、本実施形態に係る光学系評
価用試料１０の断面図である。この光学系評価用試料１
０は、透明基板１１の表面上に粒子１２が存在し、光試
薬を含む膜１３が透明基板１１の表面上に粒子１２を覆
って形成されたものである。透明基板１１は、例えばス
ライドガラスおよびカバーガラス等であるが、その厚み
が０．１ｍｍ〜０．２ｍｍ程度であるのが好適である。
また、評価しようとしている光学系を通過する操作光の
波長が紫外光であれば、透明基板１１は、その操作光の
照射に因り蛍光が生じ難い材質（例えば石英ガラス）か
らなるものであるのがＳ／Ｎ比の観点から好適である。
について説明する。図１は、本実施形態に係る光学系評
価用試料１０の断面図である。この光学系評価用試料１
０は、透明基板１１の表面上に粒子１２が存在し、光試
薬を含む膜１３が透明基板１１の表面上に粒子１２を覆
って形成されたものである。透明基板１１は、例えばス
ライドガラスおよびカバーガラス等であるが、その厚み
が０．１ｍｍ〜０．２ｍｍ程度であるのが好適である。
また、評価しようとしている光学系を通過する操作光の
波長が紫外光であれば、透明基板１１は、その操作光の
照射に因り蛍光が生じ難い材質（例えば石英ガラス）か
らなるものであるのがＳ／Ｎ比の観点から好適である。
【００１１】透明基板１１の表面上に存在する粒子１２
は、透明基板１１の表面上に多数配置されており、試料
観察時の像面位置の調整に用いられる。この粒子１２の
大きさは既知であって一定であるが好適であり、このよ
うな粒子１２を用いることでスケールとしての役割を果
たすことができる。粒子１２の大きさは直径０．１μｍ
〜５μｍ程度であるのが好適である。粒子１２の材質
は、ポリスチレンであるのが好適である。粒子１２は、
蛍光性でも非蛍光性でもよいが、蛍光性であれば落射蛍
光照明により位置を容易に確認することができて使い易
い。また、粒子１２の表面にカルボキシル基が付いてい
れば、透明基板１１の表面にポリリジンを予めコートし
ておくことで、透明基板１１の表面に粒子１２を化学結
合により貼り付けることができるので好適である。
は、透明基板１１の表面上に多数配置されており、試料
観察時の像面位置の調整に用いられる。この粒子１２の
大きさは既知であって一定であるが好適であり、このよ
うな粒子１２を用いることでスケールとしての役割を果
たすことができる。粒子１２の大きさは直径０．１μｍ
〜５μｍ程度であるのが好適である。粒子１２の材質
は、ポリスチレンであるのが好適である。粒子１２は、
蛍光性でも非蛍光性でもよいが、蛍光性であれば落射蛍
光照明により位置を容易に確認することができて使い易
い。また、粒子１２の表面にカルボキシル基が付いてい
れば、透明基板１１の表面にポリリジンを予めコートし
ておくことで、透明基板１１の表面に粒子１２を化学結
合により貼り付けることができるので好適である。
【００１２】光試薬を含む膜１３は、透明基板１１の表
面上に粒子１２を覆って形成されている。膜１３は、光
試薬を含んで水溶性高分子がマトリックスとなってゲル
状態となったものである。水溶性高分子として好適なも
のは、アガロース、ポリアクリルアミド、コラーゲンお
よびポリビニルアルコール等である。安定性や光透過特
性の観点からは、重合度３０００以上のポリビニルアル
コールが好適である。また、ゲル中のポリビニルアルコ
ールの濃度は５％〜１５％程度であるのが好適であり、
このようにすることで、光試薬の内部拡散を防止するこ
とができ、安定性に優れたものとなる。また、膜１３を
ゲル状態とすることで、膜１３の屈折率の値が水の屈折
率の値と近くなり、水浸系の顕微鏡の光学系の評価また
は調整を行う上で好適である。膜１３の厚さは数十μｍ
〜数百μｍ程度であるのが好適である。また、膜１３内
の水分の蒸発や溶媒への溶解を防止するために、膜１３
の上部がコーティング材で覆われているのも好適であ
る。
面上に粒子１２を覆って形成されている。膜１３は、光
試薬を含んで水溶性高分子がマトリックスとなってゲル
状態となったものである。水溶性高分子として好適なも
のは、アガロース、ポリアクリルアミド、コラーゲンお
よびポリビニルアルコール等である。安定性や光透過特
性の観点からは、重合度３０００以上のポリビニルアル
コールが好適である。また、ゲル中のポリビニルアルコ
ールの濃度は５％〜１５％程度であるのが好適であり、
このようにすることで、光試薬の内部拡散を防止するこ
とができ、安定性に優れたものとなる。また、膜１３を
ゲル状態とすることで、膜１３の屈折率の値が水の屈折
率の値と近くなり、水浸系の顕微鏡の光学系の評価また
は調整を行う上で好適である。膜１３の厚さは数十μｍ
〜数百μｍ程度であるのが好適である。また、膜１３内
の水分の蒸発や溶媒への溶解を防止するために、膜１３
の上部がコーティング材で覆われているのも好適であ
る。
【００１３】膜１３に含まれる光試薬は、評価しようと
している操作光を吸収すると、蛍光を発したり、着色し
たり、或いは、吸光度が変化したりするものであり、例
えばケイジド蛍光色素やフォトクロミック化合物であ
る。スポットを記録するにはケイジド蛍光色素を用いる
のが好適であり、繰り返し使用する場合にはフォトクロ
ミック化合物を用いるのが好適である。ゲル中の光試薬
の濃度は０．１ｍＭ〜０．５ｍＭ程度であるのが好適で
ある。
している操作光を吸収すると、蛍光を発したり、着色し
たり、或いは、吸光度が変化したりするものであり、例
えばケイジド蛍光色素やフォトクロミック化合物であ
る。スポットを記録するにはケイジド蛍光色素を用いる
のが好適であり、繰り返し使用する場合にはフォトクロ
ミック化合物を用いるのが好適である。ゲル中の光試薬
の濃度は０．１ｍＭ〜０．５ｍＭ程度であるのが好適で
ある。
【００１４】次に、本実施形態に係る光学系評価用試料
の作製方法の１例について説明する。なお、以下では、
透明基板１１をカバーガラスとし、粒子１２を直径０．
５μｍの蛍光性ビーズとし、光試薬をケイジドフルオレ
ッセインとし、膜１３をポリビニルアルコールのゲル状
のものとする。
の作製方法の１例について説明する。なお、以下では、
透明基板１１をカバーガラスとし、粒子１２を直径０．
５μｍの蛍光性ビーズとし、光試薬をケイジドフルオレ
ッセインとし、膜１３をポリビニルアルコールのゲル状
のものとする。
【００１５】透明基板（カバーガラス）１１の表面への
粒子（蛍光性ビーズ）１２の貼り付けを以下のようにし
て行う。すなわち、透明基板１１を洗浄して、透明基板
１１の表面を充分にきれいにする。この透明基板１１の
表面上に濃度０．０１％のポリＤリジン（poly D lysin
e）水溶液をのせ、これを室温で１５分間に亘り放置し
た後、これを蒸留水で静かに２回洗浄する。そして、透
明基板１１の表面上に粒子１２の懸濁液をのせ、蒸留水
で静かに洗浄することで、透明基板１１の表面に付着し
なかった余分な粒子１２を洗い流す。
粒子（蛍光性ビーズ）１２の貼り付けを以下のようにし
て行う。すなわち、透明基板１１を洗浄して、透明基板
１１の表面を充分にきれいにする。この透明基板１１の
表面上に濃度０．０１％のポリＤリジン（poly D lysin
e）水溶液をのせ、これを室温で１５分間に亘り放置し
た後、これを蒸留水で静かに２回洗浄する。そして、透
明基板１１の表面上に粒子１２の懸濁液をのせ、蒸留水
で静かに洗浄することで、透明基板１１の表面に付着し
なかった余分な粒子１２を洗い流す。
【００１６】続いて、光試薬（ケイジドフルオレッセイ
ン）を含む膜（ポリビニルアルコールのゲル）１３で透
明基板１１の表面上の粒子１２を覆う。すなわち、ポリ
ビニルアルコール１ｇを水に溶かして、１０ｍｌのポリ
ビニルアルコール水溶液とする。一方、光試薬の３ｍＭ
水溶液を１ｍｌ調整する。そして、光試薬水溶液とポリ
ビニルアルコール水溶液とを１：９の割合で混合する。
粒子１２が付着した透明基板１１の表面上にこの混合液
をのせて、これが固まるまで冷暗所にて放置する。以上
のようにして光学系評価用試料１０が作製される。
ン）を含む膜（ポリビニルアルコールのゲル）１３で透
明基板１１の表面上の粒子１２を覆う。すなわち、ポリ
ビニルアルコール１ｇを水に溶かして、１０ｍｌのポリ
ビニルアルコール水溶液とする。一方、光試薬の３ｍＭ
水溶液を１ｍｌ調整する。そして、光試薬水溶液とポリ
ビニルアルコール水溶液とを１：９の割合で混合する。
粒子１２が付着した透明基板１１の表面上にこの混合液
をのせて、これが固まるまで冷暗所にて放置する。以上
のようにして光学系評価用試料１０が作製される。
【００１７】次に、本実施形態に係る光学系評価方法お
よび光学系調整方法について図２〜図４を用いて説明す
る。図２は、本実施形態に係る光学系評価方法および光
学系調整方法を説明するタイミングチャートである。図
３は、本実施形態に係る光学系評価方法および光学系調
整方法における操作光の照射を説明する図である。図４
は、本実施形態に係る光学系評価方法および光学系調整
方法を説明するための光学系評価用試料１０の断面図で
ある。
よび光学系調整方法について図２〜図４を用いて説明す
る。図２は、本実施形態に係る光学系評価方法および光
学系調整方法を説明するタイミングチャートである。図
３は、本実施形態に係る光学系評価方法および光学系調
整方法における操作光の照射を説明する図である。図４
は、本実施形態に係る光学系評価方法および光学系調整
方法を説明するための光学系評価用試料１０の断面図で
ある。
【００１８】はじめに、上記の光学系評価用試料１０
を、光学系の評価または調整を行おうとしている顕微鏡
のステージに載置する（ステップＳ１）。次に、顕微鏡
のアイポートを覗きながら試料観察時の像面位置を光学
系評価用試料１０の粒子１２の位置に合わせる（ステッ
プＳ２）。この像面位置合わせに際して、粒子１２が蛍
光性のものである場合には落射蛍光照明で行うのが好適
である。
を、光学系の評価または調整を行おうとしている顕微鏡
のステージに載置する（ステップＳ１）。次に、顕微鏡
のアイポートを覗きながら試料観察時の像面位置を光学
系評価用試料１０の粒子１２の位置に合わせる（ステッ
プＳ２）。この像面位置合わせに際して、粒子１２が蛍
光性のものである場合には落射蛍光照明で行うのが好適
である。
【００１９】その後、ステージ上の光学系評価用試料１
０に対し、顕微鏡の対物レンズ２０を介して操作光３０
を照射する（ステップＳ３、図３）。この操作光３０の
照射により光学系評価用試料１０の膜１３内にスポット
領域１４が形成される（図４）。このスポット領域１４
は、膜１３に含まれる光試薬がケイジド蛍光色素である
場合にはフルオレッセイン形成領域であり、光試薬がフ
ォトクロミック化合物である場合には吸光度変化領域で
ある。
０に対し、顕微鏡の対物レンズ２０を介して操作光３０
を照射する（ステップＳ３、図３）。この操作光３０の
照射により光学系評価用試料１０の膜１３内にスポット
領域１４が形成される（図４）。このスポット領域１４
は、膜１３に含まれる光試薬がケイジド蛍光色素である
場合にはフルオレッセイン形成領域であり、光試薬がフ
ォトクロミック化合物である場合には吸光度変化領域で
ある。
【００２０】そして、顕微鏡のアイポートを覗きながら
試料観察時の像面位置を光学系評価用試料１０のスポッ
ト領域１４の位置に合わせる。このとき、膜１３に含ま
れる光試薬がケイジド蛍光試薬である場合には落射蛍光
照明によりスポット領域１４を観察し、光試薬がフォト
クロミック化合物である場合には透過照明によりスポッ
ト領域１４を観察する。そして、この像面位置合わせに
際して要した像面位置の移動量ｄを求める（ステップＳ
４、図４）。この移動量ｄは試料観察時の像面位置と操
作光の集光位置との間の距離を表すので、この移動量ｄ
に基づいて操作光の光学系を評価することができる。こ
のとき、スポット領域１４の径や形状を観察して、これ
に基づいて、この時点における操作光の光学系を評価し
てもよい。次に、移動量ｄが微小量ε以下であるか否
か、すなわち、試料観察時の像面位置と操作光の集光位
置とが充分に一致しているか否かを判断する（ステップ
Ｓ５）。
試料観察時の像面位置を光学系評価用試料１０のスポッ
ト領域１４の位置に合わせる。このとき、膜１３に含ま
れる光試薬がケイジド蛍光試薬である場合には落射蛍光
照明によりスポット領域１４を観察し、光試薬がフォト
クロミック化合物である場合には透過照明によりスポッ
ト領域１４を観察する。そして、この像面位置合わせに
際して要した像面位置の移動量ｄを求める（ステップＳ
４、図４）。この移動量ｄは試料観察時の像面位置と操
作光の集光位置との間の距離を表すので、この移動量ｄ
に基づいて操作光の光学系を評価することができる。こ
のとき、スポット領域１４の径や形状を観察して、これ
に基づいて、この時点における操作光の光学系を評価し
てもよい。次に、移動量ｄが微小量ε以下であるか否
か、すなわち、試料観察時の像面位置と操作光の集光位
置とが充分に一致しているか否かを判断する（ステップ
Ｓ５）。
【００２１】もし、移動量ｄが微小量εより大きけれ
ば、操作光の光学系の調整（例えば操作光の広がり角の
調整）を行って（ステップＳ６）、ステップＳ２以降の
処理を繰り返す。移動量ｄが微小量ε以下であれば、ス
ポット領域１４の径や形状を評価して（ステップＳ
７）、光学系の評価および調整を終了する。このとき、
光学系評価用試料１０の粒子１２およびスポット領域１
４を同一の像面位置において同時に観察することができ
るので、粒子１２の大きさが既知であれば、粒子１２の
大きさとの比較に基づいてスポット領域１４の径を求め
ることができる。
ば、操作光の光学系の調整（例えば操作光の広がり角の
調整）を行って（ステップＳ６）、ステップＳ２以降の
処理を繰り返す。移動量ｄが微小量ε以下であれば、ス
ポット領域１４の径や形状を評価して（ステップＳ
７）、光学系の評価および調整を終了する。このとき、
光学系評価用試料１０の粒子１２およびスポット領域１
４を同一の像面位置において同時に観察することができ
るので、粒子１２の大きさが既知であれば、粒子１２の
大きさとの比較に基づいてスポット領域１４の径を求め
ることができる。
【００２２】以上のように、本実施形態に係る光学系調
整用試料１０を用いた光学系評価方法および光学系調整
方法によれば、操作光強度が比較的小さくても光学系評
価用試料１０の膜１３に含まれる光試薬が光反応するの
で、スポットの径や形状を確認することができる操作光
の強度の範囲が広い。また、得られるスポットの径や形
状が操作光強度に依存して異なることがないから、スポ
ットの径や形状を正確に評価することが容易である。試
料観察時の像面位置と操作光の集光位置との間の関係を
確認する際には、光学系評価用試料を微小距離ずつ移動
させながら爆蝕させる必要がなく、１回の操作光の照射
により確認することができるので、その確認は容易であ
る。また、試料観察時の像面位置と操作光の集光位置と
が一致していないときであっても、スポットの径や形状
を評価することができる。
整用試料１０を用いた光学系評価方法および光学系調整
方法によれば、操作光強度が比較的小さくても光学系評
価用試料１０の膜１３に含まれる光試薬が光反応するの
で、スポットの径や形状を確認することができる操作光
の強度の範囲が広い。また、得られるスポットの径や形
状が操作光強度に依存して異なることがないから、スポ
ットの径や形状を正確に評価することが容易である。試
料観察時の像面位置と操作光の集光位置との間の関係を
確認する際には、光学系評価用試料を微小距離ずつ移動
させながら爆蝕させる必要がなく、１回の操作光の照射
により確認することができるので、その確認は容易であ
る。また、試料観察時の像面位置と操作光の集光位置と
が一致していないときであっても、スポットの径や形状
を評価することができる。
【００２３】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり、本発明に
よれば、操作光強度が比較的小さくても光学系評価用試
料の膜に含まれる光試薬が光反応するので、スポットの
径や形状を確認することができる操作光の強度の範囲が
広い。また、得られるスポットの径や形状が操作光強度
に依存して異なることがないから、スポットの径や形状
を正確に評価することが容易である。試料観察時の像面
位置と操作光の集光位置との間の関係を確認する際に
は、光学系評価用試料を微小距離ずつ移動させながら爆
蝕させる必要がなく、１回の操作光の照射により確認す
ることができるので、その確認は容易である。また、試
料観察時の像面位置と操作光の集光位置とが一致してい
ないときであっても、スポットの径や形状を評価するこ
とができる。
よれば、操作光強度が比較的小さくても光学系評価用試
料の膜に含まれる光試薬が光反応するので、スポットの
径や形状を確認することができる操作光の強度の範囲が
広い。また、得られるスポットの径や形状が操作光強度
に依存して異なることがないから、スポットの径や形状
を正確に評価することが容易である。試料観察時の像面
位置と操作光の集光位置との間の関係を確認する際に
は、光学系評価用試料を微小距離ずつ移動させながら爆
蝕させる必要がなく、１回の操作光の照射により確認す
ることができるので、その確認は容易である。また、試
料観察時の像面位置と操作光の集光位置とが一致してい
ないときであっても、スポットの径や形状を評価するこ
とができる。
【００２４】また、本発明に係る光学系調整用試料にお
いて、粒子が蛍光性のものである場合には、落射蛍光照
明により粒子をＳ／Ｎ比よく認識できるので好適であ
る。膜がゲルである場合には、膜の屈折率の値が水の屈
折率の値と近くなり、水浸系の顕微鏡の光学系の評価ま
たは調整を行う上で好適である。光試薬がケイジド蛍光
色素である場合には、スポットを記録する上で好適であ
り、光試薬がフォトクロミック化合物である場合には、
繰り返し使用する場合に好適である。
いて、粒子が蛍光性のものである場合には、落射蛍光照
明により粒子をＳ／Ｎ比よく認識できるので好適であ
る。膜がゲルである場合には、膜の屈折率の値が水の屈
折率の値と近くなり、水浸系の顕微鏡の光学系の評価ま
たは調整を行う上で好適である。光試薬がケイジド蛍光
色素である場合には、スポットを記録する上で好適であ
り、光試薬がフォトクロミック化合物である場合には、
繰り返し使用する場合に好適である。
【図１】本実施形態に係る光学系評価用試料の断面図で
ある。
ある。
【図２】本実施形態に係る光学系評価方法および光学系
調整方法を説明するタイミングチャートである。
調整方法を説明するタイミングチャートである。
【図３】本実施形態に係る光学系評価方法および光学系
調整方法における操作光の照射を説明する図である。
調整方法における操作光の照射を説明する図である。
【図４】本実施形態に係る光学系評価方法および光学系
調整方法を説明するための光学系評価用試料の断面図で
ある。
調整方法を説明するための光学系評価用試料の断面図で
ある。
１０…光学系評価用試料、１１…透明基板、１２…粒
子、１３…光試薬を含む膜、１４…スポット領域、２０
…対物レンズ。
子、１３…光試薬を含む膜、１４…スポット領域、２０
…対物レンズ。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｇ０１Ｎ 21/01 Ｇ０１Ｎ 21/01 Ａ
// Ｇ０２Ｂ 21/00 Ｇ０２Ｂ 21/00
(56)参考文献 特開 平10−153529（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−289285（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−288237（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−90169（ＪＰ，Ａ)
特開2000−111841（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−184807（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−43147（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−293099（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01N 1/00 - 1/44
C09K 9/00 - 9/02
C09K 11/00 - 11/89
G01N 21/01
G02B 21/00
ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (8)
- 【請求項１】 透明基板の表面上に粒子が存在し、光試
薬を含む膜が前記透明基板の表面上の前記粒子を覆って
形成されていることを特徴とする光学系評価用試料。 - 【請求項２】 前記粒子が蛍光性のものであることを特
徴とする請求項１記載の光学系評価用試料。 - 【請求項３】 前記膜がゲルであることを特徴とする請
求項１記載の光学系評価用試料。 - 【請求項４】 前記光試薬がケイジド蛍光色素であるこ
とを特徴とする請求項１記載の光学系評価用試料。 - 【請求項５】 前記光試薬がフォトクロミック化合物で
あることを特徴とする請求項１記載の光学系評価用試
料。 - 【請求項６】 請求項１記載の光学系評価用試料の前記
粒子に試料観察時の像面位置を合わせ、 前記光学系評価用試料に操作光を照射してスポット領域
を形成し、 前記光学系評価用試料の前記スポット領域の位置に試料
観察時の像面位置を合わせるとともに、この像面位置合
わせに際して要した像面位置の移動量を求め、 この像面位置の移動量に基づいて前記操作光の光学系を
評価する、 ことを特徴とする光学系評価方法。 - 【請求項７】 前記スポット領域の径または形状の観察
にも基づいて前記操作光の光学系を評価することを特徴
とする請求項６記載の光学系評価方法。 - 【請求項８】 請求項６記載の光学系評価方法による前
記操作光の光学系の評価結果に基づいて前記操作光の光
学系を調整することを特徴とする光学系調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29987999A JP3413377B2 (ja) | 1999-10-21 | 1999-10-21 | 光学系評価用試料、光学系評価方法および光学系調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29987999A JP3413377B2 (ja) | 1999-10-21 | 1999-10-21 | 光学系評価用試料、光学系評価方法および光学系調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001116665A JP2001116665A (ja) | 2001-04-27 |
| JP3413377B2 true JP3413377B2 (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=17878063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29987999A Expired - Fee Related JP3413377B2 (ja) | 1999-10-21 | 1999-10-21 | 光学系評価用試料、光学系評価方法および光学系調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3413377B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007048409A1 (de) * | 2007-10-09 | 2009-04-16 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Verfahren zum Positionieren von biologischen Proben in einer mikroskopischen Anordnung |
-
1999
- 1999-10-21 JP JP29987999A patent/JP3413377B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001116665A (ja) | 2001-04-27 |
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