JP3409855B2 - 基板の幅にまたがる造影視野を備えた任意幅レンズアレイ - Google Patents
基板の幅にまたがる造影視野を備えた任意幅レンズアレイInfo
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- Optics & Photonics (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Lenses (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野：
本発明は、広範な造影視野（image field）を有する
レンズシステム、すなわち、パターン化される基板の幅
にまたがる造影視野を有するように構成されるレンズア
レイに関する。
レンズシステム、すなわち、パターン化される基板の幅
にまたがる造影視野を有するように構成されるレンズア
レイに関する。
発明の背景：
現在、10〜12インチ幅であり得る基板をパターン化す
るために必要な多くの状況が存在する。現存するレンズ
を用いては、このような幅の基板は、複数の走査を用い
てパターン化され得るだけである。従来のレンズを用い
てこのような課題を実施することは困難であり、かつ、
このような複数の走査を行うために二次元的な移動能力
を備えた正確なステージを用いることが必要であるため
に遅い。
るために必要な多くの状況が存在する。現存するレンズ
を用いては、このような幅の基板は、複数の走査を用い
てパターン化され得るだけである。従来のレンズを用い
てこのような課題を実施することは困難であり、かつ、
このような複数の走査を行うために二次元的な移動能力
を備えた正確なステージを用いることが必要であるため
に遅い。
いくつかのコピー機械では、等級化された指標ファイ
バーアレイを用いて長く薄い領域を造影する。しかし、
この方法で造影を実施する正確なリソグラフィックの適
用は、絶望的に粗く、そして実用的でない。
バーアレイを用いて長く薄い領域を造影する。しかし、
この方法で造影を実施する正確なリソグラフィックの適
用は、絶望的に粗く、そして実用的でない。
２つの光学レンズとして製造される小レンズのアレイ
がこの適用に用いられ得るが、このアプローチもまた、
これらレンズが非常に小さく収差を制限しなればなら
ず、それ故、深刻な製造の困難性を生じるので、正確な
適用な非実用的である。さらに、２つの光学系は、高解
像度の光学システムでまた望ましくない多くの迷光（st
ray light）を生じる傾向がある。
がこの適用に用いられ得るが、このアプローチもまた、
これらレンズが非常に小さく収差を制限しなればなら
ず、それ故、深刻な製造の困難性を生じるので、正確な
適用な非実用的である。さらに、２つの光学系は、高解
像度の光学システムでまた望ましくない多くの迷光（st
ray light）を生じる傾向がある。
必要なのは、極度に大きなレンズシステムなしで、高
い解像度と非常に大きな連続する視野サイズとを組み合
わせる光学システムである。本発明のWynne Dysonアレ
イは、過度に大きくなく上記能力のすべてを有するこの
ようなレンズシステムを提供する。
い解像度と非常に大きな連続する視野サイズとを組み合
わせる光学システムである。本発明のWynne Dysonアレ
イは、過度に大きくなく上記能力のすべてを有するこの
ようなレンズシステムを提供する。
発明の要旨：
本発明によれば、レチクル（reticle）から基板まで
パターンを再生する新規なパターン走査および投影シス
テムが開示される。本発明のこのシステムは、レチクル
の長さの一部分からパターンを走査し、その走査したパ
ターンを基板の対応する長さ上に投影する。この実施態
様では、このレチクルを受けそして移送し、その上のパ
ターンを走査する第１の運び台（carriage）がある。次
に、連続する一対のWynne Dysonレンズシステムがあ
り、これは、上記レチクルが上記第１の運び台により移
送されるとき上記走査されたパターンを受け、そしてこ
の一対のWynne Dysonレンズシステムを通じてこの走査
されたパターンを伝達するように互いに配置される。基
板を受けるための第２の運び台がまた存在してそれに動
きを提供し、この動きは、第１の運び台上のレチクルの
移送と同時に提供され、この基板の位置を定め上記一対
のWynne Dysonレンズシステムからの走査パターンを受
ける。
パターンを再生する新規なパターン走査および投影シス
テムが開示される。本発明のこのシステムは、レチクル
の長さの一部分からパターンを走査し、その走査したパ
ターンを基板の対応する長さ上に投影する。この実施態
様では、このレチクルを受けそして移送し、その上のパ
ターンを走査する第１の運び台（carriage）がある。次
に、連続する一対のWynne Dysonレンズシステムがあ
り、これは、上記レチクルが上記第１の運び台により移
送されるとき上記走査されたパターンを受け、そしてこ
の一対のWynne Dysonレンズシステムを通じてこの走査
されたパターンを伝達するように互いに配置される。基
板を受けるための第２の運び台がまた存在してそれに動
きを提供し、この動きは、第１の運び台上のレチクルの
移送と同時に提供され、この基板の位置を定め上記一対
のWynne Dysonレンズシステムからの走査パターンを受
ける。
本発明はまた、レチクルの全幅をカバーするように配
置される複数のWynne Dyson対を備えることにより拡張
形態をとり得る。レンズ対の各々が、レチクルの幅を横
断してパターンの一部分を、基板上の対応する位置に投
影する。Wynne Dysonレンズ対の各々により中継される
視野は、走査後、各視野の一部分が隣接する視野の一部
分と重複し、そしてそれ故像が全視野を連続するように
不等辺四角形形状でありかつ配置される。
置される複数のWynne Dyson対を備えることにより拡張
形態をとり得る。レンズ対の各々が、レチクルの幅を横
断してパターンの一部分を、基板上の対応する位置に投
影する。Wynne Dysonレンズ対の各々により中継される
視野は、走査後、各視野の一部分が隣接する視野の一部
分と重複し、そしてそれ故像が全視野を連続するように
不等辺四角形形状でありかつ配置される。
図面の簡単な説明
図１は、本発明の１つの二重Wynne Dysonレンズシス
テムの略側面図である。
テムの略側面図である。
図1bは、レンズアレイの幅に対して図示された、図1a
のWynne Dysonアレイの有用な視野を図示する。
のWynne Dysonアレイの有用な視野を図示する。
図２は、複数配置された図1aのような二重Wynne Dyso
nレンズシステムの基板上の有用な視野のアラインメン
トを図示する。
nレンズシステムの基板上の有用な視野のアラインメン
トを図示する。
図3aは、本発明のWynne Dysonアレイの略側面図であ
る。
る。
図3bは、本発明の５つの二重Wynne Dysonレンズシス
テムのアレイの略平面図である。
テムのアレイの略平面図である。
図４は、本発明の第２の二重Wynne Dysonレンズシス
テム構成の略側面図である。
テム構成の略側面図である。
図５は、図４のレンズシステムを利用するアレイの部
分斜視図である。
分斜視図である。
好適な実施態様の説明：
大きな基板（例えば、マルチチップモジュラス、フラ
ットパネルなど）をパターン化する能力を有する、高い
処理量および低コストのリソグラフィシステムの必要性
が永年存在している。本発明のシステムは、以下に記載
のように、かつ図４に示されるように、幅約0.75イン
チ、およびわずか約7.0インチの焦点平面間の分離で如
何なる所望長さ（例えば、６、12または22インチ）をも
有する視野を有する１×光学システムであり、それ故、
レチクルマスクおよび基板を共通の運び台上にマウント
することを可能にし、一方向に単一の走査の結果、次
に、システムの所望の非常に高い処理量を与える。
ットパネルなど）をパターン化する能力を有する、高い
処理量および低コストのリソグラフィシステムの必要性
が永年存在している。本発明のシステムは、以下に記載
のように、かつ図４に示されるように、幅約0.75イン
チ、およびわずか約7.0インチの焦点平面間の分離で如
何なる所望長さ（例えば、６、12または22インチ）をも
有する視野を有する１×光学システムであり、それ故、
レチクルマスクおよび基板を共通の運び台上にマウント
することを可能にし、一方向に単一の走査の結果、次
に、システムの所望の非常に高い処理量を与える。
以下のテキストおよび添付の図面で見られるように、
本発明は、複数の小さな二重Wynne Dysonレンズシステ
ムを備え、各々は連続する２つのWynne Dysonレンズを
使用する。次に、本発明の全体のアレイは、２つまたは
それ以上のWynne Dysonレンズシステムのアレイからな
り、所望幅の視野を生じる。
本発明は、複数の小さな二重Wynne Dysonレンズシステ
ムを備え、各々は連続する２つのWynne Dysonレンズを
使用する。次に、本発明の全体のアレイは、２つまたは
それ以上のWynne Dysonレンズシステムのアレイからな
り、所望幅の視野を生じる。
図1aには、本発明の基礎的な二重Wynne Dysonレンズ
システムの側面図が示される。この図では、レチクル10
を通過する照射が第１の折り返し鏡12にあたり、そして
第１のプラノレンズ（plano lens）14の上半分に反射
し、第１のメニスカスレンズ（meniscus lens）16の上
半分を通じて続き、そして第１の凹面鏡18の実質的に全
表面にわたって拡がる。次に、第１の凹面鏡18が、それ
にあたった光を、第１のメニスカスレンズ16の下半分
に、次いで、第１のプラノレンズ14の下半分を通過し、
そして光がプレート22中の孔に向かって下方に反射され
る第２の折り返し鏡20上に反射する。これは−１の倍率
を有する第１のWynne Dysonレンズを規定する。
システムの側面図が示される。この図では、レチクル10
を通過する照射が第１の折り返し鏡12にあたり、そして
第１のプラノレンズ（plano lens）14の上半分に反射
し、第１のメニスカスレンズ（meniscus lens）16の上
半分を通じて続き、そして第１の凹面鏡18の実質的に全
表面にわたって拡がる。次に、第１の凹面鏡18が、それ
にあたった光を、第１のメニスカスレンズ16の下半分
に、次いで、第１のプラノレンズ14の下半分を通過し、
そして光がプレート22中の孔に向かって下方に反射され
る第２の折り返し鏡20上に反射する。これは−１の倍率
を有する第１のWynne Dysonレンズを規定する。
本明細書で示される第２のWynne Dysonレンズは、第
１のレンズと同じであり、そして同様に作動する。第２
のシステムでは、プレート22中の孔を通過した光は、第
３の折り返し鏡24から第２のプラノレンズ26の上半分に
反射し、第２のメニスカスレンズ28の上半分を通って進
行し、次いで第２の凹面鏡30の実質的に全表面に伝達さ
れる。第２の凹面鏡30の全表面から、光は、第２のメニ
スカスレンズ28の下半分に反射され、第２のプラノレン
ズ26を通って、光が基板34に反射される第４の折り返し
鏡32に進行する。図1aで示されるシステムでは、レチク
ル10上の造影が、造影平面を重複させるために正確な配
向で基板34に投影されるべき造影である場合、両方のWy
nne Dysonレンズが必要である。
１のレンズと同じであり、そして同様に作動する。第２
のシステムでは、プレート22中の孔を通過した光は、第
３の折り返し鏡24から第２のプラノレンズ26の上半分に
反射し、第２のメニスカスレンズ28の上半分を通って進
行し、次いで第２の凹面鏡30の実質的に全表面に伝達さ
れる。第２の凹面鏡30の全表面から、光は、第２のメニ
スカスレンズ28の下半分に反射され、第２のプラノレン
ズ26を通って、光が基板34に反射される第４の折り返し
鏡32に進行する。図1aで示されるシステムでは、レチク
ル10上の造影が、造影平面を重複させるために正確な配
向で基板34に投影されるべき造影である場合、両方のWy
nne Dysonレンズが必要である。
図1bは、図1aの二重Wynne Dysonレンズシステムの有
用な視野を図示する。ここで、このレンズシステムの全
視野サイズが、円視野36として図示され、これは例示の
ために64.0mmの直径を有する。有用な視野は、ここでは
43.2mm長として示される上部不等辺四辺形視野境界40で
あるその最小幅を有し、16.2mmの不等辺四辺形高さを生
じる不等辺四辺形視野38として図示される。図1bの視野
の実例を、図1aのそれに正確に位置を定めると、不等辺
四辺形視野38の上部不等辺四辺形視野の境界40は、この
紙面と垂直であり、そして第２のプラノレンズ26から最
も離れている。さらに、図1bの平面は基板34の平面であ
る。図1bの視野を記載するもう１つの方法は、レチクル
10を見下ろす場合、不等辺四辺形視野38は、レチクル10
に戻って投影される基板34上の視野であり得ると述べる
ことである。
用な視野を図示する。ここで、このレンズシステムの全
視野サイズが、円視野36として図示され、これは例示の
ために64.0mmの直径を有する。有用な視野は、ここでは
43.2mm長として示される上部不等辺四辺形視野境界40で
あるその最小幅を有し、16.2mmの不等辺四辺形高さを生
じる不等辺四辺形視野38として図示される。図1bの視野
の実例を、図1aのそれに正確に位置を定めると、不等辺
四辺形視野38の上部不等辺四辺形視野の境界40は、この
紙面と垂直であり、そして第２のプラノレンズ26から最
も離れている。さらに、図1bの平面は基板34の平面であ
る。図1bの視野を記載するもう１つの方法は、レチクル
10を見下ろす場合、不等辺四辺形視野38は、レチクル10
に戻って投影される基板34上の視野であり得ると述べる
ことである。
従って、単一経路で基板34上の延長された視野にわた
ってレチクル10からの造影を投影するために、複数の不
等辺四辺形視野38、38'、38''・・・が、基板34の表面
上でみるとき、図２で図示されるように位置を定める必
要があるということが観察され得る。
ってレチクル10からの造影を投影するために、複数の不
等辺四辺形視野38、38'、38''・・・が、基板34の表面
上でみるとき、図２で図示されるように位置を定める必
要があるということが観察され得る。
次に、図3aおよび3bについて言えば、図２で示される
ような基板34上の視野パターンを生成する本発明の二重
Wynne Dysonレンズシステムのアレイの略図である。本
発明の種々の二重Wynne Dysonレンズシステムの認識を
容易にするため、部材参照番号を付加的なレンズシステ
ムの各々について保持し、これら番号に上書をつけた。
本発明の全体アレイの動作の議論をさらに容易にするた
めに、右側を「アレイＡ」と標識し、そして左側を「ア
レイＢ」として標識した。図3aおよび3bの両方におい
て、レチクル10および基板34の両方の走査の方向は、左
から右へとして図示されている。あるいは、この走査方
向は右から左であり得る。
ような基板34上の視野パターンを生成する本発明の二重
Wynne Dysonレンズシステムのアレイの略図である。本
発明の種々の二重Wynne Dysonレンズシステムの認識を
容易にするため、部材参照番号を付加的なレンズシステ
ムの各々について保持し、これら番号に上書をつけた。
本発明の全体アレイの動作の議論をさらに容易にするた
めに、右側を「アレイＡ」と標識し、そして左側を「ア
レイＢ」として標識した。図3aおよび3bの両方におい
て、レチクル10および基板34の両方の走査の方向は、左
から右へとして図示されている。あるいは、この走査方
向は右から左であり得る。
従って、図3aでは、二重Wynne Dysonレンズシステム
のアレイの側面図は、アレイＢの一部分として示される
第２のWynne Dysonレンズシステムとともに図示され、
そして図3bから、第２の二重Wynne Dysonレンズシステ
ムが、第１のこのようなレンズシステムに対して互い違
いであり、それ故、図3aの左側の第２のレンズシステム
の見える側が、第１のレンズシステムと同じ平面にない
ことがさらに観察され得る。図3bから、上部折り返し鏡
プリズム42が、アレイＡを構成するレンズシステムの各
々により共有されている第１の折り返し鏡12を備えた第
１のプラノレンズ14、14'、14''、14'''および144と、
アレイＢにおけるレンズシステムの各々により共有され
ている折り返し鏡12'との間を、完全なアレイの全長を
走る長い矩形のプリズムであることがまた観察され得
る。ここで、底部折り返し鏡プリズム44もまた、全体ア
レイの全幅を走り、そして上部折り返し鏡プリズムと同
じ特徴を有することに注目のこと。
のアレイの側面図は、アレイＢの一部分として示される
第２のWynne Dysonレンズシステムとともに図示され、
そして図3bから、第２の二重Wynne Dysonレンズシステ
ムが、第１のこのようなレンズシステムに対して互い違
いであり、それ故、図3aの左側の第２のレンズシステム
の見える側が、第１のレンズシステムと同じ平面にない
ことがさらに観察され得る。図3bから、上部折り返し鏡
プリズム42が、アレイＡを構成するレンズシステムの各
々により共有されている第１の折り返し鏡12を備えた第
１のプラノレンズ14、14'、14''、14'''および144と、
アレイＢにおけるレンズシステムの各々により共有され
ている折り返し鏡12'との間を、完全なアレイの全長を
走る長い矩形のプリズムであることがまた観察され得
る。ここで、底部折り返し鏡プリズム44もまた、全体ア
レイの全幅を走り、そして上部折り返し鏡プリズムと同
じ特徴を有することに注目のこと。
さらに、図3bでは、プラノレンズ14'の１つの端がプ
ラノレンズ14の中央線と実質的に整列し、プラノレンズ
14および14''の各々の１つの端がプラノレンズ14'の中
央線と実質的に整列し、プラノレンズ14'の第２の端お
よびプラノレンズ14'''の１つの端がプラノレンズ14''
の中央線と実質的に整列する、などが観察され得る。次
いで、これらのレンズシステムが、このパターンに従っ
て、無限にカスケードし得ることが自然に理解される。
ラノレンズ14の中央線と実質的に整列し、プラノレンズ
14および14''の各々の１つの端がプラノレンズ14'の中
央線と実質的に整列し、プラノレンズ14'の第２の端お
よびプラノレンズ14'''の１つの端がプラノレンズ14''
の中央線と実質的に整列する、などが観察され得る。次
いで、これらのレンズシステムが、このパターンに従っ
て、無限にカスケードし得ることが自然に理解される。
図４は、図1aのレンズシステムより多い数の孔を有
し、そして図3aおよび3bの第１のレンズシステムより優
れた解像度を提供する本発明の第２のスタック型二重Wy
nne Dysonの５つのレンズエレメントシステムを図示す
る。第１のレンズシステムを用いてのように、照射は上
部で受けられ、そしてレチクル10を通過し、第１の折り
返し鏡12にあたり、第１のプラノレンズ14の上半分中に
反射し、そして第１のメニスカスレンズ16の上半分を通
って継続する。この点で、２つのさらなるレンズ、第１
の両凸面レンズ46、次いで第３のメニスカスレンズ48が
付加され、照射はこれらレンズ各々の上半分を通じて継
続し、そして第３のメニスカスレンズ48から、照射は、
第１の凹面鏡18の実質的に全表面にわたって拡がる。次
いで第１の凹面鏡18は光を反射し、それを、第３のメニ
スカスレンズ48の下半分に、第１の両凸面レンズ46の下
半分に、第１のメニスカスレンズ16の下半分に、次いで
プラノレンズ14の下半分を通じて、そして光がプレート
22中の孔に下向きに反射される第２の折り返し鏡20上に
あてる。これは、５つのエレメントレンズシステムを利
用するシステムの第１のWynne Dysonレンズを規定す
る。
し、そして図3aおよび3bの第１のレンズシステムより優
れた解像度を提供する本発明の第２のスタック型二重Wy
nne Dysonの５つのレンズエレメントシステムを図示す
る。第１のレンズシステムを用いてのように、照射は上
部で受けられ、そしてレチクル10を通過し、第１の折り
返し鏡12にあたり、第１のプラノレンズ14の上半分中に
反射し、そして第１のメニスカスレンズ16の上半分を通
って継続する。この点で、２つのさらなるレンズ、第１
の両凸面レンズ46、次いで第３のメニスカスレンズ48が
付加され、照射はこれらレンズ各々の上半分を通じて継
続し、そして第３のメニスカスレンズ48から、照射は、
第１の凹面鏡18の実質的に全表面にわたって拡がる。次
いで第１の凹面鏡18は光を反射し、それを、第３のメニ
スカスレンズ48の下半分に、第１の両凸面レンズ46の下
半分に、第１のメニスカスレンズ16の下半分に、次いで
プラノレンズ14の下半分を通じて、そして光がプレート
22中の孔に下向きに反射される第２の折り返し鏡20上に
あてる。これは、５つのエレメントレンズシステムを利
用するシステムの第１のWynne Dysonレンズを規定す
る。
本明細書で示される第２のWynne Dysonレンズは、第
１のこのようなレンズと同じであり、そして同じ方法で
作動する。第２のレンズでは、プレート22中の孔を通過
する光は、第３の折り返し鏡24から、第２のプラノレン
ズ26の上半分に反射し、第２のメニスカスレンズ28の上
半分を通って、第２の両凸面レンズ50の上半分に、第４
のメニスカスレンズ52の上半分に進行し、次いで、第２
の凹面鏡30の実質的に全表面に伝達される。第２の凹面
鏡30の全表面から、光は、第４のメニスカスレンズ52の
下半分に、第２の両凸面レンズ50の下半分に、第２のメ
ニスカスレンズ28の下半分に反射され、第２のプラノレ
ンズ26を通って、基板34に光を反射する第４の折り返し
鏡32に進行する。
１のこのようなレンズと同じであり、そして同じ方法で
作動する。第２のレンズでは、プレート22中の孔を通過
する光は、第３の折り返し鏡24から、第２のプラノレン
ズ26の上半分に反射し、第２のメニスカスレンズ28の上
半分を通って、第２の両凸面レンズ50の上半分に、第４
のメニスカスレンズ52の上半分に進行し、次いで、第２
の凹面鏡30の実質的に全表面に伝達される。第２の凹面
鏡30の全表面から、光は、第４のメニスカスレンズ52の
下半分に、第２の両凸面レンズ50の下半分に、第２のメ
ニスカスレンズ28の下半分に反射され、第２のプラノレ
ンズ26を通って、基板34に光を反射する第４の折り返し
鏡32に進行する。
さらに、図４のWynne Dysonレンズシステムは、４つ
のガラスプレート54、56、58および60を備え、それを通
って、像は、それが進むにつれて種々の点で通過する。
これら平面上の小さな傾きを用いて、図２で示されるよ
うな異なる造影視野間のアライメントを調節し得る。
のガラスプレート54、56、58および60を備え、それを通
って、像は、それが進むにつれて種々の点で通過する。
これら平面上の小さな傾きを用いて、図２で示されるよ
うな異なる造影視野間のアライメントを調節し得る。
図５は、３つの二重Wynne Dysonレンズシステムのア
レイの一部分を示し、この各々は、図４で記載された型
の二重５レンズWynne Dysonリレーを備える。プレート5
4〜60もまた含まれる。プレート54〜60は、この構成お
よび任意の他のWynne Dyson構成で種々の機能を奏し得
る。隣接する類似のWynne Dysonレンズシステムの各々
から、基板34に送達される像のアライメントを確実にす
るために、プレート54〜60の各々を傾け、小範囲にわた
って個々の造影位置を調節し得る。中間と焦点平面が、
成形された孔に都合の良い場所を提供し、Wynne Dyson
レンズシステムの各々から照射された視野の適切な重複
が存在することを確実にする。二重Wynne Dysonレンズ
システムの任意の１つにおける個々のプレート54〜60は
また、選択的に曲げられて、他のWynne Dysonレンズシ
ステムの各々と比較したとき、１つのWynne Dysonレン
ズシステムの倍率における変動について調節され得る。
同様に、いくらかのゆがみ矯正がまた、任意のレンズシ
ステムで１つまたはそれ以上のプレート54〜60を選択的
にねじることにより達成され得る。
レイの一部分を示し、この各々は、図４で記載された型
の二重５レンズWynne Dysonリレーを備える。プレート5
4〜60もまた含まれる。プレート54〜60は、この構成お
よび任意の他のWynne Dyson構成で種々の機能を奏し得
る。隣接する類似のWynne Dysonレンズシステムの各々
から、基板34に送達される像のアライメントを確実にす
るために、プレート54〜60の各々を傾け、小範囲にわた
って個々の造影位置を調節し得る。中間と焦点平面が、
成形された孔に都合の良い場所を提供し、Wynne Dyson
レンズシステムの各々から照射された視野の適切な重複
が存在することを確実にする。二重Wynne Dysonレンズ
システムの任意の１つにおける個々のプレート54〜60は
また、選択的に曲げられて、他のWynne Dysonレンズシ
ステムの各々と比較したとき、１つのWynne Dysonレン
ズシステムの倍率における変動について調節され得る。
同様に、いくらかのゆがみ矯正がまた、任意のレンズシ
ステムで１つまたはそれ以上のプレート54〜60を選択的
にねじることにより達成され得る。
従って、この型のアレイで、光学軸、レチクルおよび
基板平面における対応する点を連結する線は、このアレ
イのすべてのレンズシステムモジュール間で平行になら
べ得る。さらに、焦点平面は同平面とされ得、そして１
つの視野の最も外部で照射を、重複する視野が走査後、
上にまたは下に曝されないような方法で端を切断し得
る。さらに、このアレイは、光学部材が製造されると
き、理にかなった厳格な許容誤差を採用することによ
り、ならびに上記で論議されたようなプレート54〜60を
用いたレンズシステムモジュールの各々について提供さ
れる微調整の使用の両方により、個々のレンズシステム
モジュールのアラインメントを可能にする。すべてのレ
ンズシステムモジュールの焦点平面を同平面にするさら
なる微調整は、レンズシステムモジュールの各々内の鏡
18または30の軸位置を調整することにより達成され得
る。
基板平面における対応する点を連結する線は、このアレ
イのすべてのレンズシステムモジュール間で平行になら
べ得る。さらに、焦点平面は同平面とされ得、そして１
つの視野の最も外部で照射を、重複する視野が走査後、
上にまたは下に曝されないような方法で端を切断し得
る。さらに、このアレイは、光学部材が製造されると
き、理にかなった厳格な許容誤差を採用することによ
り、ならびに上記で論議されたようなプレート54〜60を
用いたレンズシステムモジュールの各々について提供さ
れる微調整の使用の両方により、個々のレンズシステム
モジュールのアラインメントを可能にする。すべてのレ
ンズシステムモジュールの焦点平面を同平面にするさら
なる微調整は、レンズシステムモジュールの各々内の鏡
18または30の軸位置を調整することにより達成され得
る。
走査方向において、全体アレイの倍率は、Perkin Elm
er Micralign 500/600シリーズシステムで行われている
ように、走査が起こるにつれ走査方向にわずかにレチク
ル位置を進めるまたは遅らせることにより調整され得
る。
er Micralign 500/600シリーズシステムで行われている
ように、走査が起こるにつれ走査方向にわずかにレチク
ル位置を進めるまたは遅らせることにより調整され得
る。
本願発明を用いて、個々にかつ動的にアレイモジュー
ルの各々を焦点付けることにより、不規則基板表面（例
えば、薄いフィルムパネル）を追従することもまた可能
である。焦点付けは、基板位置を感知するレンズシステ
ムモジュールの各々について別々の空気ゲージセンサー
を用いて感知され得る。あるいは、モジュールの各々に
ついて、１つがレチクル用のそして１つが基板用の一対
のセンサーを使用し得る。
ルの各々を焦点付けることにより、不規則基板表面（例
えば、薄いフィルムパネル）を追従することもまた可能
である。焦点付けは、基板位置を感知するレンズシステ
ムモジュールの各々について別々の空気ゲージセンサー
を用いて感知され得る。あるいは、モジュールの各々に
ついて、１つがレチクル用のそして１つが基板用の一対
のセンサーを使用し得る。
この構成はまた、広範な種類の照射システムの使用を
可能にし、最も好適な照射システムはアレイの全体サイ
ズに依存する。広いバンドの操作が望ましいとき、レン
ズシステムモジュールの各々について別々の（100〜200
ワット）ランプが用いられ得る。同様に、レンズシステ
ムモジュールの各々に等しく分割かつ分配される照射を
備えた単一の大きなランプが用いられ得る。さらに、水
銀ランプで照射されるｇ−ｈシステムを用いて、0.1NA
システムで、約0.5ワット/cm2の光強度が可能である。2
50mJ/cm2のレジスト感受性および16.2mm広さのスリット
を仮定すれば、3.24cm/秒の操作速度が必要である。こ
のような照射システムは、約９秒間に8.5×11インチパ
ネルの曝露を生じ得る。
可能にし、最も好適な照射システムはアレイの全体サイ
ズに依存する。広いバンドの操作が望ましいとき、レン
ズシステムモジュールの各々について別々の（100〜200
ワット）ランプが用いられ得る。同様に、レンズシステ
ムモジュールの各々に等しく分割かつ分配される照射を
備えた単一の大きなランプが用いられ得る。さらに、水
銀ランプで照射されるｇ−ｈシステムを用いて、0.1NA
システムで、約0.5ワット/cm2の光強度が可能である。2
50mJ/cm2のレジスト感受性および16.2mm広さのスリット
を仮定すれば、3.24cm/秒の操作速度が必要である。こ
のような照射システムは、約９秒間に8.5×11インチパ
ネルの曝露を生じ得る。
本発明のシステムの利点は、それが完全に柔軟であ
り、そして図3bに示されるような互い違いの、さらなる
レンズシステムモジュールを単に追加することにより任
意の所望長さに拡張し得ることである。従って、唯一の
方向の唯一の走査を必要とするだけなので、非常に高い
処理量が可能である。
り、そして図3bに示されるような互い違いの、さらなる
レンズシステムモジュールを単に追加することにより任
意の所望長さに拡張し得ることである。従って、唯一の
方向の唯一の走査を必要とするだけなので、非常に高い
処理量が可能である。
この型のアレイには多くの適用が存在する。例えば、
マルチチップモジュールには、平坦パネルまたはウェー
ハスキャナーは、８インチ、12インチ、またはそれより
大きい能力を有する。それはまた、25μｍの解像度に相
当し、そして平均波長5000Åの場合には、わずか0.014
のNAを必要とする、1000ドット／インチの解像度を有す
る静電写真複写機レンズとして用いられ得る。
マルチチップモジュールには、平坦パネルまたはウェー
ハスキャナーは、８インチ、12インチ、またはそれより
大きい能力を有する。それはまた、25μｍの解像度に相
当し、そして平均波長5000Åの場合には、わずか0.014
のNAを必要とする、1000ドット／インチの解像度を有す
る静電写真複写機レンズとして用いられ得る。
本発明の種々の局面を記載してきたが、先行する記載
および図面を検討するに際し、当業者が、本発明の種々
の局面を実施するための種々の代わりのアプローチを実
現することが予期される。それ故、以下に添付する請求
項は、本発明および添付の請求項の思想および範囲に入
るすべてのこのような改変および修飾を含むとして解釈
されることが意図される。
および図面を検討するに際し、当業者が、本発明の種々
の局面を実施するための種々の代わりのアプローチを実
現することが予期される。それ故、以下に添付する請求
項は、本発明および添付の請求項の思想および範囲に入
るすべてのこのような改変および修飾を含むとして解釈
されることが意図される。
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フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
G03F 7/20 - 7/24
Claims (13)
- 【請求項１】レチクル長さの一部分からのパターンを走
査し、かつ該走査されたパターンを基板の対応する長さ
上に投影する走査システムであって： 該パターンを有する該レチクルを受けかつ移送する第１
の運び台； 一対のWynne Dysonレンズシステムであって、該レチク
ルが該第１の運び台により移送されるとき該レチクルか
ら走査された該パターンを受け、かつ該走査されたパタ
ーンを該一対のWynne Dysonレンズシステムを通って伝
達するために互いに連続して配置されたシステム；およ
び 該基板を受けそれに移送を提供する第２の運び台であっ
て、該移送が該第１の運び台上の該レチクルの該移送と
同時に提供され、かつ該基板上に該一対のWynne Dyson
レンズシステムからの該走査されたパターンを受けるた
めに配置される、第２の運び台、 を備え、ここで、 該一対のWynne Dysonレンズシステムが： 前記レチクルからの前記走査されたパターンを受けるた
めに配置された第１の折り返し鏡； 該第１の折り返し鏡から反射された該走査されたパター
ンをその上半分で受けるために配置された第１のプラノ
レンズ； 該第１のプラノレンズからの該走査されたパターンをそ
の上半分で受けるために配置された第１のメニスカスレ
ンズ； 該第１のメニスカスレンズからの該走査されたパターン
をその上半分で受けるために配置された第１の両凸面レ
ンズ； 該第１の両凸面レンズからの該走査されたパターンをそ
の上半分で受けるために配置された第２のメニスカスレ
ンズ； 該第２のメニスカスレンズから投影された該走査された
パターンをその実質的に全表面にわたって受け、かつ該
走査されたパターンを該第２のメニスカスレンズの下半
分に反射するために配置された第１の凹面鏡； ここで、該第２のメニスカスレンズの下半分からの該走
査されたパターンが、該第１の両凸面レンズの下半分
に、次いで該走査されたパターンを該第１のプラノレン
ズの下半分に伝達する該第１のメニスカスレンズの下半
分に伝達され； 該第１のプラノレンズの下半分からの該走査されたパタ
ーンを受けるために配置された第２の折り返し鏡； 該第２の折り返し鏡から反射された該走査されたパター
ンを受けるために配置された第３の折り返し鏡、ここで
この点における該走査されたパターンが、該レチクル上
のもとのパターンとは逆であり； 該第３の折り返し鏡から反射された該走査されたパター
ンをその上半分で受けるために配置された第２のプラノ
レンズ； 該第２のプラノレンズからの該走査されたパターンをそ
の上半分で受けるために配置された第３のメニスカスレ
ンズ； 該第３のメニスカスレンズからの該走査されたパターン
をその上半分で受けるために配置された第２の両凸面レ
ンズ； 該第２の両凸面レンズからの該走査されたパターンをそ
の上半分で受けるために配置された第４のメニスカスレ
ンズ； 該第４のメニスカスレンズから投影された該走査された
パターンをその実質的に全表面にわたって受け、かつ該
走査されたパターンを該第４のメニスカスレンズの下半
分に反射するために配置された、第２の凹面鏡； ここで、該第４のメニスカスレンズの下半分からの該走
査されたパターンが、該第２の両凸面レンズの下半分
に、次いで該走査されたパターンを該第２のプラノレン
ズの下半分に伝達する第３のメニスカスレンズの下半分
に伝達され； 該第２のプラノレンズの下半分からの該走査されたパタ
ーンを受け、かつ該走査されたパターンを該第２の運び
台上の該基板に反射するために配置された第４の折り返
し鏡、ここで、該基板により受けられた該走査されたパ
ターンが該レチクル上の該パターンと同じ配向を有す
る、を備える、走査システム。 - 【請求項２】前記第１の運び台および第２の運び台が互
いに同じ方向に動く、請求項１に記載の走査システム。 - 【請求項３】前記第２の折り返し鏡と第３の折り返し鏡
との中間に孔プレートをさらに備える、請求項１に記載
の走査システム。 - 【請求項４】前記一対のWynne Dysonレンズシステム
が、前記第２の折り返し鏡と第３の折り返し鏡との中間
に孔プレートをさらに備える、請求項１に記載の走査シ
ステム。 - 【請求項５】前記一対のWynne Dysonレンズシステム
が、前記走査されたパターンの経路中で、前記第１、第
２、第３および第４の折り返し鏡の１つに隣接する少な
くとも１つのガラスプレートをさらに備え、該ガラスプ
レートを傾け、曲げ、およびねじることにより、該Wynn
e Dysonレンズシステムのアラインメント、倍率および
ゆがみをそれぞれ調節する、請求項１に記載の走査シス
テム。 - 【請求項６】レチクルの長さの一部分からのパターンを
走査し、かつ該走査されたパターンを基板上の対応する
長さ上に投影する走査システムであって； 該パターンを有する該レチクルを受け、かつ移送するた
めの第１の運び台； 第１の一対のWynne Dysonレンズシステムであって、該
レチクルが該第１の運び台により移送されるとき該レチ
クルからの該走査されたパターンの第１の部分を受け、
かつ該走査されたパターンの該第１の部分を該第１の一
対のWynne Dysonレンズシステムを通って伝達するため
に互いに連続して配置されたシステム； 第２の一対のWynne Dysonレンズシステムであって、該
レチクルが該第１の運び台により移送されるとき該レチ
クルからの該走査されたパターンの第２の部分を受け、
かつ該走査されたパターンの該第２の部分を該第２の一
対のWynne Dysonレンズシステムを通って伝達するため
に互いに連続して配置されたシステム； 該基板を受けそれに移送を提供する第２の運び台であっ
て、該移送が該第１の運び台上の該レチクルの該移送と
同時に提供され、かつ該第１および第２の一対のWynne
Dysonレンズシステムからの該走査されたパターンの該
第１および第２の部分を受けるために配置される、第２
の運び台、および 第３の一対のWynne Dysonレンズシステムであって、該
レチクルが該第１の運び台により移送されるとき該レチ
クルからの前記走査されたパターンの第３の部分を受
け、かつ該パターンの該第３の部分を、該第３の一対の
Wynne Dysonレンズシステムを通じて伝達するために互
いに連続して配置されるシステム； を備え、 ここで、該第２の運び台が、該第３の一対のWynne Dyso
nレンズシステムからの該走査されたパターンの該第３
の部分を受けるためにさらに配置され；そして 該第３の一対のWynne Dysonレンズシステムが、該第１
および第２の一対のWynne Dysonレンズシステムと、そ
の一方が他方からずれ、該走査されたパターンの該第
１、第２および第３の部分が、該走査および伝達が終了
するとき、該基板上で連続的に並置される、走査システ
ムであり、 ここで、該第１の一対のWynne Dysonレンズシステム
が： 前記レチクルからの前記走査されたパターンの前記第１
の部分を受けるために配置された第１の折り返し鏡の第
１の領域； 第１のWynne Dysonレンズであって、該第１の折り返し
鏡の該第１の領域からの該走査されたパターンの該第１
の部分をその上半分で受け、かつ該走査されたパターン
の該第１の部分を、該第１のWynne Dysonレンズを通っ
てその底部に伝達するために配置された、レンズ； 該第１のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第１の部分を受けるために配置され
た第２の折り返し鏡の第１の領域； 該第２の折り返し鏡の該第１の領域から反射された該走
査されたパターンの該第１の部分を受けるために配置さ
れた第３の折り返し鏡の第１の領域、ここでこの点にお
ける該走査されたパターンの該第１の部分が、該レチク
ルから走査されたパターンのもとの第１の部分とは逆で
あり； 第２のWynne Dysonレンズであって、該第３の折り返し
鏡の該第１の領域からの該走査されたパターンの該第１
の部分をその上半分で受け、かつ該走査されたパターン
の該第１の部分を、該第２のWynne Dysonレンズを通じ
てその底部に伝達するために配置された、レンズ；およ
び 該第２のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第１の部分を受けるために配置され
た第４の折り返し鏡の第１の領域；を備え、 該第２の一対のWynne Dysonレンズシステムが： 該レチクルからの該走査されたパターンの該第２の部分
を受けるために配置された第５の折り返し鏡； 第３のWynne Dysonレンズであって、該第５の折り返し
鏡からの該走査されたパターンの第２の部分をその上半
分で受け、かつ該走査されたパターンの該第２の部分
を、該第３のWynne Dysonレンズを通じてその底部に伝
達するために配置された、レンズ； 該第３のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第２の部分を受けるために配置され
た第６の折り返し鏡； 該第６の折り返し鏡から反射された該走査されたパター
ンの該第２の部分を受けるために配置された第７の折り
返し鏡、ここでこの点における該走査されたパターンの
該第２の部分が、該レチクルから走査されたパターンの
もとの第２の部分とは逆であり； 第４のWynne Dysonレンズであって、該第７の折り返し
鏡からの該走査されたパターンの該第２の部分をその上
半分で受け、かつ該走査されたパターンの該第２の部分
を、該第４のWynne Dysonレンズを通じてその底部に伝
達するために配置された、レンズ；および 該第４のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第２の部分を受けるために配置され
た第８の折り返し鏡；を備えて、そして 該第３の一対のWynne Dysonレンズシステムが： 該レチクルからの該走査されたパターンの該第３の部分
を受けるために配置された該第１の折り返し鏡の第２の
領域を利用し； 第５のWynne Dysonレンズであって、該第１の折り返し
鏡の該第２の領域からの該走査されたパターンの該第３
の部分をその上半分で受け、かつ該走査されたパターン
の該第３の部分を、該第５のWynne Dysonレンズを通じ
てその底部に伝達するために配置された、レンズを備
え； 該第５のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第３の部分を受けるために配置され
た該第２の折り返し鏡の第２の領域を利用し； 該第２の折り返し鏡の該第２の領域から反射された該走
査されたパターンの該第３の部分を受けるために配置さ
れた第３の折り返し鏡の第２の領域を使用し、ここでこ
の点における該走査されたパターンの該第３の部分が、
該レチクルから走査されたパターンのもとの第３の部分
とは逆であり； 第６のWynne Dysonレンズであって、該第３の折り返し
鏡の該第２の領域からの該走査されたパターンの該第３
の部分をその上半分で受け、かつ該走査されたパターン
の該第３の部分を、該第６のWynne Dysonレンズを通じ
てその底部に伝達するために配置された、レンズを備
え；そして 該第６のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第３の部分を受けるために配置され
た該第４の折り返し鏡の第２の領域を利用し； ここで、該第１および第２の一対のWynne Dysonレンズ
システムが互いに離れた方向に向き、そして該第１と第
５、および第３と第７の折り返し鏡が、該走査されたパ
ターンの該第１および第２の部分をそれぞれ反対方向に
反射し；そして 該第１および第３の一対のWynne Dysonレンズシステム
が同じ方向に向き、そして該第１、第２、第３および第
４の折り返し鏡の該第１および第２の領域が、該走査さ
れたパターンの該第１および第３の部分を、それぞれ、
他から互いにずらして反射する、 を備える、走査システム。 - 【請求項７】前記第１および第２の一対のWynne Dyson
レンズシステムが、その１つが他方に対して互い違いで
あり、前記走査されたパターンの前記第１および第２の
部分が、該走査および伝達が終了するとき前記基板上に
並置される、請求項６に記載の走査システム。 - 【請求項８】前記第１の一対のWynne Dysonレンズシス
テムが： 前記レチクルからの前記走査されたパターンの第１の部
分を受けるために配置された第１の折り返し鏡； 第１のWynne Dysonレンズであって、該第１の折り返し
鏡からの該走査されたパターンの該第１の部分をその上
半分で受け、かつ該走査されたパターンの該第１の部分
を、該第１のWynne Dysonレンズを通ってその底部に伝
達するために配置された、レンズ； 該第１のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第１の部分を受けるために配置され
た第２の折り返し鏡； 該第２の折り返し鏡から反射された該走査されたパター
ンの該第１の部分を受けるために配置された第３の折り
返し鏡、ここでこの点における該走査されたパターンの
該第１の部分が、該レチクルから走査されたパターンの
もとの第１の部分と逆であり； 第２のWynne Dysonレンズであって、該第３の折り返し
鏡からの該走査されたパターンの該第１の部分をその上
半分で受け、かつ該走査されたパターンの該第１の部分
を、該第２のWynne Dysonレンズを通ってその底部に伝
達するために配置された、レンズ；および 該第２のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第１の部分を受けるために配置され
た第４の折り返し鏡；を備え、そして 該第２の一対のWynne Dysonレンズシステムが： 該レチクルからの該走査されたパターンの該第２の部分
を受けるために配置された第５の折り返し鏡； 第３のWynne Dysonレンズであって、該第５の折り返し
鏡からの該走査されたパターンの該第２の部分をその上
半分で受け、かつ該走査されたパターンの該第２の部分
を、該第３のWynne Dysonレンズを通ってその底部に伝
達するために配置された、レンズ； 該第３のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第２の部分を受けるために配置され
た第６の折り返し鏡； 該第６の折り返し鏡から反射された該走査されたパター
ンの該第２の部分を受けるために配置された第７の折り
返し鏡、ここでこの点における該走査されたパターンの
該第２の部分が、該レチクルから走査されたパターンの
もとの第２の部分と逆であり； 第４のWynne Dysonレンズであって、該第７の折り返し
鏡からの該走査されたパターンの該第２の部分をその上
半分で受け、かつ該走査されたパターンの該第２の部分
を、該第４のWynne Dysonレンズを通ってその底部に伝
達するために配置された、レンズ；および 該第４のWynne Dysonレンズの底部の半分からの該走査
されたパターンの該第２の部分を受けるために配置され
た第８の折り返し鏡；を備え、 ここで、Wynne Dysonレンズシステムの該第１および第
２の対が、互いに離れた方向に向き、そして該第１と第
５、および第３と第７の折り返し鏡が、該走査されたパ
ターンの該第１および第２の部分をそれぞれ反対方向に
反射する、 を備える、請求項６に記載の走査システム。 - 【請求項９】前記第１および第２の一対のWynne Dyson
レンズシステムの各々が、それぞれそれを通る中央線を
規定し； 前記第１および第２の一対のWynne Dysonレンズシステ
ムの各々が、それぞれ選択された長さの視野を規定し；
そして 該第１の一対のWynne Dysonレンズシステムの中央線
が、該第２の一対のWynne Dysonレンズシステムの中央
線から、該第１および第２の一対のWynne Dysonレンズ
システムの選択された視野長さの平均だけずれている、
請求項８に記載の走査システム。 - 【請求項１０】前記第１、第２および第３の一対のWynn
e Dysonレンズシステムの各々が、それぞれそれを通じ
る中央線を規定し； 該第１、第２および第３の一対のWynne Dysonレンズシ
ステムの各々が、それぞれ、選択された長さの視野を規
定し； 該第１の一対のWynne Dysonレンズシステムの中央線
が、該第２の一対のWynne Dysonレンズシステムの中央
線から、該第１および第２の一対のWynne Dysonレンズ
システムの選択された視野長さの平均だけずれ；そして 該第２の一対のWynne Dysonレンズシステムの中央線
が、該第３の一対のWynne Dysonレンズシステムの中央
線から、該第２および第３の一対のWynne Dysonレンズ
システムの選択された視野長さの平均だけずれている、
請求項６に記載の走査システム。 - 【請求項１１】レチクルの長さの一部分からのパターン
を走査し、かつ該走査されたパターンを基板上の対応す
る長さ上に投影する走査システムであって； 該パターンを有する該レチクルを受けかつ移送する第１
の運び台； 互いに隣接し、かつ互いに横に並んで同じ方向に向いた
第１の複数のレンズシステムであって、各々が、互いに
連続する第１および第２のWynne Dysonレンズシステム
を備えるレンズシステム； 互いに隣接し、かつ互いに横に並んで同じ方向に向いた
第２の複数のレンズシステムであって、各々が、互いに
連続する第１および第２のWynne Dysonレンズシステム
を備えるレンズシステム； 該レチクルからの該走査されたパターンを受け、かつ該
第１の折り返し鏡システム上の異なる位置から、該第１
および該第２の複数のレンズシステムの各々の該第１の
Wynne Dysonレンズアレイに、該走査されたパターンの
異なる部分を反射するために配置された第１の折り返し
鏡システム； 第２の折り返し鏡システムであって、該走査されたパタ
ーンの該異なる部分が該第１および第２の複数のレンズ
システムの各々の該第１のWynne Dysonレンズアレイの
各々を通過した後、該第２の折り返し鏡システム上の異
なる位置で、該走査されたパターンの該異なる部分を受
けるために配置されたシステム； 第３の折り返し鏡システムであって、該第２の折り返し
鏡システム上の異なる位置から該第３の折り返し鏡シス
テム上の異なる位置で該走査されたパターンの該異なる
部分を受け、かつ該第３の折り返し鏡システム上の異な
る位置から該第１および第２の複数のレンズシステムの
各々の該第２のWynne Dysonレンズアレイに該走査され
たパターンの異なる部分を反射するために配置されたシ
ステム； 第４の折り返し鏡システムであって、該走査されたパタ
ーンの該異なる部分が該第１および第２の複数のレンズ
システムの各々の該第２のWynne Dysonレンズアレイの
各々を通過した後、該第４の折り返し鏡システム上の異
なる位置で、該走査されたパターンの該異なる部分を受
けるために配置されたシステム；および 該基板を受けそれに動きを提供する第２の運び台であっ
て、該動きが、該第１の運び台上で該レチクルの該移送
と同時に提供され、該基板上の異なる位置で該一対のWy
nne Dysonレンズシステムからの該走査されたパターン
の該異なる部分を受けるために配置される運び台、 を備える走査システム。 - 【請求項１２】前記異なる走査されたパターン部分が、
前記基板に投影されるとき、互いに隣接している、請求
項11に記載の走査システム。 - 【請求項１３】前記異なる走査されたパターン部分が、
前記第１および第２の複数のレンズシステムから交互に
前記基板に投影される、請求項11に記載の走査システ
ム。
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