JP3406689B2 - ナフチリジン及びピリドピラジン誘導体 - Google Patents

ナフチリジン及びピリドピラジン誘導体

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JP3406689B2
JP3406689B2 JP16220894A JP16220894A JP3406689B2 JP 3406689 B2 JP3406689 B2 JP 3406689B2 JP 16220894 A JP16220894 A JP 16220894A JP 16220894 A JP16220894 A JP 16220894A JP 3406689 B2 JP3406689 B2 JP 3406689B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なナフチリジン及
びピリドピラジン誘導体に関する。
【従来の技術】本発明のナフチリジン及びピリドピラジ
ン誘導体は文献未載の新規化合物である。
【発明が解決しようとする課題】本発明は後記するよう
に医薬品として有用な化合物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】本発明によれば下記一般
式(1)
【化7】 〔式中、R1 は水素原子、低級アルキル基又は置換基と
してハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシカ
ルボニル基及びニトロ基から選ばれる基を有することの
あるフェニル基を、R2 は水素原子、低級アルカノイル
基又は電子対“−”を示し、R3 は、R2 が水素原子又
は低級アルカノイル基である場合には、基−S(O)n
4 (式中、R4 は低級アルキル基又はフェニル基を、
nは0又は1を示す)を、R2 が電子対“−”の場合
は、基
【化8】 (式中、Phはフェニル基を示す)、基
【化9】 (式中、R5 及びR6 は同一又は異なって低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキ
ル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、フェ
ニル低級アルキル基、ジ低級アルコキシホスホリル低級
アルキル基又は置換基としてヒドロキシル基、低級アル
カノイルアミノ基、カルボキシル基及びハロゲン原子か
ら選ばれる基の1〜2個を有することのあるフェニル基
を示すか、あるいは互いに結合してS原子を含む複素環
を形成し、該複素環は低級アルキル基、低級アルコキシ
基又はオキソ基で置換されていてもよい)又は1−ピリ
ジニオ基を示し、XはCH又はNを示す。〕で表される
ナフチリジンおよびピリドピラジン誘導体が提供され
る。上記一般式(1)で表される本発明化合物のうち、
好ましいものとしてはR1がハロゲン原子で置換された
フェニル基である化合物を示すことができ、なかでもR
1 が3−クロロフェニル基である化合物はより好まし
い。とりわけ、R2 が電子対“−”であって、R3 が基
【化10】 であって、かつR5 及びR6 は同一又は異なって低級ア
ルキル基であるものは特に好ましく、その具体例として
5 及びR6 がメチル基である化合物を挙げることがで
きる。
【0002】上記一般式(1)において示される各置換
基としては、具体的にはそれぞれ以下の各基を例示でき
る。即ち、低級アルキル基としては、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖又は
分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。低級アルカノイ
ル基としては、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイ
ル基等を例示できる。フェニル低級アルキル基として
は、例えばベンジル、1−フェニルエチル、2−フェニ
ルエチル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチ
ル、5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル基等
も例示できる。
【0003】カルボキシ低級アルキル基としては、例え
ばカルボキシメチル、2−カルボキシエチル、3−カル
ボキシプロピル、4−カルボキシブチル、5−カルボキ
シペンチル、6−カルボキシヘキシル基等を例示でき
る。ヒドロキシ低級アルキル基としては、例えばヒドロ
キシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプ
ロピル、4−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペンチ
ル、6−ヒドロキシヘキシル基等を例示できる。低級ア
ルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル基等を例示できる。低級アルコキシ
カルボニル低級アルキル基としては、例えばメトキシカ
ルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、2−メト
キシカルボニルエチル、3−メトキシカルボニルプロピ
ル、4−メトキシカルボニルブチル、5−メトキシカル
ボニルペンチル、6−メトキシカルボニルヘキシル、2
−ブトキシカルボニルエチル、ヘキシルオキシカルボニ
ルメチル基等を例示できる。低級アルコキシホスホリル
低級アルキル基としては、例えばジメトキシホスホリル
メチル、ジエトキシホスホリルメチル、ジプロポキシホ
スホリルメチル、ジイソプロポキシホスホリルメチル、
ジブトキシホスホリルメチル、ジペンチルオキシホスホ
リルメチル、ジヘキシルオキシホスホリルメチル、2−
(ジメトキシホスホリル)エチル、2−(ジエトキシホ
スホリル)エチル、3−(ジエトキシホスホリル)プロ
ピル基等を例示できる。
【0004】低級アルカノイルアミノ基としては、例え
ばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミ
ノ、バレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイル
アミノ、ヘプタノイルアミノ基等を例示できる。また、
置換基R1 のうち、置換基としてハロゲン原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシカルボニル基及びニトロ基か
ら選ばれる基を有することのあるフェニル基としては、
フェニル基に加えて、例えば2−クロロフェニル、3−
クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−ブロモフェ
ニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、2−
ヨードフェニル、3−ヨードフェニル、4−ヨードフェ
ニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、
4−フルオロフェニル、2,3−ジクロロフェニル、
2,4−ジクロロフェニル、2,5−ジクロロフェニ
ル、2,6−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフェ
ニル、3,5−ジクロロフェニル、3,4,5−トリク
ロロフェニル、4−メチルフェニル、3−メチルフェニ
ル、2−メチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、
3,4−ジメチルフェニル、3,4,5−トリメチルフ
ェニル、4−エチルフェニル、4−プロピルフェニル、
4−ブチルフェニル、4−ペンチルフェニル、4−ヘキ
シルフェニル、4−イソプロピルフェニル、2−メトキ
シカルボニルフェニル、3−メトキシカルボニルフェニ
ル、4−メトキシカルボニルフェニル、4−エトキシカ
ルボニルフェニル、4−プロポキシカルボニルフェニ
ル、4−ブトキシカルボニルフェニル、4−ペンチルオ
キシカルボニルフェニル、4−ヘキシルオキシカルボニ
ルフェニル、2−ニトロフェニル、3−ニトロフェニ
ル、4−ニトロフェニル、2,4−ジニトロフェニル、
3,5−ジニトロフェニル、2,4,6−トリニトロフ
ェニル基等を例示できる。
【0005】置換基R5 及びR6 のうち、置換基として
ヒドロキシル基、低級アルカノイルアミノ基、カルボキ
シル基及びハロゲン原子から選ばれる基の1〜2個を有
することのあるフェニル基としては、フェニル基に加え
て、例えば2−ヒドロキシフェニル、3−ヒドロキシフ
ェニル、4−ヒドロキシフェニル、3,4−ジヒドロキ
シフェニル、2−アセチルアミノフェニル、3−アセチ
ルアミノフェニル、4−アセチルアミノフェニル、4−
プロピオニルアミノフェニル、4−ブチリルアミノフェ
ニル、4−バレリルアミノフェニル、4−ピバロイルア
ミノフェニル、4−ヘキサノイルアミノフェニル、4−
ヘプタノイルアミノフェニル、2−カルボキシフェニ
ル、3−カルボキシフェニル、4−カルボキシフェニ
ル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−ク
ロロフェニル、2−ブロモフェニル、3−ブロモフェニ
ル、4−ブロモフェニル、2−ヨードフェニル、3−ヨ
ードフェニル、4−ヨードフェニル、2−フルオロフェ
ニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、
2,3−ジクロロフェニル、2,4−ジクロロフェニ
ル、2,5−ジクロロフェニル、2,6−ジクロロフェ
ニル、3,4−ジクロロフェニル、3,5−ジクロロフ
ェニル、3−カルボキシ−4−クロロフェニル、3−カ
ルボキシ−4−ヒドロキシフェニル、3−クロロ−4−
カルボキシフェニル、3−ヒドロキシ−4−カルボキシ
フェニル基等を例示できる。更に、置換基R5 及びR6
が互いに結合して形成する、低級アルキル基、低級アル
コキシ基又はオキソ基で置換されていてもよいS原子を
含む複素環としては、テトラヒドロチオフェン、3−オ
キソテトラヒドロチオフェン、2−メチルテトラヒドロ
チオフェン、1,4−ジチアン、1,4−オキサチア
ン、テトラヒドロチオピラン、4,4−ジメトキシテト
ラヒドロチオピラン、3−メチルテトラヒドロチオフェ
ン、1,3−ジチアン、1,3−オキサチアン、1,3
−ジチオラン、1,3−オキサチオラン、4−オキソテ
トラヒドロチオピラン、3,3−ジメトキシテトラヒド
ロチオピラン等を例示できる。
【0006】上記一般式(1)で表される本発明のナフ
チリジン及びピリドピラジン誘導体は、優れた抗炎症作
用、免疫調節作用、鎮痛作用、解熱作用、抗うつ作用、
抗アレルギー作用等を有しており、免疫調節剤、消炎・
鎮痛・解熱剤、抗アレルギー剤、抗うつ剤として、慢性
関節リウマチ、腎炎、肝炎、乾癬、全身性エリテマトー
デス、アトピー性皮フ炎、腰痛症、喘息、中枢性疾患等
の治療及び予防に有用である。
【0007】本発明の上記一般式(1)で表されるナフ
チリジン及びピリドピラジン誘導体は、各種の方法によ
り製造できる。その具体例を下記反応工程式に示す。 〔反応工程式−1〕
【化11】 〔式中、R1 、R4 及びXは前記に同じ。R及びR’は
それぞれ低級アルキル基を示す。〕 即ち、一般式(2)で表わされる化合物に一般式(3)
で表わされるアルキルチオ酢酸エステル誘導体を溶媒例
えばベンゼン、トルエン、キシレン等を用い、塩基、例
えばカリウム−t−ブトキシド、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシドなど塩基の存在下で反応させ
一般式(1a)で表わされる本願発明に係るナフチリジ
ン及びピリドピラジン誘導体を製造する。一般式(3)
で表わされるアルキルチオ酢酸エステル誘導体の使用量
は、一般式(2)で表わされる化合物に対して等モルな
いし、過剰量を用いればよい。また、塩基の使用量は一
般式(2)で表わされる化合物に対し等モルないし過剰
量を用いればよい。反応は80℃ないし溶媒の沸点付近
の温度で1〜20時間かけて行えばよい。
【0008】〔反応工程式−2〕
【化12】 〔式中、R4 及びXは前記に同じ。R1aは低級アルキル
基又は置換基としてハロゲン原子、低級アルキル基、低
級アルコキシカルボニル基及びニトロ基から選ばれる基
を有することのあるフェニル基を、R2aは低級アルカノ
イル基を示す。〕また、第4位の水酸基のアルカノイル
化反応は一般式(1b)で表わされる化合物を用いてア
ルカノイル化すればよい。即ち、上記反応工程式−2に
示すアルカノイル化反応は、化合物(1b)を酸無水物
中、100〜200℃で約1〜10時間処理することに
より行われる。尚、上記酸無水物は溶媒を兼ねるので大
過剰量用いるのが一般的であり、また特に他の溶媒を必
要としない。酸無水物の例としては、無水酢酸、無水プ
ロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、無水ヘキサン酸、
無水ヘプタン酸等を挙げることができる。
【0009】〔反応工程式−3〕
【化13】 〔式中、R1a、R2 及びR4 は前記に同じ。〕 第3位のチオ基の酸化は溶媒、ジクロロメタン、1,2
−ジクロロエタン、ジエチルエーテル等の存在下、酸化
剤として、過酢酸、m−クロロ過安息香酸などの過酸類
を一般式(1d)で表わされるナフチリジン又はピリド
ピラジン誘導体に対して等モルないし少過剰量用いて、
0℃〜室温で1〜20時間かけ酸化すればよい。
【0010】〔反応工程式−4〕
【化14】 〔式中、R1a、R4 及びXは前記に同じ。R5aはR4
同じで、R6aは低級アルキル基又はフェニル低級アルキ
ル基を示し、Yはハロゲン原子を示す。〕 一般式(1f)で表わされるナフチリジン及びピリドピ
ラジン誘導体は一般式(1b)で表わされる化合物に一
般式(4)で表わされるハロゲン化化合物を反応させる
ことにより得られる。反応は、ジメチルホルムアミド
(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DM
A)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、テトラヒド
ロフラン(THF)などを溶媒として用い、一般式(1
b)で表わされる化合物と一般式(4)で表わされる化
合物を塩基、例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムの存在下、0℃〜溶媒の沸
点付近で10分〜5時間反応させる。化合物(4)は化
合物(1b)に対して1〜3当量用いればよく、塩基は
化合物(1b)に対して1〜5当量、好ましくは1〜2
当量用いればよい。
【0011】〔反応工程式−5〕
【化15】 〔式中、R、R1 及びXは前記と同じ。〕上記反応工程
式−5において、化合物(2)のアセチル化反応は、化
合物(2)を過剰量の無水酢酸中、100℃〜還流温度
にて10〜100時間処理することにより行われる。次
に、アセトアミド誘導体(5)の環化反応は、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、クメン、シメン等の芳香族
炭化水素系不活性溶媒中、カリウム−t−ブトキシド、
ナトリウムエトキシド等の塩基の存在下、加熱すること
により実施される。上記塩基の使用量は、1〜5倍モル
量程度とするのがよく、加熱条件としては、100℃〜
還流温度で0.5〜5時間程度の条件を採用し得る。続
いて、上記で得られる化合物(6)を、アルカリ存在
下、ヨードベンゼンジアセテートと反応させることによ
り、本発明化合物(1g)を得ることができる。該反応
において、溶媒としては水を好適に使用でき、アルカリ
としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム等を例示できる。また、上記
アルカリ及びヨードベンゼンジアセタートの使用量は、
等モル〜少過剰量とするのが好ましい。反応は、0℃〜
室温付近の温度で約1〜10時間を要して行われる。
【0012】〔反応工程式−6〕
【化16】 〔式中、R1 、R5 、R6 及びXは前記と同じ。〕 一般式(1g)で表される本発明化合物は、チオエーテ
ル誘導体(8)と反応することにより本発明化合物(1
h)に変換される。該反応は、メタノール、エタノール
等の低級アルコールを溶媒に用い、p−トルエンスルホ
ン酸、酢酸等の酸触媒を適量添加して行われる。チオエ
ーテル誘導体(8)の使用量は、化合物(1g)に対し
て1〜10倍モル量とするのがよく、反応は室温〜還流
温度にて10分〜24時間程度で完了する。 〔反応工程式−7〕
【化17】 〔式中、R1 、R5 、R6 及びXは前記と同じ。〕 上記化合物(1g)の化合物(1i)への変換反応は、
上記反応工程式−6の反応で用いるチオエーテル誘導体
(8)の代わりにピリジンを用いることにより行われ
る。その他の条件、例えば溶媒、酸触媒、反応温度、反
応時間等は、上記反応工程式−6に示したものと同様の
条件が採用される。尚、本発明化合物(1g)は、下記
に示す共鳴構造をとると考えられ、下記のいずれの構造
式でも表し得る。
【化18】
【0013】また、本発明化合物(1h)は、下記に示
す共鳴構造をとると考えられ、下記のいずれの構造式で
も表し得る。
【化19】
【0014】上記各反応工程式に示した各工程における
目的化合物は、通常の分離手段により容易に単離、精製
できる。該手段としては例えば吸着クロマトグラフィ
ー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー、再結晶、
溶媒抽出等が例示できる。尚、本発明化合物の一部に
は、硫黄原子又は炭素原子を不斉中心とする光学異性体
が存在するものがあり、本発明は当然ラセミ体、光学活
性体の両方を包含する。上記光学異性体は、慣用の分割
法、例えば光学分割剤を使用する方法等で分離すること
ができる。
【0015】以下、本発明を更に詳しく説明するため、
本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。尚、第1
表に、下記実施例で得られた化合物の構造、融点及び 1
H−NMRスペクトルデータを記載する。また、実施例
6及び実施例28の化合物については、13C−NMRス
ペクトルデータの一部も併記する。尚、 1H−NMRス
ペクトル及び13C−NMRスペクトルは、内部基準とし
てTMSを用いて測定し、溶媒は特に明記していないも
のについては全て重クロロホルムを用いた。
【0016】実施例1.1−(3−クロロフェニル)−
4−ヒドロキシ−3−メチルチオ−1,8−ナフチリジ
ン−2(1H)オンの製造 2−(3−クロロアニリノ)ニコチン酸メチル10g及
びメチルチオ酢酸エチル15gをキシレン200mlに
溶解し、カリウム−t−ブトキシド10.7gを室温で
加え、そのまま10分攪拌した後、130℃で1晩加熱
攪拌した。反応終了後放冷し、水150mlを加えて水
層を分取し、これをジエチルエーテルで洗浄(50ml
×2回)した。水層をクエン酸水溶液で中和し、析出し
た結晶を濾取し、メタノールで洗浄して目的化合物8.
0gを得た。 実施例2〜8…実施例1と同様の操作をくり返し、第1
表に示した本発明に係る化合物2〜8を得た。
【0017】実施例9 4−アセトキシ−1−(3−ク
ロロフェニル)−3−メチルチオ−1,8−ナフチリジ
ン−2(1H)オンの製造 実施例1で得られた化合物1.0gを無水酢酸10ml
に溶解し、150℃で3時間加熱攪拌した。無水酢酸を
減圧留去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、重曹水(50
ml×3回)及び水(50ml×2回)で順次洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して得られ
る結晶をn−ヘキサン−ジイソプロピルエーテルで洗浄
して目的化合物1.0gを得た。 実施例10〜14…実施例9と同様の操作をくり返し、
第1表に示した本発明に係る化合物10〜14を得た。
【0018】実施例15 1−(3−クロロフェニル)
−4−ヒドロキシ−3−メチルスルフィニル−1,8−
ナフチリジン−2(1H)オンの製造 実施例1で得られた化合物640mg及び酢酸10ml
をジクロロメタン10mlに溶解し、室温下30%過酸
化水素水300mgを滴下し、室温で1晩攪拌した。反
応終了後、減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン50ml
に溶かし水で洗浄(50ml×4回)した。有機層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得られる結
晶をn−ヘキサン−ジイソプロピルエーテルで洗浄して
目的化合物610mgを得た。 実施例16…実施例9と同様の操作をくり返し、第1表
に示す本願発明に係る化合物16を得た。
【0019】実施例17 1−(3−クロロフェニル)
−3−(ジメチルスルホニオ)−1,8−ナフチリジン
−2(1H)−オン−4−オラートの製造 実施例1で得られた化合物1.0gをDMF15mlに
溶解し、室温下、60%水素化ナトリウム160mgを
加え、10分間攪拌した。次にヨウ化メチル550mg
を加え、室温で30分間攪拌した。反応混合液に水50
mlを加え、クエン酸水溶液で中和し、クロロホルムで
抽出した。クロロホルム層を水で洗浄(50ml×4
回)し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮し
た。得られる結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄して
目的化合物890mgを得た。 実施例18 1−(3−クロロフェニル)−3−(エチ
ルメチルスルホニオ)−1,8−ナフチリジン−2(1
H)−オン−4−オラートの製造 実施例1で得られた化合物及びヨウ化エチルを用い、実
施例17と同様にして目的化合物を得た。また、実施例
2で得られた化合物及びヨウ化メチルを用いても、まっ
たく同一の化合物が得られた。 実施例19〜31…実施例17と同様の操作をくり返
し、第1表に示す本願発明に係る化合物19〜31を得
た。
【0020】実施例32 1−(3−クロロフェニル)
−3−(フェニルヨードニウム)−1,8−ナフチリジ
ン−2(1H)−オン−4−オラートの製造 2−(3−クロロフェニルアミノ)ニコチン酸メチル2
5gを無水酢酸200mlに溶解し、160℃で48時
間攪拌した。反応終了後、無水酢酸を減圧留去し、残渣
をジエチルエーテル400mlに溶解し、飽和重曹水で
2回、次いで水で1回洗浄した。次に、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮した油状の2−〔N−アセチ
ル−N−(3−クロロフェニル)アミノ〕ニコチン酸メ
チル22.5gを得た。1 H−NMR(δ:ppm);2.05(3H, s),3.93(3H,s),
7.22-7.56 (5H, m),8.24(1H,dd,J=2.0,7.8),8.57(1
H,dd,J=2.0,4.8) 〔CDCl3 〕 上記で得られた化合物22.5gをキシレン300ml
に溶解し、カリウム−t−ブトキシド21.3gを室温
で加え、150℃で2時間攪拌した。放冷後、水250
mlで抽出し、水層にクエン酸水溶液を加えてpH3と
した。析出した結晶を濾取し、メタノールで洗浄して1
−(3−クロロフェニル)−4−ヒドロキシ−1,8−
ナフチリジン−2(1H)−オンの結晶20.5gを得
た。1 H−NMR(δ:ppm);5.94(1H, s),7.22-7.55 (5
H, m) ,8.27(1H,dd,J=1.6,7.9),8.43(1H,dd,J=1.6,
4.6),12.05(1H,brs) 〔DMSO−d6 〕 炭酸ナトリウム5.3gを水400mlに溶解し、この
水溶液に上記で得られた化合物13.6gを溶かし、室
温下ヨードベンゼンジアセテート16.6gを加え、3
時間攪拌した。反応終了後、析出した結晶を濾取し、水
で洗浄した後、80℃で24時間減圧乾燥して目的化合
物の結晶21.6gを得た。 実施例33〜40…実施例32と同様の操作を繰り返
し、第1表に示した本発明に係る化合物33〜40を得
た。
【0021】実施例41 1−(3−クロロフェニル)
−3−(2,3,4,5−テトラヒドロ−1−チオフェ
ニオ)−1,8−ナフチリジン−2(1H)−オン−4
−オラートの製造 実施例32で得られた化合物1.5gをメタノール20
mlに溶解し、テトラヒドロチオフェン1.5ml及び
パラトルエンスルホン酸100mgを室温で加え、この
混合物を50℃で1時間攪拌した。反応終了後、メタノ
ールを減圧留去し、残渣に水30mlを加え、クロロホ
ルムで抽出(30ml×3回)した。クロロホルム層を
集め、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
クロロホルムを減圧留去し、得られる結晶をジイソプロ
ピルエーテルで洗浄して、目的化合物0.93gを得
た。 実施例42〜86…実施例41と同様の操作を繰り返
し、第1表に示した本発明に係る化合物42〜86を得
た。
【0022】実施例87 1−フェニル−3−(1−ピ
リジニオ)−1,8−ナフチリジン−2(1H)−オン
−4−オラートの製造 実施例33で得られた化合物2.0gをメタノール10
mlに溶解し、ピリジン5ml及び酢酸5mlを室温で
加え、この混合物を100℃で1晩攪拌した。反応終了
後、減圧濃縮し、残渣に水50mlを加え、クロロホル
ムで抽出(30ml×3回)した。クロロホルム層を集
め、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ク
ロロホルムを減圧留去し、得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出液…クロロホルム:メタ
ノール=10:1)で精製して、目的化合物の淡黄色結
晶230mgを得た。 実施例88…実施例87と同様の操作を繰り返し、第1
表に示した本発明に係る化合物88を得た。
【0023】
【表1】
【0024】
【表2】
【0025】
【表3】
【0026】
【表4】
【0027】
【表5】
【0028】
【表6】
【0029】
【表7】
【0030】
【表8】
【0031】
【表9】
【0032】
【表10】
【0033】
【表11】
【0034】
【表12】
【0035】
【表13】
【0036】
【表14】
【0037】
【表15】
【0038】
【表16】
【0039】
【表17】
【0040】
【表18】
【0041】
【表19】
【0042】
【表20】
【0043】
【表21】
【0044】
【表22】
【0045】
【表23】
【0046】
【表24】
【0047】
【表25】
【0048】〔薬理試験1〕本発明の化合物について、
抗炎症作用の指標となるインターロイキン−1(IL−
1)及び腫瘍壊死因子(TNF)の産生抑制作用を測定
した。即ち、チオグリコレート培地で誘導したマウス腹
腔浸出マクロファージを定量採取し、供試化合物を1:
1DMSO−メタノールに溶解し、更にイーグルMEM
培地(日水製薬社製)で希釈した濃度10-6mol/m
lの液を加え、二酸化炭素中、37℃で1時間インキュ
ベートした。次に、リポポリサッカライド(ディフコ社
製)を添加し、二酸化炭素中、37℃で20時間インキ
ュベートした後、培養上清を定量採取してIL−1及び
TNFの量をそれぞれ以下の要領により測定した。 〈IL−1量の測定〉Biochemical and
Biophysical Research Com
munication,154(3),1189(19
88)に記載の方法に準じて以下の操作を行った。即
ち、ヒト由来メラノーマ細胞(A375S2細胞)2×
104 個/〔10%FBS(ハイクローン社製)+イー
グルMEM(日水製薬社製)培地100μl〕に、上記
で採取した培養上清(サンプル)を添加し、二酸化炭素
中、37℃で4日間インキュベートした後、培地を廃棄
した。次に、付着細胞をニュートラルレッドで染色し、
取込まれたニュートラルレッドによる吸光度を測定し
た。サンプルの代わりにIL−1の標準品を添加した場
合の吸光度と比較することにより、サンプル中のIL−
1量を求めた。 〈TNF量の測定〉臨床免疫、22(suppl.1
5),78(1990)に記載の方法に準じて以下の操
作を行った。即ち、マウス線維芽細胞(L929細胞)
6×104 個/〔10%FBS(ハイクローン社製)+
イーグルMEM(日水製薬社製)培地100μl〕を二
酸化炭素中、37℃で2時間インキュベートした後、上
記で採取した培養上清(サンプル)及びアクチノマイシ
ンD添加MEM培地100μlを加え、二酸化炭素中、
37℃で18時間インキュベートした後、培地を廃棄し
た。次に、付着細胞をクリスタルバイオレットで染色
し、取込まれたクリスタルバイオレットによる吸光度を
測定した。サンプルの代わりにTNFの標準品を添加し
た場合の吸光度を比較することにより、サンプル中のT
NF量を求めた。また、供試化合物を含まない培地を加
えたマウス腹腔浸出マクロファージについて、同様の操
作を行ってIL−1量及びTNF量を測定し、その値を
対照として、供試化合物のIL−1及びTNFの産生抑
制率を下式により求めた。 IL−1産生抑制率の結果を第2表に、TNF産生抑制
率の結果を第3表にそれぞれ示す。
【0049】
【表26】
【0050】
【表27】
【0051】〔薬理試験2〕本発明の化合物について、
抗炎症作用の指標となるホスホジエステラーゼ−IV
(PDE−IV)の阻害活性を測定した。 〈PDE−IV溶液の調製〉エーテル麻酔下のラットを
頸椎脱臼によって安楽死させた後、頸動脈を切断し放血
した。脳を取り出し、Hopes緩衝液中で細かく切り
刻み、細かくなった脳を3回Hopes緩衝液で洗浄し
た。ラット1匹あたり30mlのHopes緩衝液を加
え、テフロンホモゲナイザーで脳細胞を均一化し、この
ホモジネートを更に氷冷下、超音波細胞破砕器で均質化
した。次いで、このホモジネートを100000×g
(4℃)で1時間遠心し、上清に最終濃度80%になる
ように硫酸アンモニウムを加え、蛋白質を沈殿させた。
蛋白質を遠心(2000rpm,4℃,20分)で集
め、Bis−Tris緩衝液2mlに溶解し、1500
rpm(4℃)で10分遠心した。上清を0.45μm
のフィルターで濾過し、Bis−Tris緩衝液で平衡
化した1.6cm×70cmのSuperdex200
pgカラムで精製(溶出液…Bis−Tris緩衝液;
2ml/分)し、cAMP代謝活性を有し且つ該活性が
ロリプラム(rolipram;PDE−IV阻害剤)
により阻害されるフラクションを集め、PDE−IV溶
液とした。
【0052】
【表28】 〈PDE−IV溶液の調製〉日高らの方法〔Bioch
em.Med.,10,301(1974)〕に基づ
き、Tris−塩酸(pH8.0)50mM、塩化マグ
ネシウム5mM、ウシ血清アルブミン0.1mg/m
l、cAMP0.4μM及び〔 3H〕−cAMP4kB
qの混合物中に上記で調製したPDE−IV溶液と供試
化合物(各濃度)を加えて30℃で反応させ、PDE−
IVの抑制をcAMP代謝の減少を測定することにより
求め、50%抑制する供試化合物の濃度(IC50)を算
出した。結果を第4表に示す。
【0053】
【表29】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI A61P 11/08 A61P 11/08 13/12 13/12 17/00 17/00 17/06 17/06 25/00 25/00 25/04 25/04 25/24 25/24 29/00 29/00 101 101 37/02 37/02 37/08 37/08 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 471/04 114 C07D 471/04 120 A61K 31/395 A61K 31/435

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 〔式中、R1 は水素原子、低級アルキル基又は置換基と
    してハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシカ
    ルボニル基及びニトロ基から選ばれる基を有することの
    あるフェニル基を、R2 は水素原子、低級アルカノイル
    基又は電子対“−”を示し、R3 は、R2 が水素原子又
    は低級アルカノイル基である場合には、基−S(O)n
    4 (式中、R4 は低級アルキル基又はフェニル基を、
    nは0又は1を示す)を、R2 が電子対“−”の場合
    は、基 【化2】 (式中、Phはフェニル基を示す)、基 【化3】 (式中、R5 及びR6 は同一又は異なって低級アルキル
    基、ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキ
    ル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、フェ
    ニル低級アルキル基、ジ低級アルコキシホスホリル低級
    アルキル基又は置換基としてヒドロキシル基、低級アル
    カノイルアミノ基、カルボキシル基及びハロゲン原子か
    ら選ばれる基の1〜2個を有することのあるフェニル基
    を示すか、あるいは互いに結合してS原子を含む複素環
    を形成し、該複素環は低級アルキル基、低級アルコキシ
    基又はオキソ基で置換されていてもよい)又は1−ピリ
    ジニオ基を示し、XはCH又はNを示す。〕で表される
    ナフチリジン及びピリドピラジン誘導体。
  2. 【請求項2】 R1 が低級アルキル基又は置換基として
    ハロゲン原子、低級アルコキシカルボニル基及びニトロ
    基から選ばれる基を有することのあるフェニル基で、R
    2 が低級アルカノイル基又は電子対“−”であり、Xが
    CHである請求項1記載のナフチリジン誘導体。
  3. 【請求項3】 R2 が電子対“−”である請求項2記載
    のナフチリジン及びピリドピラジン誘導体。
  4. 【請求項4】 R3 が基 【化4】 (式中、Phはフェニル基を示す)、基 【化5】 (式中、R5'及びR6'は同一又は異なって低級アルキル
    基、フェニル低級アルキル基又はフェニル基を示す)、
    1−テトラヒドロチオフェニオ基又は1−テトラヒドロ
    チオピラニオ基である請求項3記載のナフチリジン及び
    ピリドピラジン誘導体。
  5. 【請求項5】 R1 が置換基としてハロゲン原子、低級
    アルコキシカルボニル基及びニトロ基から選ばれる基を
    有することのあるフェニル基であり、R3 が基 【化6】 (式中、Phはフェニル基を示す)である請求項4記載
    のナフチリジン及びピリドピラジン誘導体。
  6. 【請求項6】 R1 がフェニル基、3−クロロフェニル
    基、3−メトキシカルボニルフェニル基又は3−ニトロ
    フェニル基である請求項5記載のナフチリジン及びピリ
    ドピラジン誘導体。
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