JP3404001B2 - 橙黄色メタルハライドランプ - Google Patents
橙黄色メタルハライドランプInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、自動車前照灯用の
光源として用いられるメタルハライドランプに関するも
のである。
光源として用いられるメタルハライドランプに関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】メタルハライドランプは、発光管内に希
ガスおよび水銀に加えて金属ハロゲン化物を封入するこ
とによって、発光効率および演色性を著しく改善し、小
型で発光量の多い放電管として、近年自動車前照灯用の
光源として用いられて注目されている。
ガスおよび水銀に加えて金属ハロゲン化物を封入するこ
とによって、発光効率および演色性を著しく改善し、小
型で発光量の多い放電管として、近年自動車前照灯用の
光源として用いられて注目されている。
【０００３】一般にこの種メタルハライドランプ９０
は、例えば図１２に示すように、発光管９１と、該発光
管９１を包囲する透光性部材９２と、自動車用前照灯
（図示は省略する）へ取り付けを行うためのソケット９
３などによって構成されている。このとき、発光管９１
には内部に放電を行なわせるための空間として放電部９
４が設けられ、該放電部９４内に適宜の間隔を空けて一
対の放電電極９５が対峙して保持されていると共に、各
々の放電電極９５にリード線９６が接続されていて放電
電極９５に対し外部からの給電が行なえるものとなって
いる。
は、例えば図１２に示すように、発光管９１と、該発光
管９１を包囲する透光性部材９２と、自動車用前照灯
（図示は省略する）へ取り付けを行うためのソケット９
３などによって構成されている。このとき、発光管９１
には内部に放電を行なわせるための空間として放電部９
４が設けられ、該放電部９４内に適宜の間隔を空けて一
対の放電電極９５が対峙して保持されていると共に、各
々の放電電極９５にリード線９６が接続されていて放電
電極９５に対し外部からの給電が行なえるものとなって
いる。
【０００４】そして、前記発光管９１は略円筒形状の透
光性部材９２によって覆われることによって、発光管９
１が外気などにより冷却されて適正な温度が保てなくな
り発光効率が低下するのを防止している。
光性部材９２によって覆われることによって、発光管９
１が外気などにより冷却されて適正な温度が保てなくな
り発光効率が低下するのを防止している。
【０００５】また、発光管９１内の放電部９４には、キ
セノンガスなどの希ガスおよび水銀に加え、金属ハロゲ
ン化物が所定量封入されていて、放電電極９５に外部か
ら給電が行なわれると、放電電極９５間で放電が行なわ
れ、希ガスおよび金属ハロゲン化物が発光して４０００
°Ｋを超える色温度の白色光で点灯し、ハロゲン電球な
どフィラメント方式の２８００°Ｋ近傍の色温度のもの
に比較して優れた演色性が得られるものであり、自然光
に近い上、小型で高出力、高効率といった利点を生か
し、自動車前照灯用の光源として採用されている。
セノンガスなどの希ガスおよび水銀に加え、金属ハロゲ
ン化物が所定量封入されていて、放電電極９５に外部か
ら給電が行なわれると、放電電極９５間で放電が行なわ
れ、希ガスおよび金属ハロゲン化物が発光して４０００
°Ｋを超える色温度の白色光で点灯し、ハロゲン電球な
どフィラメント方式の２８００°Ｋ近傍の色温度のもの
に比較して優れた演色性が得られるものであり、自然光
に近い上、小型で高出力、高効率といった利点を生か
し、自動車前照灯用の光源として採用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、こうし
た従来のメタルハライドランプ９０は、演色性に優れて
いる一方で短波長域の可視光成分が多いため、都市部や
高速道路などの交通量の多い場所で長時間人間の眼球が
この光にさらされると、短波長域の可視光成分の多さに
起因して青白くまぶしい眩惑光に感じてしまう問題があ
った。また、雪道走行時などは青白い光のため対向車に
とっても眩惑光となってしまう問題があり、こうした問
題の解決が課題とされるものとなっている。
た従来のメタルハライドランプ９０は、演色性に優れて
いる一方で短波長域の可視光成分が多いため、都市部や
高速道路などの交通量の多い場所で長時間人間の眼球が
この光にさらされると、短波長域の可視光成分の多さに
起因して青白くまぶしい眩惑光に感じてしまう問題があ
った。また、雪道走行時などは青白い光のため対向車に
とっても眩惑光となってしまう問題があり、こうした問
題の解決が課題とされるものとなっている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した従来の
課題を解決するための具体的手段として、少なくともヨ
ウ化ナトリウムを封入したメタルハライドランプの発光
管表面もしくは該発光管を包囲する透光性部材表面に、
光学膜厚が３０〜２００ｎｍの範囲に設定された高屈折
率膜と低屈折率膜とが交互に複数層積層された層を含ん
でいて可視光域における青色短波長成分をカットし、そ
れ以外の長波長成分を透過する特性を有する光学式多層
膜を形成し、前記光学式多層膜の高屈折率膜のうち少な
くとも一層は６００ｎｍ以下の波長の光を吸収する特性
を有するシリコン膜、ＳｉＸＯｙ（０＜Ｘ＜１、０＜ｙ
＜１）膜、アモルファスシリコン膜もしくはポリシリコ
ン膜のいずれかからなる光吸収膜によって形成されてい
ることを特徴とす橙黄色メタルハライドランプを提供す
ることで課題を解決するものである。
課題を解決するための具体的手段として、少なくともヨ
ウ化ナトリウムを封入したメタルハライドランプの発光
管表面もしくは該発光管を包囲する透光性部材表面に、
光学膜厚が３０〜２００ｎｍの範囲に設定された高屈折
率膜と低屈折率膜とが交互に複数層積層された層を含ん
でいて可視光域における青色短波長成分をカットし、そ
れ以外の長波長成分を透過する特性を有する光学式多層
膜を形成し、前記光学式多層膜の高屈折率膜のうち少な
くとも一層は６００ｎｍ以下の波長の光を吸収する特性
を有するシリコン膜、ＳｉＸＯｙ（０＜Ｘ＜１、０＜ｙ
＜１）膜、アモルファスシリコン膜もしくはポリシリコ
ン膜のいずれかからなる光吸収膜によって形成されてい
ることを特徴とす橙黄色メタルハライドランプを提供す
ることで課題を解決するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に本発明を図に示す実施形態に
基づいて詳細に説明する。
基づいて詳細に説明する。
【０００９】図１は本発明に係るメタルハライドランプ
１の第一実施形態を示す断面図であり、従来例と同様に
メタルハライドランプ１は、発光管２と、該発光管２を
包囲する透光性部材３と、自動車用前照灯（図示は省略
する）へ取り付けを行うためのソケット４などによって
構成されている。このとき、発光管２には内部に放電を
行なわせるための空間として放電部５が設けられ、該放
電部５内に適宜の間隔を空けて一対の放電電極６が対峙
して保持されていると共に、各々の放電電極６にリード
線７が接続されていて放電電極６に対し外部からの給電
が行なえるものとなっている。
１の第一実施形態を示す断面図であり、従来例と同様に
メタルハライドランプ１は、発光管２と、該発光管２を
包囲する透光性部材３と、自動車用前照灯（図示は省略
する）へ取り付けを行うためのソケット４などによって
構成されている。このとき、発光管２には内部に放電を
行なわせるための空間として放電部５が設けられ、該放
電部５内に適宜の間隔を空けて一対の放電電極６が対峙
して保持されていると共に、各々の放電電極６にリード
線７が接続されていて放電電極６に対し外部からの給電
が行なえるものとなっている。
【００１０】そして、前記発光管２は略円筒形状の透光
性部材３によって覆われることによって、発光管２が外
気などにより冷却されて適正な温度が保てなくなり発光
効率が低下するのを防止している。ここまでは従来例の
ものと同様である。
性部材３によって覆われることによって、発光管２が外
気などにより冷却されて適正な温度が保てなくなり発光
効率が低下するのを防止している。ここまでは従来例の
ものと同様である。
【００１１】ここで、本発明においては、発光管２内の
放電部５には、キセノンガスなどの希ガスおよび水銀に
加え、金属ハロゲン化物としてヨウ化スカンジウム及び
ヨウ化ナトリウムが所定量封入されている。こうした金
属ハロゲン化物としてヨウ化スカンジウム及びヨウ化ナ
トリウムが封入されたメタルハライドランプ１の発光ス
ペクトルは、図２に示すように橙赤成分（６００ｎｍ〜
７５０ｎｍ）のスペクトルが少ない特性を持っている。
放電部５には、キセノンガスなどの希ガスおよび水銀に
加え、金属ハロゲン化物としてヨウ化スカンジウム及び
ヨウ化ナトリウムが所定量封入されている。こうした金
属ハロゲン化物としてヨウ化スカンジウム及びヨウ化ナ
トリウムが封入されたメタルハライドランプ１の発光ス
ペクトルは、図２に示すように橙赤成分（６００ｎｍ〜
７５０ｎｍ）のスペクトルが少ない特性を持っている。
【００１２】また、本発明においては、発光管２を覆う
透光性部材３の表面には、全周にわたって光学式多層膜
８が形成されている。
透光性部材３の表面には、全周にわたって光学式多層膜
８が形成されている。
【００１３】図３は本発明に係る光学式多層膜８の第一
実施例の要部を示す断面図であり、透光性部材３の表面
に高屈折率膜８ａと低屈折率膜８ｂとがそれぞれ目的と
する反射波長（以下設計波長という）λの１／４を光学
膜厚として交互に複数層積層されて構成され、放電管２
から発せれた光のうち設計波長λを中心とする波長領域
の光は、光の干渉によって反射されるようになり、この
波長領域以外の光が透過されるようになるものである。
なお、光学膜厚とはその層の物理的膜厚×屈折率の値で
ある。また、上記の成膜に当たっては、真空蒸着法、ス
パッタ法、ディップ法、イオンプレーティング法など適
宜な成膜法によって形成されるものである。
実施例の要部を示す断面図であり、透光性部材３の表面
に高屈折率膜８ａと低屈折率膜８ｂとがそれぞれ目的と
する反射波長（以下設計波長という）λの１／４を光学
膜厚として交互に複数層積層されて構成され、放電管２
から発せれた光のうち設計波長λを中心とする波長領域
の光は、光の干渉によって反射されるようになり、この
波長領域以外の光が透過されるようになるものである。
なお、光学膜厚とはその層の物理的膜厚×屈折率の値で
ある。また、上記の成膜に当たっては、真空蒸着法、ス
パッタ法、ディップ法、イオンプレーティング法など適
宜な成膜法によって形成されるものである。
【００１４】表１は、この光学式多層膜８の具体的な膜
構成を示すもので、高屈折率膜８ａと低屈折率膜８ｂと
は、反射する光の中心波長λが３５０ｎｍとなるよう
に、光学膜厚がλ／４＝８７．５ｎｍに各々設定されて
いる。また、本実施例においては、高屈折率膜８ａとし
て屈折率ｎＨ＝３．３のＳｉ膜を用い、低屈折率膜８ｂ
として屈折率ｎＬ＝１．４６のＳｉＯ２膜を用いてい
る。なお、表の中の層番号は透光性部材３の表面に近い
側から順番にふられており、図の符号は図３の符号に対
応している。
構成を示すもので、高屈折率膜８ａと低屈折率膜８ｂと
は、反射する光の中心波長λが３５０ｎｍとなるよう
に、光学膜厚がλ／４＝８７．５ｎｍに各々設定されて
いる。また、本実施例においては、高屈折率膜８ａとし
て屈折率ｎＨ＝３．３のＳｉ膜を用い、低屈折率膜８ｂ
として屈折率ｎＬ＝１．４６のＳｉＯ２膜を用いてい
る。なお、表の中の層番号は透光性部材３の表面に近い
側から順番にふられており、図の符号は図３の符号に対
応している。
【表１】
【００１５】ここで、透光性部材３表面に最も近い層番
号１の高屈折率膜８ａの光学膜厚及び最も遠い最上層で
ある層番号７の高屈折率膜８ａの光学膜厚はλ／８≒４
３．８ｎｍとして形成されている。この構成は一般的に
ＬＷ（ｌｏｎｇ ｗａｖｅｐａｓｓ）型と呼ばれ、これ
により膜全体の透過率特性の長波長側の部分をフラット
で且つ高い透過率特性とすることができる。
号１の高屈折率膜８ａの光学膜厚及び最も遠い最上層で
ある層番号７の高屈折率膜８ａの光学膜厚はλ／８≒４
３．８ｎｍとして形成されている。この構成は一般的に
ＬＷ（ｌｏｎｇ ｗａｖｅｐａｓｓ）型と呼ばれ、これ
により膜全体の透過率特性の長波長側の部分をフラット
で且つ高い透過率特性とすることができる。
【００１６】さらに、本実施例において高屈折率膜８ａ
の材料として用いたＳｉ膜は、一般的に６００ｎｍ以下
の短波長光を吸収する光吸収膜（Ａｂｓ）としての特性
を有しているため、この高屈折率膜８ａの材料として用
いたＳｉ膜による短波長側の光の吸収と共に、高屈折率
膜８ａとしてのＳｉ膜と低屈折率膜８ｂとの多層膜によ
る光の反射とにより、６００ｎｍ以下の短波長側の光の
透過を抑えることができる。
の材料として用いたＳｉ膜は、一般的に６００ｎｍ以下
の短波長光を吸収する光吸収膜（Ａｂｓ）としての特性
を有しているため、この高屈折率膜８ａの材料として用
いたＳｉ膜による短波長側の光の吸収と共に、高屈折率
膜８ａとしてのＳｉ膜と低屈折率膜８ｂとの多層膜によ
る光の反射とにより、６００ｎｍ以下の短波長側の光の
透過を抑えることができる。
【００１７】以上のような光学式多層膜８を形成するに
は、まず洗浄した透光性部材３を真空蒸着装置やプラズ
マＣＶＤ装置、スパッタ装置等の装置内に載置し、高屈
折率膜としてＳｉ、低屈折率膜としてのＳｉＯ２を蒸着
源として用いて、これらの装置によって各々周知の真空
蒸着法、プラズマＣＶＤ法、スパッタ法によって膜厚を
制御しながら交互に成膜する方法で得ることができる。
は、まず洗浄した透光性部材３を真空蒸着装置やプラズ
マＣＶＤ装置、スパッタ装置等の装置内に載置し、高屈
折率膜としてＳｉ、低屈折率膜としてのＳｉＯ２を蒸着
源として用いて、これらの装置によって各々周知の真空
蒸着法、プラズマＣＶＤ法、スパッタ法によって膜厚を
制御しながら交互に成膜する方法で得ることができる。
【００１８】以下、本発明光学式多層膜８の具体的な成
膜方法を真空蒸着法を用いた例で説明する。
膜方法を真空蒸着法を用いた例で説明する。
【００１９】まず、洗浄した透光性部材３を真空蒸着装
置内の基板上に固定し、蒸着材料としてＳｉをるつぼに
載せ、装置内を真空に引いて、透光性部材３上にＳｉ膜
を成膜する。ここで、透光性部材３を固定している基板
は、透光性部材３の円筒形状の中心軸を中心に回転する
ようになっており、透光性部材３の表面全体にむら無く
成膜できるようになっている。
置内の基板上に固定し、蒸着材料としてＳｉをるつぼに
載せ、装置内を真空に引いて、透光性部材３上にＳｉ膜
を成膜する。ここで、透光性部材３を固定している基板
は、透光性部材３の円筒形状の中心軸を中心に回転する
ようになっており、透光性部材３の表面全体にむら無く
成膜できるようになっている。
【００２０】このときＳｉ膜の成膜条件は、基板温度
（透光性部材３の表面温度）を３５０℃、成膜速度３Å
／ｓ、無酸素中、到達真空度１×１０−４Ｐａとして、
Ｓｉ膜を透光性部材３上に成膜する。その後、このＳｉ
膜が形成された透光性部材３に対し、同じく真空蒸着装
置内のるつぼに載せられた低屈折率膜８ｂとしてのＳｉ
Ｏ２を蒸着させて成膜する。このときのＳｉＯ２の成膜
条件は、基板温度３５０℃、成膜速度１０Å／ｓ、無酸
素中、到達真空度５×１０−４Ｐａとする。以後同じ条
件でＳｉ膜とＳｉＯ２膜とを交互に順番に蒸着させて積
層していく。
（透光性部材３の表面温度）を３５０℃、成膜速度３Å
／ｓ、無酸素中、到達真空度１×１０−４Ｐａとして、
Ｓｉ膜を透光性部材３上に成膜する。その後、このＳｉ
膜が形成された透光性部材３に対し、同じく真空蒸着装
置内のるつぼに載せられた低屈折率膜８ｂとしてのＳｉ
Ｏ２を蒸着させて成膜する。このときのＳｉＯ２の成膜
条件は、基板温度３５０℃、成膜速度１０Å／ｓ、無酸
素中、到達真空度５×１０−４Ｐａとする。以後同じ条
件でＳｉ膜とＳｉＯ２膜とを交互に順番に蒸着させて積
層していく。
【００２１】こうして実際に形成された光学式多層膜８
の透過率特性を示すものが図４であり、約４８０ｎｍ
（緑色光）の波長領域から徐々に透過し始め、黄色光、
橙色光、赤色光の波長領域になるに従って透過率は増加
している。
の透過率特性を示すものが図４であり、約４８０ｎｍ
（緑色光）の波長領域から徐々に透過し始め、黄色光、
橙色光、赤色光の波長領域になるに従って透過率は増加
している。
【００２２】ここで、前記したように本発明のメタルハ
ライドランプ１においては、発光管２内の放電部５にキ
セノンガスなどの希ガスおよび水銀に加え、金属ハロゲ
ン化物としてヨウ化スカンジウム及びヨウ化ナトリウム
が所定量封入されているため、その発光スペクトルは図
２に示すように橙赤成分（６００ｎｍ〜７５０ｎｍ）の
スペクトルが少ない特性を持っており、このメタルハラ
イドランプ１の発光スペクトル特性と上記光学式多層膜
８の透過率特性とを利用することによって、メタルハラ
イドランプ１全体として橙黄色の発光が得られるもので
ある。
ライドランプ１においては、発光管２内の放電部５にキ
セノンガスなどの希ガスおよび水銀に加え、金属ハロゲ
ン化物としてヨウ化スカンジウム及びヨウ化ナトリウム
が所定量封入されているため、その発光スペクトルは図
２に示すように橙赤成分（６００ｎｍ〜７５０ｎｍ）の
スペクトルが少ない特性を持っており、このメタルハラ
イドランプ１の発光スペクトル特性と上記光学式多層膜
８の透過率特性とを利用することによって、メタルハラ
イドランプ１全体として橙黄色の発光が得られるもので
ある。
【００２３】図５は、こうして光学式多層膜８を成膜し
た状態のメタルハライドランプ１の発光スペクトルを示
すグラフであり、図２の成膜前の状態のメタルハライド
ランプ１の発光スペクトルと比較すると、光学式多層膜
８によって６００ｎｍ以下の短波長側の光の透過が抑え
られた橙黄色の発光特性となっている。
た状態のメタルハライドランプ１の発光スペクトルを示
すグラフであり、図２の成膜前の状態のメタルハライド
ランプ１の発光スペクトルと比較すると、光学式多層膜
８によって６００ｎｍ以下の短波長側の光の透過が抑え
られた橙黄色の発光特性となっている。
【００２４】このとき、橙黄色発光メタルハライドラン
プの光学式多層膜８の透過率特性としては、上記実施例
の４８０ｎｍ付近から徐々に透過し始める特性のものが
望ましいが、薄い橙黄色光、赤色がかった橙黄色光を透
過する特性のものを得たい場合には、４００ｎｍ〜５５
０ｎｍの範囲内で透過し始めても良く、Ｓｉ膜の光学膜
厚を３０〜２００ｎｍ、ＳｉＯ２の光学膜厚を５０〜２
００ｎｍの範囲内で適宜設定することによって得られる
ことが実験の結果確認されている。
プの光学式多層膜８の透過率特性としては、上記実施例
の４８０ｎｍ付近から徐々に透過し始める特性のものが
望ましいが、薄い橙黄色光、赤色がかった橙黄色光を透
過する特性のものを得たい場合には、４００ｎｍ〜５５
０ｎｍの範囲内で透過し始めても良く、Ｓｉ膜の光学膜
厚を３０〜２００ｎｍ、ＳｉＯ２の光学膜厚を５０〜２
００ｎｍの範囲内で適宜設定することによって得られる
ことが実験の結果確認されている。
【００２５】図６は本発明に係る光学式多層膜８の第二
実施例を示す断面図であり、表２はその具体的な膜構成
を示すものである。膜材料としては第一実施例と同様に
高屈折率膜８ａとして光吸収膜（Ａｂｓ）である屈折率
ｎＨ＝３．３のＳｉを用い、低屈折率膜８ｂとして屈折
率ｎＬ＝１．４６のＳｉＯ２を用いている。ここで、本
実施例においては、透光性部材３表面から最も遠い外側
の７層目の高屈折率膜８ａとして金属酸化膜Ｍを用いて
いるものであり、金属酸化膜Ｍとして、ｎＨ＝２．１の
Ｔａ２Ｏ５を用いている。これは、第一実施例の透光性
部材３表面が３００℃以上の高温になった場合にＳｉ膜
の酸化が起こり劣化が始まってしまい透過率特性が変わ
ってしまうため、その劣化を防止するために最も外側の
７層目に酸化の無い金属酸化膜Ｍを形成し保護したもの
である。
実施例を示す断面図であり、表２はその具体的な膜構成
を示すものである。膜材料としては第一実施例と同様に
高屈折率膜８ａとして光吸収膜（Ａｂｓ）である屈折率
ｎＨ＝３．３のＳｉを用い、低屈折率膜８ｂとして屈折
率ｎＬ＝１．４６のＳｉＯ２を用いている。ここで、本
実施例においては、透光性部材３表面から最も遠い外側
の７層目の高屈折率膜８ａとして金属酸化膜Ｍを用いて
いるものであり、金属酸化膜Ｍとして、ｎＨ＝２．１の
Ｔａ２Ｏ５を用いている。これは、第一実施例の透光性
部材３表面が３００℃以上の高温になった場合にＳｉ膜
の酸化が起こり劣化が始まってしまい透過率特性が変わ
ってしまうため、その劣化を防止するために最も外側の
７層目に酸化の無い金属酸化膜Ｍを形成し保護したもの
である。
【表２】
【００２６】なお、Ｔａ２Ｏ５膜の成膜条件としては、
透光性部材３の表面温度を３５０℃（常温〜５００℃で
も良い）、成膜速度１０Å／ｓ（１〜１０Å／ｓでも良
い）、Ｏ２分圧０．０３Ｐａ雰囲気中（０．０１〜０．
０６Ｐａでも良い）、到達真空度５×１０−４Ｐａとし
て透光性部材３上に成膜する。その他の膜の成膜条件に
ついては、上記第一実施例と同様であるのでここでは省
略する。
透光性部材３の表面温度を３５０℃（常温〜５００℃で
も良い）、成膜速度１０Å／ｓ（１〜１０Å／ｓでも良
い）、Ｏ２分圧０．０３Ｐａ雰囲気中（０．０１〜０．
０６Ｐａでも良い）、到達真空度５×１０−４Ｐａとし
て透光性部材３上に成膜する。その他の膜の成膜条件に
ついては、上記第一実施例と同様であるのでここでは省
略する。
【００２７】なお、高屈折率膜８ａとしての金属酸化膜
Ｍとしては、上記Ｔａ２Ｏ５のほか、ＴｉＯ２、ＺｒＯ
２、Ｎｂ２Ｏ５、ＣｅＯ２、Ａｌ２Ｏ３等であっても良
い。
Ｍとしては、上記Ｔａ２Ｏ５のほか、ＴｉＯ２、ＺｒＯ
２、Ｎｂ２Ｏ５、ＣｅＯ２、Ａｌ２Ｏ３等であっても良
い。
【００２８】図７はこうして実際に形成された光学式多
層膜８の透過率特性を示すものであり、第一実施例と同
様に約４８０ｎｍ（緑色光）の波長領域から徐々に透過
し始め、黄色光、橙色光、赤色光の波長領域になるに従
って透過率は増加している。また、第一実施例の透過率
特性と比べて特に６００〜７００ｎｍの範囲の橙色光の
透過率が高い膜が得られた。なお、Ｓｉ膜の光学膜厚は
３０〜２００ｎｍ、Ｔａ２Ｏ５及びＳｉＯ２の光学膜厚
を５０〜２００ｎｍの範囲内で適宜設定することによっ
て同様の特性が得られる。
層膜８の透過率特性を示すものであり、第一実施例と同
様に約４８０ｎｍ（緑色光）の波長領域から徐々に透過
し始め、黄色光、橙色光、赤色光の波長領域になるに従
って透過率は増加している。また、第一実施例の透過率
特性と比べて特に６００〜７００ｎｍの範囲の橙色光の
透過率が高い膜が得られた。なお、Ｓｉ膜の光学膜厚は
３０〜２００ｎｍ、Ｔａ２Ｏ５及びＳｉＯ２の光学膜厚
を５０〜２００ｎｍの範囲内で適宜設定することによっ
て同様の特性が得られる。
【００２９】図８は本発明に係る光学式多層膜８の第三
実施例を示す断面図であり、表３はその具体的な膜構成
を示すものである。膜材料としては第一実施例、第二実
施例と同様に高屈折率膜８ａとして光吸収膜（Ａｂｓ）
である屈折率ｎＨ＝３．３のＳｉを用い、低屈折率膜８
ｂとして屈折率ｎＬ＝１．４６のＳｉＯ２を用いてい
る。ここで、本実施例においては、透光性部材３表面に
最も近い１層目と最も遠い外側の７層目の高屈折率膜８
ａとして金属酸化膜Ｍを用いているものであり、金属酸
化膜Ｍとして、ｎＨ＝２．１のＴａ２Ｏ５を用いてい
る。これにより、第二実施例よりも膜の劣化を防止する
効果を高めている。
実施例を示す断面図であり、表３はその具体的な膜構成
を示すものである。膜材料としては第一実施例、第二実
施例と同様に高屈折率膜８ａとして光吸収膜（Ａｂｓ）
である屈折率ｎＨ＝３．３のＳｉを用い、低屈折率膜８
ｂとして屈折率ｎＬ＝１．４６のＳｉＯ２を用いてい
る。ここで、本実施例においては、透光性部材３表面に
最も近い１層目と最も遠い外側の７層目の高屈折率膜８
ａとして金属酸化膜Ｍを用いているものであり、金属酸
化膜Ｍとして、ｎＨ＝２．１のＴａ２Ｏ５を用いてい
る。これにより、第二実施例よりも膜の劣化を防止する
効果を高めている。
【表３】
【００３０】なお、Ｓｉ膜、ＳｉＯ２膜、Ｔａ２Ｏ５膜
夫々の成膜条件については、第二実施例と同様であるの
でここでは省略する。また、高屈折率膜８ａとしての金
属酸化膜Ｍとしては、第二実施例と同様にＴａ２Ｏ５の
ほか、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＣｅＯ２、Ａ
ｌ２Ｏ３等であっても良い。
夫々の成膜条件については、第二実施例と同様であるの
でここでは省略する。また、高屈折率膜８ａとしての金
属酸化膜Ｍとしては、第二実施例と同様にＴａ２Ｏ５の
ほか、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＣｅＯ２、Ａ
ｌ２Ｏ３等であっても良い。
【００３１】図９はこうして実際に形成された光学式多
層膜８の透過率特性を示すものであり、第一実施例と同
様に約４８０ｎｍ（緑色光）の波長領域から徐々に透過
し始め、黄色光、橙色光、赤色光の波長領域になるに従
って透過率は増加している。また、第一実施例、第二実
施例の透過率特性と比べ、さらに６００〜７００ｎｍの
範囲の橙色光の透過率が高い膜を得ることができた。な
お、Ｓｉ膜の光学膜厚は３０〜２００ｎｍ、Ｔａ２Ｏ５
及びＳｉＯ２の光学膜厚は５０〜２００ｎｍの範囲内で
適宜設定することによって同様の特性が得られる。
層膜８の透過率特性を示すものであり、第一実施例と同
様に約４８０ｎｍ（緑色光）の波長領域から徐々に透過
し始め、黄色光、橙色光、赤色光の波長領域になるに従
って透過率は増加している。また、第一実施例、第二実
施例の透過率特性と比べ、さらに６００〜７００ｎｍの
範囲の橙色光の透過率が高い膜を得ることができた。な
お、Ｓｉ膜の光学膜厚は３０〜２００ｎｍ、Ｔａ２Ｏ５
及びＳｉＯ２の光学膜厚は５０〜２００ｎｍの範囲内で
適宜設定することによって同様の特性が得られる。
【００３２】図１０は本発明に係る光学式多層膜８の第
四実施例を示す断面図であり、表４はその具体的な膜構
成を示すものである。膜材料としては第一実施例と同様
に高屈折率膜８ａとして光吸収膜（Ａｂｓ）である屈折
率ｎＨ＝３．３のＳｉを用い、低屈折率膜８ｂとして屈
折率ｎＬ＝１．４６のＳｉＯ２を用いている。ここで、
本実施例においては、高屈折率膜８ａのうち光吸収膜
（Ａｂｓ）は真ん中の５層目のみとし、残りの高屈折率
膜８ａは全て金属酸化膜Ｍを用いているものであり、金
属酸化膜Ｍとして、ｎＨ＝２．１のＴａ２Ｏ５を用いて
いる。また、本実施例においては、層毎に光学膜厚を変
化させており、１層目、２層目、８層目、９層目は、光
学膜厚を１５０ｎｍとし、設計波長λ＝１５０×４＝６
００ｎｍを中心とする波長域の光を反射し、３層目、４
層目、６層目、７層目は、光学膜厚を７５ｎｍとし、設
計波長λ＝７５×４＝３００ｎｍを中心とする波長域の
光を反射するように設定されている。
四実施例を示す断面図であり、表４はその具体的な膜構
成を示すものである。膜材料としては第一実施例と同様
に高屈折率膜８ａとして光吸収膜（Ａｂｓ）である屈折
率ｎＨ＝３．３のＳｉを用い、低屈折率膜８ｂとして屈
折率ｎＬ＝１．４６のＳｉＯ２を用いている。ここで、
本実施例においては、高屈折率膜８ａのうち光吸収膜
（Ａｂｓ）は真ん中の５層目のみとし、残りの高屈折率
膜８ａは全て金属酸化膜Ｍを用いているものであり、金
属酸化膜Ｍとして、ｎＨ＝２．１のＴａ２Ｏ５を用いて
いる。また、本実施例においては、層毎に光学膜厚を変
化させており、１層目、２層目、８層目、９層目は、光
学膜厚を１５０ｎｍとし、設計波長λ＝１５０×４＝６
００ｎｍを中心とする波長域の光を反射し、３層目、４
層目、６層目、７層目は、光学膜厚を７５ｎｍとし、設
計波長λ＝７５×４＝３００ｎｍを中心とする波長域の
光を反射するように設定されている。
【表４】
【００３３】なお、Ｓｉ膜、ＳｉＯ２膜、Ｔａ２Ｏ５膜
夫々の成膜条件については、上記各実施例と同様である
のでここでは省略する。また、高屈折率膜８ａとしての
金属酸化膜Ｍとしては、第二実施例と同様にＴａ２Ｏ５
のほか、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＣｅＯ２、
Ａｌ２Ｏ３等であっても良い。
夫々の成膜条件については、上記各実施例と同様である
のでここでは省略する。また、高屈折率膜８ａとしての
金属酸化膜Ｍとしては、第二実施例と同様にＴａ２Ｏ５
のほか、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＣｅＯ２、
Ａｌ２Ｏ３等であっても良い。
【００３４】図１１はこうして実際に形成された光学式
多層膜８の透過率特性を示すものであり、他の実施例よ
りも全体としての透過率は低くなり光量は若干落ちる
が、上記のように光学膜厚を層毎に設定したことで、橙
黄色光の波長領域以外の光の透過率を抑え橙黄色の波長
領域の透過率が高い特性の膜が得られた。
多層膜８の透過率特性を示すものであり、他の実施例よ
りも全体としての透過率は低くなり光量は若干落ちる
が、上記のように光学膜厚を層毎に設定したことで、橙
黄色光の波長領域以外の光の透過率を抑え橙黄色の波長
領域の透過率が高い特性の膜が得られた。
【００３５】なお、上記第一実施例〜第四実施例では、
光学式多層膜８の高屈折率膜８ａの光吸収膜（Ａｂｓ）
としてＳｉ膜を用いたが、このＳｉ膜に代えて屈折率ｎ
Ｈ＝２．５のＳｉｘＯｙ膜（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）
を用いても良い。
光学式多層膜８の高屈折率膜８ａの光吸収膜（Ａｂｓ）
としてＳｉ膜を用いたが、このＳｉ膜に代えて屈折率ｎ
Ｈ＝２．５のＳｉｘＯｙ膜（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）
を用いても良い。
【００３６】このとき、ＳｉｘＯｙ膜の成膜条件として
は、透光性部材３の表面温度を３５０℃（常温〜５００
℃でも良い）、成膜速度３Å／ｓ（１〜１０Å／ｓでも
良い）、Ｏ２分圧２×１０−３Ｐａ雰囲気中（３×１０
−４〜５×１０−２Ｐａでも良い）、到達真空度１×１
０−４Ｐａとして透光性部材３上に成膜する等によって
得られる。なお、ＳｉとＯの組成比率は、ｘ＝０〜１、
ｙ＝１〜０であり、酸素分圧を上げるとＯの比率ｙは増
え、Ｏ２分圧が約１×１０−２ＰａでＳｉＯが成膜され
る。
は、透光性部材３の表面温度を３５０℃（常温〜５００
℃でも良い）、成膜速度３Å／ｓ（１〜１０Å／ｓでも
良い）、Ｏ２分圧２×１０−３Ｐａ雰囲気中（３×１０
−４〜５×１０−２Ｐａでも良い）、到達真空度１×１
０−４Ｐａとして透光性部材３上に成膜する等によって
得られる。なお、ＳｉとＯの組成比率は、ｘ＝０〜１、
ｙ＝１〜０であり、酸素分圧を上げるとＯの比率ｙは増
え、Ｏ２分圧が約１×１０−２ＰａでＳｉＯが成膜され
る。
【００３７】こうして形成されたＳｉｘＯｙ膜はＳｉ膜
に比べて６００ｎｍ以下の短波長光に対する吸収特性が
優れているため、この膜を光吸収膜（Ａｂｓ）として用
いれば短波長側の光の透過率をさらに抑えて、橙黄色の
波長領域の透過率が高い光学式多層膜８を得ることがで
きる。
に比べて６００ｎｍ以下の短波長光に対する吸収特性が
優れているため、この膜を光吸収膜（Ａｂｓ）として用
いれば短波長側の光の透過率をさらに抑えて、橙黄色の
波長領域の透過率が高い光学式多層膜８を得ることがで
きる。
【００３８】また、光学式多層膜８の高屈折率膜８ａの
光吸収膜（Ａｂｓ）としては、Ｓｉ膜、ＳｉｘＯｙ膜以
外にもアモルファスシリコン（以下ａ−Ｓｉという）膜
やポリシリコン（以下ｐｏｌｙ−Ｓｉという）膜を用い
ても良い。
光吸収膜（Ａｂｓ）としては、Ｓｉ膜、ＳｉｘＯｙ膜以
外にもアモルファスシリコン（以下ａ−Ｓｉという）膜
やポリシリコン（以下ｐｏｌｙ−Ｓｉという）膜を用い
ても良い。
【００３９】このときａ−Ｓｉ膜の成膜条件は、透光性
部材３の表面温度を３５０℃（常温〜５００℃でも良
い）、成膜速度３Å／ｓ（１〜１０Å／ｓでも良い）、
水素雰囲気中３×１０−４〜１×１０−２Ｐａ、到達真
空度１×１０−４Ｐａとして、ａ−Ｓｉ膜を透光性部材
３上に成膜する。また、ｐｏｌｙ−ｓｉ膜は同じ条件で
成膜したａ−Ｓｉ膜を透光性部材３の表面温度を７００
℃に上げた状態で、大気中に４時間以上置くことによっ
て得られる。
部材３の表面温度を３５０℃（常温〜５００℃でも良
い）、成膜速度３Å／ｓ（１〜１０Å／ｓでも良い）、
水素雰囲気中３×１０−４〜１×１０−２Ｐａ、到達真
空度１×１０−４Ｐａとして、ａ−Ｓｉ膜を透光性部材
３上に成膜する。また、ｐｏｌｙ−ｓｉ膜は同じ条件で
成膜したａ−Ｓｉ膜を透光性部材３の表面温度を７００
℃に上げた状態で、大気中に４時間以上置くことによっ
て得られる。
【００４０】ａ−Ｓｉ膜やｐｏｌｙ−Ｓｉ膜は、Ｓｉ膜
やＳｉｘＯｙ膜に比べ６００ｎｍ以下の波長の光の吸収
特性がさらに優れているため、この膜を光吸収膜（Ａｂ
ｓ）として用いれば短波長側の光の透過率を抑えて、橙
黄色の波長領域の透過率が高い光学式多層膜８を得るこ
とができる。
やＳｉｘＯｙ膜に比べ６００ｎｍ以下の波長の光の吸収
特性がさらに優れているため、この膜を光吸収膜（Ａｂ
ｓ）として用いれば短波長側の光の透過率を抑えて、橙
黄色の波長領域の透過率が高い光学式多層膜８を得るこ
とができる。
【００４１】また、前記実施例ではいずれも光吸収膜
（Ａｂｓ）として、Ｓｉ膜、ＳｉｘＯ ｙ膜、ａ−Ｓｉ
膜、ｐｏｌｙ−Ｓｉ膜を用いたが、本発明はこれに限定
されず、他の光吸収膜として、６００ｎｍ以下の波長の
光を吸収する特性を有する膜であれば良く、ＩＴＯ膜や
ＺｎＯ膜、Ｉｎ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３等の金属酸化膜であ
っても良く、これらの膜はそれぞれ以下の条件で成膜す
ることで上記特性を有する光吸収膜となるものである。
（Ａｂｓ）として、Ｓｉ膜、ＳｉｘＯ ｙ膜、ａ−Ｓｉ
膜、ｐｏｌｙ−Ｓｉ膜を用いたが、本発明はこれに限定
されず、他の光吸収膜として、６００ｎｍ以下の波長の
光を吸収する特性を有する膜であれば良く、ＩＴＯ膜や
ＺｎＯ膜、Ｉｎ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３等の金属酸化膜であ
っても良く、これらの膜はそれぞれ以下の条件で成膜す
ることで上記特性を有する光吸収膜となるものである。
【００４２】まず、光吸収膜としてのＩＴＯ膜は、基板
温度２００℃（常温〜５００℃の範囲内）、成膜速度５
Å／ｓ（１〜１０Å／ｓの範囲内）、無酸素中、到達真
空度１×１０−３Ｐａの条件で成膜することによって得
られ、ＺｎＯ膜、Ｉｎ２Ｏ３膜も同じ条件によって得る
ことができる。また、Ｆｅ２Ｏ３膜については、基板温
度２００℃（常温〜５００℃の範囲内）、成膜速度５Å
／ｓ（１〜１０Å／ｓの範囲内）、無酸素〜０．０２Ｐ
ａ雰囲気中、到達真空度１×１０−３Ｐａの条件で成膜
することによってそれぞれ得られる。
温度２００℃（常温〜５００℃の範囲内）、成膜速度５
Å／ｓ（１〜１０Å／ｓの範囲内）、無酸素中、到達真
空度１×１０−３Ｐａの条件で成膜することによって得
られ、ＺｎＯ膜、Ｉｎ２Ｏ３膜も同じ条件によって得る
ことができる。また、Ｆｅ２Ｏ３膜については、基板温
度２００℃（常温〜５００℃の範囲内）、成膜速度５Å
／ｓ（１〜１０Å／ｓの範囲内）、無酸素〜０．０２Ｐ
ａ雰囲気中、到達真空度１×１０−３Ｐａの条件で成膜
することによってそれぞれ得られる。
【００４３】なお、本発明の光学式多層膜８の各実施例
ではいずれも高屈折率膜８ａとして用いる金属酸化膜Ｍ
の材料としてＴａ２Ｏ５を用い、低屈折率膜としてＳｉ
Ｏ２を用いているが、その他の金属酸化物等の材料を用
いて良く、ほぼ同様の特性が得られる。具体的に例を挙
げると、高屈折率膜としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｚ
ｎＳ、Ｚｉ３Ｎ４、Ｎｂ２Ｏ５、ＣｅＯ２、Ａｌ２Ｏ３
等あり、低屈折率膜としては、ＭｇＦ２、ＡｌＦ６等が
ある。
ではいずれも高屈折率膜８ａとして用いる金属酸化膜Ｍ
の材料としてＴａ２Ｏ５を用い、低屈折率膜としてＳｉ
Ｏ２を用いているが、その他の金属酸化物等の材料を用
いて良く、ほぼ同様の特性が得られる。具体的に例を挙
げると、高屈折率膜としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｚ
ｎＳ、Ｚｉ３Ｎ４、Ｎｂ２Ｏ５、ＣｅＯ２、Ａｌ２Ｏ３
等あり、低屈折率膜としては、ＭｇＦ２、ＡｌＦ６等が
ある。
【００４４】また、本実施形態では、光学式多層膜８を
発光管２を包囲する透光性部材３の表面に形成する例で
説明してきたが、発光管２の表面に直接形成しても良
い。
発光管２を包囲する透光性部材３の表面に形成する例で
説明してきたが、発光管２の表面に直接形成しても良
い。
【００４５】また、メタルハライドランプ１の封入物と
しては、ヨウ化スカンジウム及びヨウ化ナトリウムを封
入した例で説明してきたが、本発明はこれについても限
定されず、少なくともヨウ化ナトリウムが封入されてい
れば良く、ヨウ化ナトリウムとヨウ化ディスプロシウム
など他の希土類ヨウ化物との組み合わせや、ヨウ化タリ
ウム、ヨウ化インジウム等のアルカリ金属のヨウ化物と
の組み合わせであっても良い。
しては、ヨウ化スカンジウム及びヨウ化ナトリウムを封
入した例で説明してきたが、本発明はこれについても限
定されず、少なくともヨウ化ナトリウムが封入されてい
れば良く、ヨウ化ナトリウムとヨウ化ディスプロシウム
など他の希土類ヨウ化物との組み合わせや、ヨウ化タリ
ウム、ヨウ化インジウム等のアルカリ金属のヨウ化物と
の組み合わせであっても良い。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、少
なくともヨウ化ナトリウムを封入したメタルハライドラ
ンプの発光管表面もしくは該発光管を包囲する透光性部
材表面に、光学膜厚が３０〜２００ｎｍの範囲に設定さ
れた高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に複数層積層され
た層を含んでいて可視光域における青色短波長成分をカ
ットし、それ以外の長波長成分を透過する特性を有する
光学式多層膜を形成し、前記光学式多層膜の高屈折率膜
のうち少なくとも一層は６００ｎｍ以下の波長の光を吸
収する特性を有するシリコン膜、ＳｉＸＯｙ（０＜Ｘ＜
１、０＜ｙ＜１）膜、アモルファスシリコン膜もしくは
ポリシリコン膜のいずれかからなる光吸収膜によって形
成されている橙黄色メタルハライドランプとしたこと
で、発光管内に少なくともヨウ化ナトリウムが所定量封
入されているため、その発光スペクトルは橙赤成分（６
００ｎｍ〜７５０ｎｍ）のスペクトルが少ない特性を持
っており、この発光スペクトル特性と光学式多層膜の透
過率特性即ち青色短波長成分をカットしそれ以外の長波
長成分を透過する特性とを利用することによって、小型
で高出力、高効率といった従来のメタルハライドランプ
特有の利点に加え、短波長域の可視光成分である青白い
光をカットして人間の眼球にも優しい橙黄色に発光する
従来にない新規のメタルハライドランプを実現するもの
である。
なくともヨウ化ナトリウムを封入したメタルハライドラ
ンプの発光管表面もしくは該発光管を包囲する透光性部
材表面に、光学膜厚が３０〜２００ｎｍの範囲に設定さ
れた高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に複数層積層され
た層を含んでいて可視光域における青色短波長成分をカ
ットし、それ以外の長波長成分を透過する特性を有する
光学式多層膜を形成し、前記光学式多層膜の高屈折率膜
のうち少なくとも一層は６００ｎｍ以下の波長の光を吸
収する特性を有するシリコン膜、ＳｉＸＯｙ（０＜Ｘ＜
１、０＜ｙ＜１）膜、アモルファスシリコン膜もしくは
ポリシリコン膜のいずれかからなる光吸収膜によって形
成されている橙黄色メタルハライドランプとしたこと
で、発光管内に少なくともヨウ化ナトリウムが所定量封
入されているため、その発光スペクトルは橙赤成分（６
００ｎｍ〜７５０ｎｍ）のスペクトルが少ない特性を持
っており、この発光スペクトル特性と光学式多層膜の透
過率特性即ち青色短波長成分をカットしそれ以外の長波
長成分を透過する特性とを利用することによって、小型
で高出力、高効率といった従来のメタルハライドランプ
特有の利点に加え、短波長域の可視光成分である青白い
光をカットして人間の眼球にも優しい橙黄色に発光する
従来にない新規のメタルハライドランプを実現するもの
である。
【図１】本発明に係るメタルハライドランプの第一実施
形態を示す断面図である。
形態を示す断面図である。
【図２】本発明に係るメタルハライドランプの光学式多
層膜成膜前の発光スペクトルを示すグラフである。
層膜成膜前の発光スペクトルを示すグラフである。
【図３】本発明に係る光学式多層膜の第一実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図４】本発明に係る光学式多層膜の第一実施例の透過
率特性を示すグラフである。
率特性を示すグラフである。
【図５】本発明に係るメタルハライドランプの光学式多
層膜成膜後の発光スペクトルを示すグラフである。
層膜成膜後の発光スペクトルを示すグラフである。
【図６】本発明に係る光学式多層膜の第二実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図７】本発明に係る光学式多層膜の第二実施例の透過
率特性を示すグラフである。
率特性を示すグラフである。
【図８】本発明に係る光学式多層膜の第三実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図９】本発明に係る光学式多層膜の第三実施例の透過
率特性を示すグラフである。
率特性を示すグラフである。
【図１０】本発明に係る光学式多層膜の第四実施例を示
す断面図である。
す断面図である。
【図１１】本発明に係る光学式多層膜の第四実施例の透
過率特性を示すグラフである。
過率特性を示すグラフである。
【図１２】従来例におけるメタルハライドランプを示す
断面図である。
断面図である。
１……メタルハライドランプ
２……発光管
３……透光性部材
４……ソケット
５……放電部
６……放電電極
７……リード線
８……光学式多層膜
８ａ……高屈折率膜
（Ａｂｓ）……光吸収膜
（Ｍ）……金属酸化膜
８ｂ……低屈折率膜
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 平本 廣幸
神奈川県横浜市青葉区荏田西１−３−１
スタンレー電気株式会社 技術研究所
内
(56)参考文献 特開 平７−169441（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−307142（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01J 61/35
H01J 61/34
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくともヨウ化ナトリウムを封入した
メタルハライドランプの発光管表面もしくは該発光管を
包囲する透光性部材表面に、光学膜厚が３０〜２００ｎ
ｍの範囲に設定された高屈折率膜と低屈折率膜とが交互
に複数層積層された層を含んでいて可視光域における青
色短波長成分をカットし、それ以外の長波長成分を透過
する特性を有する光学式多層膜を形成し、前記光学式多
層膜の高屈折率膜のうち少なくとも一層は６００ｎｍ以
下の波長の光を吸収する特性を有するシリコン膜、Ｓｉ
ＸＯｙ（０＜Ｘ＜１、０＜ｙ＜１）膜、アモルファスシ
リコン膜もしくはポリシリコン膜のいずれかからなる光
吸収膜によって形成されていることを特徴とす橙黄色メ
タルハライドランプ。 - 【請求項２】 少なくとも前記光学式多層膜の発光管も
しくは透光性部材表面に最も遠い外側の層が金属酸化膜
によって形成されていることを特徴とする請求項１記載
の橙黄色メタルハライドランプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000147265A JP3404001B2 (ja) | 2000-03-27 | 2000-05-19 | 橙黄色メタルハライドランプ |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-86079 | 2000-03-27 | ||
| JP2000086079 | 2000-03-27 | ||
| JP2000147265A JP3404001B2 (ja) | 2000-03-27 | 2000-05-19 | 橙黄色メタルハライドランプ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001345066A JP2001345066A (ja) | 2001-12-14 |
| JP3404001B2 true JP3404001B2 (ja) | 2003-05-06 |
Family
ID=26588397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000147265A Expired - Fee Related JP3404001B2 (ja) | 2000-03-27 | 2000-05-19 | 橙黄色メタルハライドランプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3404001B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070052363A1 (en) * | 2002-12-17 | 2007-03-08 | Koninkijkle Phillips Electronics N.V. | High-pressure discharge lamp |
-
2000
- 2000-05-19 JP JP2000147265A patent/JP3404001B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001345066A (ja) | 2001-12-14 |
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