JP3402385B2

JP3402385B2 - 気体の清浄方法及び装置

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Publication number: JP3402385B2
Application number: JP21685993A
Authority: JP
Inventors: 敏昭藤井; 和彦坂本
Original assignee: Ebara Corp
Current assignee: Ebara Corp
Priority date: 1992-11-19
Filing date: 1993-08-10
Publication date: 2003-05-06
Anticipated expiration: 2018-05-06
Also published as: JPH06205930A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、気体の清浄方法及び装
置に関する。本発明の清浄方法及び装置は、事務所、家
庭、病院、ホテルなどにおける空気清浄、下排水、廃棄
物処理場などの各種工業における排ガスや工場内雰囲気
の清浄化、地下駐車場やトンネル換気排ガスの清浄化、
あるいは電子工業、薬品工業、食品工業、農林産業、医
療、精密機械工業などにおけるクリーンルーム、クリー
ンブース、クリーントンネル、クリーンベンチ、安全キ
ャビネット、バイオクリーンボックス、無菌室、パスボ
ックス、貴重品の保管庫（ストッカ）、搬送空間、エア
カーテン、エアナイフ、乾燥工程、生産ラインへの供給
気体の製造装置などにおける空気、窒素、酸素などの気
体の清浄化に利用できる。

【０００２】

【従来の技術】事務所等における有害ガスによる悪臭汚
染には、酸性ガス（例、アルデヒド、硫化水素、酢酸、
脂肪酸、メルカプタン類）、アルカリ性ガス（例、アン
モニア、トリメチルアミン）、中性ガス（例、サルファ
イド類）が混合して悪臭を放つような複合臭があり、具
体的にはタバコ臭、トイレ臭、腐敗臭、料理臭がある。

【０００３】タバコ臭を例に説明すると、タバコ臭は、
有害ガス、粒子状物質等著しく多種の成分（１，０００
種以上と言われている）からなる典型的な複合臭汚染で
あり、それらの主要成分であるアルデヒド、ニコチンな
どには発ガン性、あるいは毒性があることから、タール
分、微粒子（煙）とともに、その捕集・除去の要求は強
い。このようなタバコ臭の除去は、活性炭、植物精油類
など種々の捕集・除去材料を用いた方法やマスキング効
果を狙った芳香剤が提案されているが、いずれも効果が
十分ではなく、タバコ臭除去の要求を満たすものとはな
っていない。このため、効果のある脱臭方法や装置が要
望されている。

【０００４】次に、半導体工業のクリーンルームにおけ
る有害ガスによる汚染について説明する。従来のクリー
ンルームの空気清浄方法あるいはその装置を大別する
と、（１）機械的ろ過方法（例えばＨＥＰＡフィルター）（２）静電的に微粒子の捕集を行う高電圧による荷電及
び導電性フィルターによるろ過方式（例えばＨＥＳＡフ
ィルター）があるが、これらの方式は、いずれも微粒子（粒子状物
質）除去を目的としており、炭化水素（Ｈ．Ｃ）、ＮＯ
ｘ、ＮＨ₃ のようなガス状の汚染物（有害ガス成分）の
除去には効果がない欠点があった。

【０００５】ガス状の汚染物（有害ガス成分）である
Ｈ．Ｃの除去法としては、燃焼分解法、触媒分解法、Ｏ
₃ 分解法などが知られている。しかし、これらの方法は
クリーンルームへの導入空気に含有する極低濃度Ｈ．Ｃ
除去には効果がない。クリーンルームにおいては、自動
車排ガスに起因するような導入空気中の低濃度のＨ．Ｃ
も汚染質として問題となる。特に、Ｈ．Ｃ内でＣ₁₀以上
の分子量の大きい物質がウェハや半導体製品、半製品、
原材料への悪影響が大きく、除去する必要がある。ま
た、クリーンルームにおける作業で生じた各種の溶剤
（例えば、アルコール、ケトン類等）も汚染質として問
題となる。

【０００６】また、Ｈ．Ｃ以外の有害成分としては、Ｎ
Ｏｘ、ＮＨ₃ などがあり、これらの除去法としては適宜
のアルカリ性物質や酸性物質を用いた中和反応や酸化反
応に基づく方法などが知られている。しかし、これらの
方法も、成分濃度がクリーンルームへの導入空気に含有
するような極低濃度の場合には効果が少ない。また、利
用分野によっては、上記有害ガス除去機能に微粒子除去
機能を加えたものが好ましいが、これらの両機能を備え
た効果的な気体の清浄方法や装置はなく、これに対する
要望も分野によっては高い。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記したよ
うな各種要望を満足できる単成分あるいは複合成分から
なる有害ガスによる汚染に対しても有効で、かつ微粒子
除去機能も備えることのできる効果的な気体の清浄方法
及び装置を提供することを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、クリーンルームにおける有害成分を含
む気体の清浄方法において、該気体を紫外線照射して発
生するオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び有害物
質吸着能をもつ複合酸化物系触媒と有害ガス捕集材とに
接触させると共に、前記紫外線が真空紫外域（１００〜
２００ｎｍ）と遠紫外域（２００〜３００ｎｍ）の波長
の両方の紫外線を有することとしたものである。前記方
法において、紫外線照射を光電子発生材の存在下に行
い、発生する光電子による気体中の微粒子の除去を同時
に行うこともできる。また、本発明では、クリーンルー
ムにおける有害成分を含む気体の清浄装置において、気
体通路を有し、該気体通路に紫外線照射装置と複合酸化
物触媒層及び有害ガス捕集材層とを順次設けると共に、
前記紫外線照射装置が真空紫外域（１００〜２００ｎ
ｍ）と遠紫外域（２００〜３００ｎｍ）の波長の両方の
紫外線を照射するものであることとしたものである。

【０００９】前記装置において、紫外線照射装置に、光
電子放出材、電極材、及び荷電微粒子捕集材を備え、光
電子による微粒子の除去装置とすることができる。更
に、本発明では、クリーンルームにおける有害成分を含
む気体の清浄方法において、該気体を紫外線照射下での
スクリーン状光電子放出材から発生する光電子及びオゾ
ンと接触させた後、オゾン分解能及び有害物質吸着能を
もつ複合酸化物系触媒と有害ガス捕集材とに接触させる
と共に、前記紫外線が真空紫外域（１００〜２００ｎ
ｍ）と遠紫外域（２００〜３００ｎｍ）の波長の両方の
紫外線を有することとしたものであり、また有害成分を
含む気体の清浄装置において、気体通路を有し、該気体
通路にオゾンと光電子を放出する紫外線照射装置とスク
リーン状光電子放出材からなる発生装置と複合酸化物触
媒層とを順次設けることとしたものである。

【００１０】前記本発明の方法及び装置において、電場
設定用電極材を備え電場下で光電子の放出を行うことが
できる。上記のスクリーン状光電子放出材は、気体が通
過できればよく、目びらきは十分細かく、例えば、５mm
以下とするのがよい。更にアーチ状又はコーン状に設置
することにより、広い光電子放出面積を得ることができ
る。

【００１１】次に、本発明の各構成について詳しく説明
する。本発明において、紫外線照射する紫外線源は、紫
外線照射によりオゾンを発生するものであれば、何れも
使用できる。通常水銀灯が好適に利用できる。好ましく
は、紫外線源は真空紫外域（１００〜２００nm）と遠紫
外域（２００〜３００nm）の波長の両方の紫外線を有す
るものがよく、これらの両方の領域の波長の紫外線を同
一ランプ（光源）で発生し得るものが好ましい。この様
な光源として低圧水銀がある。

【００１２】すなわち、真空紫外域の紫外線（例えば１
８４nmの短波長紫外線）は、紫外線エネルギーが強いた
め、紫外線による光化学反応と空気からオゾンを生じさ
せる。例えば、０．７ＷのＵＶランプ（三共電気製ＧＬ
Ｋ−８）１本により、空気流速１．０〜４．５リットル
／min において作用させたところ、約１５〜４５ppmの
Ｏ₃ を発生させることができた。Ｏ₃ 発生量はＵＶラン
プの本数やランプの出力を増すことで増加させることが
できる。ここで空気から発生したオゾンは、遠紫外線
（例えば２５４nm）により効果的に分解され、オゾンよ
りも活性な酸素活性種（活性な酸素原子や励起状態にあ
る酸素分子などで、例えば・ＯＨ、Ｏ₂ ^-・、ＨＯ₂
・）を生成する。生成した酸素活性種は、共存する有害
ガス成分（例えば、ＮＨ₃ 、Ｈ₂ Ｓ、ＮＯｘ、ＣＨ₃ Ｃ
ＨＯのようなタバコ臭成分）を触媒に吸着されやすい状
態に活性化、変質あるいは分解する。

【００１３】次に、本発明で使用する複合酸化物系触媒
としては、オゾン分解性能及び有害成分と酸素活性種を
含む気体を通すことにより、該表面で吸着、分解できる
ものであれば何れでもよい。このような複合酸化物系触
媒の例として、二酸化マンガン系触媒例えばＭｎＯ₂ ／
ＴｉＯ₂ −Ｃ、ＭｎＯ₂ ／ＺｒＯ−Ｃがある。二酸化マ
ンガン系触媒は、その粉末をペレット状に焼結したも
の、あるいはペレット状、ハニカム状成形物、ハニカム
状の基材や繊維状の基材に担持させたものとすることが
できる。また劣化の抑制、低温域での性能低下の防止や
活性の向上のために適宜の金属や金属化合物を付加した
二酸化マンガンを用いることができる。

【００１４】また、上記の複合酸化物系触媒に、装置の
適用先、装置種類、形状、対象成分の種類や濃度、効
果、経済性などにより周知の有害ガス捕集材、例えば、
活性炭、活性炭素繊維、ゼオライト、モレキュラシー
ブ、シリカゲル、イオン交換繊維やフィルター及び／又
は除湿材を適宜予備試験を行って併用することができ
る。次に、本発明に併用できる紫外線照射による光電子
の放出下に行う微粒子の除去について述べる。光電子に
よる微粒子の除去については、本発明者らが既に提案し
た発明、例えば、特公平３−５８５９号、特開昭６３−
１００９５５号、特開平１−２６２９５３号、特開平２
−１００３４号各公報、特開平４−１７１０６１号公報
等を適宜の条件で用いることができる。特に、光電子放
出材として、気体通気性のスクリーン状光電子放出材を
用い、これに気体を通すと通り抜ける気体により、発生
光電子からの負イオンの生成が起こりやすく、また電場
を設定する場合にも電圧は微弱でよい効果を生ずる。

【００１５】以下、光電子を用いる微粒子除去につい
て、夫々の構成を詳細に説明する。光電子放出材は、紫
外線照射により光電子をその表面及びその近傍に放出す
るものであれば何れでも良く、光電的な仕事関数が小さ
なもの程好ましい。効果や経済性の面から、Ｂａ、Ｓ
ｒ、Ｃａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｔｈ、Ｐｒ、
Ｂｅ、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃ
ｄ、Ｐｂ、Ａｌ、Ｃ、Ｍｇ、Ａｕ、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｎｂ、
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｕ、Ｂ、Ｅｕ、Ｓｎ、Ｐ、Ｗのいず
れか又はこれらの化合物又は合金又は混合物が好まし
く、これらは単独で又は二種以上を複合して用いられ
る。複合材としては、アマルガムの如く物理的な複合材
も用いうる。

【００１６】例えば、化合物としては酸化物、ほう化
物、炭化物があり、酸化物にはＢａＯ、ＳｒＯ、Ｃａ
Ｏ、Ｙ₂ Ｏ₅ 、Ｇｄ₂ Ｏ₃ 、Ｎｄ₂ Ｏ₃ 、ＴｈＯ₂ 、Ｚ
ｒＯ₂ 、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、ＣｕＯ、Ａｇ₂ Ｏ、Ｌａ
₂ Ｏ₃ 、ＰｔＯ、ＰｂＯ、Ａｌ₂Ｏ₃ 、ＭｇＯ、Ｉｎ₂
Ｏ₃ 、ＢｉＯ、ＮｂＯ、ＢｅＯなどがあり、またほう化
物にはＹＢ₆ 、ＧｄＢ₆ 、ＬａＢ₅ 、ＮｄＢ₆ 、ＣｅＢ
₆ 、ＢｕＢ₆ 、ＰｒＢ₆ 、ＺｒＢ₂ などがあり、さらに
炭化物としてはＵＣ、ＺｒＣ、ＴａＣ、ＴｉＣ、Ｎｂ
Ｃ、ＷＣなどがある。

【００１７】また、合金としては黄銅、青銅、リン青
銅、ＡｇとＭｇとの合金（Ｍｇが２〜２０wt％）、Ｃｕ
とＢｅとの合金（Ｂｅが１〜１０wt％）及びＢａとＡｌ
との合金を用いることができ、上記ＡｇとＭｇとの合
金、ＣｕとＢｅとの合金及びＢａＡｌとの合金が好まし
い。酸化物は金属表面のみを空気中で加熱したり、或い
は薬品で酸化することによっても得ることができる。さ
らに他の方法としては使用前に加熱し、表面に酸化層を
形成して長期にわたって安定な酸化層を得ることもでき
る。この例としてはＭｇとＡｇとの合金を水蒸気中で３
００〜４００℃の温度の条件下でその表面に酸化膜を形
成させることができ、この酸化薄膜は長時間にわたって
安定なものである。

【００１８】また、本発明者が、すでに提案したように
光電子放出材を多層構造としたものも好適に使用できる
（特開平３−１０８６９８号公報）。また、適宜の母材
上に薄膜状に光電子を放出し得る物質を付加し、使用す
ることもできる。この例として、紫外線透過性物質（母
材）、例えば、石英ガラス上に光電子を放出し得る物質
としてＡｕを薄膜状に付加して用いることもできる（特
開平４−１７１０６２号公報）。これらの材料の使用形
状は、板状、プリーツ状、曲面状、網状等何れの形状で
もよいが、紫外線の照射面積及び処理空間との接触面積
の大きな形状のものが好ましい。

【００１９】特に、光電子放出材として、スクリーン状
の光電子放出材を用いる場合は、気体通気性でかつ紫外
線の照射面積が広いものであればいずれでもよく、使用
形状は、通常金網状、ハニカム状、線状、格子状、繊維
状のものが圧損が少なく、加工性がよいことから好まし
い。光電子放出材からの光電子の放出は、本発明者がす
でに提案したように、反射面、曲面状の反射面等を適宜
用いることで効果的に実施することが出来る（特開昭６
３−１００９５５号公報）。光電子放出材や反射面の形
状は、装置の形状、構造あるいは希望する効率等により
異なり、適宜決めることができる。光電子放出材は、電
場下で紫外線照射することにより光電子の放出が効果的
となる。

【００２０】電場における荷電については、本発明者等
がすでに提案している（例、特開昭６１−１７８０５０
号、特開昭６２−２４４４５９号各公報、特開平２−２
９９２７９号公報）。該電場電圧は０．１Ｖ／cm〜２kV
／cmである。光電子放出材として、スクリーン状光電子
放出材を用いた場合は、電場電圧は微弱でよく、１００
Ｖ／cm以下、通常２０Ｖ／cm以下で効果的である。好適
な電場の強さは、利用分野、条件、装置形状、規模、効
果、経済性等で適宜予備試験や検討を行い決めることが
出来る。

【００２１】荷電微粒子の捕集材（集じん材）は、荷電
微粒子が捕集できるものであればいずれでも使用でき
る。通常の荷電装置における集じん板、集じん電極各種
電極材や静電フィルター方式が一般的であるが、スチー
ルウール電極、タングステンウール電極のような捕集部
自体が電極を構成するウール状構造のものも有効であ
る。エレクトレット材も好適に使用できる。また、本発
明者がすでに提案したイオン交換フィルター（又は繊
維）を用いて捕集する方法も有効である（特開昭６３−
５４９５９号、同６３−７７５５７号、同６３−８４６
５６号各公報）。捕集は、これらの捕集方法を単独で、
又はこれらの方法を２種類以上組合せて適宜用いること
が出来る。

【００２２】電場用電極材は、通常の荷電装置に使用さ
れているものが好適に使用できる。すなわち、周知のも
のが使用できる。電場用電極材は、荷電微粒子捕集材
（集じん材）と兼ねてあるいは一体化し、用いることが
できる。例えば、上述荷電微粒子捕集材の内、集じん板
や集じん電極あるいはスチールウール電極、タングステ
ンウール電極のようなウール状電極材等の各種電極材
は、電場用電極材と、荷電微粒子の捕集を兼ねてできる
ので好ましい。

【００２３】また、上述適宜の電場用電極材にエレクト
レット材あるいはイオン交換フィルタなど電極材以外の
材料（微粒子の捕集に特徴がある材料）を一体化し用い
ることができる。空気中（空間中）の微粒子への荷電方
式として、荷電部に電場を形成して荷電する方式につい
て説明したが、電場を形成しないで光電子放出材に紫外
線を照射することにより、光電子を放出せしめ、気体中
の微粒子を荷電せしめることができる。

【００２４】

【作用】本発明において、紫外線照射と複合酸化物系触
媒とを併用してガス状有害成分を除去して気体を清浄化
する機構は十分に解明されていないが、ガス状有害成分
の紫外線による光化学反応と、オゾンから生成した酸素
活性種による反応、及びガス状有害成分と該酸素活性種
を含む気体を複合酸化物系触媒に通すことによる該複合
酸化物系触媒表面における吸着・分解作用により、気体
中の有害成分が効果的に分解除去され、清浄化される。

【００２５】なお、紫外線照射により、発生したオゾン
は上述のように、活性な物質に変換されるが、極く一部
の残存オゾンは複合酸化物系触媒により完全に分解・除
去され、出口気体にはオゾンは含まれない。また、ある
種のオゾナイザでは、Ｏ₃ 発生だけでなく、ＮＯｘも同
時に発生するが、本発明のＵＶランプによるものではＮ
Ｏｘの生成は認められない。また、ＮＯｘが生じたとし
ても複合酸化物系触媒により除去される。

【００２６】すなわち、本発明の清浄方法におけるガス
状有害成分の除去では、紫外線による光化学反応、オゾ
ン発生、酸素活性種発生と、オゾン分解性能、有害成分
に対する吸着・分解性能を併せ持つ複合酸化物系触媒を
組合せたことにより、有害成分が効果的に除去できるも
のである。この触媒の作用は、詳しくは触媒表面上に、
まず被処理物質が吸着し、次いでこれらが触媒作用によ
り分解が行われる。したがって、単なる吸着・分解を越
えた作用がある。

【００２７】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されない。参考例１医院の待合室にタバコ臭を脱臭するガス状有害成分除去
装置を設置した概略構成図を図１に示す。図１におい
て、待合室１には、喫煙２によりタバコ煙３が発生して
おり、空気清浄装置４が設置されてタバコ臭が脱臭され
る。該装置４は、主に前処理フィルタ部５、タバコ臭成
分の捕集分解部６及びファン部７より構成されており、
タバコ臭３を含む被処理空気８は装置４内を矢印９の方
向に流れ、脱臭処理された清浄空気が矢印１０の方向に
吐出される。

【００２８】夫々の構成部について説明する。前処理フ
ィルタ部５では、主にタバコ煙中のタール分や粒子状物
質の捕集・除去を行う。該フィルタ部５の構成材として
は、ガラス繊維や天然繊維、合成繊維を適宜の形状で充
填したり、あるいはそれらを紙状に抄いたもの、またそ
れらの織布や紙を用いることができる。この例では、紙
状に抄いたガラス繊維を波形に成形して用いている。タ
ールや粒子状物質の後方への流出は、後方の捕集分解部
６の構成材を劣化させるので、極力少なくすることが好
ましい。

【００２９】捕集分解部６は、紫外線源１１及び複合酸
化物系触媒１２により構成され、タバコ臭成分がここで
除去される。この例では紫外線源１１は低圧水銀灯を用
い、また複合酸化物系触媒はハニカム状二酸化マンガン
系触媒（ＭｎＯ₂ ／ＴｉＯ₂−Ｃ）を用いている。ファ
ン部７には、ファンが設置されており、被処理空気８を
吸引し、処理された清浄化空気を吐出するものである。

【００３０】参考例２ガス状有害成分と粒子状物質の除去を同一の空気清浄装
置で行う概略構成図を図２に示す。図２において、待合
室１には、喫煙２により、タバコ臭３が発生（臭気と粒
子状物質が発生）しており、空気清浄装置４が設置さ
れ、タバコ臭及び微粒子の除去が行われている。本装置
４は、主に前処理フィルタ部５、有害ガスと微粒子の捕
集分解部６及びファン７により構成されており、タバコ
煙と微粒子を含む被処理空気８は、装置４内を矢印９の
方向に流れ、脱臭及び除塵処理された清浄空気は矢印１
０の方向に吐出される。

【００３１】上記の捕集分解部６は、紫外線ランプ１
１、光電子放出材１３、電極及び荷電微粒子捕集材１
４、複合酸化物系触媒１２により構成されており、前記
の紫外線ランプ１１、光電子放出材１３、電極及び荷電
微粒子捕集材１４により、空気中の微粒子が放出された
光電子により荷電され、荷電微粒子捕集材に捕集・除去
され、また、紫外線ランプ１１と複合酸化物系触媒１２
により、前記実施例１と同様に主にタバコ臭成分が吸着
・分解により除去される。上記において、光電子放出材
１３は、Ｃｕ−Ｚｎ材にＡｕメッキしたものを用いてお
り、電極１４により電場電圧は１００Ｖ／cmで荷電され
ている。

【００３２】また、電極材１４は網状で用い、電場用電
極と荷電微粒子捕集材とを兼ねている。このような構成
により、空気中の微粒子は光電子により荷電されて荷電
微粒子となり、荷電微粒子が電極材に捕集されて清浄化
される。また、紫外線源として短波長紫外線（例１８４
nm）の照射により、空気中のガス状有害成分の一部が粒
子状物質に変換されるので、該物質も同様に捕集・除去
される。この短波長紫外線による有害ガスの捕集・除去
については、本発明がすでに提案（特開平４−２４３５
１７号、特開平５−９６１２５号各公報）により、適宜
の条件で利用することができる。

【００３３】上記のように、この実施例では、タバコ臭
成分は紫外線と複合酸化物系触媒の作用と、紫外線と光
電子による荷電捕集作用により除去されるので、より効
果的に捕集・除去することができる。なお、この例でも
紫外線ランプは低圧水銀灯であり、複合酸化物系触媒は
二酸化マンガン系触媒（ＭｎＯ₂ ／ＺｒＯ−Ｃ）であ
る。

【００３４】参考例３ガス状有害成分と粒子状物質の除去を同一の空気清浄装
置で行う他の概略構成図を図３に示す。図３において
は、図２における捕集分解部６が相違するのみで、前処
理フィルタ部５等の他の同一符号は同じ意味、作用を有
する。上記の捕集分解部６は、紫外線ランプ１１、網状
の光電子放出材１３、荷電微粒子捕集材１５、複合酸化
物系触媒１２により構成されており、前記の紫外線ラン
プ１１、光電子放出材１３、荷電微粒子捕集材１５によ
り、空気中の微粒子が紫外線照射により放出された光電
子から生じた負イオンにより荷電され、荷電微粒子捕集
材に捕集・除去され、また、紫外線ランプ１１と複合酸
化物系触媒１２により、タバコ臭や有害ガス成分が吸着
・分解により除去される。

【００３５】捕集分解部６では、網状の光電子放出材１
３に紫外線ランプ１１からの紫外線が照射されている。
該照射の作用及び網状光電子放出材１３を通り抜ける空
気の流れ９−１の作用により光電子が効果的に放出され
る。該光電子は非常に活性であるので共存する水や酸素
に電荷を与え負イオンが生成する。該負イオンによりタ
バコ臭成分や微粒子は負に荷電され、荷電微粒子は後方
の荷電微粒子捕集材１５に捕集される。ここでの光電子
放出材は金網状金属母材にＩＴＯとＺｎ、Ｓｎ、Ｐｂを
被覆したものである。

【００３６】捕集分解部６で有害ガスは、主に紫外線ラ
ンプによる紫外線エネルギーと生成オゾン及び複合酸化
物系触媒１２による分解作用により分解され、タバコ臭
成分がここで除去される。この例では紫外線源１１は低
圧水銀灯を用い、また複合酸化物系触媒はハニカム状二
酸化マンガン系触媒（ＭｎＯ₂ ／ＴｉＯ₂ −Ｃ）を用い
ている。図４に、図３における捕集分解部６に電場形成
用の電極（Ｃｕ−Ｚｎ）１４を設けた概略構成図を示
す。電極１４を設けた以外はすべて図３と同一である。
ここで電場の強さは５Ｖ／cmである。

【００３７】実施例１クリーンルーム内に空気清浄装置を設置し、有害ガスと
微粒子を同一装置で捕集・除去する概略構成図を図５に
示す。図５において、クラス１００００（＞０．１μ
ｍ）のクリーンルーム２１には、作業２２によりＮＯ
ｘ、ＮＨ₃ 、Ｈ₂ Ｓ等の有害ガスと微粒子２３が発生し
ており、空気清浄装置４が設置され、該有害ガスと微粒
子の捕集・除去が行われている。該装置４は、主に前処
理フィルタ部５、有害成分２３（有害ガス及び微粒子）
の捕集分解部６及びファン部７により構成されており、
有害成分２３を含む被処理空気８はファン部７のファン
により、装置４内を矢印９の方向に流れ、処理された清
浄空気は矢印１０の方向に吐出される。

【００３８】夫々の構成部について説明する。前処理フ
ィルタ部５は、粗フィルタが充填されており、吸引空気
８中の荒い粒子が除去される。ここでは空気抵抗の少な
いガラス繊維を主体としたフィルタが用いられている。
有害成分の捕集分解部６は、紫外線ランプ１１、光電子
放出材１３、電場用電極１４、荷電微粒子捕集材として
の集塵板１５及び複合酸化物系触媒１２により構成され
ている。

【００３９】夫々の構成部の作用は、上述実施例のごと
くであり、微粒子は電場下で紫外線照射された光電子放
出材からの光電子により荷電され、荷電微粒子は集塵板
１５により捕集除去される。一方作業２２より発生した
有害ガスであるＮＯｘ、ＮＨ₃ 、Ｈ₂ Ｓは主として紫外
線ランプと複合酸化物系触媒の作用により除去される。
一方、クリーンルームの空気中に含まれる炭化水素
（Ｈ．Ｃ）（外気より混入したＨ．Ｃ）は、主として紫
外線により微粒子化され、光電子により荷電され、集塵
板１５で捕集・除去される。

【００４０】このようにして、清浄化された空気１０
は、微粒子が除去されクラス１０以下となり、ＮＯｘ、
ＮＨ₃ 、Ｈ₂ Ｓ、ＨＣのような有害ガスは通常の大気濃
度レベルの１／１０以下まで除去されている。この空気
は上述のごとく有害成分が除去されているので、ウェハ
や液晶基板に暴露してもよい。本例は、半導体のクリー
ンルームにおける空気清浄に利用したものである。参考
例１〜３における各構成部の位置は何ら限定されるもの
でなく、利用分野、装置規模、構成部の使用条件、形状
などにより、適宜の位置に設置できるが、参考例３のご
とく、半導体のような先端産業における空間の清浄化に
用いる場合のファン部の位置は少なくとも除塵部の前方
が好ましい。すなわち、先端産業ではファンの作動によ
り発生する微粒子も除去対象となるためである。

【００４１】実施例２図６は、実施例１の図５に示した空気清浄装置におい
て、捕集・分解部に、更に有害ガス吸着材として活性炭
充填層１６を設けた概略構成図を示す。すなわち、クラ
ス１０，０００のクリーンルーム２１には、作業２２に
よりＮＯｘ、ＮＨ₃ 、Ｈ₂ Ｓ、サルファイト（有害ガ
ス）と微粒子２３が発生しており、空気清浄装置４によ
り該有害ガス及び微粒子の捕集・除去が行われている。

【００４２】本装置４は主に前処理フィルタ部５、有害
成分（有害ガス及び微粒子）の捕集分解部６及びファン
部７により構成されており、有害成分２３を含む被処理
空気８は、ファン部７のファンにより本装置４内を矢印
９の方向に流れ、処理された清浄空気は矢印の方向１０
に吐出される。主な構成部の作用は参考例３と同様であ
り、半導体のクリーンルームにおける空気清浄に利用で
きる。ここで、１１：紫外線ランプ、１３：光電子放出
材、１４：電極、１２：二酸化マンガン系触媒、１５：
集塵板である。

【００４３】実施例３図７に、クリーンルーム内に、別の空気清浄装置を設置
した概略構成図を示す。図７において、符号２１、２
２、２３、４、５、７、８、１０、１１、１２はすべ
て、前記実施例１の図５と同じ意味を持つ。そして、１
７はＨＦＰＡフィルタである。

【００４４】有害ガス２３を含む被処理空気８は、上記
記号で説明した空気清浄装置４を通すことにより、粗い
粒子が粗フィルタ５で除去され、有害ガス成分が紫外線
ランプ１１と二酸化マンガン系触媒１２で除去され、微
粒子がＨＥＰＡフィルタ１７で除去され、出口１０は清
浄化空気となる。得られた空気はウェハや液晶基板に暴
露しても品質に影響がない位の高清浄となる。図８は、
図７において、二酸化マンガン系触媒の後方に、更に活
性炭１６を設置した場合の概略構成図を示す。発生有害
ガスに中性ガスを含む場合など活性炭層を設けると効果
的である。

【００４５】実施例４図９は、実施例１の図５における捕集分解部６におい
て、光電子放出材として金網状の光電子放出材を用いた
もので、同じ符号は同一の意味を持つ。有害成分の捕集
分解部６は、紫外線ランプ１１、金網状の光電子放出材
１３荷電微粒子捕集材としての集塵板１５及び複合酸化
物系触媒１２により構成されている。上記光電子放出材
１３は、金網状Ｃｕ−ＺｎにＺｎ、Ｐｂ、Ｓｎを主成分
とする化合物を被覆したものであり、複合酸化物系触媒
１２はハニカム状二酸化マンガン系触媒（ＭｎＯ₂ ／Ｔ
ｉＯ₂ −Ｃ）を用いている。

【００４６】夫々の構成部の作用は、前記した実施例と
同様であり、微粒子は網状光電子放出材１３の紫外線ラ
ンプ１１による照射と気流９−１の作用により生成され
た光電子から生ずる負イオンにより効果的に荷電され、
荷電微粒子は集塵板１５により捕集除去される。一方作
業２２より発生した有害ガスであるＮＯｘ、ＮＨ₃ 、Ｈ
₂ Ｓは主として紫外線ランプと複合酸化物系触媒の作用
により除去される。一方、クリーンルームの空気中に含
まれる炭化水素（Ｈ．Ｃ）（外気より混入したＨ．Ｃ）
は、紫外線により微粒子化され、光電子により荷電さ
れ、集塵板１３で捕集・除去される。また一部のＨ．Ｃ
は紫外線と複合酸化物系触媒の作用により、低分子量に
切断され、クリーンルーム内のウェハや液晶に悪影響を
及ぼさないＨ．Ｃとなる。図１０は、図９における捕集
分解部６に電場形成用の電極（Ｃｕ−Ｚｎ）１４を設け
た概略構成図を示す。電極１４を設けた以外はすべて図
９と同一である。ここでは電場の強さは、１０Ｖ／cmで
ある。

【００４７】実施例５クリーンルーム内に空気清浄装置（クリーン空気供給装
置）を設置し、有害ガスと微粒子を同一の装置で捕集・
除去する概略構成図を図１１に示す。すなわち、クラス
１０，０００のクリーンルーム２１には、作業２２によ
りＮＯｘ、ＮＨ₃ 、Ｈ₂ Ｓ、サルファイト（有害ガス）
と微粒子２３が発生しており、空気清浄装置４により該
有害ガス及び微粒子の捕集・除去が行われている。本装
置４は主に前処理フィルタ５−１、有害成分（有害ガス
及び微粒子）の捕集分解部６、ファン７−１及びその側
面に紫外線ランプ１１、金網状光電子放出材１３、前処
理フィルタ５−２、ファン部７−２より成る負イオン発
生部Ａにより構成されており、有害成分２３を含む被処
理空気８は、ファン７−１により本装置４内を矢印９−
１の方向に流れ、処理された清浄空気１０が得られる。

【００４８】微粒子の荷電・捕集は、空気清浄装置４の
側面に設置された主に粗フィルタ５−２、ファン７−
２、紫外線ランプ１１、光電子放出材１３より成る負イ
オン供給部Ａからの負イオンが空気清浄装置の本流に供
給されることにより実施される。クリーンルーム内の微
粒子と有害ガスを含む空気８はファン７−１により粗フ
ィルタ５−１を介して有害成分（有害ガス及び微粒子）
の捕集分解部６における微粒子の荷電部Ｂに送られる。

【００４９】一方、負イオン供給部Ａでは、網状の光電
子放出材１３により紫外線１１から紫外線が照射され、
光電子放出材の表面に光電子が放出される。該光電子
は、非常に活性なため網状の光電子放出材の裏面より導
入される空気中の微量の水分や酸素に接触し、該空気の
流れ９−２により、該光電子放出材の表面方向に空気負
イオンが効果的に生成する。この様にして生成した負イ
オンは、有害成分の捕集分解部６における荷電部Ｂに供
給され、ここで微粒子が荷電される。帯電微粒子は、後
流の荷電微粒子捕集材（集塵板）１５にて捕集される。

【００５０】また、有害ガス（ＮＯｘ、ＮＨ₃ 、Ｈ₂
Ｓ、サルファイド等）の除去は、負イオン発生部Ａにお
いて紫外線ランプ１１の照射により生じたオゾン及び該
オゾンと光電子や負イオンにより生じた酸素活性種が空
気清浄装置の本流に供給されることにより実施され、該
オゾン及び／又は該酸素活性種と後方の複合酸化物系触
媒１２により、上記の実施例のように分解処理され、清
浄空気１０が得られる。上記の金網状光電子放出材は、
金網状Ｃｕ−ＺｎにＩＴＯとＺｎ、Ｓｎ、Ｐｂを被覆し
たものであり、複合酸化物系触媒はハニカム状二酸化マ
ンガン（ＭｎＯ₂ ／ＺｒＯ−Ｃ）である。

【００５１】このように清浄化された空気１０は、微粒
子が除去されクラス１以下となり、ＮＯｘ、ＮＨ₃ 、Ｈ
₂ Ｓ、サルファイトは通常の大気濃度レベルの１／１０
以下まで除去されている。上記のように、光電子放出材
と紫外線ランプを空気清浄装置の本流内部に直接設置し
ないで側面に設置するのは、本発明で用いる紫外線ラン
プには、オゾンを発生させるため、少なくとも一部に低
波長紫外線（例１８４nm）を有している。このため、本
流のガス成分に水分やＳＯ₂ など活性な成分が高濃度含
まれると、該紫外線照射によりガス成分から数nmないし
それ以下の極く微細な超微粒子が発生してしまうことが
ある。

【００５２】すなわち、入口処理気体が、この様なガス
組成で該成分を高濃度含み、上記のように発生した微細
な超微粒子が利用分野で障害となる場合は、適宜この例
のように負イオン供給部（及びオゾン発生部）を装置本
体の側面に付設して、微粒子の荷電のための負イオンの
発生と有害ガス処理のためのオゾン発生を行うことがで
きる。低波長紫外線照射による該超微粒子の発生は、紫
外線の波長、照射時間、ガス成分、濃度など照射条件に
よるので、該超微粒子が障害となる場合は適宜予備試験
を行い、本構成の実施について適宜決めることができ
る。図１２は、図１１における負イオン供給部Ａに電場
形成用の電極（Ｃｕ−Ｚｎ）１４を設けた概略構成図を
示す。電極１４を設けた以外は図１と同一である。ここ
での電場の強さは５Ｖ／cmである。

【００５３】参考例４図１の有害成分除去装置を用いた脱臭効果を以下に示
す。用いた紫外線源は低圧水銀灯、複合酸化物系触媒は
二酸化マンガン系触媒（ＭｎＯ₂ ／ＴｉＯ₂ −Ｃ）であ
る。空気清浄装置４を設置した待合室１の体積は約２４
ｍ³ であり、該装置内の空気流量は０．５ｍ³ ／分とし
た。前処理フィルタ５の直下約１ｍの位置で１０本タバ
コを喫煙したとき、該フィルタ直前の位置８で採取した
サンプル空気の臭気濃度は官能試験（３点比較臭袋法）
で５００であった。また、ＮＨ₃ とＮＯｘを測定したと
ころ夫々５ppm 、２ppm であった。

【００５４】この空気を空気清浄装置を運転して清浄化
すると装置出口直後の位置１０における空気の臭気濃度
は官能試験で最大でも１０以下であった。また、ここで
の吐出空気には目視ではタバコ煙は認められなかった。
またＮＨ₃ とＮＯｘ濃度は、夫々＜０．１ppm 、＜０．
０５ppm であった。上述の如き臭気濃度５００のタバコ
臭が空気清浄装置により最大でも１０以下になるという
ことは、無臭空気により５０倍以上に希釈したものと同
等と言え、本装置がタバコ臭及びタバコ煙の除去に有効
であることが分かる。

【００５５】参考例５図２に示した空気清浄装置を用いて、下記のタバコ煙を
吸込口より５リットル／min で導入し、出口における各
成分及び臭気濃度を測定した。タバコ煙（臭）；発生法：タバコ煙発生器で発生臭気濃度：３００微粒子濃度：１２億個／ｆｔ³ アンモニア：５ｐｐｍＮＯｘ：２ｐｐｍ

【００５６】空気清浄装置の大きさ；３０×３０×４０ｃｍ紫外線源；低圧水銀灯１０Ｗ電極；Ｃｕ−Ｚｎ材にＡｕメッキ光電子放出材；Ｃｕ−Ｚｎ材にＡｕメッキ電場の強さ；１００Ｖ／ｃｍ複合酸化物系触媒；二酸化マンガン系触媒

【００５７】測定法；臭気濃度：官能試験微粒子濃度：パーティクルカウンタアンモニア濃度：化学分析ＮＯｘ：ケミルミ式ＮＯｘ計結果；出口における測定値臭気濃度：＜１０微粒子濃度：４，０００個／ｆｔ³ アンモニア：＜０．５ｐｐｍＮＯｘ：＜０．０１ｐｐｍ

【００５８】参考例６図３に示した空気清浄装置を用いて、下記のタバコ煙を
吸込口より５リットル／min で導入し、出口における各
成分及び臭気濃度を測定した。タバコ煙（臭）；発生法：タバコ煙発生器で発生臭気濃度：５００微粒子濃度：１３億個／ｆｔ³ アンモニア：５ｐｐｍＮＯｘ：３ｐｐｍ

【００５９】空気清浄装置の大きさ；３０×３０×４０ｃｍ紫外線源；低圧水銀灯１０Ｗ光電子放出材；金網状Ｃｕ−ＺｎにＩＴＯとＺｎ、Ｐｂ、Ｓｎを蒸着。複合酸化物系触媒；二酸化マンガン系触媒（ＭｎＯ₂ ／ＴｉＯ₂ −Ｃ）荷電微粒子の捕集材；Ｃｕ−Ｚｎ電極測定法；臭気濃度：官能試験微粒子濃度：パーティクルカウンタアンモニア濃度：化学分析ＮＯｘ：ケミルミ式ＮＯｘ計

【００６０】結果；出口における測定値臭気濃度：＜１０微粒子濃度：４，０００個／ｆｔ³ アンモニア：＜０．５ｐｐｍＮＯｘ：＜０．０１ｐｐｍ

【００６１】実施例６参考例６における光電子放出材からの光電子の放出を図
４のように電場下で行った。他は参考例６と同様に行
い、測定した。電場用電極；金網状Ｃｕ−Ｚｎ材にＡｕメッキ電場の強さ；５Ｖ／cm結果；出口における測定値臭気濃度：＜１０微粒子濃度：１，０００個／ｆｔ³ アンモニア：＜０．５ｐｐｍＮＯｘ：＜０．０１ｐｐｍ

【００６２】実施例７図５に示した空気清浄装置を液晶工場における乾燥用の
供給空気の清浄化に適用した例を示す。空気清浄装置
は、クラス１０，０００の室に設置され、近傍では、酸
及びアルカリ洗浄によりＮＨ₃ 、ＮＯｘが発生してい
る。この様なクリーンルーム内空気を、液晶製造プロセ
スの乾燥工程への供給空気用に精製（清浄化）するため
に図５の空気清浄装置が設置されており、微粒子や有害
ガスによる汚染の程度をガラス基板への接触角の増加で
調べた。

【００６３】接触角とは、表面の汚染の程度を示すもの
であり、表面のぬれ性を表わす角度で表現され、接触角
が高いと汚染されており、逆に接触角が低いと汚染され
ていない。クリーンルーム；クラス１０，０００（＞０．１μｍ）粗フィルタ；ガラス繊維製前処理用フィルタ紫外線源；低圧ランプ１０Ｗ光電子放出材；Ｃｕ−Ｚｎ材にＡｕメッキ電極；Ｃｕ−Ｚｎ材にＡｕメッキ

【００６４】荷電微粒子捕集材；静電フィルタ複合酸化物系触媒；二酸化マンガン系触媒空気清浄装置大きさ；３０×３０×４０ｃｍ室内のＮＨ₃ とＮＯｘ濃度（発生源より３ｍ）ＮＨ₃ ；１０ｐｐｍＮＯｘ；５ｐｐｍ効果の判定は、空気清浄装置出口の空気をガラス基板に
暴露し、接触角計を用いて、基板上の接触角増加につい
て調べることで行った。

【００６５】結果本発明により処理した空気を２００時間ガラス基板に暴
露したときの接触角（○印）を図１３に示す。図１３に
は、比較としてクリーンルームの空気をそのまま暴露し
たもの（●印）、図５から光電子放出材と電極材、静電
フィルタを外したもの（△印）、又は図５から二酸化マ
ンガン系触媒のみを外したもの（▲印）を併せて示す。
なお、図１３中↓は検出限界４度以下を示す。

【００６６】実施例８図９に示した空気清浄装置をクラス１，０００のクリー
ンルームの液晶工場における保管庫（ストッカ）用の供
給空気の清浄化に適用した例を示す。空気清浄装置は、
クラス１，０００の室に設置され、近傍では、酸及びア
ルカリ洗浄によりＮＨ₃ 、ＮＯｘが発生している。この
様なクリーンルーム内空気を、液晶製造プロセスの乾燥
工程への供給空気用に精製（清浄化）するために図９の
空気清浄装置が設置されており、微粒子や有害ガスによ
る汚染の程度をガラス基板への接触角の増加で調べた。

【００６７】接触角とは、表面の汚染の程度を示すもの
であり、表面のぬれ性を表わす角度で表現され、接触角
が高いと汚染されており、逆に接触角が低いと汚染され
ていない。クリーンルーム；クラス１，０００（＞０．１μｍ）粗フィルタ；ガラス繊維製前処理用フィルタ紫外線源；低圧ランプ１０Ｗ光電子放出材；金網状Ｃｕ−ＺｎにＩＴＯとＺｎ、Ｐｂ、Ｓｎを蒸着被覆

【００６８】荷電微粒子捕集材；静電フィルタ複合酸化物系触媒；二酸化マンガン系触媒（ＭｎＯ₂ ／ＴｉＯ₂ −Ｃ）空気清浄装置大きさ；３０×３０×４０ｃｍ室内のＮＨ₃ とＮＯｘ濃度（発生源より３ｍ）ＮＨ₃ ；１０ｐｐｍＮＯｘ；５ｐｐｍ効果の判定は、空気清浄装置出口の空気１リットル／mi
n をガラス基板に暴露し、接触角計を用いて、基板上の
接触角増加について調べることで行った。結果実施例７の結果とほぼ同一の結果が得られた。

【００６９】実施例９実施例８における光電子放出材からの光電子放出を図１
０のごとく、電場下で行い、実施例８と同様に調べた。電場用電極材；金網状Ｃｕ−ＺｎにＡｕメッキ電場の強さ；１Ｖ／cm

【００７０】結果本発明により処理した空気を２００時間ガラス基板に暴
露したときの接触角（○印）を図１４に示す。図１４に
は、同様に比較としてクリーンルームの空気そのまま暴
露（●印）、図９から光電子放出材と電極、静電フィル
タを外したもの（△印）、又は図９から二酸化マンガン
系触媒のみを外したもの（▲印）を併せて示す。

【００７１】実施例１０図１１に示した空気清浄装置を半導体工場における乾燥
用装置の供給空気の清浄化に適用した例を示す。空気清
浄装置は、クラス１０，０００の室に設置され、近傍で
は、酸及びアルカリ洗浄によりＮＨ₃ 、ＮＯｘが発生し
ている。この様なクリーンルーム内空気を、液晶製造プ
ロセスの乾燥工程への供給空気用に精製（清浄化）する
ために図１１の空気清浄装置が設置されており、微粒子
や有害ガスによる汚染の程度をウェハ基板への接触角の
増加で調べた。

【００７２】接触角とは、表面の汚染の程度を示すもの
であり、表面のぬれ性を表わす角度で表現され、接触角
が高いと汚染されており、逆に接触角が低いと汚染され
ていない。ppm 濃度レベルのＮＨ₃ やＮＯｘ及び室内濃
度レベルのＨ．Ｃは、接触角増加をもたらす。クリーンルーム；クラス１０，０００（＞０．１μｍ）粗フィルタ；ガラス繊維製前処理用フィルタ紫外線源；低圧ランプ１０Ｗ

【００７３】光電子放出材；金網状Ｃｕ−ＺｎにＩＴＯとＺｎ、Ｐｂ、Ｓｎを蒸着被覆荷電微粒子捕集材；電極（Ｃｕ−Ｚｎ材）複合酸化物系触媒；二酸化マンガン系触媒（ＭｎＯ₂ ／ＴｉＯ₂ −Ｃ）空気清浄装置大きさ；３０×３０×４０ｃｍ室内のＮＨ₃ とＮＯｘ濃度（発生源より３ｍ）ＮＨ₃ ；１０ｐｐｍＮＯｘ；５ｐｐｍ室内のＨ．Ｃ濃度；ノンメタンとして０．５〜０．
８ｐｐｍ効果の判定は、空気清浄装置出口の空気１リッ
トル／min をウェハ基板に暴露し、接触角計を用いて、
基板上の接触角増加について調べることで行った。

【００７４】結果本発明により処理した空気を２００時間ガラス基板に暴
露したときの接触角（○印）を図１５に示す。図１５に
は、同様に比較としてクリーンルームの空気そのまま暴
露（●印）、図１１から光電子放出材と電極を外したも
の（△印）、又は図１１から二酸化マンガン系触媒のみ
を外したもの（▲印）を併せて示す。なお、図１５中↓
は検出限界４度以下を示す。

【００７５】実施例１１実施例１０における光電子放出材からの光電子の放出を
図１２のごとく、電場下で行い、実施例１０と同様に調
べた。電場用電極材；金網状Ｃｕ−ＺｎにＡｕメッキ電場の強さ；５Ｖ／cm結果本発明により処理した空気を２００時間ウェハ基板に暴
露したときの接触角（○印）と、クリーンルームの空気
そのまま暴露（●印）したときの接触角を図１６に示
す。

【００７６】

【発明の効果】本発明によれば、次のような効果を奏す
る。（１）気体を清浄化するに当り、該気体を紫外線照射
後、複合酸化物系触媒に通すことにより、（ａ）気体中の有害成分が紫外線による光化学反応、
オゾン及びオゾンからの酸素活性種による該活性物質
との反応、複合酸化物系触媒との吸着・分解反応、
複合酸化物系触媒上での酸素活性種との分解反応などに
より効果的に極く低温度まで処理（除去）された。（ｂ）上記より、オゾンや酸素活性種を含むので殺菌さ
れた気体となる。（ｃ）紫外線源に殺菌線（２５４nm）を有する紫外線を
用いると処理気体は一層確実に殺菌される。（ｄ）超高清浄な気体が得られた。

【００７７】（２）（１）において、紫外線源の近傍に
光電子放出材及び電極材を設置することにより、（ａ）別に装置を設置することなく、微粒子の除去が同
時にできた。（ｂ）光電子放出材による放出光電子で発生オゾンから
の酸素活性種の生成が効果的になった。（３）（１）、（２）より、（ａ）有害ガスと有害な粒子状物質（微粒子）が１つの
装置で除去できた。（ｂ）実用性が向上し適用範囲が広がった。

【００７８】（４）光電子放出材の形状を気体通気性と
し、裏面より表面に向けて気体を通すことにより、（ａ）光電子放出材表面に生じた光電子を効率よく負イ
オンとなし、表面方向に効果的に放出させることができ
た。（ｂ）（ａ）により気体処理装置の側面に個別に負イオ
ン発生部を設けることができたので、処理気体の性状に
かかわらず、適宜に負イオン、オゾン及び／又は酸素活
性種を処理気体に供給できた。すなわち、低波長紫外線
の照射により極く微細な超微粒子の発生をもたらす水分
やＳＯ₂ など活性な成分が高濃度含有する場合であって
も該発生をなくして実施できるので、利用分野によって
は実用上有効な処理となった。（ｃ）実用性が向上し、適用範囲が広がった。

【図面の簡単な説明】

【図１】参考例１に用いた清浄化装置を示す概略構成
図。

【図２】参考例２に用いた清浄化装置を示す概略構成
図。

【図３】参考例３に用いた清浄化装置の一例を示す概略
構成図。

【図４】参考例３に用いた清浄化装置の他の例を示す概
略構成図。

【図５】本発明の清浄化装置の一例を示す概略構成図。

【図６】本発明の清浄化装置の一例を示す概略構成図。

【図７】本発明の清浄化装置の一例を示す概略構成図。

【図８】本発明の清浄化装置の一例を示す概略構成図。

【図９】本発明の清浄化装置の一例を示す概略構成図。

【図１０】本発明の清浄化装置の一例を示す概略構成
図。

【図１１】本発明の清浄化装置の一例を示す概略構成
図。

【図１２】本発明の清浄化装置の一例を示す概略構成
図。

【図１３】実施例７の結果の暴露時間と接触角の関係を
示すグラフ。

【図１４】実施例９の結果の暴露時間と接触角の関係を
示すグラフ。

【図１５】実施例１０の結果の暴露時間と接触角の関係
を示すグラフ。

【図１６】実施例１１の結果の暴露時間と接触角の関係
を示すグラフ。

【符号の説明】

１：待合室、２：タバコ、３：タバコ煙、４：空気清浄
装置、５：前処理フィルタ部、６：捕集分解部、７：フ
ァン部、８：被処理空気、９：空気流れ、１０：清浄空
気、１１：紫外線源、１２：複合酸化物系触媒、１３：
光電子放出材、１４：電極兼荷電微粒子捕集材、１５：
集塵板、１６：活性炭層、１７：ＨＦＰＡフィルタ、２
１：クリーンルーム、２２：作業、２３：有害ガスと微
粒子、Ａ：負イオン発生部、Ｂ：微粒子の荷電部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩ // Ｂ０１Ｄ 53/38 Ｂ０１Ｄ 53/34 １１６Ｆ 53/74 53/36 ＺＡＢＦ 53/86 ＺＡＢ (56)参考文献特開昭63−77557（ＪＰ，Ａ) 特開平５−328897（ＪＰ，Ａ) 特開平２−10034（ＪＰ，Ａ) 特開平４−243517（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 53/34 - 53/96 B01D 53/32 A61L 9/20 B03C 3/38 F24F 3/16

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】クリーンルームにおける有害成分を含む
気体の清浄方法において、該気体を紫外線照射して発生
するオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び有害物質
吸着能をもつ複合酸化物系触媒と有害ガス捕集材とに接
触させると共に、前記紫外線が真空紫外域（１００〜２
００ｎｍ）と遠紫外域（２００〜３００ｎｍ）の波長の
両方の紫外線を有することを特徴とする気体の清浄方
法。
【請求項２】前記紫外線照射を光電子放出材の存在下
に行い、発生する光電子による気体中の微粒子の除去を
同時に行うことを特徴とする請求項１記載の気体の清浄
方法。
【請求項３】クリーンルームにおける有害成分を含む
気体の清浄方法において、該気体を紫外線照射下でのス
クリーン状光電子放出材から発生する光電子及びオゾン
と接触させた後、オゾン分解能及び有害物質吸着能をも
つ複合酸化物系触媒と有害ガス捕集材とに接触させると
共に、前記紫外線が真空紫外域（１００〜２００ｎｍ）
と遠紫外域（２００〜３００ｎｍ）の波長の両方の紫外
線を有することを特徴とする気体の清浄方法。
【請求項４】クリーンルームにおける有害成分を含む
気体の清浄装置において、気体通路を有し、該気体通路
に紫外線照射装置と複合酸化物触媒層及び有害ガス捕集
材層とを順次設けると共に、前記紫外線照射装置が真空
紫外域（１００〜２００ｎｍ）と遠紫外域（２００〜３
００ｎｍ）の波長の両方の紫外線を照射するものである
ことを特徴とする気体の清浄装置。
【請求項５】前記紫外線照射装置を設けた気体通路
に、光電子放出材、電極材、及び荷電微粒子捕集材を備
えたことを特徴とする請求項４記載の気体の清