JP3398151B2 - 液晶混合物中に用いるためのディスコチック化合物 - Google Patents

液晶混合物中に用いるためのディスコチック化合物

Info

Publication number
JP3398151B2
JP3398151B2 JP50143995A JP50143995A JP3398151B2 JP 3398151 B2 JP3398151 B2 JP 3398151B2 JP 50143995 A JP50143995 A JP 50143995A JP 50143995 A JP50143995 A JP 50143995A JP 3398151 B2 JP3398151 B2 JP 3398151B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
triphenylene
substituents
preparation
decyloxy
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP50143995A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08511512A (ja
Inventor
グツドバイ，ジヨン・ウイリアム
ハード，マイケル
ビーテイー，デイビツド・リチヤード
ヒンドマーシユ，ポール
グレイ，ジヨージ・ウイリアム
マクドネル，デイミアン・ジエラード
ジヨーンズ，ジヨン・クリフオード
フイリツプス，テイモシー・ジヨナサン
Original Assignee
キネテイツク・リミテツド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by キネテイツク・リミテツド filed Critical キネテイツク・リミテツド
Publication of JPH08511512A publication Critical patent/JPH08511512A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3398151B2 publication Critical patent/JP3398151B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/84—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of monocyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/92—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of monocyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of a six-membered aromatic ring with etherified hydroxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
    • C07C43/02—Ethers
    • C07C43/20—Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
    • C07C2603/40—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing four condensed rings
    • C07C2603/42—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing four condensed rings containing only six-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
    • C09K2019/328—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems containing a triphenylene ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ディスコチック化合物並びに該化合物の液
晶材料及び液晶装置への使用に係わる。
大半の公知液晶化合物は通常棒状の分子構造を有し、
しばしばネマチック及び／またはスメクチック中間相に
よって特徴付けられる。しかし、通常円盤状の分子構造
を特徴とする幾つかの公知化合物も存在する。これらの
化合物はディスコチック化合物と呼称され、異方性中間
相によって特徴付けられ得る。
ディスコチック化合物は幾つかの“コア”、例えばS.
Chandrasekhar及びG.S.Ranganath,Rep.Prog.Phys.53,p
p.57−87,1990に記載されているベンゼン、トルキセン
（truxene）、メタロフタロシアニン及びトリフェニレ
ンをベースとし得る。Nguyen Huu Tinh等（Mol.Crys
t.Liq.Cryst.,Vol.68,pp.101−111,1981）は2,3,6,7,1
0,11トリフェニレンｎ−アルコキシ（及びｎ−アルキ
ル）エステルについて述べている。C.Vauchier等（Mol.
Cryst.Liq.Cryst.,Vol.66,pp.103−114,1981）も、トリ
フェニレンの2,3,6,7,10,11n−アルコキシベンゾエート
及びｎ−アルコキシテトラフルオロ置換ベンゾエートに
ついて述べている。
本発明は、式Ｉ 〔式中Ｚ１〜６はそれぞれ式II によって表わされ、その際Ｚ１〜６それぞれのＹは互い
に独立にCOO、OCO、CH2O及びOCH2の中から選択され、ｍ
はＺ１〜６それぞれに存在する置換基の数を規定し、か
つ互いに独立に０〜５の中から選択され、Ｚ１〜６それ
ぞれに存在する各置換基のＸは互いに独立にアルキル
（直鎖、分枝鎖及びキラル）、アルコキシ（直鎖、分枝
鎖またはキラル）、アルカノイル（直鎖、分枝鎖または
キラル）、アルケニル（直鎖、分枝鎖またはキラル）、
ハロゲン、ハロゲノアルキル（直鎖、分枝鎖及びキラ
ル）及びCNの中から選択され、 ただしＺ１〜６のうちの少なくとも１個は少なくとも１
個の置換基Ｘを有し、また 例外としてＺ１〜６それぞれのｍが１である場合はＺ
１〜６それぞれのＹはCOOであり、かつＸはＺ１〜６そ
れぞれのＹに対してパラ位に位置するｎ−アルキルまた
はｎ−アルコキシであり、同様にＺ１〜６それぞれのｍ
が５である場合はＺ１〜６それぞれのＹはCOOであり、
かつＺ１〜６それぞれのＸは、Ｙに対してパラ位に位置
するものにはｎ−アルコキシ、他の総ての置換基にはフ
ッ素が選択される〕の2,3,6,7,10,11トリフェニレンデ
ィスコチック化合物を提供する。
置換基がアルキル、アルコキシまたはアルケニルの中
から選択される場合、当該置換基は好ましくはＣ１〜20
を有する。
後段で検討する構造の好ましさは特に、製造の容易さ
及び／または液晶材料中での有用性に基づく。
互いに独立に選択されるＺ１〜６それぞれにとって好
ましい構造は次のとおりである： 〔式中Xjはアルキル、アルコキシ、ハロゲン（好ましく
はフッ素）及びCNの中から選択される〕。
典型的には、式Ｉの化合物は適当に置換した安息香酸
を適当なトリフェニレンビフェノールと反応させること
によって製造し得る。トリフェニレンフェノールの製造
は公知である（例えばN.H.Tinh等,Mol.Cryst.Liq.Crys
t.,Vol.68,pp.101−111,1981）。適当に置換した安息香
酸は、当業者に明らかな合成経路から製造可能である。
本発明の別の形態において、式Ｉの化合物は混合物に
含有させ得、その際混合物は少なくとも二つの化合物を
含有する。典型的な混合物には複数の式Ｉの化合物から
成る混合物が含まれ、かつ少なくとも一つの式Ｉの化合
物と、少なくとも一つの式Ｉ以外の化合物とから成る混
合物も含まれる。ディスコチック液晶材料において室温
液晶相を実現するため、並びに相配列及び転移温度を制
御するためにはドナー−アクセプター混合物、及び個々
の化合物の融点より低い融点を有する混合物が望まし
い。
本発明の更に別の形態は、式Ｉの化合物、及び式Ｉの
化合物を含有する混合物の液晶装置への使用を包含す
る。液晶装置には典型的には、線形及び非線形の電気
的、光学的及び電気光学的装置、磁気光学的装置、並び
に温度変化及び全圧または分圧変化などの刺激に対して
応答する装置が含まれる。
本発明の単なる例を以下に説明し、化合物例１〜７製
造のための合成経路を第１図〜第７図に示す。第８図〜
第12図は化合物の重量％を温度に対して示す相図であ
る。第13図は液晶装置の説明図である。
化合物1:トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘキサ
−４−オクチルオキシ−３−メチルベンゾエートの製造 ステップ1.1 ヘキサメトキシトリフェニレンの製造 クロラニル（64g;0.26mol）と、ベラトロール（14.4
g;0.104mol）と、稀釈硫酸（70％ v/v;200m）とを窒
素下に攪拌しつつ加え合わせた。反応混合物を８日間放
置した。フラスコの中味を氷（１）上へ注ぎ、更に３
の水で稀釈した。固体を濾別した。生成物を、まず１
の水及び100mのメタノール中に再懸濁させてから濾
別した。この操作を、500mのメタノール及び50mの
水を用いて繰り返し、最後は１のメタノールで行なっ
た。その後、生成物を濾別して乾燥した。得られた物質
をクロロホルム中に取って濾過し、この操作を数回繰り
返した。一つに合わせたクロロホルム抽出物を蒸発さ
せ、固体を３×100mのトルエンと共に攪拌し、濾別
し、風乾した。次に、固体を３×100mのアセトンと共
に攪拌し、濾別し、風乾した。粗生成物を20gのシリカ
（Merck 60H、ART7736）と共に100mのクロロホルム
中に懸濁させた。得られたスラリーを、１容の円筒形
分液漏斗内のシリカ（60H;80g）のカラムに加え、クロ
ロホルムで溶離した。集めた画分を等量のトルエン及び
等量の３倍のメタノールと共に攪拌した。沈澱したヘキ
サメトキシトリフェニレンを濾別した。
収量:3.26g（23％） 融点:315℃ ステップ1.2 ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造 乾燥ジクロロメタン（80m）中の三臭化ホウ素（8.6
g;0.034mol）を乾燥ジクロロメタン（100m）中のヘキ
サメトキシトリフェニレン（2g;0.0049mol）に、乾燥窒
素雰囲気下に−80℃において添加した。混合物を一晩室
温に加温した。水を添加し、ジクロロメタンを減圧下に
除去した。粗生成物を濾別した。水からの再結晶によっ
てヘキサヒドロキシトリフェニレンを精製した。
収量:1g（63％） 融点：＞310℃ ステップ1.3 ２−メチルフェニルアセテートの製造 水酸化ナトリウム（12g;0.3mol）の水溶液（100m）
に溶解させたｏ−クレゾール（21.6g;0.2mol）に氷（30
0g）を添加した。次に無水酢酸（30.6g;0.3mol）を添加
し、混合物を１分間振盪した。生成物をエーテル中に抽
出し、その後減圧蒸留によって精製した。
収量:25g（83.3％） 沸点:1mmHgで66℃ ステップ1.4 ４−ヒドロキシ−３−メチルアセトフェ
ノンの製造 氷中で冷却した、無水塩化アルミニウム（42.6g;0.32
mol）を乾燥ニトロベンゼン（250m）中に懸濁させた
懸濁液に乾燥ニトロベンゼン（125m）中のステップ1.
3の化合物（24.7g;0.16mol）を攪拌しつつ滴下し加え
た。混合物を室温に加温し、攪拌を10時間継続した。次
に、混合物を氷及び濃塩酸（100m）上へ注ぎ、0.5時
間攪拌した。有機層を分離し、水性層をクロロホルムと
共に振盪した。一つに合わせた有機層をブラインで洗浄
し、その後溶媒（クロロホルム及びニトロベンゼン）が
もはや留出しなくなるまで水蒸気蒸留した。得られた粗
生成物をクロロホルム中に抽出し、無水硫酸マグネシウ
ムで脱水した。クロロホルムを除去した後、酢酸エチル
と石油留分（沸点60〜80℃）との1:1混合物からの再結
晶によって標記メチルケトンを精製した。
収量:5.36g（22％） 融点:107〜109℃ ステップ1.5 ３−メチル−４−オクチルオキシアセト
フェノンの製造 炭酸カリウム（22.77g;0.165mol）をブタノン（110m
）中に懸濁させた懸濁液にステップ1.4の化合物（5g;
0.033mol）を攪拌しつつ添加した。次に、ブロモオクタ
ン（6.76g;0.035mol）を滴下し加えた。混合物を還流下
に24時間攪拌した。固体を濾別し、溶媒の半分を除去し
た。その後、溶液を水中へ注ぎ、生成物を酢酸エチル中
に抽出した。一つに合わせた抽出物を水酸化ナトリウム
水溶液（５％）、次いで水で洗浄した。抽出物を無水硫
酸マグネシウムで脱水後、減圧蒸留によって標記メチル
ケトンを精製した。
収量:5.58g（64％） 沸点:1mmHgで174℃ ステップ1.6 ３−メチル−４−オクチルオキシ安息香
酸の製造 臭素（12.8g;0.08mol）を水酸化ナトリウム（8g;0.2m
ol）の水溶液（38m）に溶解させることにより、−10
〜０℃において次亜臭素酸ナトリウム溶液を製造した。
この溶液を、ステップ1.5の化合物（3g;0.0115mol）の
ジオキサン溶液（125m）に攪拌しつつ添加した。添加
の間中及びその後の20分間温度を60〜70℃に維持した。
過剰な次の亜臭素酸塩をメタ重亜硫酸ナトリウムで破壊
した。反応混合物に水を添加し、白色の沈澱物を濾別
し、その後溶液を濃塩酸で酸性化した。沈澱物を濾別
し、水で数回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水し
た。エタノールからの再結晶によって標記酸を精製し
た。
収量:1.42g（46％） 転移温度（℃）:K1 70.9 K2 112.4（N102.4） IL ステップ1.7 トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−オクチルオキシ−３−メチルベンゾエートの
製造 ステップ1.6の化合物（10g;0.038mol）及びジメチル
ホルムアミド（５滴）を乾燥ジクロロメタン（100m）
に溶解させ、乾燥ジクロロメタン（10m）中の塩化オ
キサリル（9.6g;0.076mol）を滴下し加えた。混合物を
室温で一晩攪拌した。過剰な塩化オキサリル及びジクロ
ロメタンを真空下に除去し（60℃）、その後直ちに残留
酸塩化物を用いてエステルを製造した。無水ピリジン
（100m）中のステップ1.2の化合物（0.6g;0.0019mo
l）に３−メチル−４−オクチルオキシベンゾイルクロ
リド（0.038mol）を添加した。混合物を攪拌しつつ160
℃で２時間加熱し、その後濃塩酸（50m）と砕氷（500
m）との混合物上へ注いだ。粗生成物をエーテル中に
抽出し、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水し
た。溶媒を除去し、生成物をフラッシュカラムクロマト
グラフィー（溶離剤ジクロロメタン）とこれに続くエタ
ノールからの再結晶とによって精製した。
収量:0.8g（23％） 転移温度（℃）:K 50 ND 208 IL 化合物2:トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘキサ
−４−デシルオキシ−３−フルオロベンゾエートの製造 ステップ2.1 ４−ブロモ−１−デシルオキシ−２−フ
ルオロベンゼンの製造 ４−ブロモ−２−フルオロフェノール及び炭酸カリウ
ムの攪拌還流溶液に１−ブロモデカンのブタノン溶液を
滴下し加えた。攪拌混合物を還流下に24時間加熱した。
炭酸カリウムを濾別し、溶媒を除去した。生成物を130
℃及び0.05mmHgで蒸留した。
ステップ2.2 ４−デシルオキシ−３−フルオロ安息香
酸の製造 ステップ2.1の化合物の乾燥THF溶液を攪拌及び冷却
（−78℃）し、これにｎ−ブチルリチウムの溶液を滴下
し加えた。混合物を40分間上記条件下に維持し、その後
乾燥エーテル及びcardiceのスラリー中へ注いだ。溶液
を36％ HClで酸性化し、水で洗浄し、脱水した（硫酸
マグネシウム）。溶媒を除去して白色の固体を得た。
Ｋ 103.5 SC 109.6 Ｎ 114.7 Ｉ ステップ2.3 トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−デシルオキシ−３−フルオロベンゾエートの
製造 ステップ2.2の化合物及びジメチルホルムアミドを乾
燥ジクロロメタンに溶解させた。塩化オキサリルの乾燥
ジクロロメタン溶液を滴下し加えた。反応混合物を一晩
放置し、その後溶媒及び過剰な塩化オキサリルを除去し
た。残留酸塩化物を直ちに用いた。乾燥ピリジン中の前
記酸塩化物にステップ1.2の化合物を160℃において添加
し、これを還流下に２時間加熱した。反応混合物を冷却
し、36％ HClと氷との混合物中へ注いだ。粗生成物を
エーテル中に抽出し、水、重炭酸ナトリウム、水で洗浄
し、脱水した（硫酸マグネシウム）。溶媒を除去して粗
生成物を得、これをベンゼン中で再結晶させた。
Ｋ 175 M1 216 M2 約320 M3 約430 Ｉ（分解） Ｍ１〜３が未知の中間相であると看做される場合 化合物3:トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘキサ
−４−デシルオキシ−2,6−ジメチルベンゾエートの製
造 ステップ3.1 １−ブロモ−４−デシルオキシ−2,6−ジ
メチルベンゼンの製造 実験手順をステップ2.1の化合物の製造に関して述べ
たものと同じにした。
４−ブロモ−3,5−ジメチルフェノール（8.0g;0.04mo
l）及び無水炭酸カリウムK2CO3（30.0g;0.2mol）をブタ
ノン（250m）に加えた攪拌還流混合物に１−ブロモデ
カン（11.05g;0.05mol）のブタノン溶液（50m）を滴
下し加えた。攪拌混合物を還流下に24時間加熱した。K2
CO3を濾別し、溶媒を除去した。残留物を蒸留して無色
の液体を得た。
ステップ3.2 ４−デシルオキシ−2,6−ジメチル安息香
酸の製造 実験手順をステップ2.2の化合物の製造に関して述べ
たものと同じにした。
乾燥窒素下に、１−ブロモ−４−デシルオキシ−2,6
−ジメチルベンゼン（10.0g;0.029mol）の乾燥THF溶液
（200m）を攪拌及び冷却（−78℃）し、これにｎ−ブ
チルリチウム（2.9m；ヘキサン中に10.0M;0.029mol）
の溶液を滴下し加えた。攪拌混合物を１時間上記条件下
に維持し、その後固体二酸化炭素及び乾燥エーテルのス
ラリー上へ注いだ。生成物を36％ HClで酸性化し、水
で洗浄した。エーテル層を脱水し（MgSO4）、かつ溶媒
を除去して無色の固体を得、これを石油留分（40〜60
℃）から再結晶させた。
収量:2.64g（30％） 融点:80〜81℃ ステップ3.3 トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−デシルオキシ−2,6−ジメチルベンゾエート
の製造 ４−デシルオキシ−2,6−ジメチル安息香酸（2.44g;
0.008mol）及びDMF（10滴）の乾燥ジクロロメタン溶液
（100m）を攪拌し、これに塩化オキサリル（1.26g;0.
01mol）の乾燥ジクロロメタン溶液を滴下し加えた。反
応混合物を一晩放置し、その後溶媒を除去した。残留酸
塩化物を、これ以上精製することなく直ちに用いた。
乾燥ピリジン中の上記酸塩化物に2,3,6,7,10,11−ヘ
キサヒドロキシトリフェニレン（0.26g;0.0085mol）を
一気に添加し、これを還流（油浴温度＞160℃）下に２
時間加熱した。反応混合物を冷却し、濃塩酸と氷との混
合物中へ注いだ。粗生成物をエーテル中に抽出し、水、
NaHCO3水溶液、水で洗浄し、脱水した（MgSO4）。溶媒
を除去し、粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフ
ィーによって精製し、かつエタノール−酢酸エチルから
再結晶させた。
収量:2.68g（58％） 化合物：トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘキサ
−４−デシルオキシ−3,5−ジメチルベンゾエートの製
造 ステップ4.1 １−ブロモ−４−デシルオキシ−3,5−ジ
メチルベンゼンの製造 実験手順を１−ブロモ−４−デシルオキシ−2,6−ジメ
チルベンゼンの製造に関して述べたものと同じにし（ス
テップ3.1参照）、生成物を蒸留した。
量:4−ブロモ−2,6−ジメチルフェノール（8.0g;0.04mo
l）、１−ブロモデカン（11.05g;0.05mol）、K2CO3（3
0.0g;0.2mol） 収量:12.0g（88％） 沸点:0.01mmHgで150〜160℃ ステップ4.2 ４−デシルオキシ−3,5−ジメチル安息香
酸の製造 実験手順を４−デシルオキシ−2,6−ジメチル安息香
酸の製造に関して述べたものと同じにした（ステップ3.
2参照）。生成物を石油留分（40〜60℃）から再結晶さ
せた。
量:1−ブロモ−４−デシルオキシ−3,5−ジメチルベン
ゼン（12.0g;0.039mol）、ｎ−ブチルリチウム（3.9m
；ヘキサン中に10.0M;0.039mol） 収量:4.44g（37％） 融点:77〜78℃ ステップ4.3 トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−デシルオキシ−3,5−ジメチルベンゾエート
の製造 実験手順をトリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−デシルオキシ−2,6−ジメチルベンゼゾエー
トの製造に関して述べたものと同じにした（ステップ3.
3参照）。
量:1−ブロモ−４−デシルオキシ−3,5−ジメチルベン
ゼン（4.0g;0.013mol）、塩化オキサリル（3.78g;0.03m
ol）、2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレ
ン（0.42g;0.0013mol） 収量:0.28g（11％） 化合物5:トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘキサ
−４−デシルオキシ−2,6−ジフルオロベンゾエートの
製造 この化合物は、化合物２に関して述べたのと同様にし
て合成した。
ステップ5.1 １−デシルオキシ−3,5−ジフルオロベン
ゼンの製造 実験手順を１−ブロモ−４−デシルオキシ−３−フル
オロベンゼンの製造に関して述べたものと同じにした
（ステップ2.1参照）。
量:3,5−ジフルオロフェノール（5.0g;0.038mol）、１
−ブロモデカン（8.84g;0.04mol） 収量:10.26g（100％） ステップ5.2 ４−デシルオキシ−2,6−ジフルオロ安息
香酸の製造 実験手順を４−デシルオキシ−３−フルオロ安息香酸
の製造に関して述べたものと同じにした（ステップ2.2
参照）。
量:1−デシルオキシ−3,5−ジフルオロベンゼン（10.26
g;0.038mol）、ｎ−BuLi（10.0M;3.8m;0.038mol）、T
HF（200m） 収量:7.7g（64％） ステップ5.3 トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−デシルオキシ−2,6−ジフルオロベンゾエー
トの製造 実験手順をトリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−デシルオキシ−３−フルオロベンゾエートの
製造に関して述べたものと同じにした（ステップ2.3参
照）。
量:4−デシルオキシ−2,6−ジフルオロ安息香酸（7.7g;
0.024mol）、塩化オキサリル（3.78g;0.03mol）、DMF
（10滴）、ジクロロメタン（100m）、ヘキサヒドロキ
シトリフェニレン（0.77g;0.0024mol）、ピリジン（100
m） 収量:3.00g（60％） 相転移温度（℃）:K 138.0 Ｉ 化合物6:トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘキサ
−３−デシルオキシベンゾエートの製造 この化合物は、化合物２に関して述べたのと同様にし
て合成した。
ステップ6.1 メチル−３−ヒドロキシベンゾエートの
製造 ３−ヒドロキシ安息香酸（30.0g;0.22mol）と、メタ
ノール（101m）と、濃硫酸（2.7m）とを加え合わ
せ、還流下に４時間加熱した。反応混合物を冷却し、メ
タノールを除去した。粗生成物を真空乾燥し、これ以上
精製せずに用いた。
収量:32.98g（100％） ステップ6.2 メチル−３−デシルオキシベンゾエート
の製造 メチル−３−ヒドロキシベンゾエート（5.0g;0.033mo
l）及び無水炭酸カリウム（K2CO3;30.0g;0.20mol）をブ
タノン（200m）に加えた攪拌還流混合物に１−ブロモ
デカン（11.05g;0.050mol）のブタノン溶液（50m）を
滴下し加えた。攪拌混合物を還流下に24時間加熱した。
K2CO3を濾別し、溶媒を除去した。残留物を重力カラム
クロマトグラフィー（シリカゲル／ジクロロメタン）に
よって精製して無色の油を得た。
収量:9.64g（100％） ステップ6.3 ３−デシルオキシ安息香酸の製造 メチル−３−デシルオキシベンゾエート（9.64g;0.03
3mol）及び水酸化ナトリウム（6.60g;0.165mol）をメタ
ノール（150m）及び水（15m）に溶解させた溶液を
還流下に２時間加熱した。次に、反応混合物が冷えてか
ら希塩酸（100m）を添加した。粗生成物を濾別し、水
で洗浄し、真空乾燥した。得られた物質を再結晶させて
無色の結晶を得た。
収量:7.60g（82％） ステップ6.4 トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−３−デシルオキシベンゾエートの製造 この化合物の製造方法はステップ3.3での方法と同じ
にした。
収量:4.83g（95％） 相転移温度（℃）:K 134.0 Ｉ 化合物7:トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘキサ
−４−デシルオキシ−２−エチル−６−メチルベンゾエ
ートの製造 ステップ7.1 １−デシルオキシ−３−エチル−５−メ
チルベンゼンの製造 実験手順を１−ブロモ−４−デシルオキシ−３−フル
オロベンゼンに関して述べたものと同じにして（ステッ
プ2.1参照）、淡いオレンジ色の油を得た。
量:3−エチル−５−メチルフェノール（5.0g;0.036mo
l）、１−ブロモデカン（11.05g;0.05mol）、K2CO3（3
0.0g;0.2mol） 収量:9.4g（94％） ステップ7.2 １−ブロモ−４−デシルオキシ−２−エ
チル−６−メチルベンゼンの製造 １−デシルオキシ−３−エチル−５−メチルベンゼン
（9.4g;0.034mol）をクロロホルム（200m）に溶解さ
せた攪拌還流溶液に臭素（5.44g;0.034mol）のクロロホ
ルム溶液（50m）を滴下し加えた。次に、反応混合物
を冷却し、水で洗浄し、脱水した（MgSO4）。溶媒を除
去し、残留物を重力カラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル／ジクロロメタン）によって精製して淡いオレンジ
色の油を得た。
収量:11.57g（96％） ステップ7.3 ４−デシルオキシ−２−エチル−６−メ
チル安息香酸の製造 実験手順をステップ2.2で合成した化合物の製造に関
して述べたものと同じにした。粗生成物を石油留分（40
〜60℃）から再結晶させて無色の固体を得た。
量:1−ブロモ−４−デシルオキシ−２−エチル−６−メ
チルベンゼン（11.57g;0.036mol）、ｎ−BuLi（3.6m;
10.0M;0.036mol）、THF（200m） 収量:4.32g（48％） ステップ7.4 トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−デシルオキシ−２−エチル−６−メチルベン
ゾエートの製造 実験手順を化合物２に関して述べたものと同じにした
（ステップ2.3参照）。
量:4−デシルオキシ−２−エチル−６−メチル安息香酸
（4.32g;0.0135mol）、塩化オキサリル（1.89g;0.015mo
l）、DMF（10滴）、ジクロロメタン（100m）、ヘキサ
ヒドロキシトリフェニレン（0.44g;0.00135mol）、ピリ
ジン（100m） 収量1.15g（40％） 相転移温度（℃）:K−ND 70.0 Ｉ 表１及び２に式Ｉの化合物の相転移温度を示すが、そ
の際表１の化合物のＺ１〜６はそれぞれ式IIIによって
表わされ、表２の化合物のＺ１〜６はそれぞれ式IVによ
って表わされ、またＫは結晶質、Ｄはカラム状相、NDは
ネマチックディスコチック相、ILは等方性液体を意味す
る。表３の化合物のＺ１〜６はそれぞれ式Ｖによって表
わされ、表４のＺ１〜６はそれぞれ式VIによって表わさ
れる。Ｋは結晶質を意味する。Ｄはカラム状相、NDはネ
マチックディスコチック相、hdは六方不規則格子（hexa
gonal disordered）、ILは等方性液体を意味する。
相転移温度は、括弧内に記したもの以外は全て顕微鏡
検査によって求めた。括弧に入れたデータは相転移温度
が示差走査熱量計を用いて求められたことを示す。
式Ｉの化合物を他の物質に添加して混合物を製造する
ことが可能である。第８図は、化合物 を下記化合物 と混合する場合の前者の化合物の重量％を転移温度に対
して示す相図である。
第９図は、化合物トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−
イルヘキサ−４−オクチルオキシベンゾエート及びトリ
フェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘキサ−４−オクチ
ルオキシ−3,5−ジメチルベンゾエートに関して転移温
度を重量％に対してプロットした二成分相図である。
第10図は、化合物トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−
イルヘキサ−４−オクチルオキシ−3,5−ジメチルベン
ゾエート及びトリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−ドデシルオキシ−3,5−ジメチルベンゾエー
トに関して転移温度を重量％に対してプロットした二成
分相図である。
第11図は、化合物トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−
イルヘキサ−４−オクチルオキシ−2,6−ジメチルベン
ゾエート及びトリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−ドデシルオキシ−2,6−ジメチルベンゾエー
トに関して転移温度を重量％に対してプロットした二成
分相図である。
第12図は、化合物トリフェニレン−2,3,6,7,10,11−
イルヘキサ−４−オクチルオキシ−3,5−ジメチルベン
ゾエート及びトリフェニレン−2,3,6,7,10,11−イルヘ
キサ−４−オクチルオキシ−2,6−ジメチルベンゾエー
トに関して転移温度を重量％に対してプロットした二成
分相図である。
本発明を具現する液晶材料及び装置への式Ｉの化合物
の使用の一例を、第13図を参照して以下に説明する。
液晶装置は、この例ではガラス製である２個の透明プ
レート１及び２から成る。プレート１及び２はその内側
面を、透明な導電電極３及び４によって被覆されてい
る。セルの内側面上には整列層５、６が、液晶材料を構
成する分子の配向がガラスプレート１及び２に対してほ
ぼ平行となり、または僅かな角度を成すように配置され
ている。ディスプレイの種類によっては、整列方向は直
交する。電極３及び４は行電極及び列電極として形成し
得、その場合各列と各行との交点がアドレス可能な素子
もしくはピクセルのxyマトリックスを構成する。例えば
ポリメチルメタクリレートから成るスペーサー７はガラ
スプレート１と２とを、例えば２μｍの適当な間隔で分
離する。液晶材料８はガラスプレート１と２との間に、
前記両プレート間の空隙を満たすことにより導入されて
いる。スペーサー７は、既存の技術を用いて真空下に接
着剤９で封止されている。セルの前面及び背面に偏光子
10及び11が配置されている。装置によっては偏光子は１
個しか、または全く必要でない。
装置は透過または反射モードで作動し得る。前者の場
合、装置を通過する、例えばタングステン電球からの光
が選択的に透過させられたり遮断されたりして所望の表
示を実現する。反射モードの場合は第二の偏光子11の背
後に、周囲光をセル及び２個の偏光子を通過するように
反射し返す鏡（12）が配置される。鏡を部分的に反射性
とすれば、装置を透過モードと反射モードとの両方で作
動させることができる。
別の例では、液晶材料層をガスに暴露してガスセンサ
ーを実現する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 69/92 Ｃ０７Ｃ 69/92 255/54 255/54 255/55 255/55 255/57 255/57 Ｃ０９Ｋ 19/32 Ｃ０９Ｋ 19/32 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ (72)発明者 ハード，マイケル イギリス国、ハル・エイチ・ユー・６・ ７・アール・エツクス、ユニバーシテ イ・オブ・ハル、スクール・オブ・ケミ ストリー（番地なし) (72)発明者 ビーテイー，デイビツド・リチヤード イギリス国、ハル・エイチ・ユー・６・ ７・アール・エツクス、ユニバーシテ イ・オブ・ハル、スクール・オブ・ケミ ストリー（番地なし) (72)発明者 ヒンドマーシユ，ポール イギリス国、ハル・エイチ・ユー・６・ ７・アール・エツクス、ユニバーシテ イ・オブ・ハル、スクール・オブ・ケミ ストリー（番地なし) (72)発明者 グレイ，ジヨージ・ウイリアム イギリス国、ドーセツト・ビー・エイ チ・16・１・エイチ・ケイ、プール、ウ エスト・キー・ロード、メルク・リミテ ツド（番地なし) (72)発明者 マクドネル，デイミアン・ジエラード イギリス国、ウスターシヤー・ダブリ ユ・アール・14・３・ピー・エス、マル バーン、セント・アンドリユーズ・ロー ド、デイー・アール・エイ・マルバーン （番地なし) (72)発明者 ジヨーンズ，ジヨン・クリフオード イギリス国、ウスターシヤー・アール・ ダブリユ・14・３・ピー・エス、マルバ ーン、セント・アンドリユーズ・ロー ド、デイー・アール・エイ・マルバーン （番地なし) (72)発明者 フイリツプス，テイモシー・ジヨナサン イギリス国、ウスターシヤー・ダブリ ユ・アール・14・３・ピー・エス、マル バーン、セント・アンドリユーズ・ロー ド、デイー・アール・エイ・マルバーン （番地なし) (56)参考文献 特開 昭56−90878（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式Ｉ 〔式中Ｚ１〜６はそれぞれ式II によって表わされ、その際Ｚ１〜６それぞれのＹは互い
    に独立にCOO、OCO、CH2O及びOCH2の中から選択され、ｍ
    はＺ１〜６それぞれに存在する置換基の数を規定し、か
    つ互いに独立に０〜５の中から選択され、Ｚ１〜６それ
    ぞれに存在する各置換基のＸは互いに独立にアルキル
    （直鎖、分枝鎖及びキラル）、アルコキシ（直鎖、分枝
    鎖またはキラル）、アルカノイル（直鎖、分枝鎖または
    キラル）、アルケニル（直鎖、分枝鎖またはキラル）、
    ハロゲン、ハロゲノアルキル（直鎖、分枝鎖またはキラ
    ル）及びCNの中から選択され、 ただしＺ１〜６のうちの少なくとも１個は少なくとも１
    個の置換基Ｘを有し、また 例外としてＺ１〜６それぞれのｍが１である場合はＺ
    １〜６それぞれのＹはCOOであり、かつＸはＺ１〜６そ
    れぞれのＹに対してパラ位に位置するｎ−アルキルまた
    はｎ−アルコキシであり、同様にＺ１〜６それぞれのｍ
    が５である場合はＺ１〜６それぞれのＹはCOOであり、
    かつＺ１〜６それぞれのＸは、Ｙに対してパラ位に位置
    するものにはｎ−アルコキシ、他の総ての置換基にはフ
    ッ素が選択される〕の2,3,6,7,10,11トリフェニレンデ
    ィスコチック化合物。
  2. 【請求項２】Ｚ１〜６それぞれとして同じ置換基が選択
    されることを特徴とする請求項１に記載のトリフェニレ
    ン。
  3. 【請求項３】Ｚ１〜６それぞれのＹとしてCOOが選択さ
    れることを特徴とする請求項１に記載のトリフェニレ
    ン。
  4. 【請求項４】Ｚ１〜６がそれぞれＹに対してパラ位に位
    置する置換基を有し、Ｚ１〜６それぞれのこの置換基は
    アルキル、アルコキシ、フッ素、塩素及びCNの中から選
    択されることを特徴とする請求項３に記載のトリフェニ
    レン。
  5. 【請求項５】Ｚ１〜６のうちの少なくとも１個が第二の
    置換基を有し、この第二の置換基はCH3、フッ素、塩素
    及びCF3の中から選択されることを特徴とする請求項４
    に記載のトリフェニレン。
  6. 【請求項６】Ｚ１〜６のうちの少なくとも１個が３個の
    置換基を有し、第二及び第三の置換基はCH3、フッ素、
    塩素及びCF3の中から選択され、第二及び第三の置換基
    はＹに対してオルト位及びメタ位に位置することを特徴
    とする請求項４に記載のトリフェニレン。
  7. 【請求項７】Ｚ１〜６のうちの少なくとも１個が３個の
    置換基を有し、第二及び第三の置換基はCH3、フッ素、
    塩素及びCF3の中から選択され、第二及び第三の置換基
    は共にＹに対してメタ位に位置することを特徴とする請
    求項４に記載のトリフェニレン。
  8. 【請求項８】少なくとも二つの化合物を含有し、そのう
    ち少なくとも一つの化合物が請求項１に記載のトリフェ
    ニレンである液晶混合物。
  9. 【請求項９】少なくとも二つの化合物を含有し、含有す
    る化合物が総て請求項１に記載のトリフェニレンである
    液晶混合物。
  10. 【請求項１０】請求項１に記載のトリフェニレンを組み
    込まれた液晶装置。
JP50143995A 1993-06-16 1993-06-16 液晶混合物中に用いるためのディスコチック化合物 Expired - Lifetime JP3398151B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/GB1993/001291 WO1994029263A1 (en) 1993-06-16 1993-06-16 Discotic compounds for use in liquid crystal mixtures

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08511512A JPH08511512A (ja) 1996-12-03
JP3398151B2 true JP3398151B2 (ja) 2003-04-21

Family

ID=10729173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50143995A Expired - Lifetime JP3398151B2 (ja) 1993-06-16 1993-06-16 液晶混合物中に用いるためのディスコチック化合物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5750050A (ja)
EP (1) EP0702668B1 (ja)
JP (1) JP3398151B2 (ja)
KR (1) KR960703105A (ja)
DE (1) DE69320655T2 (ja)
GB (1) GB2294046B (ja)
WO (1) WO1994029263A1 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2802719B2 (ja) * 1994-04-08 1998-09-24 富士写真フイルム株式会社 光学異方性シートおよびそれを用いた液晶表示素子
DE4429597A1 (de) * 1994-08-20 1996-02-22 Basf Ag Verwendung von in der kolumnar helicalen Phase vorliegenden niedermolekularen oder polymeren organischen Verbindungen mit flüssigkristallinen Eigenschaften
GB9509729D0 (en) * 1995-05-13 1995-07-05 Univ Leeds Electronic devices based on discotic liquid crystals
DE19543637A1 (de) * 1995-11-23 1997-05-28 Basf Ag Verwendung von in der plastisch-kolumnar diskotischen flüssigkristallinen Phase vorliegenden organischen Verbindungen zum Transport elektrischer Ladungen
GB9604525D0 (en) * 1996-03-02 1996-05-01 Univ Leeds Sensing device
GB9608774D0 (en) 1996-04-27 1996-07-03 Bloodhound Sensors Limited Apparatus and method for detecting fluids
US6485798B1 (en) 1999-03-16 2002-11-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical compensatory sheet comprising substrate and optically anisotropic layer
US6338808B1 (en) * 1999-03-31 2002-01-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Liquid crystal composition comprising liquid crystal molecules and alignment promoter
JP2001089681A (ja) * 1999-09-21 2001-04-03 Canon Inc ディスコチック液晶化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネセンス素子
JP5246633B2 (ja) 2006-08-30 2013-07-24 独立行政法人産業技術総合研究所 液晶性有機半導体材料およびこれを用いた有機半導体デバイス
EP1894984B1 (en) 2006-08-30 2011-04-20 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Liquid crystalline organic semiconductor material and organic semiconductor device using same
WO2010031047A2 (en) 2008-09-15 2010-03-18 Platypus Technologies, Llc Detection of vapor phase compounds by changes in physical properties of a liquid crystal
KR101255062B1 (ko) * 2010-12-13 2013-04-16 한국화학연구원 할로겐을 함유하는 트리페닐렌계 반응성 메조겐 화합물의 합성
PT106766B (pt) * 2013-02-06 2017-01-02 Inst Superior Tecnico Sensores óticos para deteção de boro baseados na utilização de 2,3,6,7,10,11-hexahidroxitrifenileno ou seus derivados
CN118085886A (zh) * 2022-11-22 2024-05-28 四川师范大学 一种三联苯并菲盘状液晶化合物的制备方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3068730D1 (en) * 1979-12-07 1984-08-30 Thomson Csf Mixture of disc-like liquid crystals, electrooptical device using such a mixture and method for the orientation of the molecules in the mixture
JPH0385521A (ja) * 1989-08-30 1991-04-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネル
JP2802719B2 (ja) * 1994-04-08 1998-09-24 富士写真フイルム株式会社 光学異方性シートおよびそれを用いた液晶表示素子

Also Published As

Publication number Publication date
GB2294046B (en) 1998-01-07
US5750050A (en) 1998-05-12
EP0702668A1 (en) 1996-03-27
KR960703105A (ko) 1996-06-19
WO1994029263A1 (en) 1994-12-22
GB2294046A (en) 1996-04-17
GB9525136D0 (en) 1996-02-21
DE69320655T2 (de) 1999-02-04
JPH08511512A (ja) 1996-12-03
EP0702668B1 (en) 1998-08-26
DE69320655D1 (de) 1998-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0702668B1 (en) Discotic compounds for use in liquid crystal mixtures
Bouchta et al. New TGBA series exhibiting a SC* SASA* N* phase sequence
Artal et al. Synthesis and mesogenic properties of novel board-like liquid crystalsBasis of a presentation given at Materials Discussion No. 4, 11–14 September 2001, Grasmere, UK.
Nguyen et al. Helical smectic A* phase (TGBa phase) in some tolan series
Tanaka et al. U-shaped oligomers with a molecular biaxiality stabilizing blue phases
JPH0840953A (ja) トリフルオロメチルベンゼン誘導体および液晶組成物
Long et al. Triptycene-containing bis (phenylethynyl) benzene nematic liquid crystals
JPH09504788A (ja) 液晶化合物
Hindmarsh et al. Lateral substitution in the peripheral moieties of triphenylen-2, 3, 6, 7, 10, 11-hexayl hexakis (4-alkoxybenzoate) s: dimethyl-substituted systems
Yoshizawa et al. Mesophasic helical structures with high twisting power in optically active 3-methyladipic acid bis esters
KR100436404B1 (ko) 신규 테르페닐 화합물
Bustamante et al. Synthesis and characterization of new liquid crystalline monomers for non-linear optics. X-ray study of re-entrant nematic behaviour with smectic-like fluctuations of C-type
Yao et al. Mesophase behaviour of new unconventional shaped azo diester having chloro/nitro derivatives with 1, 2, 4-trisubstituted benzene
Gray et al. Stable, low melting nematogens of positive dielectric anisotropy for display devices
JPH056535B2 (ja)
Destrade et al. New Series of Biforked Mesogens Derived from 3, 4-Dialkoxycinnamic Acid and 3-(3′ 4′-Dialkoxyphenyl) Propanoic Acid
JP2524341B2 (ja) 光学活性液晶化合物および組成物
Lacey et al. Preparation and evaluation of novel ferroelectric liquid crystalline cyclic siloxane tetramers
Okamoto et al. The effect of a long alkoxyl group on the mesomorphic properties of 4-(4-alkoxyphenoxycarbonyl) phenyl 3-alkoxy-4-cyanobenzoates
CN107253942B (zh) 侧向二氟亚甲基醚桥键双末端烷基环己基联苯衍生物及其制备方法与应用
JP2005516063A (ja) 液晶化合物
Arnim et al. Synthesis and phase behaviour of new carbazole containing liquid crystal side chain polysiloxanes
Weissflog et al. Novel Mesogenic Benzoic Acids with Large Branches I. Synthesis, Liquid Crystalline Properties and Crystal Structure Analyses of 3-(4-Subst.-benzyloxycarbonyl)-4-(4-n-octyloxybenzoyloxy) benzoic Acids
JP2645738B2 (ja) 液晶性化合物
JP2848471B2 (ja) 光学活性化合物およびそれを含む液晶組成物

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214

Year of fee payment: 6

S631 Written request for registration of reclamation of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214

Year of fee payment: 6

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S631 Written request for registration of reclamation of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631

S634 Written request for registration of reclamation of nationality

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313634

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100214

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100214

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110214

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120214

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130214

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140214

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term