JP3394620B2 - Probe assembly and inspection device - Google Patents

Probe assembly and inspection device

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JP3394620B2
JP3394620B2 JP00767195A JP767195A JP3394620B2 JP 3394620 B2 JP3394620 B2 JP 3394620B2 JP 00767195 A JP00767195 A JP 00767195A JP 767195 A JP767195 A JP 767195A JP 3394620 B2 JP3394620 B2 JP 3394620B2
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probe
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hole
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進 春日部
昇一郎 原田
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    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • G01R1/07307Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
    • G01R1/07314Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、複数の探針を位置決め
して配置した探針組立体およびそのために用いる位置決
め基板に関する。特に、半導体素子等の、多数で高密度
に配置された電極を有する測定対象物の電極と接続する
ための探針を多数有する探針組立体、および、この探針
組立体で用いられる位置決め基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe assembly in which a plurality of probes are positioned and arranged, and a positioning substrate used therefor. In particular, a probe assembly having a large number of probes for connecting to electrodes of a measuring object having a large number of electrodes arranged in high density such as a semiconductor element, and a positioning substrate used in the probe assembly Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体メモリ等の半導体素子で
は、図6(A)に示すように、ウエハ1の面上に多数の
LSI用の半導体素子(チップ)2が設けられ、切り離
して使用に供される。上記半導体素子2は、その内の1
個を図6(B)に拡大して示すように、その表面には、
その周囲に沿って多数の電極3が列設されている。
2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor element such as a semiconductor memory, a large number of semiconductor elements (chips) 2 for LSI are provided on the surface of a wafer 1 as shown in FIG. Be served. The semiconductor element 2 is one of the
As shown in the enlarged view of FIG. 6 (B), the surface has
A large number of electrodes 3 are arranged along the periphery thereof.

【0003】こうした半導体素子2を工業的に多数生産
し、その電気的性能を検査するには、図7および図8に
示すような構造の検査装置が用いられる。この検査装置
は、プローブカード4と、これから斜めに出たタングス
テン針からなるプローブ5とで構成される。この検査装
置による検査では、プローブ5のたわみを利用した接触
圧により上記電極3をこすって接触をとり、その電気特
性を検査する方法が用いられている。
In order to industrially produce a large number of such semiconductor elements 2 and inspect their electrical performance, an inspection apparatus having a structure as shown in FIGS. 7 and 8 is used. This inspection device is composed of a probe card 4 and a probe 5 which is obliquely projected from the probe card and is made of a tungsten needle. In the inspection by this inspection device, a method of inspecting the electrical characteristics of the electrode 3 by rubbing the electrode 3 with the contact pressure utilizing the deflection of the probe 5 to make contact is used.

【0004】また、半導体素子の高密度化が進み、図9
に示すような、チップ状の半導体素子2が開発されてい
る。この半導体素子2は、チップ面に配置された複数の
電極のそれぞれの上に、はんだ接続に供するはんだバン
プ6を搭載したものである。このような半導体素子2に
ついての実装法として、図10に示すように、半導体素
子2を、配線基板7の表面の電極8に対向させ、上記は
んだバンプ6を介して接続する方法がある。この方法
は、高密度実装、歩留まりの高い一括接続に適すること
から、その応用が拡大している。
Further, as the density of semiconductor elements has increased, FIG.
A chip-shaped semiconductor element 2 as shown in FIG. This semiconductor element 2 has solder bumps 6 for solder connection mounted on each of a plurality of electrodes arranged on the chip surface. As a mounting method for such a semiconductor element 2, as shown in FIG. 10, there is a method in which the semiconductor element 2 is opposed to the electrode 8 on the surface of the wiring board 7 and is connected via the solder bumps 6. Since this method is suitable for high-density mounting and batch connection with high yield, its application is expanding.

【0005】上記のような半導体素子の高密度化、狭ピ
ッチ化がさらに進み、高速信号による動作試験が必要に
なると、上述した方法では対応が困難となる。そのよう
な場合の半導体素子の特性検査を可能とする検査方法お
よび検査装置として、図11に示すような構造の技術が
ある(特開昭64−71141号公報)この技術は、ス
プリングプローブ10を用いるものである。このスプリ
ングプローブ10は、互いに反対方向に突出するように
バネ10aで付勢された2本のプランジャ10bおよび
10cを、チューブ10dに出没自在に嵌め込んだ形状
のスプリングプローブ10を用いるものである。すなわ
ち、スプリングプローブ10を挿入して固定するための
スルーホールを有する上下一組の位置決め基板11およ
び12を中間板13を挟んで固定し、該スルーホールに
スプリングプローブ10を挿入して構成される。この検
査装置は、スプリングプローブ10の一端側のプランジ
ャ10bを、検査対象物の電極(図示せず)に当接さ
せ、他端側のプランジャ10cを、測定回路側の基板1
4に設けられた電極端子15に当接させることにより、
検査を行う。
If the semiconductor elements as described above are further increased in density and narrowed in pitch and an operation test by a high-speed signal is required, it becomes difficult to cope with the above-mentioned method. As an inspection method and an inspection apparatus capable of inspecting the characteristics of a semiconductor device in such a case, there is a technique having a structure as shown in FIG. 11 (Japanese Patent Laid-Open No. 64-71141). It is used. This spring probe 10 uses a spring probe 10 having a shape in which two plungers 10b and 10c biased by springs 10a so as to project in mutually opposite directions are fitted in a tube 10d so as to be retractable. That is, a pair of upper and lower positioning substrates 11 and 12 having through holes for inserting and fixing the spring probe 10 are fixed by sandwiching the intermediate plate 13, and the spring probe 10 is inserted into the through hole. . In this inspection apparatus, a plunger 10b on one end side of a spring probe 10 is brought into contact with an electrode (not shown) of an object to be inspected, and a plunger 10c on the other end side is connected to a substrate 1 on a measurement circuit side.
By abutting on the electrode terminal 15 provided at 4,
Perform an inspection.

【0006】上記位置決め基板11および12として
は、プローブを挿入して固定するためのスルーホール
を、ドリルにより孔あけ加工した、マシナブルセラミッ
クスあるいはポリイミドあるいはアクリルなどの絶縁性
基板が用いられている。また、孔あけ加工方法として、
感光性ガラスをエッチング用マスクを用いて紫外線で感
光した部分を結晶化させ、結晶化した部分を酸で溶解除
去することにより、孔あけ加工する方法がある。
As the positioning substrates 11 and 12, there are used machinable ceramics or polyimide or acrylic insulating substrates in which through holes for inserting and fixing probes are drilled. Also, as a drilling method,
There is a method in which a hole is processed by crystallizing a portion of photosensitive glass exposed to ultraviolet rays using an etching mask and dissolving and removing the crystallized portion with an acid.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】近年、半導体素子の高
密度化に伴って、検査用のプローブの高密度多ピン化が
進んでいる。そのため、半導体素子の検査装置のプロー
ブを挿入して固定あるいは位置決めするための低コスト
な孔あけ位置決め基板が望まれている。そこで、このよ
うな観点から、上記従来の孔あけ加工技術について検討
する。
In recent years, as the density of semiconductor devices has increased, the number of high density pins for inspection probes has increased. Therefore, there is a demand for a low-cost perforation positioning board for inserting and fixing or positioning a probe of a semiconductor device inspection apparatus. From this point of view, the conventional drilling technique will be examined.

【0008】従来のドリルによる孔あけ加工方法では、
一孔づつ孔あけ加工するため、多数個になると、それだ
け加工時間が必要になる。特に、孔径が0.3mm以下
の微細な孔あけ加工では、削りくずの排除のため、一孔
の孔あけ加工中に何回もドリルを上げ下げする必要があ
る。また、ドリルの刃先が摩耗するため、頻繁にドリル
の交換が必要となる。特に、孔あけ数が多いと、それに
伴う段取り時間が増加する。そのため、加工に要する時
間が全体として増加する。これらの工程は、加工費にそ
のまま反映されて、多ピン用のドリル孔あけ基板は高価
となっている。
In the conventional drilling method using a drill,
Since the holes are drilled one by one, the processing time becomes longer when the number of holes increases. In particular, in fine drilling with a hole diameter of 0.3 mm or less, it is necessary to raise and lower the drill many times during the drilling of one hole in order to remove shavings. Further, since the cutting edge of the drill is worn, it is necessary to replace the drill frequently. In particular, when the number of drilled holes is large, the setup time associated therewith increases. Therefore, the time required for processing increases as a whole. These steps are directly reflected in the processing cost, and the drilling board for multiple pins is expensive.

【0009】一方、従来のエッチングによる孔あけ加工
方法では、孔径がエッチング用のマスク面から離れるに
従って大きくなるため、孔径の精度が悪くなる。そのた
め、感光性ガラスの厚さが0.5mm程度以下でない
と、数μm以下の誤差に押えることが困難である。とこ
ろが、薄い感光性ガラスは、強度が低い。そのため、割
れやすいという問題がある。
On the other hand, in the conventional method of forming a hole by etching, the hole diameter increases as the distance from the mask surface for etching increases, so the accuracy of the hole diameter deteriorates. Therefore, unless the thickness of the photosensitive glass is about 0.5 mm or less, it is difficult to suppress an error of several μm or less. However, the thin photosensitive glass has low strength. Therefore, there is a problem that it is easily broken.

【0010】本発明の第1の目的は、孔径精度につい
て、高精度な基板構造を有するスルーホールを有する位
置決め基板を提供することにある。
It is a first object of the present invention to provide a positioning board having through holes having a board structure with high accuracy in hole diameter accuracy.

【0011】本発明の第2の目的は、基板強度につい
て、強度を向上させた基板構造を有するスルーホールを
有する位置決め基板を提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a positioning board having a through hole having a board structure with improved board strength.

【0012】本発明の第3の目的は、高密度かつ多ピン
で、孔あけ加工精度および基板強度が良好なスルーホー
ルを形成した位置決め基板を有する検査装置を提供する
ことにある。
A third object of the present invention is to provide an inspection apparatus having a positioning board having a high density, a large number of pins, and a through hole having good drilling accuracy and board strength.

【0013】上記第1および第2の目的を達成するた
め、本発明の第1の態様によれば、スルーホールを有す
る複数の位置決め基板と、前記スルーホールに挿通さ
れ、かつ被測定対象の電極と電気的に接続するための探
針とを有する探針組立体において、前記複数の位置決め
基板のうち少なくとも1つの位置決め基板は、一方の面
の開口径が他方の面の開口径より小さいスルーホールを
有する第1の基板と第2の基板を有し、前記第1の基板
と第2の基板は、対応するスルーホールの位置を合わせ
て、かつ、開口径が大きい面が対向する向きに配置され
ていることを特徴とする探針組立体が提供される。
In order to achieve the above first and second objects, according to the first aspect of the present invention, a through hole is provided.
Insert a plurality of positioning boards into the through holes.
And a probe for electrically connecting to the electrode to be measured.
A probe assembly having a plurality of needles,
At least one positioning board of the boards has one surface
Through holes whose opening diameter is smaller than that of the other surface
Having a first substrate and a second substrate having the first substrate
And the second board, align the corresponding through holes
And the surfaces with large apertures are placed in opposite directions.
A probe assembly is provided.

【0014】[0014]

【0015】第1および第2の基板のスルーホールは、
それぞれエッチングにより形成されたものとすることが
できる。また、上記スルーホールを有する位置決め基板
は、感光性ガラスを用いることができる。さらに、第1
の基板および第2の基板は、融着により固着されたもの
であることができる。
The through holes of the first and second substrates are
Each may be formed by etching. Further, photosensitive glass can be used for the positioning substrate having the through holes. Furthermore, the first
The substrate and the second substrate can be fixed by fusion.

【0016】また、上記融着された第1および第2の基
板の全表面を、絶縁膜により被覆することができる。
The entire surfaces of the fused first and second substrates can be covered with an insulating film.

【0017】さらに、第1の基板および第2の基板の間
に、それらの基板のスルーホールの位置に対応すると共
に、それらの大きな開口径より大きな内径を持つスルー
ホールを有する第3の基板を配置して、それらを互いに
固着させて構成することができる。
Further, between the first substrate and the second substrate, there is provided a third substrate having a through hole corresponding to the positions of the through holes of those substrates and having an inner diameter larger than their large opening diameter. They can be arranged and fixedly attached to each other.

【0018】本発明の第3の目的を達成するため、さら
に他の形態によれば、多数の電極が配置された検査対象
の各電極に接触して、電気信号を授受して検査を行う検
査装置において、検査対象物を支持する試料支持系と、
前記試料支持系で支持される検査対象物と対向するよう
に配置される探針組立体と、 前記試料支持系の検査対象
の変位駆動を制御する駆動制御系と、前記探針組立体と
接続されて検査を行うテスタとを有することを特徴とす
る検査装置が提供される。 前記探針組立体は、スルーホ
ールを有する複数の位置決め基板と、前記スルーホール
に挿通され、かつ被測定対象の電極と電気的に接続する
ための探針とを有する探針組立体において、前記複数の
位置決め基板のうち少なくとも1つの位置決め基板は、
一方の面の開口径が他方の面の開口径より小さいスルー
ホールを有する第1の基板と第2の基板を有し、前記第
1の基板と第2の基板は、対応するスルーホールの位置
を合わせて、かつ、開口径が大きい面が対向する向きに
配置されている探針組立体である。
In order to achieve the third object of the present invention, according to still another embodiment, an inspection in which each electrode of the inspection object in which a large number of electrodes are arranged is contacted to transmit and receive an electric signal to perform the inspection. In the device, a sample support system for supporting the inspection object,
And Saguharigumi stereoscopic arranged to test object facing supported by the sample support system, a drive control system for controlling the displacement drive of the inspection target of the sample support system, said probe assembly
And a tester connected to perform inspection.
An inspection device is provided. The probe assembly is a through-hole.
Positioning board having a module and the through hole
And is electrically connected to the electrode to be measured.
And a probe assembly for
At least one of the positioning boards is
Through with the opening diameter of one surface smaller than the opening diameter of the other surface
A first substrate having a hole and a second substrate,
The positions of the corresponding through holes on the first and second boards
And in the direction in which the faces with large apertures face each other.
The probe assembly is arranged.

【0019】上記探針としては、例えば、スプリングプ
ローブ、線材からなるプローブを用いることができる。
As the probe, for example, a spring probe or a probe made of a wire can be used.

【0020】[0020]

【作用】上記の構成によれば、エッチングによりスルー
ホールを形成した感光性ガラス基板を重ね合わせ、熱処
理することにより、基板を結晶化して基板強度を上げる
と共に、融着して一体化した厚い基板を形成することが
でき、強度を大幅に向上させることができる。また、該
スルーホールの加工精度の良い面を外側にして、エッチ
ングした基板を重ね合わせ、熱処理することにより融着
することにより、該スルーホールにプローブあるいは線
材を挿入時に、精度の良好なスルーホールの内壁で、少
なくとも2箇所で保持されることにより、該スルーホー
ルの精度が、実使用状態で向上した状態で使用すること
ができる。
According to the above structure, by stacking the photosensitive glass substrates having the through holes formed by etching and heat-treating the substrates, the substrates are crystallized to increase the strength of the substrates, and the thick substrates are fused and integrated. Can be formed, and the strength can be significantly improved. In addition, when the probe or the wire is inserted into the through hole, the through hole having a good processing accuracy is superposed and the etched substrates are stacked and heat-bonded to each other so that the through hole has a good accuracy. Since the inner wall of the through hole is held at at least two places, the through hole can be used in a state where the accuracy of the through hole is improved.

【0021】また、上記スルーホールを有する位置決め
基板の全表面を絶縁膜により被覆することにより、スル
ーホールに挿入したプローブによる摩耗粉を防止したス
ルーホールを有する位置決め基板を提供することができ
る。
Further, by covering the entire surface of the positioning substrate having the through hole with an insulating film, it is possible to provide the positioning substrate having the through hole in which abrasion powder due to the probe inserted into the through hole is prevented.

【0022】また、上記のスルーホールを有する位置決
め基板を有する半導体検査装置を構成することにより、
多ピンの半導体素子に対しても、低コストな半導体検査
装置を提供することができる。
Further, by configuring the semiconductor inspection device having the positioning substrate having the above-mentioned through hole,
A low-cost semiconductor inspection device can be provided even for a multi-pin semiconductor element.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0024】図1は、本発明に係る、探針位置決め基板
を使用した探針組立体の第1の実施例を示す。これら図
は、要部を示す断面図である。
FIG. 1 shows a first embodiment of a probe assembly using a probe positioning substrate according to the present invention. These figures are cross-sectional views showing the main part.

【0025】図1において、本実施例の探針組立体は、
複数本のスプリングプローブ10と、各スプリングプロ
ーブ10の位置を決める位置決め構造体C1とで構成さ
れる。図1では、4本のスプリングプローブ10が示さ
れているが、これは、図示および説明の便宜のためであ
って、実際には、さらに、多数のプローブが配置され
る。プローブの配置は、通常、二次元的である。従っ
て、図1では、多数のプローブの配列のある1列のみが
示されている。これは、以下の他の実施例についても同
様である。
In FIG. 1, the probe assembly of this embodiment is
It is composed of a plurality of spring probes 10 and a positioning structure C1 that determines the position of each spring probe 10. In FIG. 1, four spring probes 10 are shown, but this is for convenience of illustration and description, and in fact, a larger number of probes are arranged. The arrangement of the probes is usually two-dimensional. Therefore, in FIG. 1, only one row with sequences of many probes is shown. This also applies to the other embodiments described below.

【0026】この探針組立体は、表面に多数の電極2a
が形成された、検査対象の半導体素子2と、検査を行な
う検査装置(図示せず)に接続するための配線基板50
との間に配置される。すなわち、各スプリングプローブ
10の一端を、それぞれ、対応する電極2aに対向する
ように配置する。また、各スプリングプローブ10の他
端を、配線基板50の電極52に対向するように配置す
る。なお、配線基板50は、絶縁基板51の一方の面に
電極52を配置すると共に、基板51内部に、配線53
を有する。
This probe assembly has a large number of electrodes 2a on its surface.
Wiring board 50 for connecting to the semiconductor element 2 to be inspected, on which the inspection is formed, and an inspection device (not shown) for performing the inspection.
It is placed between and. That is, one end of each spring probe 10 is arranged so as to face the corresponding electrode 2a. Further, the other end of each spring probe 10 is arranged so as to face the electrode 52 of the wiring board 50. In the wiring board 50, the electrodes 52 are arranged on one surface of the insulating substrate 51, and the wiring 53 is provided inside the board 51.
Have.

【0027】スプリングプローブ10は、2本のプラン
ジャ10bおよび10cと、これらのプランジャ10b
および10cの間に置かれるバネ10aと、これらを収
容するチューブ10dとを備える。プランジャ10bお
よび10cは、それぞれ先端が針状に尖らせてある。こ
れらのプランジャ10bおよび10cは、チューブ10
dの一端側と他端側とに、それぞれ出没自在に嵌め込ま
れている。プランジャ10bおよび10cは、バネ10
aにより、互いに反対方向に突出するよう付勢される。
チューブ10dには、各プランジャ10bおよび10c
が外に飛びださないように係止する突起10eが設けら
れている。2本のプランジャ10bおよび10cと、チ
ューブ10dと、バネ10aとは、導体で形成される。
これにより、プランジャ10bの先端からプランジャ1
0cの先端までの導通が確保される。
The spring probe 10 includes two plungers 10b and 10c and these plungers 10b.
And 10c, and a tube 10d for containing them. The tips of the plungers 10b and 10c are sharpened like needles. These plungers 10b and 10c are attached to the tube 10
It is fitted into and retracted from one end side and the other end side of d. Plungers 10b and 10c have spring 10
By a, they are urged to project in opposite directions.
The tube 10d includes the plungers 10b and 10c.
Is provided with a protrusion 10e that locks so as not to jump out. The two plungers 10b and 10c, the tube 10d, and the spring 10a are made of a conductor.
Thereby, the plunger 1
Conduction up to the tip of 0c is secured.

【0028】位置決め構造体C1は、プランジャ10b
側に配置されて、このプランジャ10bの位置決めを行
なう位置決め基板11と、プランジャ10c側に配置さ
れて、このプランジャ10cの位置決めを行なう位置決
め基板12と、これらの間に配置されて、これらの位置
決め基板11および12を保持するための中間板13と
を有する。
The positioning structure C1 includes a plunger 10b.
A positioning board 11 for positioning the plunger 10b, a positioning board 12 for positioning the plunger 10c and a positioning board 12 for positioning the plunger 10c, and a positioning board 12 arranged between them. An intermediate plate 13 for holding 11 and 12.

【0029】位置決め基板11は、位置決めを行なうた
めの第1の基板11aおよび第2の基板11bと、これ
らの強度を補強する補強基板11cとで構成される。ま
た、位置決め基板12は、位置決めを行なうための第1
の基板12aおよび第2の基板12bで構成される。位
置決め基板11および12には、対応する位置に、使用
目的に合わせた各種の孔が形成される。各種の孔として
は、スプリングプローブ10を挿通するためのプローブ
用スルーホール22が形成される。また、位置決め基板
11および12には、それぞれ固定のためのボルト26
/ナット27を収容するための収容孔23a,23b,
23cおよび23dと、位置決めのためのノックピン2
5を挿通するための孔24a,24b,24cおよび2
4dとが設けられる。また、中間板13にも、ボルト2
6を挿通するための孔13bと、位置決めのためのノッ
クピン25を挿通するための孔13cとが設けられてい
る。さらに、中間板13には、上記複数のスルーホール
に挿通されるスプリングプローブ10を全体として挿通
できる大きな径の孔13aが設けられている。
The positioning board 11 is composed of a first board 11a and a second board 11b for positioning, and a reinforcing board 11c for reinforcing the strength of these boards. In addition, the positioning board 12 is a first positioning board for positioning.
The substrate 12a and the second substrate 12b. The positioning substrates 11 and 12 have various holes formed at corresponding positions according to the purpose of use. As various holes, probe through holes 22 for inserting the spring probes 10 are formed. Further, the positioning boards 11 and 12 have bolts 26 for fixing, respectively.
/ Accommodation holes 23a, 23b for accommodating the nut 27,
23c and 23d and a knock pin 2 for positioning
Holes 24a, 24b, 24c and 2 for inserting 5
4d are provided. In addition, the bolt 2
A hole 13b for inserting 6 and a hole 13c for inserting a knock pin 25 for positioning are provided. Further, the intermediate plate 13 is provided with a large-diameter hole 13a through which the spring probe 10 inserted into the plurality of through holes can be inserted as a whole.

【0030】第1の基板11aおよび第2の基板11b
は、感光性ガラスにより構成される。すなわち、感光性
ガラスについて、エッチング用マスクを用いて紫外線で
感光した部分を結晶化させ、結晶化した部分を酸で溶解
除去することにより、使用目的に合わせた各種の孔が形
成される。これらの孔は、それぞれの基板11aおよび
11bにおいて、一方の面から他方の面に貫通してい
る。また、これらの孔は、一方の面の開口径が他方の面
の開口径より小さい形状、すなわち、断面台形状となっ
ている。
First substrate 11a and second substrate 11b
Is composed of photosensitive glass. That is, in the photosensitive glass, a portion exposed to ultraviolet rays is crystallized using an etching mask, and the crystallized portion is dissolved and removed with an acid, so that various holes are formed according to the purpose of use. These holes penetrate from one surface to the other surface of each of the substrates 11a and 11b. Further, these holes have a shape in which the opening diameter of one surface is smaller than the opening diameter of the other surface, that is, a trapezoidal cross section.

【0031】第1の基板11aおよび第2の基板11b
は、開口径が大きい開口が存在する面が対向する向きに
配置され、かつ、対応するスルーホール22の位置を合
わせて重ねあわせ、この状態で一体的に固着される。固
着は、これらの基板11a、11bを重ね合わせて密着
させて、加熱処理し、これらの基板11a、11bを融
着することにより行なう。本実施例では、強度を高める
ために、前記のようにして重ね合わせた位置決め基板1
1aおよび11bに、エッチングによる孔あけ加工した
補強基板11cをさらに重ね合わせて密着させ、これら
を融着する。これにより、補強された一体的な位置決め
基板11が形成される。なお、補強基板11cは、省略
することもできる。
First substrate 11a and second substrate 11b
Are arranged so that the surfaces having the openings having large opening diameters face each other, and the through holes 22 corresponding to each other are aligned and overlapped, and are integrally fixed in this state. The fixing is performed by superposing these substrates 11a and 11b on each other and closely adhering them to each other, followed by heat treatment, and fusing these substrates 11a and 11b. In this embodiment, in order to increase the strength, the positioning substrate 1 superposed as described above is used.
Reinforcing substrate 11c, which has been punched by etching, is further overlapped on 1a and 11b and brought into close contact therewith, and these are fused. As a result, the reinforced integrated positioning board 11 is formed. The reinforcing substrate 11c can be omitted.

【0032】なお、感光性ガラス基板としては、例え
ば、HOYA株式会社製の感光性ガラスPEG3を用い
ることができる。
As the photosensitive glass substrate, for example, photosensitive glass PEG3 manufactured by HOYA Co., Ltd. can be used.

【0033】位置決め基板12の第1の基板12aおよ
び第2の基板12bも、上記第1の基板11aおよび第
2の基板11bと同様に、感光性ガラスをエッチング用
マスクを用いて紫外線で感光した部分を結晶化させ、結
晶化した部分を酸で溶解除去することによりスルーホー
ル22を含む各種孔が形成される。そして、上記第1お
よび第2の基板11a、11bと同様に、スルーホール
22等の各種孔を形成した第1の基板12aおよび第2
の基板12bの2枚のガラス基板を、マスク面に接する
孔径の精度が良好なガラス基板面を互いに外側にして重
ね合わせて密着させ、加熱処理することにより融着し
て、一体の位置決め基板12を構成する。
As with the first substrate 11a and the second substrate 11b, the first substrate 12a and the second substrate 12b of the positioning substrate 12 are also exposed to ultraviolet light using a photosensitive glass using an etching mask. Various holes including the through holes 22 are formed by crystallizing the part and dissolving and removing the crystallized part with an acid. Then, similar to the first and second substrates 11a and 11b, the first substrate 12a and the second substrate 12a and the second substrate 12a having various holes such as the through holes 22 are formed.
The two glass substrates 12b of the substrate 12b are stacked and brought into close contact with each other with the glass substrate surfaces having good hole diameters in contact with the mask surface facing each other outside, and then heat-treated to be fused to form an integrated positioning substrate 12 Make up.

【0034】上記位置決め基板11には、加熱処理した
後、その表面にポリパラキシレンあるいはポリイミドな
どの耐摩耗性を向上させる被覆材21を被覆する。な
お、この被覆材21は、スルーホール22の内壁および
開口部に少なくとも設けられればよい。
After heat-treating the positioning substrate 11, the surface thereof is coated with a coating material 21 such as polyparaxylene or polyimide for improving wear resistance. The covering material 21 may be provided at least on the inner wall and the opening of the through hole 22.

【0035】位置決め構造体C1は、上記したように位
置決め基板11および12を、間に中間板13を挾んで
重ね、ノックピン25で位置決めする。この状態で、こ
れらをボルト26およびナット27で固定する。そし
て、組み立てられた位置決め構造体C1に、スプリング
プローブ10をそれぞれのスルーホール22に挿入する
ことにより、探針組立体が構成される。なお、位置決め
基板11、12および中間板13を重ねあわせる際に、
スプリングプローブ10の取付を併せて行なうようにし
てもよい。
In the positioning structure C1, as described above, the positioning boards 11 and 12 are overlapped with the intermediate plate 13 interposed therebetween, and the knocking pins 25 are used for positioning. In this state, these are fixed with bolts 26 and nuts 27. Then, the spring probe 10 is inserted into each of the through holes 22 in the assembled positioning structure C1 to form a probe assembly. When the positioning boards 11 and 12 and the intermediate plate 13 are stacked,
The spring probe 10 may be attached together.

【0036】この位置決め構造体C1は、検査対象の電
極の大きさ、電極の配置密度等に応じて適宜の大きさと
することができる。ここで、大きさの一例について示
す。位置決め基板11の、第1および第2の基板11
a,11bの厚さは各々約0.5mm、補強基板11c
の厚さは約1mm、位置決め基板12の第1および第2
の基板の厚さは各々約1mmである。また、中間板13
は、適宜の厚さとすることができるが、上記の例では、
約5mmとしてある。また、位置決め基板11の第1の
基板11aおよび第2の基板11bの小さい開口径は、
約0.16mm、大きい開口径は、約0.18mmであ
る。一方、位置決め基板12の第1の基板12aおよび
第2の基板12bの小さい開口径は、約0.21mm、
大きい開口径は、約0.24mmである。さらに、プラ
ンジャ10bの外径は、約0.14mm、チューブ10
dの外径は、約0.2mmである。
The positioning structure C1 can be appropriately sized according to the size of electrodes to be inspected, the arrangement density of electrodes, and the like. Here, an example of the size will be described. First and second substrates 11 of the positioning substrate 11
The thickness of each of a and 11b is about 0.5 mm, the reinforcing substrate 11c
Has a thickness of about 1 mm, and the first and second positioning substrates 12
Each of the substrates has a thickness of about 1 mm. In addition, the intermediate plate 13
Can have an appropriate thickness, but in the above example,
It is about 5 mm. Further, the small opening diameters of the first substrate 11a and the second substrate 11b of the positioning substrate 11 are
The large opening diameter is about 0.16 mm, which is about 0.18 mm. On the other hand, the small opening diameter of the first substrate 12a and the second substrate 12b of the positioning substrate 12 is about 0.21 mm,
The large opening diameter is about 0.24 mm. Further, the outer diameter of the plunger 10b is about 0.14 mm, and the tube 10
The outer diameter of d is about 0.2 mm.

【0037】このようにして組み立てられた探針組立体
において、図1に示すように、スプリングプローブ10
のチューブ10dが、位置決め基板11の補強基板11
c、中間板13の孔13a、位置決め基板12の第1の
基板12aおよび第2の基板12bの孔に挿通されてい
る。一方、プランジャ10bは、位置決め基板11の第
1の基板11aおよび第2の基板11bのスルーホール
22に、チューブ10dに覆われずに直接挿通されてい
る。
In the probe assembly thus assembled, as shown in FIG. 1, the spring probe 10
The tube 10d is the reinforcing substrate 11 of the positioning substrate 11.
c, the hole 13a of the intermediate plate 13, the holes of the first substrate 12a and the second substrate 12b of the positioning substrate 12 are inserted. On the other hand, the plunger 10b is directly inserted into the through holes 22 of the first substrate 11a and the second substrate 11b of the positioning substrate 11 without being covered with the tube 10d.

【0038】この探針組立体により、半導体素子の検査
を行なう際には、検査対象の半導体素子2の上方に、探
針組立体を位置させ、かつ、検査装置(図示せず)と接
続するための配線基板50の電極52に、プランジャ1
0cをそれぞれ対応させて接触させる。一方、各プラン
ジャ10bを対応する電極2aに接触させる。そして、
配線基板50と半導体素子2との間隔を狭くする。この
結果、バネ10aによりプランジャ10bおよび10c
が押圧されて、それぞれの先端が電極に圧接する。これ
により、電極表面を覆っている酸化膜が突き破られて、
酸化膜による接触抵抗の影響が除かれて、良好な電気的
接続が確保できる。この状態で、配線基板50の配線5
3を介して、各スプリングプローブ10と、図示してい
ない検査装置とを接続して、検査を行なう。
When a semiconductor element is inspected by this probe assembly, the probe assembly is positioned above the semiconductor element 2 to be inspected and connected to an inspection device (not shown). To the electrode 52 of the wiring board 50 for
0c are made to correspond to each other and brought into contact. On the other hand, each plunger 10b is brought into contact with the corresponding electrode 2a. And
The distance between the wiring board 50 and the semiconductor element 2 is narrowed. As a result, the spring 10a causes the plungers 10b and 10c to
Are pressed so that their tips are pressed against the electrodes. This breaks through the oxide film that covers the electrode surface,
The effect of contact resistance due to the oxide film is eliminated, and good electrical connection can be secured. In this state, the wiring 5 of the wiring board 50
Each spring probe 10 and an inspection device (not shown) are connected via 3 to perform an inspection.

【0039】この際、プランジャ10bは、位置決め基
板11の第1の基板11aおよび第2の基板11bの小
さい開口径を持つ開口でプランジャ10bの軸方向と直
交する平面上での変位が規制される。ところで、第1の
基板11aおよび第2の基板11bの小さい開口径を持
つ開口は、マスクに最も近い部分であるので、正確にエ
ッチングされ、マスクの寸法に対する誤差が小さい。従
って、この部分によりプランジャ10bの変位が小さな
誤差の範囲に押えられる。また、第1の基板11aおよ
び第2の基板11bの小さい開口径を持つ開口は、互い
に遠ざかるように外側に位置しているので、プランジャ
10bが、軸方向の2点で規制される。このため、1点
で規制する場合に比べ、プランジャ10bの先端の位置
ずれが小さくなり、精度が高くなる。
At this time, the displacement of the plunger 10b on the plane orthogonal to the axial direction of the plunger 10b is restricted by the openings having the small opening diameters of the first substrate 11a and the second substrate 11b of the positioning substrate 11. . By the way, the opening having the small opening diameter of the first substrate 11a and the second substrate 11b is the portion closest to the mask, and therefore is accurately etched, and the error with respect to the dimension of the mask is small. Therefore, the displacement of the plunger 10b is suppressed to a small error range by this portion. Further, since the openings having the small opening diameters of the first substrate 11a and the second substrate 11b are located outside so as to be distant from each other, the plunger 10b is regulated at two points in the axial direction. Therefore, the displacement of the tip of the plunger 10b is smaller and the accuracy is higher than in the case of regulating at one point.

【0040】また、プランジャ10bを規制している部
分は、被覆材21に覆われているので、プランジャ10
bとスルーホール22の一部とが接触しても、プランジ
ャ10bあるいは、位置決め基板11の材料が削られて
材料粉が生ずることを防止できる。
Further, since the part that regulates the plunger 10b is covered with the covering material 21, the plunger 10b
Even if b and a part of the through hole 22 come into contact with each other, it is possible to prevent the material of the plunger 10b or the positioning substrate 11 from being scraped to generate material powder.

【0041】なお、図1では、スルーホールを有する位
置決め基板11および12は、エッチングしたガラス基
板を、2枚あるいは3枚重ね合わせて熱処理して形成さ
れている。しかし、位置決め基板は、任意の枚数のガラ
ス板を重ね合わせて構成してもよい。また、基板の組合
せの際の向きも適宜設定することができる。図12に、
それらの例を示す。
In FIG. 1, the positioning substrates 11 and 12 having through holes are formed by heat-treating two or three etched glass substrates one on top of the other. However, the positioning substrate may be formed by stacking an arbitrary number of glass plates. Further, the orientation when the substrates are combined can be set appropriately. In FIG.
Examples of these are shown below.

【0042】図12(a)は、4枚のガラス基板11
a、11d、11e、11bを重ねあわせた例である。
この例では、11aおよび11bについて、それぞれの
スルーホール22の開口径が小さい面が外側となるよう
に配置している。
FIG. 12A shows four glass substrates 11
This is an example in which a, 11d, 11e, and 11b are overlapped.
In this example, 11a and 11b are arranged so that the surface of each through hole 22 having the smaller opening diameter is on the outside.

【0043】図12(b)は、3枚のガラス基板11
a、11d、11bを重ねあわせた例である。この例で
は、11aおよび11bについて、それぞれのスルーホ
ール22の開口径が小さい面が外側となるように配置し
ている。そして、それらの間には、孔計の大きいガラス
板11dを挟んでいる。
FIG. 12B shows three glass substrates 11
This is an example in which a, 11d, and 11b are overlapped. In this example, 11a and 11b are arranged so that the surface of each through hole 22 having the smaller opening diameter is on the outside. Then, a glass plate 11d having a large hole gauge is sandwiched between them.

【0044】図12(c)は、上記(a)に示した例の
位置決め基板の表面に被覆材21を設けた例である。同
様に、図12(d)は、上記(b)に示した例の位置決
め基板の表面に被覆材21を設けた例である。
FIG. 12C shows an example in which the coating material 21 is provided on the surface of the positioning substrate of the example shown in FIG. Similarly, FIG. 12D is an example in which the coating material 21 is provided on the surface of the positioning substrate of the example shown in FIG.

【0045】次に、本発明の探針組立体の第2実施例に
ついて説明する。本実施例は、スプリングプローブの形
態、および、それにともなって、固定基板の形態が、第
1実施例とは異なるものである。なお、第1実施例と同
様の部分については、同一の符号を付して、重複した説
明を省略する。
Next, a second embodiment of the probe assembly of the present invention will be described. The present embodiment differs from the first embodiment in the form of the spring probe and the form of the fixed substrate accordingly. The same parts as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and the duplicated description will be omitted.

【0046】図2は本発明の探針組立体の第2実施例の
要部を示す断面図である。本実施例の探針組立体は、複
数本のスプリングプローブ30と、各スプリングプロー
ブ30の位置を決める位置決め構造体C2とで構成され
る。この探針組立体は、上記第1実施例と同様に、表面
に多数の電極2aが形成された、検査対象の半導体素子
2と、検査を行なう検査装置(図示せず)に接続するた
めの配線基板50との間に配置される。
FIG. 2 is a sectional view showing the essential parts of a second embodiment of the probe assembly of the present invention. The probe assembly of this embodiment includes a plurality of spring probes 30 and a positioning structure C2 that determines the position of each spring probe 30. Similar to the first embodiment, this probe assembly is for connecting to a semiconductor element 2 to be inspected, which has a large number of electrodes 2a formed on its surface, and an inspection apparatus (not shown) for inspecting. It is arranged between the wiring board 50.

【0047】スプリングプローブ30は、2本のプラン
ジャ30bおよび30cと、これらのプランジャ30b
および30cの間に置かれるバネ30aと、これらを収
容するチューブ30dとを備える。プランジャ30bお
よび30cは、それらの先端が尖らせてある。これらの
プランジャ30bおよび30cは、チューブ30dの一
端側と他端側とに、それぞれ出没自在に嵌め込まれてい
る。プランジャ30bおよび30cは、バネ30aによ
り、互いに反対方向に突出するよう付勢される。チュー
ブ30dには、各プランジャ30bおよび30cが外に
飛びださないように係止する突起30e、30fが、フ
ランジ状に設けられている。また、このチューブ30d
の一端側には、チューブそれ自体を係止するのためのフ
ランジ30gが設けられている。2本のプランジャ30
bおよび30cと、チュ−ブ30dと、バネ30aと
は、導体で形成される。これにより、プランジャ30b
の先端からプランジャ30cの先端までの導通が確保さ
れる。
The spring probe 30 includes two plungers 30b and 30c and these plungers 30b.
And 30c, and a tube 30d for containing them. Plungers 30b and 30c have their tips sharpened. These plungers 30b and 30c are fitted in the tube 30d at one end side and the other end side so as to be retractable. The plungers 30b and 30c are biased by the spring 30a so as to project in opposite directions. The tube 30d is provided with protrusions 30e and 30f in a flange shape that lock the plungers 30b and 30c so as not to jump out. Also, this tube 30d
A flange 30g for locking the tube itself is provided on one end side of the. Two plungers 30
b and 30c, the tube 30d, and the spring 30a are made of a conductor. As a result, the plunger 30b
Conduction is secured from the tip of the to the tip of the plunger 30c.

【0048】位置決め構造体C2は、プランジャ30b
側に配置されて、このプランジャ30bの位置決めを行
なう位置決め基板31と、プランジャ30c側に配置さ
れて、このプランジャ30cの位置決めを行なう位置決
め基板32と、これらの間に配置されて、これらの位置
決め基板31および32を保持するための中間板13と
を有する。
The positioning structure C2 includes a plunger 30b.
A positioning board 31 for positioning the plunger 30b, a positioning board 32 for positioning the plunger 30c and a positioning board 32 for positioning the plunger 30c, and a positioning board 32 arranged between them. And an intermediate plate 13 for holding 31 and 32.

【0049】位置決め基板31は、位置決めを行なうた
めの第1の基板31aおよび第2の基板31bとで構成
される。また、位置決め基板32は、位置決めを行なう
ための第1の基板32aおよび第2の基板32bで構成
される。この位置決め基板31および32には、対応す
る位置に、使用目的に合わせた各種の孔が形成される。
各種の孔としては、スプリングプローブ30を挿通する
ためのプローブ用スルーホール22が形成される。ま
た、位置決め基板31および32には、それぞれ固定の
ためのボルト26/ナット27を収容するための収容孔
33a,33b,23cおよび23dが設けられる。ま
た、図示していないが、図1に示す位置決めのためのノ
ックピン25と同様のピンを挿通するための孔(図示せ
ず)が設けられる。また、中間板13にも、ボルト26
を挿通するための孔13bと、位置決めのためのノック
ピンを挿通するための孔(図示せず)とが設けられてい
る。さらに、中間板13には、上記複数のスルーホール
に挿通されるスプリングプローブ30を全体として挿通
できる大きな径の孔13aが設けられている。
The positioning board 31 is composed of a first board 31a and a second board 31b for positioning. The positioning board 32 is composed of a first board 32a and a second board 32b for performing positioning. The positioning boards 31 and 32 are formed with various holes at corresponding positions according to the purpose of use.
As various holes, a probe through hole 22 for inserting the spring probe 30 is formed. Further, the positioning boards 31 and 32 are provided with accommodation holes 33a, 33b, 23c and 23d for accommodating the bolts 26 / nuts 27 for fixing, respectively. Although not shown, a hole (not shown) for inserting a pin similar to the knock pin 25 for positioning shown in FIG. 1 is provided. In addition, the bolt 26
A hole 13b for inserting a pin and a hole (not shown) for inserting a knock pin for positioning are provided. Further, the intermediate plate 13 is provided with a large diameter hole 13a through which the spring probe 30 inserted into the plurality of through holes can be inserted as a whole.

【0050】第1の基板31aおよび第2の基板31b
は、上記第1実施例の位置決め基板12と同様に、感光
性ガラスを用いて、各種孔が同様の工程により形成され
る。これらの孔は、一方の面の開口径が他方の面の開口
径より小さい形状、すなわち、断面台形状となってい
る。なお、感光性ガラス基板としては、例えば、HOY
A株式会社製の感光性ガラスPEG3を用いることがで
きる。
First substrate 31a and second substrate 31b
In the same manner as the positioning substrate 12 of the first embodiment, various holes are formed by using the photosensitive glass in the same process. These holes have a shape in which the opening diameter of one surface is smaller than the opening diameter of the other surface, that is, a trapezoidal cross section. As the photosensitive glass substrate, for example, HOY
Photosensitive glass PEG3 manufactured by A Co. can be used.

【0051】第1の基板31aおよび第2の基板31b
は、開口径が大きい開口が存在する面が対向する向きに
配置され、かつ、対応するスルーホールの位置を合わせ
て重ねあわせ、この状態で一体的に固着される。固着
は、これらの基板31a、31bを重ね合わせて密着さ
せて、加熱処理し、これらの基板31a、31bを融着
することにより行なう。なお、位置決め基板31に、第
1実施例で用いられた補強基板11cと同様の補強基板
を付加することもできる。
First substrate 31a and second substrate 31b
Are arranged so that the surfaces having the openings with large opening diameters face each other, and the corresponding through holes are aligned and superposed, and are integrally fixed in this state. The fixation is performed by superposing these substrates 31a and 31b on each other and closely adhering them to each other, followed by heat treatment to fuse the substrates 31a and 31b. A reinforcing board similar to the reinforcing board 11c used in the first embodiment may be added to the positioning board 31.

【0052】位置決め基板32の第1の基板32aおよ
び第2の基板32bも、上記第1の基板31aおよび第
2の基板31bと同様に、スルーホール22を含む各種
孔が形成される。そして、上記第1および第2の基板3
1a、31bと同様に、スルーホール22等の各種孔を
形成した第1の基板32aおよび32bの2枚のガラス
基板を、マスク面に接する孔径の精度が良好なガラス基
板面を互いに外側にして重ね合わせて密着させ、加熱処
理することにより融着して、一体の位置決め基板32を
構成する。
The first substrate 32a and the second substrate 32b of the positioning substrate 32 are also formed with various holes including the through holes 22 like the first substrate 31a and the second substrate 31b. Then, the first and second substrates 3 described above
Similar to 1a and 31b, two glass substrates, that is, first substrates 32a and 32b in which various holes such as through holes 22 are formed, are arranged such that the glass substrate surfaces having good hole diameter contact with the mask surface are outside each other. The positioning substrate 32 is integrated by stacking and closely adhering to each other and heat-bonding to form an integral positioning substrate 32.

【0053】なお、上記位置決め基板31、32には、
加熱処理した後、その表面にポリパラキシレンあるいは
ポリイミドなどの耐摩耗性を向上させる被覆材21を被
覆してもよい。
The positioning boards 31 and 32 include
After the heat treatment, the surface thereof may be coated with a coating material 21 such as polyparaxylene or polyimide for improving abrasion resistance.

【0054】位置決め構造体C2は、上記したように位
置決め基板31および32を、間に中間板13を挾んで
重ね、ノックピン(図示せず)で位置決めする。この状
態で、これらをボルト26およびナット27で固定す
る。そして、組み立てられた位置決め構造体C2に、ス
プリングプローブ30をそれぞれのスルーホール22に
挿入することにより、探針組立体が構成される。
In the positioning structure C2, as described above, the positioning boards 31 and 32 are stacked with the intermediate plate 13 interposed therebetween, and are positioned by a knock pin (not shown). In this state, these are fixed with bolts 26 and nuts 27. Then, the spring probe 30 is inserted into each of the through holes 22 in the assembled positioning structure C2 to form a probe assembly.

【0055】このようにして形成された探針組立体は、
スプリングプローブ30のプランジャ30bが、位置決
め基板31のスルーホール22内では、チューブ30d
に覆われている点が、前記第1実施例と異なる。そのた
め、本実施例では、プランジャ30bが、位置決め基板
31のスルーホール22内壁、特に、開口に接触するこ
となく、出没できる。
The probe assembly thus formed is
When the plunger 30b of the spring probe 30 is placed inside the through hole 22 of the positioning substrate 31, the tube 30d
It is different from the first embodiment in that it is covered with. Therefore, in this embodiment, the plunger 30b can be projected and retracted without coming into contact with the inner wall of the through hole 22 of the positioning substrate 31, especially the opening.

【0056】本実施例の探針組立体を用いた半導体素子
の検査は、上記第1実施例と同様にして行なうことがで
きる。従って、ここでは、説明を繰り返さない。
Inspection of a semiconductor device using the probe assembly of this embodiment can be carried out in the same manner as in the first embodiment. Therefore, the description will not be repeated here.

【0057】次に、本実施例の探針組立体の第3実施例
について、図面を参照して説明する。本実施例は、スプ
リングプローブではなく、導体からなる線材をプローブ
として用いている点に特徴がある。
Next, a third embodiment of the probe assembly of this embodiment will be described with reference to the drawings. The present embodiment is characterized in that a wire rod made of a conductor is used as a probe instead of a spring probe.

【0058】図3に、本発明に係る探針組立体の第3実
施例の要部を示す。図3において、本実施例の探針組立
体は、複数本のプローブ40と、各プローブ40の位置
を決める位置決め構造体C3と、上記プローブ40を固
定すると共に電気的に接続する配線基板60とで構成さ
れる。
FIG. 3 shows the essential parts of a third embodiment of the probe assembly according to the present invention. In FIG. 3, the probe assembly of the present embodiment includes a plurality of probes 40, a positioning structure C3 that determines the position of each probe 40, and a wiring board 60 that fixes and electrically connects the probes 40. Composed of.

【0059】プローブ40は、燐青銅等のバネ性のある
金属線で構成される。一端(先端40a)側は、尖らせ
てあり、他端(基端40b)側は、配線基板60に接続
されている。また、一端と他端とが、それぞれの延長線
が直交するように折り曲げられている。ただし、折り曲
げ部は、バネ性を持たせると共に、直交状態を保ちやす
くするため、U字状あるいはS字状に折り返すように曲
げてある。
The probe 40 is composed of a metal wire having a spring property such as phosphor bronze. One end (tip 40a) side is sharpened, and the other end (base end 40b) side is connected to the wiring board 60. Further, one end and the other end are bent so that their extension lines are orthogonal to each other. However, the bent portion is bent so as to have a spring property and is folded back in a U shape or an S shape in order to easily maintain the orthogonal state.

【0060】位置決め構造体C3は、プローブ40の先
端側に配置されて、このプローブ40の位置決めを行な
う位置決め基板41と、プローブ40の基端40b側に
配置されて、このプローブ40の位置決めを行なう位置
決め基板42と、これらの間に配置されて、これらの位
置決め基板41および42を保持するための中間板13
と、この中間板13上に置かれ、配線基板60を支持す
る基板14とを有する。
The positioning structure C3 is disposed on the tip end side of the probe 40 and the positioning substrate 41 for positioning the probe 40, and on the base end 40b side of the probe 40 for positioning the probe 40. Positioning boards 42 and an intermediate plate 13 arranged between them for holding these positioning boards 41 and 42.
And a substrate 14 placed on the intermediate plate 13 and supporting the wiring substrate 60.

【0061】位置決め基板41は、位置決めを行なうた
めの第1の基板41aおよび第2の基板41bと、これ
らの強度を補強する補強基板41cとで構成される。ま
た、位置決め基板42は、位置決めを行なうための第1
の基板42aおよび第2の基板42bで構成される。位
置決め基板41および42には、対応する位置に、使用
目的に合わせた各種の孔が形成される。各種の孔として
は、プローブ40を挿通するためのプローブ用スルーホ
ール22が形成される。また、位置決め基板41および
42には、それぞれ固定のためのボルト26/ナット2
7を収容するための収容孔23a,23b,23cおよ
び23dと、位置決めのためのノックピン(図示せず)
を挿通するための孔(図示せず)とが設けられる。ま
た、中間板13にも、ボルト26を挿通するための孔1
3bと、位置決めのためのノックピンを挿通するための
孔(図示せず)とが設けられている。さらに、中間板1
3には、上記複数のスルーホールに挿通されるプローブ
40を全体として挿通できる大きな径の孔13aが設け
られている。支持基板14には、位置決め基板42を収
容するための孔14aが設けられている。ただし、この
孔14aは、孔ではなく、二つの板の間隙であってもよ
い。すなわち、この場合には、支持基板14は、二つの
板で構成されることになる。
The positioning board 41 is composed of a first board 41a and a second board 41b for positioning, and a reinforcing board 41c for reinforcing the strength of these boards. Further, the positioning board 42 is a first board for positioning.
Substrate 42a and second substrate 42b. The positioning boards 41 and 42 have various holes formed at corresponding positions according to the purpose of use. As various holes, probe through holes 22 for inserting the probes 40 are formed. Further, the positioning boards 41 and 42 respectively have bolts 26 / nuts 2 for fixing.
Housing holes 23a, 23b, 23c and 23d for housing 7, and a knock pin (not shown) for positioning
And a hole (not shown) for inserting the through hole. Further, the intermediate plate 13 also has a hole 1 through which the bolt 26 is inserted.
3b and a hole (not shown) for inserting a knock pin for positioning are provided. Further, the intermediate plate 1
3 is provided with a hole 13a having a large diameter, through which the probe 40 inserted into the plurality of through holes can be inserted as a whole. The support substrate 14 is provided with a hole 14a for accommodating the positioning substrate 42. However, the hole 14a may be a gap between the two plates instead of the hole. That is, in this case, the support substrate 14 is composed of two plates.

【0062】位置決め基板41の構造および製作方法
は、第1実施例の位置決め基板11と同じであるので、
説明を省略する。
Since the structure and manufacturing method of the positioning board 41 are the same as those of the positioning board 11 of the first embodiment,
The description is omitted.

【0063】位置決め基板42の第1の基板42aおよ
び第2の基板42bは、表面が被覆材21で覆われてい
ることを除いて、第1実施例の位置決め基板12と同様
の構造を有する。また、位置決め基板12と同様にして
製作される。
The first substrate 42a and the second substrate 42b of the positioning substrate 42 have the same structure as the positioning substrate 12 of the first embodiment except that the surface thereof is covered with the coating material 21. Further, it is manufactured in the same manner as the positioning board 12.

【0064】上記位置決め基板41、42には、加熱処
理した後、その表面にポリパラキシレンあるいはポリイ
ミドなどの耐摩耗性を向上させる被覆材21が被覆され
る。なお、この被覆材21は、スルーホール22の内壁
および開口部に少なくとも設けられればよい。
After heating the positioning substrates 41, 42, the surfaces thereof are coated with a coating material 21 such as polyparaxylene or polyimide for improving the wear resistance. The covering material 21 may be provided at least on the inner wall and the opening of the through hole 22.

【0065】配線基板60は、第1の基板61と第2の
基板62の2層が配置されている。それぞれの基板6
1、62には、内部配線63と、各内部配線に一対一に
対応にする、複数の接続パッド64が配置されている。
接続パッド64には、上記プローブ40の基端40b
が、例えば、はんだ65により接続される。この接続に
より、各プローブ40は、配線基板60と電気的に接続
されると共に、機械的にも固定される。ただし、各プロ
ーブ40は、その折り曲げ部でのバネ性によって、先端
40aが軸方向変位可能である。
The wiring board 60 has two layers of a first board 61 and a second board 62. Each board 6
Internal wirings 63 and a plurality of connection pads 64 that correspond to the internal wirings in a one-to-one correspondence are arranged on the wirings 1 and 62.
The connection pad 64 has a base end 40 b of the probe 40.
Are connected by solder 65, for example. By this connection, each probe 40 is electrically connected to the wiring board 60 and mechanically fixed. However, the tip 40a of each probe 40 can be displaced in the axial direction due to the elasticity of the bent portion.

【0066】なお、本実施例では、配線基板60とし
て、2層の基板61、62が配置されているが、必要に
応じて、任意の複数層の基板を用いてもよい。
In this embodiment, as the wiring board 60, the two-layer boards 61 and 62 are arranged. However, if necessary, a plurality of layers of boards may be used.

【0067】なお、必要に応じて、前記位置決め基板4
1あるいは、位置決め基板42の一方を省略してもよ
い。ただし、位置決め基板41と位置決め基板42との
両者を設けることにより、プローブ40の、軸方向と垂
直な方向への変位を、より小さく抑えることができる。
If necessary, the positioning board 4
Alternatively, one of the positioning board 42 and the positioning board 42 may be omitted. However, by providing both the positioning board 41 and the positioning board 42, the displacement of the probe 40 in the direction perpendicular to the axial direction can be suppressed to a smaller extent.

【0068】この探針組立体による検査は、プローブ4
0の先端40aを、半導体素子2の電極2aに圧接させ
ることにより行なう。この際、プローブ40は、それぞ
れのバネ性により圧力を適宜吸収しながら、電極2aと
接触する。従って、すべてのプローブ40が確実に電極
2aに接触する。また、この際、プローブ40が軸方向
に変位するが、スルーホールの内壁、特に、開口と接触
しても、被覆材21により覆われているので、プローブ
40あるいは基板の表面が削られることを防止できる。
The inspection by this probe assembly is carried out by the probe 4
The tip 40a of 0 is brought into pressure contact with the electrode 2a of the semiconductor element 2. At this time, the probe 40 comes into contact with the electrode 2a while appropriately absorbing the pressure due to each spring property. Therefore, all the probes 40 surely contact the electrodes 2a. Further, at this time, the probe 40 is displaced in the axial direction, but even if it contacts the inner wall of the through hole, particularly the opening, it is covered with the coating material 21, so that the surface of the probe 40 or the substrate is scraped. It can be prevented.

【0069】第3実施例の探針組立体は、第1実施例お
よび第2実施例と比べて、プローブの構造が簡単である
ので、探針をより細くすることができる。例えば、0.
07mm程度の線径の線材を用いることができる。この
ような線型の探針を用いる場合には、位置決め基板41
のスルーホール22は、その開口径が、小さい径で、例
えば、0.1mm、大きい径で、例えば、0.12mm
程度とし、さらに、スルーホール22に被覆材21を被
覆して、例えば、開口径を0.08mm程度とする。従
って、電極が、より小さい面積で、かつ、高密度に配置
された半導体素子であっても、高い位置精度で接続する
ことが可能となる。しかも、プローブが安価に製造でき
る。
Since the probe assembly of the third embodiment has a simpler probe structure than the first and second embodiments, the probe can be made thinner. For example, 0.
A wire rod having a wire diameter of about 07 mm can be used. When such a linear probe is used, the positioning substrate 41
The through hole 22 has a small opening diameter, for example, 0.1 mm, and a large diameter, for example, 0.12 mm.
Further, the through hole 22 is covered with the covering material 21 to have an opening diameter of, for example, about 0.08 mm. Therefore, even if the electrodes are semiconductor elements having a smaller area and a high density, the electrodes can be connected with high positional accuracy. Moreover, the probe can be manufactured at low cost.

【0070】なお、本実施例の探針組立体について、図
13に示すように、プローブの折り曲げ部から基端側に
かけて、絶縁被覆67を設けるようにしてもよい。これ
によりプローブ相互の接触による短絡を防ぐことができ
る。絶縁被覆67としては、例えば、ポリイミド、ポリ
テトラフルオルエチレン等のチューブを被せるか、ポリ
パラキシレン、ポリイミド等を塗布することにより形成
することができる。
In the probe assembly of this embodiment, as shown in FIG. 13, an insulating coating 67 may be provided from the bent portion of the probe to the base end side. This can prevent a short circuit due to mutual contact of the probes. The insulating coating 67 can be formed, for example, by covering a tube of polyimide, polytetrafluoroethylene, or the like, or by coating polyparaxylene, polyimide, or the like.

【0071】次に、本発明の探針組立体を用いた検査装
置の一例について説明する。
Next, an example of an inspection apparatus using the probe assembly of the present invention will be described.

【0072】図4は、本発明の探針組立体を用いた一実
施例である検査装置の要部を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory view showing a main part of an inspection apparatus which is an embodiment using the probe assembly of the present invention.

【0073】本実施例において、検査装置は、半導体装
置の製造におけるウエハプローバとして構成されてい
る。この検査装置は、被検査物を支持する試料支持系1
20と、被検査物に接触して電気信号の授受を行なうプ
ローブ系100と、試料支持系120の動作を制御する
駆動制御系150と、検査を行なうテスタ170とで構
成される。なお、被検査物としては、半導体ウエハ1を
対象としている。この半導体ウエハ1の表面には、外部
接続電極としての複数の電極2aが形成されている。
In this embodiment, the inspection device is constructed as a wafer prober in the manufacture of semiconductor devices. This inspection apparatus includes a sample support system 1 that supports an object to be inspected.
20, a probe system 100 that contacts an object to be inspected to send and receive an electric signal, a drive control system 150 that controls the operation of the sample support system 120, and a tester 170 that inspects. The semiconductor wafer 1 is targeted as the inspection object. A plurality of electrodes 2a as external connection electrodes are formed on the surface of the semiconductor wafer 1.

【0074】試料支持系120は、半導体ウエハ1が着
脱自在に載置される、ほぼ水平に設けられた試料台12
2と、この試料台122を支持する垂直に配置される昇
降軸124と、この昇降軸124を昇降駆動する昇降駆
動部125と、この昇降駆動部125を支持するX−Y
ステージ126とで構成される。X−Yステージ126
は、筐体127の上に固定される。昇降駆動部125
は、例えば、ステッピングモータなどからなる。X−Y
ステージ126の水平面内における移動動作と、昇降駆
動部125による上下動などを組み合わせることによ
り、試料台122の水平および垂直方向における位置決
め動作が行われるものである。また、試料台122に
は、図示しない回動機構が設けられており、水平面内に
おける試料台122の回動変位が可能にされている。
The sample support system 120 includes a sample table 12 on which the semiconductor wafer 1 is removably mounted and which is provided substantially horizontally.
2, a vertically arranged lifting shaft 124 that supports the sample table 122, a lifting drive unit 125 that drives the lifting shaft 124 up and down, and an XY that supports the lifting drive unit 125.
And a stage 126. XY stage 126
Is fixed on the housing 127. Lifting drive unit 125
Is, for example, a stepping motor. XY
By combining the movement operation of the stage 126 in the horizontal plane and the vertical movement by the elevation drive unit 125, the positioning operation of the sample table 122 in the horizontal and vertical directions is performed. Further, the sample table 122 is provided with a rotation mechanism (not shown) so that the sample table 122 can be rotationally displaced in a horizontal plane.

【0075】試料台122の上方には、探針組立体C
と、配線基板101および102とを有するプローブ系
100が配置される。すなわち、当該試料台122に平
行に対向する姿勢で位置決め基板100aに挿入された
スプリングプローブ100bおよび配線基板101およ
び102が設けられる。各々のスプリングプローブ10
0bは、前記配線基板101の下部電極101aおよび
内部配線101bおよびポゴピン103および配線基板
102の内部配線102bとを通して、該配線基板10
2に設けられた接続端子102cに接続されている。な
お、本実施例では、接続端子102cは、同軸コネクタ
で構成される。この接続端子102cに接続されるケー
ブル171を介して、テスタ170と接続される。ここ
で用いられる探針組立体Cは、図1に示したスプリング
プローブを用いる構造の探針組立体C1であるが、これ
に限定されない。例えば、図2あるいは図3に示す構造
のものを用いることもできる。
A probe assembly C is provided above the sample table 122.
And the probe system 100 having the wiring boards 101 and 102 are arranged. That is, the spring probe 100b and the wiring boards 101 and 102 that are inserted into the positioning board 100a in a posture facing the sample table 122 in parallel are provided. Each spring probe 10
0b passes through the lower electrode 101a of the wiring board 101, the internal wiring 101b, the pogo pin 103 and the internal wiring 102b of the wiring board 102, and the wiring board 10b.
2 is connected to the connection terminal 102c provided on the second terminal. In this embodiment, the connection terminal 102c is composed of a coaxial connector. It is connected to the tester 170 via a cable 171 connected to the connection terminal 102c. The probe assembly C used here is the probe assembly C1 having a structure using the spring probe shown in FIG. 1, but is not limited to this. For example, the structure shown in FIG. 2 or 3 may be used.

【0076】駆動制御系150は、ケーブル172を介
してテスタ170と接続されている。また、駆動制御系
150は、試料支持系120の各駆動部のアクチュエー
タに制御信号を送って、その動作を制御する。すなわ
ち、駆動制御系150は、内部にコンピュータを備え、
ケーブル172を介して伝達されるテスタ170のテス
ト動作の進行情報に合わせて、試料支持系120の動作
を制御する。また、駆動制御系150は、操作部151
を備え、駆動制御に関する各種指示の入力の受付、例え
ば、手動操作の指示を受け付ける。
The drive control system 150 is connected to the tester 170 via a cable 172. Further, the drive control system 150 sends a control signal to the actuator of each drive unit of the sample support system 120 to control the operation thereof. That is, the drive control system 150 includes a computer inside,
The operation of the sample support system 120 is controlled according to the progress information of the test operation of the tester 170 transmitted via the cable 172. In addition, the drive control system 150 includes an operation unit 151.
And receives an input of various instructions regarding drive control, for example, an instruction of a manual operation.

【0077】以下、本実施例の検査装置の動作について
説明する。試料台122の上に、半導体ウエハ1を固定
し、X−Yステージ126および回動機構を用いて、該
半導体ウエハ1に形成された電極2aを、位置決め基板
100aに挿入されたスプリングプローブ100bの直
下に位置決めするため、調整する。その後、駆動制御系
150は、昇降駆動部125を作動させ、試料台122
を所定の高さまで上昇させることによって、複数のスプ
リングプローブ100bの各々の先端を目的の半導体素
子における複数の電極2aの各々に所定圧で接触させ
る。ここまでは、操作部151からの操作指示に従っ
て、駆動制御系150により実行される。なお、これら
の位置決め等の調整を自動的に行なうようにしてもよ
い。例えば、半導体ウェハ1に基準位置のマークを予め
付しておき、これを読み取り装置で読み取って、座標の
原点を設定するようにして、行なうことができる。この
場合、電極の位置は、予め設計データを受け取ることに
より、駆動制御部150において既知となる。
The operation of the inspection apparatus of this embodiment will be described below. The semiconductor wafer 1 is fixed on the sample table 122, and the electrode 2a formed on the semiconductor wafer 1 is fixed to the spring probe 100b inserted in the positioning substrate 100a by using the XY stage 126 and the rotating mechanism. Adjust to position directly below. After that, the drive control system 150 operates the lift drive unit 125 to move the sample table 122.
Is raised to a predetermined height to bring the tips of the plurality of spring probes 100b into contact with the plurality of electrodes 2a of the target semiconductor element with a predetermined pressure. The operation up to this point is executed by the drive control system 150 according to the operation instruction from the operation unit 151. It should be noted that these adjustments such as positioning may be automatically performed. For example, it can be carried out by marking a reference position mark on the semiconductor wafer 1 in advance and reading it with a reading device to set the origin of the coordinates. In this case, the position of the electrode is known by the drive control unit 150 by receiving the design data in advance.

【0078】この状態で、ケーブル171、配線基板1
02および101およびスプリングプローブ100bを
介して、半導体ウエハ1に形成された半導体素子とテス
タ170との間で、動作電力や動作試験信号などの授受
を行い、当該半導体素子の動作特性の可否などを判別す
る。上記の一連の試験動作が、半導体ウエハ1に形成さ
れた複数の半導体素子の各々について実施され、動作特
性の可否などが判別される。
In this state, the cable 171 and the wiring board 1
02 and 101 and the spring probe 100b, the semiconductor device formed on the semiconductor wafer 1 and the tester 170 exchange operating power, an operation test signal, and the like to determine whether or not the operating characteristics of the semiconductor device. Determine. The above-described series of test operations are performed for each of the plurality of semiconductor elements formed on the semiconductor wafer 1, and it is determined whether the operation characteristics are appropriate or not.

【0079】図5は、本発明の探針組立体を用いた他の
実施例である検査装置の要部を示す説明図である。本実
施例は、探針組立体Cとして、図3に示した構造の探針
組立体C3を用いた例である。本実施例において、検査
装置は、半導体装置の製造におけるウエハプローバとし
て構成されている。
FIG. 5 is an explanatory view showing a main part of an inspection apparatus which is another embodiment using the probe assembly of the present invention. The present embodiment is an example in which the probe assembly C3 having the structure shown in FIG. 3 is used as the probe assembly C. In this embodiment, the inspection device is configured as a wafer prober in the manufacture of semiconductor devices.

【0080】図3に示したプローブ40を本発明の位置
決め基板41、42に挿入して、一端を配線基板61,
62の表面に形成された接続パッド64にはんだ付け
し、該配線基板61,62の内部配線63を通して、該
配線基板61,62に設けられた接続端子66に接続さ
れている。なお、本実施例では、接続端子66は、同軸
コネクタで構成される。この接続端子66に接続される
ケーブル171を介して、テスタ170と接続される。
検査装置の動作の基本は、図4と同様であるので、動作
の説明は省略する。なお、この例においても、図13に
示すように、プローブ40に、絶縁被覆67を設けるよ
うにしてもよい。
The probe 40 shown in FIG. 3 is inserted into the positioning boards 41 and 42 of the present invention, and one end of the wiring board 61,
It is soldered to connection pads 64 formed on the surface of 62, and is connected to connection terminals 66 provided on the wiring boards 61 and 62 through internal wiring 63 of the wiring boards 61 and 62. In this embodiment, the connection terminal 66 is a coaxial connector. It is connected to the tester 170 via the cable 171 connected to the connection terminal 66.
Since the basic operation of the inspection device is the same as that of FIG. 4, the description of the operation is omitted. In this example as well, as shown in FIG. 13, the probe 40 may be provided with an insulating coating 67.

【0081】[0081]

【発明の効果】本発明によれば、位置決め基板のプロー
ブ挿通用のスルーホールの孔径、特に、開口径の精度を
向上させることができ、しかも、精度の良好なスルーホ
ールの内壁、特に、開口の、少なくとも2箇所で保持さ
れる構造であることにより、実使用状態で高精度な状態
で使用することができる。
According to the present invention, it is possible to improve the accuracy of the hole diameter of the through hole for inserting the probe of the positioning board, in particular, the accuracy of the opening diameter, and moreover, the inner wall of the through hole having a good accuracy, especially the opening. Since the structure is held in at least two places, it can be used in a highly accurate state in an actual use state.

【0082】また、本発明によれば、エッチングした基
板を重ね合わせ、熱処理することにより、基板を結晶化
して基板強度を上げると共に、融着して一体化した厚い
基板を形成できる。従って、位置決め基板の強度を向上
させることができる。
Further, according to the present invention, by superposing the etched substrates and heat-treating the substrates, the substrates are crystallized to increase the substrate strength, and a thick substrate integrated by fusion can be formed. Therefore, the strength of the positioning substrate can be improved.

【0083】さらに、本発明によれば、高密度かつ多ピ
ンで、孔あけ加工精度および基板強度が良好なスルーホ
ールを形成した位置決め基板を用いた半導体検査装置を
実現することができる。
Further, according to the present invention, it is possible to realize a semiconductor inspection device using a positioning substrate having a high density, a large number of pins, and a through hole having a good drilling accuracy and substrate strength.

【0084】また、上記のスルーホールを有した位置決
め基板を有した半導体検査装置を構成することにより、
多ピンの半導体素子に対しても、従来のドリル孔あけに
よるスルーホールを有した位置決め基板と比較して、一
括孔あけ加工により、低コストな半導体検査装置を提供
することができる。
Further, by configuring the semiconductor inspection device having the positioning board having the above-mentioned through hole,
Even for a multi-pin semiconductor element, it is possible to provide a low-cost semiconductor inspection device by collective hole drilling, as compared with a conventional positioning substrate having through holes formed by drilling holes.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の探針組立体の第1実施例の要部を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a main part of a first embodiment of a probe assembly according to the present invention.

【図2】本発明の探針組立体の第2実施例の要部を示す
断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing an essential part of a second embodiment of the probe assembly of the present invention.

【図3】本発明の探針組立体の第3実施例の要部を示す
断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing an essential part of a third embodiment of the probe assembly of the present invention.

【図4】本発明の探針組立体を用いた検査装置の一例の
要部を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory view showing a main part of an example of an inspection apparatus using the probe assembly of the present invention.

【図5】本発明の探針組立体を用いた検査装置の他の例
の要部を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a main part of another example of the inspection apparatus using the probe assembly of the present invention.

【図6】(A)はウエハの斜視図、(B)は半導体素子
の斜視図である。
6A is a perspective view of a wafer, and FIG. 6B is a perspective view of a semiconductor element.

【図7】従来の検査用プローブの断面側面図である。FIG. 7 is a cross-sectional side view of a conventional inspection probe.

【図8】従来の検査用プローブの平面図である。FIG. 8 is a plan view of a conventional inspection probe.

【図9】はんだボールを電極上に有する半導体素子を示
す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a semiconductor element having solder balls on electrodes.

【図10】はんだ溶融接続をした半導体素子の実装状態
を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a mounted state of a semiconductor element which is solder-melted and connected.

【図11】従来の半導体素子検査装置用のプローブの固
定部分の断面図である。
FIG. 11 is a sectional view of a fixed portion of a probe for a conventional semiconductor device inspection apparatus.

【図12】(a)−(d)は位置決め基板の他の例を示
す要部断面図である。
12A to 12D are cross-sectional views of a main part showing another example of the positioning board.

【図13】第3実施例において、プローブの相互接触を
防止する手段を追加した状態を示す要部断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view of essential parts showing a state in which a means for preventing mutual contact of the probes is added in the third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ウエハ、2…半導体素子、、2a…電極、3…電
極、4…プローブカード、5…プローブ、6…はんだバ
ンプ、7…配線基板、8…電極、10…スプリングプロ
ーブ、10a…バネ、10b、10c…プランジャ、1
0d…チューブ、10e…突起、11、12、31、3
2、41、42…位置決め基板、11a、12a、31
a、32a、41a、42a、61…第1の基板、11
b、12b、31b、32b、41b、42b、62…
第2の基板、11c、41c…補強基板、11d、11
e…基板、13…中間板、13a、13b、13c…
孔、14…基板、14a…孔、15…電極端子、21…
被覆材、22…スルーホール、23a、23b、23
c、23d、33a、33b…収容孔、24a、24
b、24c、24d…孔、25…ノックピン、26…ボ
ルト、27…ナット、30…スプリングプローブ、30
a…バネ、30b、30c…プランジャ、30d…チュ
ーブ、30e、30f…突起、30g…フランジ、40
…プローブ、40a…先端、40b…基端、50…配線
基板、51…絶縁基板、52…電極、53…配線、60
…配線基板、63…内部配線、64…接続パッド、65
…はんだ、66…接続端子、67…絶縁被覆、100…
プローブ系、100a…位置決め基板、100b…スプ
リングプローブ、101…配線基板、101a…電極、
101b…内部配線、102…配線基板、102b…内
部配線、102c…接続端子、103…ポゴピン、12
0…試料支持系、122…試料台、124…昇降軸、1
25…昇降駆動部、126…X−Yステージ、127…
筐体、150…駆動制御系、151…操作部、170…
テスタ、171、172…ケーブル、C…探針組立体、
C1、C2、C3…位置決め構造体。
1 ... Wafer, 2 ... Semiconductor element, 2a ... Electrode, 3 ... Electrode, 4 ... Probe card, 5 ... Probe, 6 ... Solder bump, 7 ... Wiring board, 8 ... Electrode, 10 ... Spring probe, 10a ... Spring, 10b, 10c ... Plunger, 1
0d ... Tube, 10e ... Protrusion, 11, 12, 31, 3
2, 41, 42 ... Positioning board, 11a, 12a, 31
a, 32a, 41a, 42a, 61 ... First substrate, 11
b, 12b, 31b, 32b, 41b, 42b, 62 ...
Second substrate, 11c, 41c ... Reinforcing substrate, 11d, 11
e ... Substrate, 13 ... Intermediate plate, 13a, 13b, 13c ...
Hole, 14 ... substrate, 14a ... hole, 15 ... electrode terminal, 21 ...
Coating material, 22 ... through hole, 23a, 23b, 23
c, 23d, 33a, 33b ... accommodation holes, 24a, 24
b, 24c, 24d ... hole, 25 ... knock pin, 26 ... bolt, 27 ... nut, 30 ... spring probe, 30
a ... Spring, 30b, 30c ... Plunger, 30d ... Tube, 30e, 30f ... Protrusion, 30g ... Flange, 40
... probe, 40a ... tip, 40b ... base end, 50 ... wiring board, 51 ... insulating board, 52 ... electrode, 53 ... wiring, 60
... Wiring board, 63 ... Internal wiring, 64 ... Connection pad, 65
... Solder, 66 ... Connection terminal, 67 ... Insulation coating, 100 ...
Probe system, 100a ... Positioning board, 100b ... Spring probe, 101 ... Wiring board, 101a ... Electrode,
101b ... internal wiring, 102 ... wiring board, 102b ... internal wiring, 102c ... connecting terminal, 103 ... pogo pin, 12
0 ... Sample support system, 122 ... Sample base, 124 ... Elevating shaft, 1
25 ... Lifting / driving unit, 126 ... XY stage, 127 ...
Case, 150 ... Drive control system, 151 ... Operation unit, 170 ...
Tester, 171, 172 ... Cable, C ... Probe assembly,
C1, C2, C3 ... Positioning structure.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−317624(JP,A) 特開 平1−287484(JP,A) 特開 平4−112549(JP,A) 特開 昭63−293934(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01R 1/06 - 1/073 G01R 31/28 Continuation of the front page (56) Reference JP-A-6-317624 (JP, A) JP-A-1-287484 (JP, A) JP-A-4-112549 (JP, A) JP-A-63-293934 (JP , A) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G01R 1/06-1/073 G01R 31/28

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】スルーホールを有する複数の位置決め基板
と、前記スルーホールに挿通され、かつ被測定対象の電
極と電気的に接続するための探針とを有する探針組立体
において、 前記複数の位置決め基板のうち少なくとも1つの位置決
め基板は、一方の面の開口径が他方の面の開口径より小
さいスルーホールを有する第1の基板と第2の基板を有
し、 前記第1の基板と第2の基板は、対応するスルーホール
の位置を合わせて、かつ、開口径が大きい面が対向する
向きに配置されていることを特徴とする探針組立体。
1. A plurality of positioning substrates having through holes.
And the voltage of the object to be measured that is inserted through the through hole.
A probe assembly having a probe for electrically connecting to a pole
At least one of the plurality of positioning boards
The substrate has a smaller opening on one side than the opening on the other.
Has a first substrate and a second substrate having a through hole
However , the first substrate and the second substrate are corresponding through holes.
And the surfaces with large apertures face each other.
A probe assembly characterized by being arranged in a facing direction.
【請求項2】請求項1に記載の探針組立体において、前
記第1の基板と第2の基板は、少なくとも2箇所の開口
径の小さい開口部により、前記探針を規制し、位置決め
することを特徴とする探針組立体。
2. The probe assembly according to claim 1, wherein
The first substrate and the second substrate have at least two openings.
The small diameter opening regulates and positions the probe.
A probe assembly which is characterized by:
【請求項3】請求項1および2のいずれか一項に記載の
探針組立体において、前記第1の基板と第2の基板は、
感光性ガラスを用いることを特徴とする探針組立体。
3. The method according to any one of claims 1 and 2.
In the probe assembly, the first substrate and the second substrate are
A probe assembly using photosensitive glass.
【請求項4】請求項1、2および3のいずれか一項に記
載の探針組立体において、前記第1の基板と第2の基板
は、熱処理により融着し、一体化されたものであること
を特徴とする探針組立体。
4. The method according to any one of claims 1, 2 and 3.
In the mounted probe assembly, the first substrate and the second substrate
Shall be fused and integrated by heat treatment
A probe assembly characterized by:
【請求項5】請求項1、2、3および4のいずれか一項
に記載の探針組立体において、スルーホールの内壁およ
び開口部が、ポリパラキシレン、または、ポリイミドの
いずれかにより被覆されたことを特徴とする探針組立
体。
5. The method according to any one of claims 1, 2, 3 and 4.
In the probe assembly described in 1), the inner wall of the through hole and the
And the opening is made of polyparaxylene or polyimide.
Probe assembly characterized by being coated with either
body.
【請求項6】請求項1、2、3、4および5のいずれか
一項に記載の探針組立体において、前記探針は、スプリ
ングプローブであることを特徴とする探針組立体。
6. A method according to any one of claims 1, 2, 3, 4 and 5.
The probe assembly according to claim 1, wherein the probe is a splice.
A probe assembly which is a probe.
【請求項7】多数の電極が配置された検査対象の各電極
に接触して、電気信号を授受して検査を行う検査装置に
おいて、 検査対象物を支持する試料支持系と、前記 試料支持系で支持される検査対象物と対向するよう
に配置される探針組立体と、 前記 試料支持系の検査対象の変位駆動を制御する駆動制
御系と、前記探針組立体 と接続されて検査を行うテスタとを有
し、前記探針組組立体は、請求項1、2、3、4、5および
6のいずれか一項に記載の探針組立体であること を特徴
とする検査装置。
7. A sample support system for supporting an object to be inspected, comprising: a sample support system for supporting an object to be inspected; in a Saguharigumi solid which is arranged to face the test object to be supported, and a drive control system for controlling the displacement drive of the inspection target of the sample support system, the inspection is connected to the probe assembly And a tester for performing the probe assembly , wherein the probe set assembly comprises:
The probe apparatus according to any one of 6 to 6, which is an inspection apparatus.
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