JP3388790B2 - ホルムアルデヒドの製造方法 - Google Patents

ホルムアルデヒドの製造方法

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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/27Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
    • C07C45/32Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
    • C07C45/37Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of >C—O—functional groups to >C=O groups
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は銀粒子からなる触媒層に
メタノールおよび酸素若しくは空気を接触させてホルム
アルデヒドを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】銀粒子からなる触媒層にメタノールおよ
び酸素若しくは空気を接触させてホルムアルデヒドを製
造する方法は従来から知られている。この方法は、メタ
ノール、空気、水などからなる原料ガスを触媒層の上か
ら下へと通じてメタノールと酸素とを反応させるもので
ある。
【0003】触媒層の厚さは全体として10〜40mm
であるが、反応の大部分が起きるのは上層部で、そこに
は活性の強い小粒径銀が配置され、下層部には大粒径銀
が配置される。また、触媒層の安定のため中間層を設け
中間粒径銀を配置する方法もある。触媒に用いる銀粒子
として、活性の強い小粒径銀を分厚く配置すれば触媒層
全体としての活性が強くなり、例えば同じ温度と原料モ
ル比で反応した場合、より高い転化率が得られ、他方同
じ転化率の反応を目的とする場合はより水の添加を少な
くしより高いホルムアルデヒド濃度の製品を得るかまた
は低い反応温度で高い選択率を達成する等の利点があ
る。
【0004】しかしながら、この触媒を工業的に用いて
反応を連続的に長期間行うと、時間経過と共に触媒層に
掛る差圧が大きくなり、原料空気を押し込むためのブロ
ワーまたはコンプレサーの動力費が高くつき、時として
短期間のうちにブロワーまたはコンプレサーの能力を越
える差圧となり反応が続行できなくなる欠点がある。
【0005】このため、長期間連続して安定的にホルム
アルデヒドを製造するには小粒径銀を触媒層上部に薄
く、具体的には0.2〜1.0mm程度に配置して触媒
層全体としての活性を低下させざるえない。この問題を
解決するために、特公昭59−20651号では粒径
0.01〜10μmの微粒銀を添加する方法が提案され
ている。
【0006】しかしながら、この方法には、微粒銀が入
手しやすい電解銀を篩分けても必要量得られず、スラリ
ー状の水酸化アルミニウム上に硝酸銀を還元して銀を析
出させた後水酸化アルミニウムをアルカリで溶解させる
等の複雑で手間のかかる手段で得なければならないとい
う欠点がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工業
的に大量に製造し易い銀粒子からなる触媒層を用いて、
長期間にわたって安定的に高収率で連続的にホルムアル
デヒドを製造する方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、見掛け密度(沈積)3.5〜4.5g/ml
の銀粒子層がメタノールからのホルムアルデヒド製造に
対して強い触媒活性を有し、かつ原料ガス等の流通に対
し比較的抵抗の少ないものであることを見出した。そし
て、この銀粒子層を少なくとも触媒層の実質的な反応部
分となる上部層(以下反応ゾーンという)に使用する
と、メタノールからホルムアルデヒドを長期間連続的に
製造しても当該触媒層の高い活性が維持され、しかも触
媒層に掛かる差圧の経時増加が抑制されて、長期間にわ
たって安定的に高収率でホルムアルデヒドを連続的に製
造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】すなわち、本発明は、銀粒子からなる触媒
層にメタノールおよび酸素若しくは空気を接触させてホ
ルムアルデヒドを製造する方法において、触媒層上面か
ら少なくとも1.5mmまでの層の見掛け密度(沈積)
が3.5〜4.5g/mlであることを特徴とするホル
ムアルデヒドの製造方法を提供するものである。
【0010】触媒層に掛かる差圧の経時増加の原因は、
反応時間に比例して成長する銀の樹枝状結晶(以下ウィ
スカという)により触媒層中の空隙が狭められることに
ある。この傾向は反応ゾーンで強くこの中でも上面に近
い程激しい。
【0011】本発明の触媒層が触媒活性の高い銀粒子層
を触媒上層部分に厚くしてなるにもかかわらず、触媒層
に掛かる差圧の経時増加が少ないのはウィスカの成長が
当該銀粒子層の上面に集中しないことに起因するものと
考えられる。また初期の広い空隙が成長するウィスカに
より狭められ難い点も有利に働いていると考えられる。
【0012】触媒層上面から少なくとも1.5mmまで
の層の見掛け密度(沈積)が3.5g/ml未満のもの
である場合は、触媒層全体としての活性が低く、また見
掛け密度(沈積)4.5g/mlを越える場合は、触媒
層に掛かる差圧の経時増加が大きい。見掛け密度(沈
積)3.5〜4.5g/mlを構成する銀粒子は、周知
のように、銀電解の際の電流密度、硝酸濃度、攪拌等を
適宜選択することにより工業的に大量に得られる。見掛
け密度(沈積)はメスシリンダーに一定重量の銀粒子を
れ、20〜30回のタッピングの後の見掛け体積に基
づき計算される。
【0013】見掛け密度(沈積)3.5〜4.5g/m
lの銀粒子層は、粒径0.38mm(40メッシュ)以
上の銀粒子を少なくとも50重量%含むものが、触媒層
に掛る差圧の経時増加が特に小さく、また粒径0.38
mm以下の粒子を少なくとも10重量%含むものが、触
媒活性が非常に強く、好ましい。粒径は篩分けにより測
定される。
【0014】本発明の見掛け密度(沈積)3.5〜4.
5g/mlの銀粒子層は、比較的低い反応温度における
触媒活性が高く、特に選択性が良好である。このため原
料ガスに添加する水蒸気等の不活性ガスの量が低減でき
るから、不活性ガスとして水蒸気を使用した場合、高濃
度のホルムアルデヒド水溶液が高収率で得られる。
【0015】本発明においては、見掛け密度(沈積)
3.5〜4.5g/mlの銀粒子層が触媒層上面から少
なくとも1.5mmまで好ましくは触媒層上面から
1.5〜2.5mmの範囲にある必要がある。1.5m
m未満の場合には、触媒層に掛かる差圧の経時増加は少
ないが、触媒層全体としての活性が低く長期間にわたっ
て高収率で連続的にホルムアルデヒドを製造することが
困難である。
【0016】本発明の触媒層は、見掛け密度(沈積)
3.5〜4.5g/mlの銀粒子層のみで構成されても
よく、また当該銀粒子層の下部にこの銀粒子よりも大き
い粒径の銀粒子からなる層を1ないしは2以上積層した
ものであってもよい。
【0017】本発明の反応条件としては公知のものが採
用できる。例えば反応温度としては600〜800℃、
空気とメタノールとの割合としては1.5〜2.5:1
(モル比)、不活性ガスとして水蒸気を用いるときは水
とメタノールとの割合としては0.2〜2.0:1(重
量比)である。
【0018】
【実施例】
実施例−1 触媒層の直下に多管式冷却器を備えた反応器の中に、電
解銀を篩分けて得られた粒子を、下層部より粒径5〜
1.7mm(4〜10メッシュ)のものを平均8.9m
m、粒径1.7〜0.50mm(10〜30メッシュ)
のものを平均6.4mm、粒径0.63mm以下(24
メッシュスルー)のものを平均2.2mm積層し触媒層
とした。
【0019】粒径0.63mm以下の銀粒子は、3.9
g/mlの見掛け密度(沈積)を持ち、粒径0.63〜
0.50mmが20重量%、粒径0.50〜0.38m
m(30〜40メシュ)が61重量%、粒径0.38m
m以下(40メシュスルー)が19重量%の粒径分布を
持っていた。
【0020】この触媒層の1m当り、メタノール1.
1トン/時、水0.35トン/時、空気1300Nm
/時(空気は所定の能力を有する空気ブロワーを用いて
供給した)80℃の混合ガスにして72時間流通させ
た。反応の温度は635℃で、反応率は93.9%、選
択率は約92%、収率は約86%であった。この反応ガ
スを常法により水に吸収させ、ホルムアルデヒド分5
5.4%、メタノール分4.1%の水溶液を1.6トン
/時で得た。この時、触媒層に掛かった差圧は0.05
6バールであった。
【0021】その後110日間反応を続けたところ、触
媒活性の変化はなくこの間の平均反応率、平均選択率お
よび平均収率は、それぞれ94.0%、92.0%及び
86.5%であり、触媒層に掛かる差圧が0.098バ
ールへと僅かに増加した(一日当たり0.38ミリバー
ルの増加)。この時の触媒層は活性及び差圧に実質的変
化がないので、ホルムアルデヒド合成をさらに続けるこ
とができる。
【0022】比較例−1 実施例−1の反応器の中に、電解銀を篩分けて得られた
粒子を、下層部より粒径5〜1.7mmのものを平均
9.6mm、粒径1.7〜0.50mmのものを平均
6.6mm、粒径0.63mmの以下ものを平均2.5
mm積層し触媒層とした。粒径0.63mm以下の銀粒
子は、4.8g/mlの見掛け密度(沈積)を持ち、粒
径0.63〜0.50mmの銀粒子が3重量%、粒径
0.50〜0.38mmの銀粒子が42重量%、粒径
0.38mm以下の銀粒子が55重量%の粒度分布を持
っていた。
【0023】この触媒層に実施例−1と同様にしてホル
ムアルデヒド合成を行った。反応開始から72時間まで
の反応の温度は635℃で、反応率は93.6%、選択
率は約91%、収率は約86%であった。この時、触媒
層に掛かった差圧は0.068バールであった。この反
応ガスを常法により水に吸収させ、ホルムアルデヒド分
55.0%、メタノール分4.4%の水溶液を1.6ト
ン/時で得た。その後、ホルムアルデヒド水溶液中のメ
タノール分を実施例と同じ濃度に低下させるため、反応
温度を5℃上昇させ、640℃にて110日間反応を続
けた。この間の平均反応率は94.0%、平均選択率は
91.8%、平均収率は86.3%となった。実施例−
1にくらべて、選択率及び収率が平均0.2%低かっ
た。触媒層に掛かる差圧は0.281バールへと増加
(一日当たり1.94ミリバールの増加)し、差圧の増
加速度は実施例1の5倍であった。この時、空気ブロワ
ーの圧縮能力の限界に達していたため生産速度が低下傾
向となり、反応を停止させた。
【0024】
【発明の効果】本発明方法によれば、触媒層上面から少
なくとも1.5mmまでの層の見掛け密度(沈積)が
3.5〜4.5g/mlなる銀粒子層で触媒層が構成さ
れているから、長期間にわたって安定的に高収率で連続
的にホルムアルデヒドを製造することができ、しかも当
該銀粒子の工業的大量生産が容易であるので、本発明は
極めて工業的に有利な方法を提供するものである。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 銀粒子からなる触媒層にメタノールおよ
    び酸素若しくは空気を接触させてホルムアルデヒドを製
    造する方法において、触媒層上面から少なくとも1.5
    mmまでの層の見掛け密度(沈積)が3.5〜4.5g
    /mlであることを特徴とするホルムアルデヒドの製造
    方法。
  2. 【請求項2】 触媒層上面から少なくとも1.5mmま
    での層が粒径0.38mm以上の銀粒子を少なくとも5
    0重量%含み、かつ粒径0.38mm以下の銀粒子を少
    なくとも10重量%含むことを特徴とする請求項1記載
    の方法。
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