JP3380849B2 - 処理レート算出方法 - Google Patents
処理レート算出方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Description
法に関し、詳しくは、処理レート(例えば、膜の堆積レ
ートやエッチングレート)から処理条件(例えば、膜の
堆積条件やエッチング条件)を推定して決定する必要が
あると共に、処理の特性が不安定(例えば、処理レート
が日によって異なったり、パーティクル数が装置によっ
て異なったりすること)であるため、処理の直前に処理
条件を決定する必要がある処理装置を用いて製品に対し
て処理を行なう際の処理レートを算出する算出方法に関
する。
参照しながら説明する。
を示しており、該処理条件決定装置は、処理レートを算
出する処理レート算出手段1と、処理条件を決定する処
理条件決定手段2とを備えている。処理レート算出手段
1は、特定の工程において製品の処理を開始する前に、
製品モニターによる仮処理を行なった後、仮処理の結果
に基づき処理レートを算出する。処理条件決定手段2
は、処理レート算出手段1により算出された処理レート
に基づいて処理条件を決定する。
の処理条件決定装置は、製品の処理を開始する前に、製
品モニターによる仮処理を行なった後、仮処理の結果に
基づいて処理レートを算出し、算出された処理レートに
基づいて処理条件を決定するので、処理条件を決定する
ために要する時間が多大になるという問題がある。この
処理条件を決定するために要する時間が多大になる原因
は、処理レートを算出するために要する時間が長いこと
にある。
するために要する時間を低減することを目的とする。
め、本発明は、処理工程又は処理装置の安定度には高低
があることに着目し、処理工程又は処理装置の安定度が
高い場合には、製品モニターによる仮処理を行なうこと
なく、蓄積しておいた過去の情報に基づいて処理レート
を算出するものである。
ト算出方法は、複数の工程を処理した結果を処理結果情
報として蓄積する処理結果蓄積工程と、処理結果蓄積工
程において蓄積された処理結果情報に基づいて、複数の
工程のうち処理の対象となる処理工程の安定度を判定す
る安定度判定工程と、安定度判定工程において処理工程
は安定していると判定されたときには、処理結果蓄積工
程において蓄積された処理結果情報に基づいて処理工程
を処理する処理レートを算出する一方、安定度判定工程
において処理工程は安定していないと判定されたときに
は、処理工程を実際に行なって処理工程を処理する処理
レートを算出する処理レート算出工程とを備えている。
度判定工程において処理工程は安定していると判定され
たときには、処理結果蓄積工程において蓄積された処理
結果情報に基づいて処理工程を処理する処理レートを算
出するため、処理工程の処理を実際に行なって処理レー
トを算出する手間が省ける。
結果蓄積工程において蓄積される処理結果情報は処理日
時及び処理レートを含み、安定度判定工程は、処理結果
情報に含まれる処理レートの所定期間におけるバラツキ
に基づいて処理工程の安定度を判定する工程を含むこと
が好ましい。
は、特定の装置により複数の工程を処理した結果を装置
特性情報として蓄積する装置特性蓄積工程と、装置特性
蓄積工程において蓄積された装置特性情報に基づいて特
定の装置の安定度を判定する安定度判定工程と、安定度
判定工程において特定の装置は安定していると判定され
たときには、装置特性蓄積工程において蓄積された装置
特性情報に基づいて、特定の装置が処理対象となる処理
工程を処理する処理レートを算出する一方、安定度判定
工程において特定の装置は安定していないと判定された
ときには、特定の装置により処理工程を実際に行なって
特定の装置が処理工程を処理する処理レートを算出する
処理レート算出工程とを備えている。
度判定工程において特定の装置は安定していると判定さ
れたときには、装置特性蓄積工程において蓄積された装
置特性情報に基づいて特定の装置が処理する処理レート
を算出するため、特定の装置により実際に処理を行なっ
て処理レートを算出する手間が省ける。
特性蓄積工程において蓄積される装置特性情報は処理日
時及びパーティクル数を含み、安定度判定工程は、装置
特性情報に含まれるパーティクル数の所定期間における
バラツキに基づいて特定の装置の安定度を判定する工程
を含むことが好ましい。
は、第1のグループに属する複数の工程を処理した結果
を処理結果情報として蓄積する処理結果蓄積工程と、特
定の装置により第2のグループに属する複数の工程を処
理した結果を装置特性情報として蓄積する装置特性蓄積
工程と、処理結果蓄積工程において蓄積された処理結果
情報及び装置特性蓄積工程において蓄積された装置特性
情報に基づいて、第1のグループ及び第2のグループの
両方に属し且つ特定の装置による処理の対象となる処理
工程の安定度を判定する安定度判定工程と、安定度判定
工程において特定の装置により行なわれる処理工程は安
定していると判定されたときには、処理結果蓄積工程に
おいて蓄積された処理結果情報又は装置特性蓄積工程に
おいて蓄積された装置特性情報に基づいて、特定の装置
により処理工程を処理する処理レートを算出する一方、
安定度判定工程において特定の装置により行なわれる処
理工程は安定していないと判定されたときには、特定の
装置により処理工程を実際に行なって特定の装置が処理
工程を処理する処理レートを算出する処理レート算出工
程とを備えている。
度判定工程において特定の装置により行なわれる処理工
程は安定していると判定されたときには、処理結果蓄積
工程において蓄積された処理結果情報又は装置特性蓄積
工程において蓄積された装置特性情報に基づいて、特定
の装置により処理工程を処理する処理レートを算出する
ため、特定の装置により処理工程を実際に行なって処理
レートを算出する手間が省ける。
結果蓄積工程において蓄積される処理結果情報は処理日
時及び処理レートを含むと共に、装置特性蓄積工程にお
いて蓄積される装置特性情報は処理日時及びパーティク
ル数を含み、安定度判定工程は、処理結果情報に含まれ
る処理レートの所定期間におけるバラツキ又は装置特性
情報に含まれるパーティクル数の所定期間におけるバラ
ツキに基づいて、特定の装置により行なわれる処理工程
の安定度を判定することが好ましい。
る、処理レート算出装置、処理レート算出方法、及び処
理レート算出プログラムが記録されたコンピュータ読み
取り可能な記録媒体について、図面を参照しながら説明
する。
置を有する処理条件決定装置のブロック図であって、図
2は一実施形態に係る処理レート算出方法を有する処理
条件決定方法のフロー図である。
工程の処理結果を蓄積する処理結果蓄積手段11と、装
置の特性を蓄積する装置特性蓄積手段12と、蓄積され
ている工程の処理結果及び装置の特性に基づいて工程の
安定度を判定する工程安定度判定手段13と、工程が安
定していると判定される場合に、過去の処理結果に基づ
いて処理レートを自動算出する第1の処理レート算出手
段としての処理レート自動算出手段14と、工程が安定
していないと判定される場合に、実際に処理を行なって
処理レートの算出を再度行なう第2の処理レート算出手
段としての処理レート再算出手段15と、算出された処
理レートから処理条件を決定する処理条件決定手段16
とを備えている。
なう処理決定方法について、エッチング装置によりエッ
チングを行なう処理条件を決定する場合を例にとって、
図2〜図7を参照しながら説明する。
S1において、エッチング装置により製品の処理を行な
った結果の情報を処理結果情報として蓄積する。具体的
には、図6に示すように、処理日時、エッチング時間、
エッチング膜厚及びエッチングレートをアイテムとして
持つ処理結果テーブルのレコードに、処理日時、エッチ
ング時間及びエッチング膜厚を登録すると共に、エッチ
ング膜厚をエッチング時間で除算することにより算出し
たエッチングレートも登録する。図3に示すように、処
理結果情報は製品に対してエッチング処理を行なう度毎
に登録する。尚、処理結果テーブルの作成場所は特に限
定されず、アクセス可能なコンピュータ上に作成すれば
よい。
S2において、エッチング装置の特性を示す情報を処理
特性情報として蓄積する。具体的には、図7に示すよう
に、処理日時及びパーティクル数をアイテムとして持つ
装置特性テーブルのレコードに、処理時間及びパーティ
クル数を登録する。図4に示すように、処理特性情報は
エッチング装置の性能を確認する毎に登録する。尚、装
置特性テーブルに登録する特性データは、パーティクル
数のほかに、プラズマ密度等のようにエッチング装置の
性能を示すデータを適宜選択する。また、装置特性テー
ブルの作成場所は特に限定されず、アクセス可能なコン
ピュータ上に作成すればよい。
プS3において、製品に対してエッチング処理を行なう
前に、処理結果蓄積手段11に蓄積された処理結果情報
と、装置特性蓄積手段12に蓄積された装置特性情報と
に基づいて、工程の安定度を判定する。
S3において工程の安定度を判定する方法について、図
5に示すフロー図を参照しながら説明する。
グレートを抽出する。具体的には、図6に示す処理結果
テーブルの処理日時を検索キーとして、処理結果テーブ
ルの最新データから順に過去の5つのエッチングレート
を抽出する。
エッチングレートのバラツキを調べるために、エッチン
グレートの標準偏差を計算する。尚、抽出するデータの
個数は5つに限定されず、何個でもよい。また、バラツ
キの指標は、標準偏差に限定されず、偏差、平方和、分
散、範囲又は変化率等を適宜選択できる。
クル数を抽出する。具体的には、装置特性テーブルの処
理日時を検索キーとして、図7に示す装置特性テーブル
の最新データから順に過去の5つのパーティクル数を抽
出する。
パーティクルのバラツキを調べるために、パーティクル
数の標準偏差を計算する。尚、抽出するデータの個数は
5つに限定されず、何個でもよい。また、バラツキの指
標は、標準偏差に限定されず、偏差、平方和、分散、範
囲又は変化率等を適宜選択できる。
トの標準偏差とパーティクルの標準偏差との平均値、つ
まりバラツキの平均値を算出する。
値が所定値よりも小さいか否かの判断、つまり工程が安
定しているか否かの判断をする。具体的には、バラツキ
の平均値が所定値(例えば、5)よりも小さければ「工
程は安定している」と判断し、大きければ「工程は安定
していない」と判断する。尚、2つの標準偏差から平均
値を算出する際に、抽出したデータの特質等に応じて各
値に重みづけ、例えば、最近のデータには1よりも大き
い数を掛ける等の重みづけを行なった後に、平均値を算
出してもよい。また、所定値は装置の特質等に応じて適
宜決定すればよく、特に限定されない。
3において工程の安定度を判定する場合、ステップS3
5において算出したエッチングレートの標準偏差の平均
値を用いたが、これに代えて、エッチングレートの標準
偏差又はパーティクルの標準偏差をそれぞれ単独で用い
てもよい。
S3において「工程は安定している」と判断すると、処
理レート自動算出手段14は、製品に対するエッチング
を行なう前に、ステップS4において、処理レートであ
るエッチングレートを算出する。具体的には、図6に示
す処理結果テーブルの処理日時を検索キーとして、処理
結果テーブルの最新データから順に過去の5つのエッチ
ングレートを抽出し、抽出した5つのエッチングレート
の平均値を計算する。尚、抽出するデータの個数は5つ
に限定されず、何個でもよいと共に、ステップS31に
おいて抽出したデータの個数と一致させる必要もない。
また、エッチングレートの平均値を算出する際に、装置
の特質等に応じて各データに重みづけを行なった後、平
均値を算出してもよい。
S3において「工程は安定していない」と判断すると、
処理レート再算出手段15は、製品に対するエッチング
を行なう前に、ステップS5において、エッチングレー
トを算出する。エッチングレートの算出方法は、従来よ
り行われているエッチングモニターによる先行エッチン
グを通して算出する等、実際にエッチング装置によって
エッチングした結果からエッチングレートを算出すれば
よく、特に限定されない。
S6において、処理レート自動算出手段14又は処理レ
ート再算出手段15により算出されたエッチングレート
からエッチング条件を決定する。具体的には、製品のエ
ッチング膜厚を、処理レート自動算出手段14又は処理
レート再算出手段15により算出されたエッチングレー
トで除算して、エッチング時間を求める。
ト算出方法及び処理レート算出装置によると、エッチン
グ工程における処理の安定度によってエッチングレート
の算出方法を変更し、処理の安定度が高い場合には、エ
ッチングモニターによる先行エッチングを行なうことな
く、蓄積しておいた過去のエッチングレートから自動的
にエッチングレートを算出するので、エッチングレート
を算出するために要する時間を低減することができる。
積手段12により処理結果情報又は装置特性情報を蓄積
する場合、図6又は図7に示すテーブルに代えて、リス
ト構造(コンピュータのメモリ上に記憶されている構
造)等を用いてもよい。
ング装置による処理条件のほかに、CVD装置、スパッ
タ装置、露光装置又は酸化装置等のように、処理レート
から処理条件を推定して決定する必要があると共に、処
理の特性が不安定であるため、処理の直前に処理条件を
再決定する必要がある製造装置を用いて製品の製造を行
なう際の処理条件を広く対象としている。
方法を実現する処理レート算出プログラムを作成すると
共に、コンピュータが読み取り可能な記録媒体に処理レ
ート算出プログラムを記録しておけば、記録媒体をコン
ピュータの補助記憶装置に装着することにより、本実施
形態に係る処理レート算出プログラムがコンピュータの
主記憶装置にロードされ、所定の動作タイミング(イベ
ント)が発生したときに、コンピュータのCPUによっ
て各手順の所定の機能が実行される。
理工程が安定しているときには、処理工程を実際に行な
って処理レートを算出する手間が省けるので、処理レー
トを算出するために要する時間を低減することができ
る。
度判定工程が、処理結果情報に含まれる処理レートの所
定期間におけるバラツキに基づいて処理工程の安定度を
判定すると、算出される処理レートの信頼性が高くな
る。
の装置が安定しているときには、特定の装置により実際
に処理を行なって処理レートを算出する手間が省けるの
で、処理レートを算出するために要する時間を低減する
ことができる。
度判定工程が、装置特性情報に蓄積されているパーティ
クル数の所定期間におけるバラツキに基づいて特定の装
置の安定度を判定すると、算出される処理レートの信頼
性が高くなる。
の装置により行なわれる処理工程が安定しているときに
は、特定の装置により処理工程を実際に行なって処理レ
ートを算出する手間が省けるので、処理レートを算出す
るために要する時間を低減することができる。
度判定工程が、処理結果情報に含まれる処理レートの所
定期間におけるバラツキ又は装置特性情報に含まれるパ
ーティクル数の所定期間におけるバラツキに基づいて、
特定の装置により行なわれる処理工程の安定度を判定す
ると、算出される処理レートの信頼性が一層高くなる。
を有する処理条件決定装置のブロック図である。
を有する処理条件決定方法のフロー図である。
エッチング装置により製品の処理を行なった結果得られ
る情報を処理結果情報として蓄積する工程を説明する図
である。
エッチング装置の特性を示す情報を処理特性情報として
蓄積する工程を説明する図である。
定工程の各処理を説明するフロー図である。
おいて用いる処理結果テーブルを示す図である。
おいて用いる処理特性テーブルを示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 複数の工程を処理した結果を処理結果情
報として蓄積する処理結果蓄積工程と、 前記処理結果蓄積工程において蓄積された処理結果情報
に基づいて、前記複数の工程のうち処理の対象となる処
理工程の安定度を判定する安定度判定工程と、 前記安定度判定工程において前記処理工程は安定してい
ると判定されたときには、前記処理結果蓄積工程におい
て蓄積された処理結果情報に基づいて前記処理工程を処
理する処理レートを算出する一方、前記安定度判定工程
において前記処理工程は安定していないと判定されたと
きには、前記処理工程を実際に行なって前記処理工程を
処理する処理レートを算出する処理レート算出工程とを
備えていることを特徴とする処理レート算出方法。 - 【請求項2】 前記処理結果蓄積工程において蓄積され
る処理結果情報は処理日時及び処理レートを含み、 前記安定度判定工程は、前記処理結果情報に含まれる処
理レートの所定期間におけるバラツキに基づいて前記処
理工程の安定度を判定する工程を含むことを特徴とする
請求項1に記載の処理レート算出方法。 - 【請求項3】 特定の装置により複数の工程を処理した
結果を装置特性情報として蓄積する装置特性蓄積工程
と、 前記装置特性蓄積工程において蓄積された装置特性情報
に基づいて前記特定の装置の安定度を判定する安定度判
定工程と、 前記安定度判定工程において前記特定の装置は安定して
いると判定されたときには、前記装置特性蓄積工程にお
いて蓄積された装置特性情報に基づいて、前記特定の装
置が処理対象となる処理工程を処理する処理レートを算
出する一方、前記安定度判定工程において前記特定の装
置は安定していないと判定されたときには、前記特定の
装置により前記処理工程を実際に行なって前記特定の装
置が前記処理工程を処理する処理レートを算出する処理
レート算出工程とを備えていることを特徴とする処理レ
ート算出方法。 - 【請求項4】 前記装置特性蓄積工程において蓄積され
る装置特性情報は処理日時及びパーティクル数を含み、 前記安定度判定工程は、前記装置特性情報に蓄積されて
いるパーティクル数の所定期間におけるバラツキに基づ
いて前記特定の装置の安定度を判定する工程を含むこと
を特徴とする請求項3に記載の処理レート算出方法。 - 【請求項5】 第1のグループに属する複数の工程を処
理した結果を処理結果情報として蓄積する処理結果蓄積
工程と、 特定の装置により第2のグループに属する複数の工程を
処理した結果を装置特性情報として蓄積する装置特性蓄
積工程と、 前記処理結果蓄積工程において蓄積された処理結果情報
及び前記装置特性蓄積工程において蓄積された装置特性
情報に基づいて、前記第1のグループ及び前記第2のグ
ループの両方に属し且つ前記特定の装置による処理の対
象となる処理工程の安定度を判定する安定度判定工程
と、 前記安定度判定工程において前記特定の装置により行な
われる前記処理工程は安定していると判定されたときに
は、前記処理結果蓄積工程において蓄積された処理結果
情報又は前記装置特性蓄積工程において蓄積された装置
特性情報に基づいて、前記特定の装置により前記処理工
程を処理する処理レートを算出する一方、前記安定度判
定工程において前記特定の装置により行なわれる前記処
理工程は安定していないと判定されたときには、前記特
定の装置により前記処理工程を実際に行なって前記特定
の装置が前記処理工程を処理する処理レートを算出する
処理レート算出工程とを備えていることを特徴とする処
理レート算出方法。 - 【請求項6】 前記処理結果蓄積工程において蓄積され
る処理結果情報は処理日時及び処理レートを含むと共
に、前記装置特性蓄積工程において蓄積される装置特性
情報は処理日時及びパーティクル数を含み、 前記安定度判定工程は、前記処理結果情報に含まれる処
理レートの所定期間におけるバラツキ又は前記装置特性
情報に含まれるパーティクル数の所定期間におけるバラ
ツキに基づいて、前記特定の装置により行なわれる前記
処理工程の安定度を判定する工程を含むことを特徴とす
る請求項5に記載の処理レート算出方法。
Priority Applications (3)
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JP00015198A JP3380849B2 (ja) | 1997-02-06 | 1998-01-05 | 処理レート算出方法 |
TW087103443A TW407386B (en) | 1998-01-05 | 1998-03-07 | Multiple cores substrate and pair substrate connector |
KR1019980008205A KR100278506B1 (ko) | 1998-01-05 | 1998-03-12 | 다심기판쌍 기판커넥터 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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JP2377497 | 1997-02-06 | ||
JP00015198A JP3380849B2 (ja) | 1997-02-06 | 1998-01-05 | 処理レート算出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH10280174A JPH10280174A (ja) | 1998-10-20 |
JP3380849B2 true JP3380849B2 (ja) | 2003-02-24 |
Family
ID=26333067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00015198A Expired - Fee Related JP3380849B2 (ja) | 1997-02-06 | 1998-01-05 | 処理レート算出方法 |
Country Status (1)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022554303A (ja) * | 2019-11-07 | 2022-12-28 | ナノトロニクス イメージング インコーポレイテッド | 製造プロセスのためのシステム、方法、および媒体 |
Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
JP2002203825A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-07-19 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法および処理条件設定装置 |
JP4135726B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2008-08-20 | オムロン株式会社 | 製造条件設定システム、製造条件設定方法、制御プログラムおよびそれを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
1998
- 1998-01-05 JP JP00015198A patent/JP3380849B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022554303A (ja) * | 2019-11-07 | 2022-12-28 | ナノトロニクス イメージング インコーポレイテッド | 製造プロセスのためのシステム、方法、および媒体 |
JP7289171B2 (ja) | 2019-11-07 | 2023-06-09 | ナノトロニクス イメージング インコーポレイテッド | 製造プロセスのためのシステム、方法、および媒体 |
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