JP3378132B2 - 偏光および波長に依存しない光導波管タップ - Google Patents
偏光および波長に依存しない光導波管タップInfo
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Description
に光導波管から信号出力を傍受することにより、傍受信
号が偏光および波長にほぼ依存しないよう考慮された光
デバイスに関する。
り、システム設計者にとって、光信号を直接処理する光
集積デバイスの開発が、非常に重要になった。光処理の
特に有用な方法の一つは、シリコン基板上にガラス製の
集積導波管構造を使用することである。このようなデバ
イスの基本的構造が、『7J.光波テクノロジー(7J.Li
ghtwave Technol.)』(1989)の1530〜1539ページのC.H.H
enryその他による「光集積パッケージングのためのシリ
コン上のガラス導波管(Glass Waveguides on Silicon f
or Hybrid Optical Packaging)」に記載されている。本
質において、シリコン基板にはSiO2 のベース層を設
け、ドーピングされたシリカ・ガラスの薄い芯層を酸化
物に付着させる。芯層は、標準的なフォトリソグラフィ
ー技術を用いて、通常は幅5〜7マイクロメートルの所
望の導波管構造になるよう構成することができ、ドーピ
ングされたシリカ・ガラスの層は、芯に付着して表面被
覆の働きをする。導波管の精確な構成に応じて、このよ
うなデバイスは、光導波管からの信号出力の傍受など、
多種多様な機能を実行することができる。
受の用途では、所望の結合程度に応じて、ある長さ、す
なわち結合器の長さだけ2本の導波管を非常に近接して
通す。導波管の芯線からのエネルギーを隣接する芯線に
伝送し、信号傍受を実行する。
の1つの欠点は、傍受信号が信号の波長に依存する傾向
にあることである。もう1つの欠点は、ガラス層の歪み
により導波管内に誘発される複屈折に関する。この歪み
は、導波管と基板とを構成するガラス膜の熱膨張率の差
による。これは、導波管がシリコン基板上に形成され、
その大きさが層の組成とともに変化すると圧縮する。歪
みによって誘発されるこのような複屈折率は、異なった
偏光モード、すなわち透過光の横方向磁気(TM)モー
ドと横方向電気(TE)モードとで異なる屈折率とな
る。その結果、モードの制限が偏光に依存し、したがっ
て2本の導波管の結合は偏光に依存する。このように傍
受信号が与えられ、これは信号の偏光状態に依存する。
固有の複屈折率の問題を克服するために、幾つかの技術
が示唆されている。1つの方法は、導波管の格子マルチ
プレクサの中央に半波長板を挿入し、偏光を90°回転
させる。『Opt.Letts.』17(7)(1992) の499ページのH.T
akahashiその他による「シリコン上の偏光集中アレイ状
導波管マルチプレクサ」を参照のこと。しかし、この方
法は過度の損失をもたらす。もう1つの方法は、導波管
上に非晶質シリコンの層(6マイクロメートル)を付着
させることである。この方法の欠点は、シリコン層を高
出力レーザでアクティブにトリミングしなければならな
いことである。したがって、光集積タップ・デバイスの
波長依存性と歪みで誘発された複屈折率とを補償する上
で、さらに改善が必要である。
力を傍受する光デバイスを指向し、その信号タップは波
長および偏光にほぼ依存しない。好ましい光デバイス
は、出力交差状態伝送信号T1 を提供するため、第2光
導波管と結合関係で配置された入力信号Sを搬送する第
1光導波管を含む第1タップ手段を備える。交差状態伝
送信号T1 は、偏光および波長に依存する。光デバイス
はさらに、出力バー状態伝送信号T2 を提供するため、
出力交差状態伝送信号T1 を搬送する第2光導波管と結
合し、これと直列に配置される第3光導波管を含む第2
タップ手段を備える。バー状態伝送信号T2 は、導波管
の結合に対して、交差状態伝送信号T1 と反対の依存性
を有し、したがって交差状態伝送信号T1 の波長および
偏光の依存性を補償するよう選択して、偏光および波長
にほぼ依存しない全体的なタップ伝送出力信号T=T1
T2 を提供することができる。本発明の様々な特徴と利
点は、以下の詳細な説明を添付した図面と組み合わせて
辿ることによって、よりよく理解される。
ルギーを傍受する技術に関する。この技術は、2本の導
波管を特定の距離または長さ、つまり「結合器の長さ」
だけ非常に近接して結合すると、光エネルギーが一方の
光導波管から隣接する光導波管に伝送されるという理論
に基づく。
る、偏光および波長に依存しないタップを含む光集積デ
バイスの概略図を示す。以下で詳述する光タップ10の
例示的実施例は、信号伝播をサンプリングし、モニタす
る目的で、信号搬送ファイバまたは回路に光学的に接続
するよう構成される。
た3本の導波管を含む。導波管12は、光信号搬送導波
管からの入力信号「S」を搬送し、結合領域16で結合
器の長さ「L1 」だけ導波管14と結合するよう配置さ
れ、2本の導波管の光を2つの出力信号に分割する第1
方向結合部を形成する。同様に、導波管14は、結合領
域20で結合器の長さ「L2 」だけ導波管18と結合す
るよう配置され、第2方向結合部を形成する。同様に、
結合領域16、20における各導波管間の芯線の中心間
距離は等しい。個々の結合器長L1 、L2 は変化しても
よい。
示す。好ましい方法によると、導波管12、14および
18を、外部酸化物層24を有するシリコンの基板22
上の適切な位置に配置し、被覆層26で覆う。図示の構
造は、前述した『7J.光波テクノロジー(7J.Lightwav
e Technol.)』(1989)の1530〜1539ページのC.H.H
enryその他による「光集積パッケージングのための
シリコン上のガラス導波管(GlassWavegui
des on Silicon for Hybrid
Optical Packaging)」に記載され
ているように製造すると有利である。本質的に、シリコ
ン基板22には、シリコン上に形成された、または高圧
蒸気酸化またはLPCVD(低圧化学蒸着)により形成
されたSiO2 の基層24が設けられる。4〜6マイク
ロメートルの範囲の厚さを有して6%〜8%の燐をドー
ピングしたシリカの芯層を、LPCVDを用いて酸化物
上に蒸着し、芯層をRIEなどで乾式エッチングし、導
波管を所望の構成にパターン形成することができる。典
型的な導波管の真の太さは、5〜7マイクロメートルの
範囲である。
詳細に検討する。結合領域16で光導波管12、14が
結合した結果、光導波管12の搬送する信号「S」の一
部が導波管14に結合される。T1 と特定される傍受信
号は、結合の交差状態の伝送信号を示し、波長および偏
光に依存する。したがって、位置16A、16Bにおけ
る出力信号はそれぞれ1−T1 およびT1 で、ここで1
は信号「S」を置換し、1という数を示す。
一部は導波管18に傍受される。位置20A、20Bに
おける結果の出力信号を、それぞれT1 T2 およびT1
−T1 T2 とし、ここでT2 は結合によって実行される
バー状態伝送信号である。伝送信号T2 も波長および偏
光に依存する。
な状態では、個々の伝送信号T1 およびT2 の偏光およ
び波長にほぼ依存しない。特に、交差状態出力信号T1
およびバー状態出力信号T2 は、導波管の結合への反対
の依存性を有する。したがって、伝送信号T2 が適切に
補償する大きさであれば、これらの依存性が取り消され
るというのは、位置20Aにおける全体的な出力伝送信
号Tが、結合領域16の交差状態すなわちT1 と結合領
域20のバー状態即ちT2 との積だからである。
ップ伝送信号Tを生成するよう、伝送信号T1 の偏光お
よび波長への依存性を補償するのに必要な伝送信号T2
の値を理論的に決定することができる。これに関して、
傍受信号T1 、T2 は、導波管の材料、結合した導波管
の中心間距離などの光学特性の関数である結合パラメー
タ(以下、パラメータδと呼ぶ)に直接関連することが
理解される。各結合部について、交差状態伝送信号はsi
n2(δL)と等しく、バー状態伝送信号はcos2(δL)と等し
い。ここでLは結合部の長さである。パラメータδは、
導波管間で力が完全に転送される長さである結合部の長
さとは、逆の関係になる。
信号Tの力の伝送を、式T=T1 T2 で示す。T1とT
2との間の関係は、導関数dT=0であることが分か
る。Tは、歪み複屈折率および波長へのδへの依存性に
よって、 dδ の波長および偏光に依存する。したがって、dT/dδ
=0と設定すると、波長および歪み複屈折率双方へのT
の第1オーダー(線形)の依存度もゼロに設定される。
ln(T)=ln(T1T2)を微分すると、以下の式になる。ここで
lnは自然対数である。
δの変化の影響を受けないような傍受伝送信号T1 およ
びT2 の値、すなわち任意の値T1 について、T1 の波
長および偏光に対する依存度を補償して偏光および波長
にほぼ依存しない傍受出力伝送信号Tを生成するT2 の
値を理論的に求めることができる。
結合領域16、20における結合器それぞれの長さL
1 、L2 の関数である。上述したように、結合器長L1
およびL2 は、導波管が互いから離れる方向に曲がる結
合器の端を含む結合に伴う有効長と定義される。伝送信
号T1 はsin2(δL1)で表され、伝送信号T2 はcos2(δL
2)で表され、ここでL1 は結合領域16の結合器長、L
2 は結合領域20の結合器長である。したがって、
と、式(1)は次のようになる。
小さいと、δL1 はほぼゼロ、cos(δL1) は約
1、sin(δL1)はδL1 と等しくなることが分かる。した
がって、T1の値が小さい場合、式(7)は次のように
なる。
T2 はそれぞれ定数となる。その結果、T1 が1 より小
さければ、偏光および波長に対するT1 の依存度を補償
して、偏光および波長にほぼ依存しない傍受信号Tを生
成するのに必要な補償傍受損を示すT2 の普遍的値があ
る。
びT2 に関して式(7)を書き換えることができる。書
き換えた式は次のようになる。
な信号タップT2 の理論的補償値を特定することができ
る。図3のグラフは、T1 の偏光および波長に対する依
存度を補償するのに必要なT2 の理論値を示す。グラフ
および例が示すように、T1 の値に関して、T1 の偏光
および波長に対する依存度を補償するのに必要なバー状
態伝送信号T2 の値は、−3dbと−3.71dbの間であ
る。T1の値が約−17dbと−40dbの間の場合、T2
は−3.71dbの漸近値または普遍値に到達する。した
がって、傍受信号T1 の偏光および波長に対する依存度
を取り消すには、さらに最高−3.71db減衰する必要
がある。これは、傍受信号Tが波長および偏光に依存し
ないとすると、比較的小さい代償である。
と、本発明の光タップ10の例示的実施例を示す。図4
の曲線は、図1のデバイスをコンピュータでシミュレー
ションした実施例の個々の伝送信号T1 、T2 および出
力伝送信号Tのスペクトルである。シミュレーションし
た実施例によると、信号を搬送する導波管12は、TE
偏光の波長1300nmで−15dbの方向性結合器を形成
するよう、結合領域16で約173ミクロンの長さL1
だけ導波管14と結合している。導波管14、18は、
結合器領域20で既定の約1850ミクロンの長さL2
だけ結合し、TE偏光の波長1300nmで結合器20内
に約−3.7dbのバー状態伝送信号を供給する。本実施
例では、長さL1 およびL2 はそれぞれ、個々の導波管
12、14、18がそれぞれの結合領域16、20で並
列接続する各距離と定義される。この例示的実施例の追
加のパラメータには、約5.0ミクロンの導波管芯線
幅、約9.5ミクロンの芯線の中心間距離がある。
1 、T2 は、いずれも偏光および波長に依存する。特
に、横方向電気(TE)(基板に平行な電界)偏光およ
び横方向磁気(TE)(基板に垂直な電界)偏光は、そ
れぞれの伝送信号T1 、T2 について、異なる伝送損を
有する。同様に、伝送損は、その伝送信号T1 、T2 の
波長によっても変化する。グラフで、伝送信号T1 のT
E偏光およびTM偏光をそれぞれ、実線TE1 、点線T
M1 で示す。伝送信号T2 のTE偏光およびTM偏光を
それぞれ、実線TE2 、点線TM2 で示す。
よび補償伝送信号T2 で実行される出力伝送信号てゃ、
偏光および波長にほぼ依存しない。タップ10のTE偏
光およびTM偏光をそれぞれ、実線50TEおよび点線
50TMで表す。図示のように、TE偏光とTM偏光と
はほぼ等しく、1250〜1350nmの波長を通じて合
計伝送損が約19dbと、ほぼ一定である。したがって、
この例では、偏光および波長にほぼ依存しない伝送信号
Tを生成するために、傍受伝送信号T1 の補償を実行す
るには、バー状態伝送信号T2 で与えられるような、約
−3.6〜3.7dbの追加減衰が必要となる。これは、
波長および偏光の非依存性を達成するのに必要な減衰と
しては、比較的小さい。
の断面積が異なり、その結合パラメータδの値が異なる
と、偏光および波長の依存性を補償することができるの
が分かる。
御する結合パラメータδによってタップの動作を述べる
ことができる、すたわち交差およびバー状態伝送信号が
それぞれsin2(δL)およびcos2(δL)であるその他の導波
管テクノロジーにも、用途がある。たとえば、本発明の
原理は、グループIII〜Vの半導体導波管材料を有す
る光学回路に集積した半導体導波管に用途がある。
ぼ依存しない傍受信号伝送信号を生成するよう、従来の
非集積光ファイバ・ネットワークからの傍受信号にも使
用することができる。
す多くの可能な実施例の1つのみを例示していることが
理解される。当業者なら、本発明の精神および範囲から
逸脱することなく、変化した無数のその他の配置を作成
することができる。
存しない光タップを含む光集積回路の概略図である。
る。
Tを生成するために、図1の光タップの2つの領域が生
成する傍受伝送信号T1、T2のそれぞれの理論計算値を
示すグラフを表わす図である。
レーション実施例の傍受伝送信号T1 、T2 および全体
的出力T(ここでT=T1 T2 )のスペクトルを表す図
である。
Claims (12)
- 【請求項1】 信号出力を傍受する光デバイスであっ
て、 光導波管から信号出力を傍受する第1タップ手段を備
え、前記第1タップ手段が、出力交差状態伝送信号T1
を供給するよう、第2光導波管と結合関係で配置された
入力信号Sを搬送する第1光導波管を含み、さらに前記
第2光導波管からの信号出力を傍受する第2タップ手段
を備え、第2タップが、出力バー状態伝送信号T2 を供
給するよう、前記出力交差状態伝送信号T2 を搬送する
前記第2光学導波管と結合関係で配置された第3光導波
管を含み、前記第1および第2タップ手段が供給する出
力信号Tが、偏光および波長にほぼ依存しないように、
前記バー状態伝送信号T2 が、前記交差状態伝送信号T
2 の波長および偏光に対する依存性を補償する光デバイ
ス。 - 【請求項2】 前記出力交差状態伝送信号T1 および前
記出力バー状態伝送信号T2 が、結合パラメータに対し
て反対の依存性を有する請求項1記載の光デバイス。 - 【請求項3】 前記出力伝送信号Tが、前記出力交差状
態伝送信号T1 と前記出力バー状態伝送信号T2 との積
であると定義される請求項2記載の光デバイス。 - 【請求項4】 前記導波管が、シリコン基板上にドーピ
ングしたシリカを備える請求項3記載の光デバイス。 - 【請求項5】 前記交差状態伝送信号T1 が約−3.0
dbから約−50.0dbの範囲の値を有し、前記バー状態
伝送信号T2 が約−3.0dbから約−4.5dbの範囲で
ある請求項4記載の光デバイス。 - 【請求項6】 信号搬送導波管からの信号出力を傍受す
る光集積デバイスであって、 入力信号Sを搬送する第1光導波管と、 出力交差状態伝送信号T1 を供給するために、前記第1
光導波管の前記入力信号Sと結合する第2光導波管と、 出力バー状態伝送信号T2 を供給するために、前記第2
光導波管の搬送する前記出力交差状態伝送信号T1 と結
合する第3光導波管とを備え、 その結果得られる出力伝送信号Tが、前記交差状態伝送
信号T1 と前記バー状態伝送信号T2 との積と定義さ
れ、前記伝送信号T1 およびT2 の偏光および波長にほ
ぼ依存しない光集積デバイス。 - 【請求項7】 前記第1、第2および第3光導波管が、
シリコン基板上にドーピングしたシリカを備える請求項
6記載の光集積デバイス。 - 【請求項8】 前記第1、第2および第3導波管が、ほ
ぼ同じ幅を有する請求項6記載の光集積デバイス。 - 【請求項9】 前記第1および第2導波管が、結合状態
では第1の既定距離だけ間隔をあけ、前記第2および第
3導波管が、結合状態では第2の既定距離だけ間隔をあ
け、前記第1および第2の既定距離がほぼ等しい請求項
8記載の光集積デバイス。 - 【請求項10】 さらに基板と前記基板上に配置された
被覆層とを備え、前記被覆層が前記光導波管の周囲に配
置された請求項6記載の光集積デバイス。 - 【請求項11】 前記基板がシリコンを備え、前記被覆
層がシリカまたはドーピングしたシリカを備え、前記導
波管がドーピングしたシリカ・ガラスを備える請求項1
0記載の光集積デバイス。 - 【請求項12】 信号搬送導波管から信号出力を傍受
し、偏光および波長にほぼ依存しない傍受信号を供給す
る方法で、 第1光導波管を、入力信号Sを搬送する信号搬送導波管
と第1長さだけ結合して、出力交差状態伝送信号T1 を
生成するステップと、 第2光導波管を、前記交差状態伝送信号T1 を搬送する
前記第1光導波管と第2長さだけ結合して、出力バー状
態伝送信号T2 を生成するステップとを含み、前記第1
光導波管と前記第2光導波管との結合により実現した出
力信号Tが、偏光および波長にほぼ依存しないよう、前
記出力バー状態伝送信号T2 が、前記交差状態伝送信号
T1 の波長および偏光に対する依存度を補償する方法。
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