JP3376565B2 - アルキルアルシン化合物の製造方法 - Google Patents
アルキルアルシン化合物の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 50
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims abstract description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 27
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 9
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 claims 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims 1
- -1 Alkyl arsines Chemical class 0.000 abstract description 19
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 230000001706 oxygenating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 46
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 31
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 24
- OHCFIQBNVPRBOO-UHFFFAOYSA-N tert-butylarsane Chemical compound CC(C)(C)[AsH2] OHCFIQBNVPRBOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 12
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- ZTIWHXYEBIRDIH-UHFFFAOYSA-N ditert-butylarsane Chemical compound CC(C)(C)[AsH]C(C)(C)C ZTIWHXYEBIRDIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 6
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 6
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 5
- OEYOHULQRFXULB-UHFFFAOYSA-N arsenic trichloride Chemical class Cl[As](Cl)Cl OEYOHULQRFXULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001351 alkyl iodides Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical compound CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCYZKGMAIJGVOQ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dichloro)arsane Chemical compound CC(C)(C)[As](Cl)Cl HCYZKGMAIJGVOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWUVJRULCWHUSA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-pentene Chemical compound CCCC(C)=C WWUVJRULCWHUSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N Arsenic acid Chemical compound O[As](O)(O)=O DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 229940000488 arsenic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[C-](C)C CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl chloride Chemical compound CC(C)(C)Cl NBRKLOOSMBRFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTQRGDBFHFYIBH-UHFFFAOYSA-N tert-butylarsenic Chemical compound CC(C)(C)[As] QTQRGDBFHFYIBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- ATQUFXWBVZUTKO-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclopentene Chemical compound CC1=CCCC1 ATQUFXWBVZUTKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWWIWYDDISJUMY-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C(C)=C OWWIWYDDISJUMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHNNAWXXUZQSNM-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-1-ene Chemical compound CCC(C)=C MHNNAWXXUZQSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYKZRKKEYSRDNF-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepentane Chemical compound CCC(=C)CC RYKZRKKEYSRDNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150108397 Abcd2 gene Proteins 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- 229910010199 LiAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012494 Quartz wool Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N arsenous acid Chemical compound O[As](O)O GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- DJRYVDGSBRILHS-UHFFFAOYSA-N but-1-ene;phosphoric acid Chemical compound CCC=C.OP(O)(O)=O DJRYVDGSBRILHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910000078 germane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 1
- 231100000086 high toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- HGAPODIQFTYBIG-UHFFFAOYSA-N methanesulfonic acid;2-methylbut-1-ene Chemical compound CCC(C)=C.CS(O)(=O)=O HGAPODIQFTYBIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000000526 short-path distillation Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- PTLRDCMBXHILCL-UHFFFAOYSA-M sodium arsenite Chemical compound [Na+].[O-][As]=O PTLRDCMBXHILCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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【0001】
【関連出願に対する交差参照】本出願は、我々が1991年
7月11日に出願した共出願中の米国出願連続番号07/728,
501の部分的な継続であり、これと共に同時出願した代
理人処理予定番号31671-01に関連している。
7月11日に出願した共出願中の米国出願連続番号07/728,
501の部分的な継続であり、これと共に同時出願した代
理人処理予定番号31671-01に関連している。
【0002】
【発明の背景】半導体装置、例えば太陽電池およびコン
ピューターチップの製造は、その中の反応体として揮発
性砒素源が有効性を示す有機金属化学蒸着(MOCV
D)の如き方法を通して行われている。上記砒素源は、
更に、上記用途で用いるに適した高純度を有するもので
ある必要がある。典型的には、その揮発性砒素源として
アルシンが用いられてきた。アルシンの使用は、それを
精製するのが困難であるため、そして特に、これは加圧
下の圧縮ガスとして用いられており、それによって引き
起こされる、砒素が示す高い毒性そして大気中にそれが
残存することによる安全性および環境上の危険性のた
め、望ましいものではない。最近になって、アルキルア
ルシン類、特にモノ−第三ブチルアルシンは、それらが
有する低い毒性のため、そして通常の貯蔵および取り扱
い条件下で液状状態で存在していることにより、アルシ
ンに代わるものとして受け入れられてきている。半導体
用途で用いるためのモノアルシン類は、立体異性体また
は他の化学化合物の含有量が最小限であり、特に金属性
もしくは酸化性不純物が本質的に入っていない、高い化
学純度を有するものである必要がある。このような非常
に高い純度を有するモノ−アルキルアルシン類を用いる
ことで、アルシンガスを使用することに関連した健康お
よび環境上の危険無しに、アルシンガスを用いて製造し
た材料と同等か或はそれよりも優れた特性を有する高品
質の半導体材料の製造が可能になる。従って、金属性も
しくは酸化性不純物を実際上全く含んでいない非常に高
純度のモノ−アルシン類を製造するための方法が必要と
されている。
ピューターチップの製造は、その中の反応体として揮発
性砒素源が有効性を示す有機金属化学蒸着(MOCV
D)の如き方法を通して行われている。上記砒素源は、
更に、上記用途で用いるに適した高純度を有するもので
ある必要がある。典型的には、その揮発性砒素源として
アルシンが用いられてきた。アルシンの使用は、それを
精製するのが困難であるため、そして特に、これは加圧
下の圧縮ガスとして用いられており、それによって引き
起こされる、砒素が示す高い毒性そして大気中にそれが
残存することによる安全性および環境上の危険性のた
め、望ましいものではない。最近になって、アルキルア
ルシン類、特にモノ−第三ブチルアルシンは、それらが
有する低い毒性のため、そして通常の貯蔵および取り扱
い条件下で液状状態で存在していることにより、アルシ
ンに代わるものとして受け入れられてきている。半導体
用途で用いるためのモノアルシン類は、立体異性体また
は他の化学化合物の含有量が最小限であり、特に金属性
もしくは酸化性不純物が本質的に入っていない、高い化
学純度を有するものである必要がある。このような非常
に高い純度を有するモノ−アルキルアルシン類を用いる
ことで、アルシンガスを使用することに関連した健康お
よび環境上の危険無しに、アルシンガスを用いて製造し
た材料と同等か或はそれよりも優れた特性を有する高品
質の半導体材料の製造が可能になる。従って、金属性も
しくは酸化性不純物を実際上全く含んでいない非常に高
純度のモノ−アルシン類を製造するための方法が必要と
されている。
【0003】アルキルアルシン類を製造するための1つ
の方法は、三塩化砒素とのグリニヤール反応でアルキル
化された塩化砒素誘導体を製造し、これをLiAl
H4、NaBH4、Zn/NClなどで処理することによ
り、アルキル化された水素化砒素(アルキルアルシン)
に変換する、ことを伴うものである。上記方法を用い
て、Tzschach他、Z. anorg. allgem. Che. 336、 36 (19
65)がモノ−第三ブチルアルシンを製造した。上記方法
で製造されたモノ−第三ブチルアルシンは、特徴的に、
用いられた数多くの試薬および溶媒から派生するゲルマ
ニウムおよび他のドナー不純物を含んでおり、これらは
高品質の半導体の成長には不適合である。
の方法は、三塩化砒素とのグリニヤール反応でアルキル
化された塩化砒素誘導体を製造し、これをLiAl
H4、NaBH4、Zn/NClなどで処理することによ
り、アルキル化された水素化砒素(アルキルアルシン)
に変換する、ことを伴うものである。上記方法を用い
て、Tzschach他、Z. anorg. allgem. Che. 336、 36 (19
65)がモノ−第三ブチルアルシンを製造した。上記方法
で製造されたモノ−第三ブチルアルシンは、特徴的に、
用いられた数多くの試薬および溶媒から派生するゲルマ
ニウムおよび他のドナー不純物を含んでおり、これらは
高品質の半導体の成長には不適合である。
【0004】例えば米国特許番号5,068,372に開示され
ているアルキルアルシン類への代替ルートは、ヨウ化ア
ルキルと亜砒酸ナトリウムとを反応させて、亜砒酸
〔(アルキル)As(OH)2〕を生じさせ、これをL
iAlH4、NaBH4、Zn/HClなどで処理するこ
とにより、相当する(アルキル)AsH2を生じさせる
ことができる。しかしながら、この方法は、ヨウ化第一
アルキルおよびいくつかのヨウ化第二アルキルの使用に
限られており、モノ−第三ブチルアルシンの製造には使
用できない。
ているアルキルアルシン類への代替ルートは、ヨウ化ア
ルキルと亜砒酸ナトリウムとを反応させて、亜砒酸
〔(アルキル)As(OH)2〕を生じさせ、これをL
iAlH4、NaBH4、Zn/HClなどで処理するこ
とにより、相当する(アルキル)AsH2を生じさせる
ことができる。しかしながら、この方法は、ヨウ化第一
アルキルおよびいくつかのヨウ化第二アルキルの使用に
限られており、モノ−第三ブチルアルシンの製造には使
用できない。
【0005】二者択一的に、液状(米国特許番号4,857,
655)または固体状(米国特許番号5,003,093)の酸触媒
を含んでいる液相中で、適当なオレフィンとアルシンと
を反応させることが可能である。これらの方法を用いる
ことで、高純度のモノ−第三ブチルアルシンを製造する
ことが可能である。しかしながら、濃縮した相の反応物
中で容易にジ−第三ブチルアルシンが生じるため、高ア
ルシン圧(400psi)および過剰のアルシンを用い
る必要があるが、これを回収し再利用するのは困難であ
る。高アルシン圧を用いたとしても、得られるモノ−/
ジ−第三ブチルアルシン比は、最大でも約3/1であ
る。この望まれていないジ−第三ブチルアルシンが生成
して来ることで、所望のモノ−第三ブチルアルシンの収
率が低下する。従って、濃縮相中でモノ−第三ブチルア
ルシンを酸触媒製造することは、圧縮アルシンを用いる
ことによる安全に関する極度の危険性が伴うと共に、モ
ノ−第三ブチルアルシンに加えて他の有機アルシン生成
物が生成して来ることで、砒酸化(arsenated)種を含
有している多量の酸性水廃棄物を処分することによる、
廃棄に関する重大な問題を伴う。
655)または固体状(米国特許番号5,003,093)の酸触媒
を含んでいる液相中で、適当なオレフィンとアルシンと
を反応させることが可能である。これらの方法を用いる
ことで、高純度のモノ−第三ブチルアルシンを製造する
ことが可能である。しかしながら、濃縮した相の反応物
中で容易にジ−第三ブチルアルシンが生じるため、高ア
ルシン圧(400psi)および過剰のアルシンを用い
る必要があるが、これを回収し再利用するのは困難であ
る。高アルシン圧を用いたとしても、得られるモノ−/
ジ−第三ブチルアルシン比は、最大でも約3/1であ
る。この望まれていないジ−第三ブチルアルシンが生成
して来ることで、所望のモノ−第三ブチルアルシンの収
率が低下する。従って、濃縮相中でモノ−第三ブチルア
ルシンを酸触媒製造することは、圧縮アルシンを用いる
ことによる安全に関する極度の危険性が伴うと共に、モ
ノ−第三ブチルアルシンに加えて他の有機アルシン生成
物が生成して来ることで、砒酸化(arsenated)種を含
有している多量の酸性水廃棄物を処分することによる、
廃棄に関する重大な問題を伴う。
【0006】従って、本発明の1つの目的は、所望のア
ルキルアルシン、特にモノ−第三ブチルアルシンに対し
て高度の選択性を示すと共に、比較的高い品質を有する
生成物を高収率で与え、それによってコストのかかる精
製操作を必要としない、方法を提供することにある。本
発明の更に一層の目的は、高い反応(アルシン)圧力を
必要としない方法を提供することにある。本発明の別の
目的は、有意量の反応体および/または副生成物の処分
を必要としない方法を提供することにある。本発明の更
に別の目的は、連続様式で行うことが可能なアルキルア
ルシン類の製造方法を提供することにある。
ルキルアルシン、特にモノ−第三ブチルアルシンに対し
て高度の選択性を示すと共に、比較的高い品質を有する
生成物を高収率で与え、それによってコストのかかる精
製操作を必要としない、方法を提供することにある。本
発明の更に一層の目的は、高い反応(アルシン)圧力を
必要としない方法を提供することにある。本発明の別の
目的は、有意量の反応体および/または副生成物の処分
を必要としない方法を提供することにある。本発明の更
に別の目的は、連続様式で行うことが可能なアルキルア
ルシン類の製造方法を提供することにある。
【0007】
【発明の要約】本発明は、ブレンステッド酸(Bronsted
acid)触媒上でオレフィンとアルシンとを気相中で接
触させることを含む、アルキルアルシン類の製造を意図
したものである。
acid)触媒上でオレフィンとアルシンとを気相中で接
触させることを含む、アルキルアルシン類の製造を意図
したものである。
【0008】本発明は更に、連続様式でアルキルアルシ
ン類を製造することを意図したものである。
ン類を製造することを意図したものである。
【0009】本発明は更に、アルキルアルシン類の全製
造に対してモノ−アルキルアルシン類を選択的に製造す
ることを意図したものである。
造に対してモノ−アルキルアルシン類を選択的に製造す
ることを意図したものである。
【0010】
【好適な具体例を含む発明の記述】ここで用いる言葉
「オレフィン」には、単一のエチレン系二重結合を有す
る炭化水素、例えばノルマルおよび分枝鎖脂肪族オレフ
ィン類、環状脂肪族オレフィン類、アリール置換オレフ
ィン類などが含まれる。
「オレフィン」には、単一のエチレン系二重結合を有す
る炭化水素、例えばノルマルおよび分枝鎖脂肪族オレフ
ィン類、環状脂肪族オレフィン類、アリール置換オレフ
ィン類などが含まれる。
【0011】揮発し得るものであり、それによってブレ
ンステッド酸触媒に接触し、アルシンと反応してアルキ
ルアルシン類を生じる、如何なるオレフィンも、本方法
で用いることができる。
ンステッド酸触媒に接触し、アルシンと反応してアルキ
ルアルシン類を生じる、如何なるオレフィンも、本方法
で用いることができる。
【0012】好適には少なくとも3個の炭素原子を有す
るオレフィン類を本方法で用いる。3から約12個の炭
素原子を有するオレフィン類がより好適であり、3から
約6個の炭素原子を有するオレフィン類が特に好適であ
る。
るオレフィン類を本方法で用いる。3から約12個の炭
素原子を有するオレフィン類がより好適であり、3から
約6個の炭素原子を有するオレフィン類が特に好適であ
る。
【0013】本発明に従うモノ−アルキルアルシン類を
製造するに好適なノルマルおよび分枝鎖脂肪族オレフィ
ン類には、例えばプロペン、1−ブテン、2−ブテン、
2−メチル−1−プロペン、2−メチル−1−ブテン、
2,3−ジメチル−1−ブテン、2−エチル−1−ブテ
ン、2−メチル−1−ペンテンなどが含まれる。最も好
適には、2−メチル−1−プロペンが本発明の実施で用
いられるオレフィンである。
製造するに好適なノルマルおよび分枝鎖脂肪族オレフィ
ン類には、例えばプロペン、1−ブテン、2−ブテン、
2−メチル−1−プロペン、2−メチル−1−ブテン、
2,3−ジメチル−1−ブテン、2−エチル−1−ブテ
ン、2−メチル−1−ペンテンなどが含まれる。最も好
適には、2−メチル−1−プロペンが本発明の実施で用
いられるオレフィンである。
【0014】本発明のオレフィン反応体として有効な環
状脂肪族オレフィン類には、例えばシクロペンテン、シ
クロヘキセン、2−メチルシクロペンテンなどが含まれ
る。ここで用いる言葉「アルシン」は、三水素化砒素A
sH3を意味している。ここで用いる言葉「モノ−アル
キルアルシン」は、式R1AsH2〔式中、R1は、該オ
レフィンへのAsH2マルコーヴニコフ付加によって上
記オレフィン類の1つから誘導されるアルキルもしくは
シクロアルキル部分である〕を有する化合物を意味して
いる。ここで用いる言葉「ジ−アルキルアルシン」は、
式R1R2AsH〔式中、R1は前と同じであり、そして
R2は、7個以下の炭素を有するアルキル部分である〕
を有する化合物を意味している。
状脂肪族オレフィン類には、例えばシクロペンテン、シ
クロヘキセン、2−メチルシクロペンテンなどが含まれ
る。ここで用いる言葉「アルシン」は、三水素化砒素A
sH3を意味している。ここで用いる言葉「モノ−アル
キルアルシン」は、式R1AsH2〔式中、R1は、該オ
レフィンへのAsH2マルコーヴニコフ付加によって上
記オレフィン類の1つから誘導されるアルキルもしくは
シクロアルキル部分である〕を有する化合物を意味して
いる。ここで用いる言葉「ジ−アルキルアルシン」は、
式R1R2AsH〔式中、R1は前と同じであり、そして
R2は、7個以下の炭素を有するアルキル部分である〕
を有する化合物を意味している。
【0015】本発明で用いる触媒は、固体状形態の非酸
化性強ブレンステッド酸である。適切な酸は、興味の持
たれているオレフィンをプロトン化して、アルシンまた
はモノ−アルキルアルシンによって捕捉され得るカチオ
ン中間体を生じさせる酸類である。
化性強ブレンステッド酸である。適切な酸は、興味の持
たれているオレフィンをプロトン化して、アルシンまた
はモノ−アルキルアルシンによって捕捉され得るカチオ
ン中間体を生じさせる酸類である。
【0016】本方法で用いる触媒は、固体状の酸または
非結晶性シリコアルミネート(silicoaluminate)また
はヘテロポリアシッド(heteropolyacid)などであって
もよい。
非結晶性シリコアルミネート(silicoaluminate)また
はヘテロポリアシッド(heteropolyacid)などであって
もよい。
【0017】本方法で用いる触媒はまた、固体状の分子
ブレンステッド酸、例えばポリマー状の酸誘導体であっ
てもよい。好適なポリマーブレンステッド酸には、Aldr
ichChemical Co., Inc.が市販しているAmberlystRおよ
びNafionRなどが含まれる。
ブレンステッド酸、例えばポリマー状の酸誘導体であっ
てもよい。好適なポリマーブレンステッド酸には、Aldr
ichChemical Co., Inc.が市販しているAmberlystRおよ
びNafionRなどが含まれる。
【0018】二者択一的に、本発明で用いる触媒は、固
体状支持体の上に吸収されている、非酸化性で液状の強
ブレンステッド酸、例えば燐酸、ケイ酸、メタンスルホ
ン酸、砒酸などを含んでいてもよい。本発明の方法で用
いる上記ブレンステッド酸を支える目的で用いられる材
料の例には、シリカ、混合無機酸化物、モントモリロナ
イトなどが含まれる。
体状支持体の上に吸収されている、非酸化性で液状の強
ブレンステッド酸、例えば燐酸、ケイ酸、メタンスルホ
ン酸、砒酸などを含んでいてもよい。本発明の方法で用
いる上記ブレンステッド酸を支える目的で用いられる材
料の例には、シリカ、混合無機酸化物、モントモリロナ
イトなどが含まれる。
【0019】好適な触媒は、燐酸、砒酸およびスルホン
酸である。特に好適なものは燐酸である。前に述べたよ
うに、この触媒は固体状形態で存在している。従って、
液状の触媒、例えば燐酸を、好適には固体状支持体、例
えばケイソウ土またはシリカゲルに結合させる。適切な
燐酸触媒は、商標UPO-SPAの下でUOPから商業的に入手可
能である。適切な固体状スルホン酸触媒は、商標NAFION
HRの下でAlfa Inorganics Co.から入手可能である。
酸である。特に好適なものは燐酸である。前に述べたよ
うに、この触媒は固体状形態で存在している。従って、
液状の触媒、例えば燐酸を、好適には固体状支持体、例
えばケイソウ土またはシリカゲルに結合させる。適切な
燐酸触媒は、商標UPO-SPAの下でUOPから商業的に入手可
能である。適切な固体状スルホン酸触媒は、商標NAFION
HRの下でAlfa Inorganics Co.から入手可能である。
【0020】この触媒は、好適には、該反応体に暴露さ
れる表面積が最大になるような形態で存在している。押
出し物、フレーク、ペレット、粉末、または何らかの形
状を有する粒状物を含む、何らかの適切な形態を有する
酸単独、或は支持体上の酸が用いられ得る。押出し物の
形態の触媒を用いるのが好適である。好適な燐酸触媒の
場合、8から18メッシュ(V.S.)の粒子を用いる
のが特に有効であるのが見いだされた。このような大き
さを有する触媒粒子は、このシステム中で許容される圧
力低下を生じさせるのみでなく、このシステム全体を移
動しないようにするに充分な大きさを有するものである
ことが見いだされた。
れる表面積が最大になるような形態で存在している。押
出し物、フレーク、ペレット、粉末、または何らかの形
状を有する粒状物を含む、何らかの適切な形態を有する
酸単独、或は支持体上の酸が用いられ得る。押出し物の
形態の触媒を用いるのが好適である。好適な燐酸触媒の
場合、8から18メッシュ(V.S.)の粒子を用いる
のが特に有効であるのが見いだされた。このような大き
さを有する触媒粒子は、このシステム中で許容される圧
力低下を生じさせるのみでなく、このシステム全体を移
動しないようにするに充分な大きさを有するものである
ことが見いだされた。
【0021】望まれるならば、本発明で用いる固体状触
媒が示す選択性、反応性、寿命などを上昇させる目的
で、この触媒の前処理を行ってもよい。例えば、上に挙
げた好適なUOP-SPA触媒を用いる場合、触媒床を約80
℃の温度で数時間アルシン−オレフィン混合物に暴露す
ることにより、この触媒床を前処理するのが望ましいこ
とが見いだされた。
媒が示す選択性、反応性、寿命などを上昇させる目的
で、この触媒の前処理を行ってもよい。例えば、上に挙
げた好適なUOP-SPA触媒を用いる場合、触媒床を約80
℃の温度で数時間アルシン−オレフィン混合物に暴露す
ることにより、この触媒床を前処理するのが望ましいこ
とが見いだされた。
【0022】本方法は、半バッチ式または連続様式で行
われる。特に高純度のモノ−アルキルアルシン類、特に
ジアルキルアルシン副生成物が本質的に入っていないモ
ノ−アルキルアルシン類を得ることが望まれている場
合、本方法を連続様式で行うのが好適である。
われる。特に高純度のモノ−アルキルアルシン類、特に
ジアルキルアルシン副生成物が本質的に入っていないモ
ノ−アルキルアルシン類を得ることが望まれている場
合、本方法を連続様式で行うのが好適である。
【0023】本方法を半バッチ式で行う場合、反応容器
中に液状の反応生成物が蓄積している間の、気体状反応
体と触媒との充分な接触が生じるのを確実にするために
は、触媒設置および反応体ガスの撹拌に適した方策を取
る必要がある。
中に液状の反応生成物が蓄積している間の、気体状反応
体と触媒との充分な接触が生じるのを確実にするために
は、触媒設置および反応体ガスの撹拌に適した方策を取
る必要がある。
【0024】本方法を連続様式で行うためには、この触
媒の上に気体状アルシン−オレフィン混合物を通すため
の手段、並びに生成して来るアルキルアルシン生成物を
集めるための手段が備わっているところの、固体状のブ
レンステッド酸触媒が入っている反応槽チャンバが備わ
っている装置が必要である。
媒の上に気体状アルシン−オレフィン混合物を通すため
の手段、並びに生成して来るアルキルアルシン生成物を
集めるための手段が備わっているところの、固体状のブ
レンステッド酸触媒が入っている反応槽チャンバが備わ
っている装置が必要である。
【0025】本方法を連続様式で実施するために用いら
れる反応槽の種類は決定的でない。固定流動床または沸
騰床が用いられ得る。
れる反応槽の種類は決定的でない。固定流動床または沸
騰床が用いられ得る。
【0026】15℃から約220℃の範囲の反応温度を
用いて、本方法をバッチ式もしくは連続様式で実施して
もよい。好適な温度は約60℃から約195℃である。
最適反応温度は、用いるオレフィン、触媒の種類、およ
び反応槽の種類に依存している。望まれるならば、改良
された選択性、反応性、或は他の所望の反応特性を得る
目的で、この触媒床を加熱してもよい。これらの反応体
を前加熱するか、或はこの反応容器内の補助ヒーターを
用いるか、或は両方を用いることによって加熱してもよ
い。
用いて、本方法をバッチ式もしくは連続様式で実施して
もよい。好適な温度は約60℃から約195℃である。
最適反応温度は、用いるオレフィン、触媒の種類、およ
び反応槽の種類に依存している。望まれるならば、改良
された選択性、反応性、或は他の所望の反応特性を得る
目的で、この触媒床を加熱してもよい。これらの反応体
を前加熱するか、或はこの反応容器内の補助ヒーターを
用いるか、或は両方を用いることによって加熱してもよ
い。
【0027】本発明をバッチ式もしくは連続様式で実施
する場合、高いアルシンもしくはオレフィン圧力を用い
る必要はない。必要なのは、単に、この触媒の上を反応
体が連続様式で充分に流れることを確実にするに足りる
程の圧力を用いることである。高いアルシン圧が必要と
されていないため、本発明の実施では圧縮アルシンガス
を用いる必要がない。アルシンとオレフィンとの全圧が
約1psigから約25psigであるのが好適であ
り、約10psigから約20psigの範囲の圧力が
特に好適である。全圧を約25psig以上にすること
も可能であるが、本発明の実施では必要でないか或は望
ましくない。
する場合、高いアルシンもしくはオレフィン圧力を用い
る必要はない。必要なのは、単に、この触媒の上を反応
体が連続様式で充分に流れることを確実にするに足りる
程の圧力を用いることである。高いアルシン圧が必要と
されていないため、本発明の実施では圧縮アルシンガス
を用いる必要がない。アルシンとオレフィンとの全圧が
約1psigから約25psigであるのが好適であ
り、約10psigから約20psigの範囲の圧力が
特に好適である。全圧を約25psig以上にすること
も可能であるが、本発明の実施では必要でないか或は望
ましくない。
【0028】本方法をバッチ式もしくは連続様式で実施
する場合、用いる触媒の量、および反応槽中のアルシン
−オレフィン試薬の滞留時間は決定的でない。通常、連
続様式を用いる場合、アルシン−オレフィンからモノ−
アルキルアルシンへの奇麗で高いワンパス(one-pass)
変換を生じさせるように、触媒体積および滞留時間を調
節するのが望ましい。
する場合、用いる触媒の量、および反応槽中のアルシン
−オレフィン試薬の滞留時間は決定的でない。通常、連
続様式を用いる場合、アルシン−オレフィンからモノ−
アルキルアルシンへの奇麗で高いワンパス(one-pass)
変換を生じさせるように、触媒体積および滞留時間を調
節するのが望ましい。
【0029】本方法を連続様式で行う場合、生成物の収
集方法は決定的でない。好適な収集方法では、該触媒と
の接触を生じさせた後、アルキルアルシン含有ガス流を
冷却し、その結果として高沸点のアルキルアルシン生成
物の濃縮を生じさせることにより、これをそのガス流か
ら取り出す。このような生成物の濃縮で用いる温度は決
定的でない。モノ−アルキルアルシン生成物の濃縮を生
じさせるには充分に低いが、反応体であるアルシンとオ
レフィンの濃縮も生じさせる程には低くない、収集温度
を用いるのが望ましい。モノ−アルキルアルシン類のみ
を濃縮させた場合、精製が簡潔化され、そして望まれる
ならば、アルシンとオレフィン反応体の再利用が容易に
なる。
集方法は決定的でない。好適な収集方法では、該触媒と
の接触を生じさせた後、アルキルアルシン含有ガス流を
冷却し、その結果として高沸点のアルキルアルシン生成
物の濃縮を生じさせることにより、これをそのガス流か
ら取り出す。このような生成物の濃縮で用いる温度は決
定的でない。モノ−アルキルアルシン生成物の濃縮を生
じさせるには充分に低いが、反応体であるアルシンとオ
レフィンの濃縮も生じさせる程には低くない、収集温度
を用いるのが望ましい。モノ−アルキルアルシン類のみ
を濃縮させた場合、精製が簡潔化され、そして望まれる
ならば、アルシンとオレフィン反応体の再利用が容易に
なる。
【0030】本方法を連続様式で行うに好適な装置に
は、オレフィンとアルシンとを結合させてアルキルアル
シンを生じさせる条件下の触媒床上に一定組成のアルシ
ン−オレフィン混合物を循環させる手段、この触媒チャ
ンバから出るガス混合物から生じて来るアルキルアルシ
ンを濃縮するための手段、そして未反応のアルシン−オ
レフィン混合物を再利用するための手段、が備わってい
る。これらの反応体ガスの全てが該触媒床を通ってワン
パスで該触媒に接触することを保証するように、触媒の
位置および循環率を計画するのが好適である。更に、で
きるだけ多くのアルキルアルシン生成物を濃縮させる
が、反応体であるアルシン−オレフィン混合物を濃縮さ
せない、濃縮システムを計画するのが好適である。上述
した方法で未反応のアルシン−オレフィン混合物を再利
用することにより、望まれていないジ−第三ブチルアル
シンの生成を最小限にすると共に、未反応のアルシンガ
スを処理することの必要性を最小限にしながら、所望の
モノ−第三ブチルアルシンを高収率で得ることが可能に
なる。
は、オレフィンとアルシンとを結合させてアルキルアル
シンを生じさせる条件下の触媒床上に一定組成のアルシ
ン−オレフィン混合物を循環させる手段、この触媒チャ
ンバから出るガス混合物から生じて来るアルキルアルシ
ンを濃縮するための手段、そして未反応のアルシン−オ
レフィン混合物を再利用するための手段、が備わってい
る。これらの反応体ガスの全てが該触媒床を通ってワン
パスで該触媒に接触することを保証するように、触媒の
位置および循環率を計画するのが好適である。更に、で
きるだけ多くのアルキルアルシン生成物を濃縮させる
が、反応体であるアルシン−オレフィン混合物を濃縮さ
せない、濃縮システムを計画するのが好適である。上述
した方法で未反応のアルシン−オレフィン混合物を再利
用することにより、望まれていないジ−第三ブチルアル
シンの生成を最小限にすると共に、未反応のアルシンガ
スを処理することの必要性を最小限にしながら、所望の
モノ−第三ブチルアルシンを高収率で得ることが可能に
なる。
【0031】本発明の特に好適な連続具体例では、図1
に示す装置を用いる。この装置には、プレヒーター
(1)、加熱されている反応槽チャンバ(2)、冷蔵さ
れているコンデンサ(3)、質量流量計/調節装置
(4)、循環ポンプ(5)、安定器(6)、熱電対
(7)、(8)および(9)、並びに圧力計(10)が
備わっている循環ループが含まれている。この反応体フ
ィードシステムには、貯蔵槽(12)、圧力計(1
1)、質量流量計/調節装置(13)、アルシン用フィ
ードライン(25)、窒素用フィードライン(26)、
オレフィン用フィードライン(27)および(28)、
真空ポンプへのライン(図中には示されていない)、お
よび真空計(24)が備わっている。この生成物貯蔵槽
(30)は、バルブ(16)および(18)を通してコ
ンデンサシステムに連結している。バルブ(21)、
(22)、(23)、(29)、(14)、(20)、
(19)および(17)は、空気作動型のものである。
バルブ(15)を通してコンデンサ(3)から貯蔵槽
(30)に、生成物を定期的もしくは連続的に移しても
よい。最初に、反応槽(2)に触媒を仕込んだ後、空気
を除去する目的で、バルブ(23)を通してこの全シス
テムの排気を行う。この圧力を真空計(24)で監視す
る。好適な固体状燐酸触媒を用いる場合、上述したよう
に、低温でこれを反応体ガス混合物に暴露しそしてポン
プ(5)で循環させることにより、予め条件付けする。
この触媒床を予め条件付けした後、予め加熱した反応ガ
ス混合物を、反応槽オーブン(29)で工程温度に維持
されている反応槽(2)に導入する。このアルキルアル
シン生成物を含んでいる反応槽排出物を、次に、コンデ
ンサ(3)中で冷却し、ここで生成物を濃縮させた後、
それの底部で集める。この残存している反応体含有ガス
流をポンプで安定器(6)に輸送した後、プレヒーター
(1)に戻す。バルブ(29a)を用い、質量流量計/
調節装置(13)を通して、該安定器から補給用反応体
ガス混合物を連続注入することにより、この循環ループ
中の圧力を一定レベルに維持する。このループ中の循環
率を測定し、そして質量流量計/調節装置(4)で調節
する。反応体ガス貯蔵装置(12)か、或は反応体ガス
フィードライン(25)、(26)、(27)または
(28)を用いて、この補給用反応体ガス混合物を供給
することができる。
に示す装置を用いる。この装置には、プレヒーター
(1)、加熱されている反応槽チャンバ(2)、冷蔵さ
れているコンデンサ(3)、質量流量計/調節装置
(4)、循環ポンプ(5)、安定器(6)、熱電対
(7)、(8)および(9)、並びに圧力計(10)が
備わっている循環ループが含まれている。この反応体フ
ィードシステムには、貯蔵槽(12)、圧力計(1
1)、質量流量計/調節装置(13)、アルシン用フィ
ードライン(25)、窒素用フィードライン(26)、
オレフィン用フィードライン(27)および(28)、
真空ポンプへのライン(図中には示されていない)、お
よび真空計(24)が備わっている。この生成物貯蔵槽
(30)は、バルブ(16)および(18)を通してコ
ンデンサシステムに連結している。バルブ(21)、
(22)、(23)、(29)、(14)、(20)、
(19)および(17)は、空気作動型のものである。
バルブ(15)を通してコンデンサ(3)から貯蔵槽
(30)に、生成物を定期的もしくは連続的に移しても
よい。最初に、反応槽(2)に触媒を仕込んだ後、空気
を除去する目的で、バルブ(23)を通してこの全シス
テムの排気を行う。この圧力を真空計(24)で監視す
る。好適な固体状燐酸触媒を用いる場合、上述したよう
に、低温でこれを反応体ガス混合物に暴露しそしてポン
プ(5)で循環させることにより、予め条件付けする。
この触媒床を予め条件付けした後、予め加熱した反応ガ
ス混合物を、反応槽オーブン(29)で工程温度に維持
されている反応槽(2)に導入する。このアルキルアル
シン生成物を含んでいる反応槽排出物を、次に、コンデ
ンサ(3)中で冷却し、ここで生成物を濃縮させた後、
それの底部で集める。この残存している反応体含有ガス
流をポンプで安定器(6)に輸送した後、プレヒーター
(1)に戻す。バルブ(29a)を用い、質量流量計/
調節装置(13)を通して、該安定器から補給用反応体
ガス混合物を連続注入することにより、この循環ループ
中の圧力を一定レベルに維持する。このループ中の循環
率を測定し、そして質量流量計/調節装置(4)で調節
する。反応体ガス貯蔵装置(12)か、或は反応体ガス
フィードライン(25)、(26)、(27)または
(28)を用いて、この補給用反応体ガス混合物を供給
することができる。
【0032】直ぐ上に記述した如き好適な連続反応様式
および装置で、アルシンと2−メチル−1−プロペンか
らモノ−第三ブチルアルシンを生じさせる場合、モノ−
およびジ−第三ブチルアルシンの混合物が、消費された
アルシンを基準にして90重量%以上、そして消費され
たオレフィンを基準にして90%以上の収率で得られ
る。これらのモノ−およびジ−第三ブチルアルシン類
は、ジ−に対するモノ−の比率が10以上、そして60
の如く高い比率で生じる。この得られるモノ−とジ−第
三ブチルアルシンの混合物は、典型的には、溶解してい
る若干の2−メチル−1−プロペンを含んでいるが、ゲ
ルマニウム、硫黄、金属性もしくは酸化性不純物のレベ
ルは非常に低い、即ち約1ppm未満である。好適な連
続様式および装置において、この装置内のより高い反応
槽床温度およびより低い循環率が、高いモノ−/ジ−第
三ブチルアルシン比にとって好適であることが見いださ
れた。触媒がその使用寿命の最終に近くなるにつれてモ
ノ−/ジ−比率が低下し、従来技術の液相方法に特徴的
な値に近付く。
および装置で、アルシンと2−メチル−1−プロペンか
らモノ−第三ブチルアルシンを生じさせる場合、モノ−
およびジ−第三ブチルアルシンの混合物が、消費された
アルシンを基準にして90重量%以上、そして消費され
たオレフィンを基準にして90%以上の収率で得られ
る。これらのモノ−およびジ−第三ブチルアルシン類
は、ジ−に対するモノ−の比率が10以上、そして60
の如く高い比率で生じる。この得られるモノ−とジ−第
三ブチルアルシンの混合物は、典型的には、溶解してい
る若干の2−メチル−1−プロペンを含んでいるが、ゲ
ルマニウム、硫黄、金属性もしくは酸化性不純物のレベ
ルは非常に低い、即ち約1ppm未満である。好適な連
続様式および装置において、この装置内のより高い反応
槽床温度およびより低い循環率が、高いモノ−/ジ−第
三ブチルアルシン比にとって好適であることが見いださ
れた。触媒がその使用寿命の最終に近くなるにつれてモ
ノ−/ジ−比率が低下し、従来技術の液相方法に特徴的
な値に近付く。
【0033】望まれるならば、試薬としてモノ−アルキ
ルアルシンとオレフィンの両方を気相で輸送することが
可能なモノ−アルキルアルシンとオレフィンを用いて、
本方法を実施することにより、ジ−アルキルアルシンを
生じさせることも可能である。このように、モノ−第三
ブチルアルシンと2−メチル−1−プロペンとの反応で
ジ−第三ブチルアルシンが生じる。
ルアルシンとオレフィンの両方を気相で輸送することが
可能なモノ−アルキルアルシンとオレフィンを用いて、
本方法を実施することにより、ジ−アルキルアルシンを
生じさせることも可能である。このように、モノ−第三
ブチルアルシンと2−メチル−1−プロペンとの反応で
ジ−第三ブチルアルシンが生じる。
【0034】本発明に従って製造されたモノ−アルキル
アルシン類、特にモノ−第三ブチルアルシンは、有機金
属化学蒸着(MOCVD)における揮発性砒素源として
用いられ得る。MOCVDを用いた半導体製造における
モノ−第三ブチルアルシンの使用は、公開されたヨーロ
ッパ特許出願番号296,257に記述されている。
アルシン類、特にモノ−第三ブチルアルシンは、有機金
属化学蒸着(MOCVD)における揮発性砒素源として
用いられ得る。MOCVDを用いた半導体製造における
モノ−第三ブチルアルシンの使用は、公開されたヨーロ
ッパ特許出願番号296,257に記述されている。
【0035】このMOCVD方法を意図した開示を、米
国特許番号4,368,098および4,404,265に見いだすことが
可能であり、これらの内容は明らかにここでは参照に入
れられる。このMOCVD技術で製造される半導体材
料、例えば砒化ガリウム(GaAs)は、典型的には、
電気的活性を示す元素不純物、例えば気体状砒素源中に
同じ元素を含んでいる揮発性不純物から派生するゲルマ
ニウム、シリコン、炭素および硫黄で汚染されているこ
とが確認されている。例えば、アルシンガスは、典型的
に、ゲルマン〔GeH4〕として存在している予測不可
能レベルのゲルマニウムで汚染されている。このよう
に、高純度の気体源が必要とされており、特に有害な量
の硫黄、ゲルマニウム、金属性および酸化性不純物〔こ
れらの全ての不純物は、半導体材料の電気特性に悪影響
を与える〕を含んでいない気体源が必要とされている。
従来技術の操作で得られるモノ−第三ブチルアルシンの
特徴は、高純度の砒化ガリウムおよびそれに関連した構
造物を製造するに適切な高純度の材料を得るためには、
時間のかかる精製が必要とされていることである。
国特許番号4,368,098および4,404,265に見いだすことが
可能であり、これらの内容は明らかにここでは参照に入
れられる。このMOCVD技術で製造される半導体材
料、例えば砒化ガリウム(GaAs)は、典型的には、
電気的活性を示す元素不純物、例えば気体状砒素源中に
同じ元素を含んでいる揮発性不純物から派生するゲルマ
ニウム、シリコン、炭素および硫黄で汚染されているこ
とが確認されている。例えば、アルシンガスは、典型的
に、ゲルマン〔GeH4〕として存在している予測不可
能レベルのゲルマニウムで汚染されている。このよう
に、高純度の気体源が必要とされており、特に有害な量
の硫黄、ゲルマニウム、金属性および酸化性不純物〔こ
れらの全ての不純物は、半導体材料の電気特性に悪影響
を与える〕を含んでいない気体源が必要とされている。
従来技術の操作で得られるモノ−第三ブチルアルシンの
特徴は、高純度の砒化ガリウムおよびそれに関連した構
造物を製造するに適切な高純度の材料を得るためには、
時間のかかる精製が必要とされていることである。
【0036】例えば、上述した好適な連続様式を用いた
本発明の方法で得られるモノ−第三ブチルアルシンを、
時間のかかる精製無しに用いて、高純度の砒化ガリウム
薄フィルムをMOCVDで製造することができる。これ
によって製造が簡単になり、そして用いた砒素を基準に
した砒化ガリウムの収率が上昇する。
本発明の方法で得られるモノ−第三ブチルアルシンを、
時間のかかる精製無しに用いて、高純度の砒化ガリウム
薄フィルムをMOCVDで製造することができる。これ
によって製造が簡単になり、そして用いた砒素を基準に
した砒化ガリウムの収率が上昇する。
【0037】望まれるならば、上述した好適な連続様式
を用いた本発明の方法で得られるモノ−第三ブチルアル
シンおよび他のモノ−アルキルアルシン類を、蒸留で更
に精製することも可能である。蒸留方法は決定的でない
が、光および空気への暴露は避けるべきである。
を用いた本発明の方法で得られるモノ−第三ブチルアル
シンおよび他のモノ−アルキルアルシン類を、蒸留で更
に精製することも可能である。蒸留方法は決定的でない
が、光および空気への暴露は避けるべきである。
【0038】以下に示す実施例は説明の目的で挙げるも
のであり、添付請求の範囲に挙げるものを除き、本発明
における制限となるものであると解釈すべきではない。
全ての部およびパーセントは、特に明記されていない限
り重量である。
のであり、添付請求の範囲に挙げるものを除き、本発明
における制限となるものであると解釈すべきではない。
全ての部およびパーセントは、特に明記されていない限
り重量である。
【0039】
【実施例】実施例1
図1に示す装置を用いる。用いる原料はVLSIグレー
ドのアルシンとCPグレードの2−メチル−1−プロペ
ンである。43部のUOPSPA-1触媒(8−18メッシュ)
を反応槽に充填する。この装置全体を1時間、0.01
psigおよび周囲温度で排気する。次に、プレヒータ
ー、反応槽およびコンデンサの圧力をアルシンで10p
sigにした後、モル比が10/1のアルシン/2−メ
チル−1−プロペンガス混合物を用いて、安定器の圧力
を15psigにする。コンデンサを4℃に維持しそし
て反応槽をゆっくりと49℃に暖めながら、該安定器中
のガス混合物を、該プレヒーター、反応槽、コンデン
サ、ポンプおよび安定器から成るループを通して、5L
/分の速度で循環させる。1/1モルのアルシン/2−
メチル−1−プロペン混合物(反応体混合物)を連続的
に添加することにより、このループ内の圧力を15ps
igに維持する。次の5時間の間に、この反応槽の温度
を徐々に上昇させて126℃にする。このような触媒条
件付け操作の後、この反応槽の温度を160−164℃
に上昇させ、そしてこれを維持しながら、この圧力を1
5−17psigの範囲に維持するに充分な速度で、該
反応混合物を該ループの中に送り込む。操作を2時間行
った後、集められた82部の生成物を、ステンレス鋼製
の貯蔵容器に移す。粗生成物中のモノ−/ジ−第三ブチ
ルアルシンの比率は46/1である。この粗生成物をG
aAsのMOCVD成長で用いる。平均で110,00
0cm2/V−秒(77°K)の移動度を有するn型G
aAsが得られる。
ドのアルシンとCPグレードの2−メチル−1−プロペ
ンである。43部のUOPSPA-1触媒(8−18メッシュ)
を反応槽に充填する。この装置全体を1時間、0.01
psigおよび周囲温度で排気する。次に、プレヒータ
ー、反応槽およびコンデンサの圧力をアルシンで10p
sigにした後、モル比が10/1のアルシン/2−メ
チル−1−プロペンガス混合物を用いて、安定器の圧力
を15psigにする。コンデンサを4℃に維持しそし
て反応槽をゆっくりと49℃に暖めながら、該安定器中
のガス混合物を、該プレヒーター、反応槽、コンデン
サ、ポンプおよび安定器から成るループを通して、5L
/分の速度で循環させる。1/1モルのアルシン/2−
メチル−1−プロペン混合物(反応体混合物)を連続的
に添加することにより、このループ内の圧力を15ps
igに維持する。次の5時間の間に、この反応槽の温度
を徐々に上昇させて126℃にする。このような触媒条
件付け操作の後、この反応槽の温度を160−164℃
に上昇させ、そしてこれを維持しながら、この圧力を1
5−17psigの範囲に維持するに充分な速度で、該
反応混合物を該ループの中に送り込む。操作を2時間行
った後、集められた82部の生成物を、ステンレス鋼製
の貯蔵容器に移す。粗生成物中のモノ−/ジ−第三ブチ
ルアルシンの比率は46/1である。この粗生成物をG
aAsのMOCVD成長で用いる。平均で110,00
0cm2/V−秒(77°K)の移動度を有するn型G
aAsが得られる。
【0040】実施例2
新鮮な41部のUOPSPA-1(8−18メッシュ)充填物を
用いると共に、実施例1と同じ装置および触媒条件付け
操作を用いる。触媒条件付けの後、該コンデンサを3℃
にし、循環速度を5L/分にし、そして該循環ループ内
の圧力を12−17psigの範囲に維持するに充分な
ように、1/1モルのアルシン/2−メチル−1−プロ
ペン反応体混合物のフィード速度を調節しながら、この
反応槽を157−178℃に9.5時間維持する。この
得られる450部の粗生成物をステンレス鋼製容器の中
に移す。この粗生成物中のモノ−/ジ−第三ブチルアル
シンの比率は約11である。この得られる粗生成物と、
同様ないくつかの反応で得られる粗生成物とを一緒にし
た後、蒸留で精製する。このようにして得られるモノ−
第三ブチルアルシンを用いて、MOCVDによるGaA
s薄フィルムの成長を行う。このようにして得られるG
aAsはn型であり、そして128,000cm2/V
−秒(77K)の移動度を有する。
用いると共に、実施例1と同じ装置および触媒条件付け
操作を用いる。触媒条件付けの後、該コンデンサを3℃
にし、循環速度を5L/分にし、そして該循環ループ内
の圧力を12−17psigの範囲に維持するに充分な
ように、1/1モルのアルシン/2−メチル−1−プロ
ペン反応体混合物のフィード速度を調節しながら、この
反応槽を157−178℃に9.5時間維持する。この
得られる450部の粗生成物をステンレス鋼製容器の中
に移す。この粗生成物中のモノ−/ジ−第三ブチルアル
シンの比率は約11である。この得られる粗生成物と、
同様ないくつかの反応で得られる粗生成物とを一緒にし
た後、蒸留で精製する。このようにして得られるモノ−
第三ブチルアルシンを用いて、MOCVDによるGaA
s薄フィルムの成長を行う。このようにして得られるG
aAsはn型であり、そして128,000cm2/V
−秒(77K)の移動度を有する。
【0041】実施例3(比較実施例)
オートクレーブを窒素パージした後、窒素パージしたn
−オクタンと、1.4/1.0体積比の85%燐酸と
を、オートクレーブ全体積の40%になるように加え
る。次に、VLSIグレードのアルシンを導入して、圧
力を150psigにする。次に、急速撹拌しながらこ
の反応槽を95℃に加熱した後、更にアルシンを加え
て、測定した全圧が400psigになるようにする。
次に、追加的アルシンを補充し、そして加熱/冷却して
95℃および325psigまたはそれ以上の圧力に維
持しながら、3時間かけて2−メチル−1−プロペンを
圧力下で加える。次に、このオートクレーブを周囲温度
に冷却した後、アルシン分解手段に向かって排気する。
アルシン分解手段に向かって排気しながら、窒素を用い
た数回のパージを行う。次に、窒素雰囲気下でこのオー
トクレーブの内容物を別の容器に移した後、酸相と有機
相を分離させる。酸相を廃棄する。有機相を水で洗浄し
た後、この水から分離して、この水も廃棄する。このよ
うにして得られる粗生成物は、オクタン、2−メチル−
1−プロペン、モノ−およびジ−第三ブチルアルシンか
ら成る混合物を含んでおり、ジ−に対するモノ−比は約
3である。4フィートの充填カラムを通して粗生成物の
蒸留を実施することにより、残存しているアルシンと2
−メチル−1−プロペンを低沸点物として除去し、モノ
−第三ブチルアルシンを主要留出物として取り出し、そ
してオクタンおよびジ−第三ブチルアルシンを重画分と
して取り出す。この最初の蒸留で得られる主要留出物を
再蒸留することで、用いたアルシンを基準にして18%
の収率でモノ−第三ブチルアルシンが得られる。この操
作で得られるモノ−第三ブチルアルシンを化学蒸着(M
OCVD)で用いて、約110,000cm2/V−秒
の平均移動度を有するn型の砒化ガリウム薄フィルムが
得られる。
−オクタンと、1.4/1.0体積比の85%燐酸と
を、オートクレーブ全体積の40%になるように加え
る。次に、VLSIグレードのアルシンを導入して、圧
力を150psigにする。次に、急速撹拌しながらこ
の反応槽を95℃に加熱した後、更にアルシンを加え
て、測定した全圧が400psigになるようにする。
次に、追加的アルシンを補充し、そして加熱/冷却して
95℃および325psigまたはそれ以上の圧力に維
持しながら、3時間かけて2−メチル−1−プロペンを
圧力下で加える。次に、このオートクレーブを周囲温度
に冷却した後、アルシン分解手段に向かって排気する。
アルシン分解手段に向かって排気しながら、窒素を用い
た数回のパージを行う。次に、窒素雰囲気下でこのオー
トクレーブの内容物を別の容器に移した後、酸相と有機
相を分離させる。酸相を廃棄する。有機相を水で洗浄し
た後、この水から分離して、この水も廃棄する。このよ
うにして得られる粗生成物は、オクタン、2−メチル−
1−プロペン、モノ−およびジ−第三ブチルアルシンか
ら成る混合物を含んでおり、ジ−に対するモノ−比は約
3である。4フィートの充填カラムを通して粗生成物の
蒸留を実施することにより、残存しているアルシンと2
−メチル−1−プロペンを低沸点物として除去し、モノ
−第三ブチルアルシンを主要留出物として取り出し、そ
してオクタンおよびジ−第三ブチルアルシンを重画分と
して取り出す。この最初の蒸留で得られる主要留出物を
再蒸留することで、用いたアルシンを基準にして18%
の収率でモノ−第三ブチルアルシンが得られる。この操
作で得られるモノ−第三ブチルアルシンを化学蒸着(M
OCVD)で用いて、約110,000cm2/V−秒
の平均移動度を有するn型の砒化ガリウム薄フィルムが
得られる。
【0042】実施例4(比較実施例)
撹拌手段、温度計、滴下漏斗、および隔壁が付いている
追加的入り口が備わっているフラスコ中、5Lの規模
で、塩化第三ブチルマグネシウムを用いた三塩化砒素の
アルキル化を行う。この容器にジエチルエーテル(3
L)と三塩化砒素(170mL、363部)を入れた
後、これを−70℃以下に冷却する。次に、この反応温
度を−70℃に維持しながら、エーテル中2Nの塩化第
三ブチルマグネシウム(1.05L=1.05モルのグ
リニヤール/1.00モルのAsCl3)を滴下する。
この混合物を−70℃で一晩撹拌した後、徐々に温めて
周囲温度にする。ペンタン(1.0L)を加えた後、均
一に見えるスラリーが得られるまで、この混合物を撹拌
する。この混合物を濾過した後、このフィルターケーキ
を0.5Lのペンタンで洗浄する。短いカラムを通して
この濾液を蒸留することにより、沸点が69℃(25m
m)の二塩化モノ−第三ブチル砒素が得られ、これは固
化して、320部、または三塩化砒素を基準にして82
%の収率で白色固体が得られる。二塩化モノ−第三ブチ
ル砒素からモノ−第三ブチルアルシンへの変換を下記の
如く行う。2Lの3つ口容器に、窒素下、テトラグライ
ム(500mL)を最初に入れた後、−77℃で注意深
く水素化リチウムアルミニウム(31部)を入れる。次
に、−77℃で1時間かけ、撹拌しながらカニューレを
用いて、テトラグライム(450mL)中の二塩化モノ
−第三ブチル砒素(211部)溶液を加える。この反応
混合物を周囲温度に温めながら撹拌を1.5時間継続す
る。周囲温度および20−50ミクロン圧のショートパ
ス(short path)蒸留を2回行うことで、ガスクロによ
る純度が94%の粗モノ−第三ブチルアルシンが125
部(90%)得られる。4フィートの充填カラムを用い
たこの粗生成物の蒸留で、ガスクロによる純度が98−
99%のモノ−第三ブチルアルシンが70−80部得ら
れる。特徴的な不純物には、第三ブタノール、塩化第三
ブチル、塩化第二ブチル、ジエチルエーテル、2−メチ
ルペンタン、2−メチル−1−プロペンおよびn−ペン
タンが含まれる。この操作で得られるモノ−第三ブチル
アルシンを化学蒸着(MOCVD)で用いて、55,0
00cm2/V−秒の移動度を有するn型の砒化ガリウ
ム薄フィルムが得られたが、これは、標準的なマグネト
フォトルミネセンス(magnetophotoluminescence)方法
により、特徴的なゲルマニウムおよび硫黄不純物を含ん
でいる。
追加的入り口が備わっているフラスコ中、5Lの規模
で、塩化第三ブチルマグネシウムを用いた三塩化砒素の
アルキル化を行う。この容器にジエチルエーテル(3
L)と三塩化砒素(170mL、363部)を入れた
後、これを−70℃以下に冷却する。次に、この反応温
度を−70℃に維持しながら、エーテル中2Nの塩化第
三ブチルマグネシウム(1.05L=1.05モルのグ
リニヤール/1.00モルのAsCl3)を滴下する。
この混合物を−70℃で一晩撹拌した後、徐々に温めて
周囲温度にする。ペンタン(1.0L)を加えた後、均
一に見えるスラリーが得られるまで、この混合物を撹拌
する。この混合物を濾過した後、このフィルターケーキ
を0.5Lのペンタンで洗浄する。短いカラムを通して
この濾液を蒸留することにより、沸点が69℃(25m
m)の二塩化モノ−第三ブチル砒素が得られ、これは固
化して、320部、または三塩化砒素を基準にして82
%の収率で白色固体が得られる。二塩化モノ−第三ブチ
ル砒素からモノ−第三ブチルアルシンへの変換を下記の
如く行う。2Lの3つ口容器に、窒素下、テトラグライ
ム(500mL)を最初に入れた後、−77℃で注意深
く水素化リチウムアルミニウム(31部)を入れる。次
に、−77℃で1時間かけ、撹拌しながらカニューレを
用いて、テトラグライム(450mL)中の二塩化モノ
−第三ブチル砒素(211部)溶液を加える。この反応
混合物を周囲温度に温めながら撹拌を1.5時間継続す
る。周囲温度および20−50ミクロン圧のショートパ
ス(short path)蒸留を2回行うことで、ガスクロによ
る純度が94%の粗モノ−第三ブチルアルシンが125
部(90%)得られる。4フィートの充填カラムを用い
たこの粗生成物の蒸留で、ガスクロによる純度が98−
99%のモノ−第三ブチルアルシンが70−80部得ら
れる。特徴的な不純物には、第三ブタノール、塩化第三
ブチル、塩化第二ブチル、ジエチルエーテル、2−メチ
ルペンタン、2−メチル−1−プロペンおよびn−ペン
タンが含まれる。この操作で得られるモノ−第三ブチル
アルシンを化学蒸着(MOCVD)で用いて、55,0
00cm2/V−秒の移動度を有するn型の砒化ガリウ
ム薄フィルムが得られたが、これは、標準的なマグネト
フォトルミネセンス(magnetophotoluminescence)方法
により、特徴的なゲルマニウムおよび硫黄不純物を含ん
でいる。
【0043】実施例5
この実施例は、図2に示すミクロ反応槽システムを用い
て行う。このミクロ反応槽には、ミクロプロセサー制御
されている抵抗加熱管炉(39)の中心に位置してい
る、4.0cmODx25cm石英管(40)の中心に
配置させた、0.6cmODx4.0IDの石英管の1
6.5cm部分(41)が備わっている。管(38)
は、石英ウールプラグ(43)で適当な位置に保持され
ている触媒(42)を含んでいる。これを、電気端子と
サーモウエル(37)が備わっておりそしてミクロプロ
セサー制御されている2−ゾーンの抵抗ヒーターで加熱
する。この反応槽の下流に位置している精密計量バルブ
(33)を用いて、このミクロプロセサー(34)を通
る流速を調節する。この反応槽のまた下流に位置してい
る質量流量計(示されていない)を用いて、この反応槽
を通る流速を測定する。入り口(36)を通してこの大
きい石英管の中に、反応体ガスの混合物(250scc
m)を注入する。その後、この反応体ガス流の画分を、
管入り口(38)により、該ミクロ反応槽に通す。反応
体ガスの残りを出口(35)から排出させる。その組成
を分析する目的で、このミクロ反応槽から出て来る排出
ガスの画分(0.3sccm)を計量バルブ(32)を
通して質量分光計(31)の中に注入する。排出ガスの
再循環は行わない。反応槽の圧力を200トールまたは
400トールに維持する。
て行う。このミクロ反応槽には、ミクロプロセサー制御
されている抵抗加熱管炉(39)の中心に位置してい
る、4.0cmODx25cm石英管(40)の中心に
配置させた、0.6cmODx4.0IDの石英管の1
6.5cm部分(41)が備わっている。管(38)
は、石英ウールプラグ(43)で適当な位置に保持され
ている触媒(42)を含んでいる。これを、電気端子と
サーモウエル(37)が備わっておりそしてミクロプロ
セサー制御されている2−ゾーンの抵抗ヒーターで加熱
する。この反応槽の下流に位置している精密計量バルブ
(33)を用いて、このミクロプロセサー(34)を通
る流速を調節する。この反応槽のまた下流に位置してい
る質量流量計(示されていない)を用いて、この反応槽
を通る流速を測定する。入り口(36)を通してこの大
きい石英管の中に、反応体ガスの混合物(250scc
m)を注入する。その後、この反応体ガス流の画分を、
管入り口(38)により、該ミクロ反応槽に通す。反応
体ガスの残りを出口(35)から排出させる。その組成
を分析する目的で、このミクロ反応槽から出て来る排出
ガスの画分(0.3sccm)を計量バルブ(32)を
通して質量分光計(31)の中に注入する。排出ガスの
再循環は行わない。反応槽の圧力を200トールまたは
400トールに維持する。
【0044】この触媒充填物は、110℃に維持されて
おりそして全反応槽圧が200mmの水素ガスに維持さ
れている1.94部のNafionHR NR-50である。仕込む反
応体は、モノ−第三ブチルアルシンと0.45モル比の
2−メチル−1−プロペンであり、その全分圧は約15
mmである。質量分光計を用い、ジ−第三ブチルアルシ
ンの生成を反応槽流出物に関して検出する(m/e=1
90の親ピーク)。
おりそして全反応槽圧が200mmの水素ガスに維持さ
れている1.94部のNafionHR NR-50である。仕込む反
応体は、モノ−第三ブチルアルシンと0.45モル比の
2−メチル−1−プロペンであり、その全分圧は約15
mmである。質量分光計を用い、ジ−第三ブチルアルシ
ンの生成を反応槽流出物に関して検出する(m/e=1
90の親ピーク)。
【0045】実施例6
約1.0のAMBERLYSTR 1010固体状スルホン酸触媒、お
よび分圧がそれぞれ5および11トールのモノ−第三ブ
チルアルシンと2−メチル−1−プロペンを含んでいる
2.3sccmの水素流を用いて、実施例4の操作を繰
り返す。この反応槽を約22℃に維持する。このミクロ
反応槽の排出ガス中のジ第三ブチルアルシンを検出する
(m/e190の親ピーク)。
よび分圧がそれぞれ5および11トールのモノ−第三ブ
チルアルシンと2−メチル−1−プロペンを含んでいる
2.3sccmの水素流を用いて、実施例4の操作を繰
り返す。この反応槽を約22℃に維持する。このミクロ
反応槽の排出ガス中のジ第三ブチルアルシンを検出する
(m/e190の親ピーク)。
【0046】実施例7
100℃に維持されている1.5部の固体状燐酸触媒UO
P-SPAを用い、そしてアルシン(0.4mmの分圧)と
2−メチル−1−プロペン(0.4mmの分圧)を含ん
でいる2.3sccmの水素ガス流を該反応槽に仕込む
以外は、実施例4の操作を繰り返す。質量分光計を用い
て、反応槽流出物中のモノ−第三ブチルアルシン(m/
e134の親イオン)と2−メチル−1−プロペン二量
体(m/e112の親イオン)を検出する。
P-SPAを用い、そしてアルシン(0.4mmの分圧)と
2−メチル−1−プロペン(0.4mmの分圧)を含ん
でいる2.3sccmの水素ガス流を該反応槽に仕込む
以外は、実施例4の操作を繰り返す。質量分光計を用い
て、反応槽流出物中のモノ−第三ブチルアルシン(m/
e134の親イオン)と2−メチル−1−プロペン二量
体(m/e112の親イオン)を検出する。
【0047】実施例8−12
実施例1の操作に従い、種々のオレフィン類および酸触
媒を、実施例1で用いたそれらの代わりに用いる。用い
たオレフィン類および触媒を以下の表Iに示す。各場合
共、生成物の収率および純度に関して本質的に同じ結果
が得られる。
媒を、実施例1で用いたそれらの代わりに用いる。用い
たオレフィン類および触媒を以下の表Iに示す。各場合
共、生成物の収率および純度に関して本質的に同じ結果
が得られる。
【0048】
【表1】
表I 実施例
オレフィン 触 媒
8 1−ブテン シリカゲル上の燐酸
9 シクロヘキサン シリコアルミネート
10 2,3−ジメチル−1−ブテン モントモリロナイト上の砒酸
11 プロペン ケイソウ土上の無水ケイ酸
12 2−メチル−1−ブテン シリカゲル上のメタンスルホン酸
本発明の特徴および態様は以下のとうりである。
【0049】1.ブレンステッド酸触媒上でオレフィン
とアルシンとを気相で接触させることを含む、アルキル
アルシン類の製造方法。
とアルシンとを気相で接触させることを含む、アルキル
アルシン類の製造方法。
【0050】2.反応容器中、ブレンステッド酸触媒上
でオレフィンとアルシンとを気相で連続的に接触させ、
この得られるアルキルアルシンを濃縮した後、そのよう
にして製造したアルキルアルシンを上記反応容器から取
り出すことを含む、アルキルアルシン類の連続製造方
法。
でオレフィンとアルシンとを気相で連続的に接触させ、
この得られるアルキルアルシンを濃縮した後、そのよう
にして製造したアルキルアルシンを上記反応容器から取
り出すことを含む、アルキルアルシン類の連続製造方
法。
【0051】3.第2項の方法で製造したアルキルアル
シン類をその中の揮発性砒素源として用いる、有機金属
化学蒸着を行うことを含む砒素含有半導体製品の製造方
法。 4.該アルキルアルシンがモノ−t−ブチルアルシンで
ある第1項記載の方法。
シン類をその中の揮発性砒素源として用いる、有機金属
化学蒸着を行うことを含む砒素含有半導体製品の製造方
法。 4.該アルキルアルシンがモノ−t−ブチルアルシンで
ある第1項記載の方法。
【0052】5.該アルキルアルシンがモノ−t−ブチ
ルアルシンである第2項記載の方法。
ルアルシンである第2項記載の方法。
【0053】6.該方法が連続的である第1項の方法。
【0054】7.該触媒上の第二通過のために該オレフ
ィンとアルシンを再利用する第2項の方法。
ィンとアルシンを再利用する第2項の方法。
【0055】8.該アルキルアルシンがt−ブチルアル
シンである第7項の方法。
シンである第7項の方法。
【0056】9.上記アルキルアルシンを蒸留で精製す
る第2項の方法。
る第2項の方法。
【0057】10.該アルキルアルシン類を該揮発性砒
素源として用いる前に蒸留で精製する第3項の方法。
素源として用いる前に蒸留で精製する第3項の方法。
【図1】 実施例1および2で用いるミクロ反応槽の図
式図である。
式図である。
【図2】 実施例5、6および7に示す如き、請求発明
の連続操作で用いる装置の図式図である。
の連続操作で用いる装置の図式図である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 マーク・エイ・クツク
アメリカ合衆国ニユージヤージイ州
07043アツパーモントクレア・ウオーフ
イールドストリート45
(72)発明者 ドナルド・エイチ・バレンタイン
アメリカ合衆国コネチカツト州06877リ
ツジフイールド・ブルーリツジロード20
(56)参考文献 特開 平1−233291(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
C07F 9/72
Claims (2)
- 【請求項1】 ブレンステッド酸触媒上でオレフィンと
アルシンとを気相で接触させることを含む、アルキルア
ルシン類の製造方法。 - 【請求項2】 反応容器中、ブレンステッド酸触媒上で
オレフィンとアルシンとを気相で連続的に接触させ、こ
の得られるアルキルアルシンを濃縮した後、そのように
して製造したアルキルアルシンを上記反応容器から取り
出すことを含む、アルキルアルシン類の連続製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US848505 | 1992-03-09 | ||
| US07/848,505 US5274149A (en) | 1991-07-11 | 1992-03-09 | Process for making alkyl arsine compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH069671A JPH069671A (ja) | 1994-01-18 |
| JP3376565B2 true JP3376565B2 (ja) | 2003-02-10 |
Family
ID=25303463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06910293A Expired - Fee Related JP3376565B2 (ja) | 1992-03-09 | 1993-03-05 | アルキルアルシン化合物の製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5274149A (ja) |
| EP (1) | EP0560029B1 (ja) |
| JP (1) | JP3376565B2 (ja) |
| AT (1) | ATE167867T1 (ja) |
| CA (1) | CA2091141A1 (ja) |
| DE (1) | DE69319358T2 (ja) |
| DK (1) | DK0560029T3 (ja) |
| ES (1) | ES2118145T3 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5274149A (en) * | 1991-07-11 | 1993-12-28 | American Cyanamid Company | Process for making alkyl arsine compounds |
| US6956127B2 (en) | 2002-01-17 | 2005-10-18 | Shipley Company, L.L.C. | Alkyl group VA metal compounds |
| US8784663B2 (en) * | 2009-11-20 | 2014-07-22 | Nokia Corporation | Trapping nanostructures |
| WO2023235534A1 (en) | 2022-06-02 | 2023-12-07 | Gelest, Inc. | High purity alkyl tin compounds and manufacturing methods thereof |
| CN115181131A (zh) * | 2022-08-11 | 2022-10-14 | 安徽亚格盛电子新材料有限公司 | 一种连续化合成叔丁基砷的方法 |
| EP4568977A1 (en) | 2022-08-12 | 2025-06-18 | Gelest, Inc. | High purity tin compounds containing unsaturated substituent and method for preparation thereof |
| CN115340576A (zh) * | 2022-08-16 | 2022-11-15 | 安徽亚格盛电子新材料有限公司 | 一种高纯叔丁基砷的制备方法 |
| CN119998302A (zh) | 2022-10-04 | 2025-05-13 | 盖列斯特有限公司 | 环状氮杂锡烷和环状氧杂锡烷化合物及其制备方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL252729A (ja) * | 1959-06-18 | |||
| US4368098A (en) * | 1969-10-01 | 1983-01-11 | Rockwell International Corporation | Epitaxial composite and method of making |
| US4404265A (en) * | 1969-10-01 | 1983-09-13 | Rockwell International Corporation | Epitaxial composite and method of making |
| US4734514A (en) * | 1984-10-25 | 1988-03-29 | Morton Thiokol, Inc. | Hydrocarbon-substituted analogs of phosphine and arsine, particularly for metal organic chemical vapor deposition |
| US4857655A (en) * | 1988-01-20 | 1989-08-15 | American Cyanamid Company | Process for making alkyl arsine compounds |
| JPH01260813A (ja) * | 1988-04-11 | 1989-10-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | 化合物半導体の気相成長方法 |
| US4900855A (en) * | 1988-12-14 | 1990-02-13 | Cvd Incorporated | Chemical process for obtaining high purification of monoalkylarsines and dialkylarsines and purified mono- and dialkylarsines |
| US5068372A (en) * | 1990-07-16 | 1991-11-26 | Cvd Incorporated | Method for the synthesis of primary arsines |
| US5124278A (en) * | 1990-09-21 | 1992-06-23 | Air Products And Chemicals, Inc. | Amino replacements for arsine, antimony and phosphine |
| US5274149A (en) * | 1991-07-11 | 1993-12-28 | American Cyanamid Company | Process for making alkyl arsine compounds |
-
1992
- 1992-03-09 US US07/848,505 patent/US5274149A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-01-25 DE DE69319358T patent/DE69319358T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-25 EP EP93101097A patent/EP0560029B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-25 ES ES93101097T patent/ES2118145T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-25 DK DK93101097T patent/DK0560029T3/da active
- 1993-01-25 AT AT93101097T patent/ATE167867T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-03-05 JP JP06910293A patent/JP3376565B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-03-05 CA CA002091141A patent/CA2091141A1/en not_active Abandoned
- 1993-06-04 US US08/071,085 patent/US5415129A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH069671A (ja) | 1994-01-18 |
| EP0560029A1 (en) | 1993-09-15 |
| CA2091141A1 (en) | 1993-09-10 |
| DK0560029T3 (da) | 1998-10-26 |
| DE69319358T2 (de) | 1998-12-17 |
| DE69319358D1 (de) | 1998-08-06 |
| US5274149A (en) | 1993-12-28 |
| US5415129A (en) | 1995-05-16 |
| EP0560029B1 (en) | 1998-07-01 |
| ATE167867T1 (de) | 1998-07-15 |
| ES2118145T3 (es) | 1998-09-16 |
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