JP3362557B2 - 真空含浸装置 - Google Patents

真空含浸装置

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JP3362557B2
JP3362557B2 JP15432795A JP15432795A JP3362557B2 JP 3362557 B2 JP3362557 B2 JP 3362557B2 JP 15432795 A JP15432795 A JP 15432795A JP 15432795 A JP15432795 A JP 15432795A JP 3362557 B2 JP3362557 B2 JP 3362557B2
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impregnated
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和紀 藤川
敏彦 山本
勝己 天神
俊哉 黒島
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空状態で含浸作業を行
う真空含浸装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の真空含浸装置は、含浸タ
ンクの中に複数個の被含浸物の入った容器を入れ蓋を締
めて密閉し、含浸タンクの中を真空状態にした後、含浸
タンクの中の被含浸物の入った容器に脱泡された含浸液
を供給し、一定の時間真空状態を維持した後、含浸タン
ク内を大気圧に戻し被含浸物を含浸液に浸漬させたまま
容器をタンクの中より取り出し、被含浸物に含浸液が完
全に含浸されるまで放置して含浸作業を行うように構成
されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、被含浸物の供給取り出しを作業者が直接行
わなければならず、このため真空含浸の時間が長くかか
り、インライン化することが困難であるという課題を有
したものであった。
【0004】本発明はこのような従来の問題点を解決
し、自動化を図ってインライン化することのできる真空
含浸装置を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明による真空含浸装置は、底面開放の壷形に形成
されると共に真空ポンプに連結された真空配管と大気に
連通される常圧配管をそれぞれバルブを介して備えて昇
降自在に配設されたチャンバーと、このチャンバーの上
面を挿通して吊り下げ状態で昇降自在に配設された搬送
治具保持部と、この搬送治具保持部に被含浸物を保持し
た搬送治具を投入する投入部と、上記被含浸物に含浸す
る含浸液を貯蔵した含浸槽と、上記チャンバーの下面と
密着してチャンバー内部を密閉するように上記含浸槽内
に配設されたプレートと、上記含浸槽内で搬送治具保持
部から上記被含浸物を保持した上記搬送治具を取り出す
取り出し部と、この取り出された上記搬送治具を含浸槽
内で移動して上記被含浸物を完全に含浸させる搬送部か
らなる構成としたものである。
【0006】
【作用】この構成により被含浸物を含浸槽内の含浸液に
浸漬させたままで真空含浸と取り出し作業を繰り返し自
動的に行うことができ、また、被含浸物は含浸槽内を順
送りされ取り出されるまでの一定時間の間に完全に含浸
されるため、真空含浸の作業時間が短くなり、かつ自動
化を図り、真空含浸装置をインライン化することが可能
となる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を用い
て説明する。
【0008】図1は同実施例による真空含浸装置の全体
構成を示す正面断面図であり、図1において、1は複数
個の被含浸物2の上端部を保持した搬送治具、3はこの
搬送治具1を投入位置まで順送りする第1搬送部、4は
搬送治具1を搬送治具保持部6に移載する搬送治具投入
部、5は搬送治具保持部6を昇降する第1昇降部、8は
第2昇降部7により上下動すると共に被含浸物2を保持
した搬送治具1を保持した搬送治具保持部6が収納可能
な内容積を有したチャンバー、9はこのチャンバー8の
底面開口部にはめ込まれた密閉用のパッキン、10はチ
ャンバー8の上部に取り付けられた真空計、11はチャ
ンバー8と大気を連通する常圧配管12の途中に取り付
けられた常圧用バルブ、13はチャンバー8と真空ポン
プ15を連結した真空配管14の途中に取り付けられた
真空圧用バルブである。
【0009】16は含浸液19が投入された含浸槽17
の底部に配設され、チャンバー8が下降した時にチャン
バー8の内部を密閉するためのプレート、18は搬送治
具1に保持された被含浸物2を含浸液19に浸漬させた
まま含浸槽17内を順送りする第2搬送部、20は搬送
治具1をチャンバー8内部の搬送治具保持部6より含浸
槽17内の第2搬送部18に取り出す取り出し部、21
は含浸液19を暖めるためのヒータ、22は含浸作業後
の被含浸物2を放置する放置槽部である。
【0010】次にこのように構成された本実施例の真空
含浸装置の動作について図2を用いて説明する。
【0011】まず、被含浸物2の含浸準備作業について
説明する。チャンバー8が上昇した位置p4にあり、搬
送治具保持部6がp6の位置からp3の位置に上昇移動
したとき、予め前工程の設備によりp1の位置に供給さ
れた複数個の被含浸物2の上端部を保持した搬送治具1
は、第1搬送部3によりp1の供給位置からp2の投入
位置まで移動され、搬送治具投入部4によりp2の位置
からチャンバー8内の搬送治具保持部6のp3の位置に
投入されて保持される。
【0012】チャンバー8は、真空ポンプ15に連通す
る真空配管14の真空圧用バルブ13を閉じ、大気圧に
連通する常圧配管12の常圧用バルブ11を開けた状態
で、p4の位置から底部のパッキン9がヒータ21によ
り暖められ一定の温度に管理された含浸液19の液面を
一定の高さに管理した含浸槽17内のプレート16に接
するp5の位置まで第2昇降部7により下降される。
【0013】下降後、バルブ11を閉じることによりチ
ャンバー8内は含浸液19を内部に入れたまま密閉され
る。
【0014】なお、この時、まだ被含浸物2は含浸液1
9に漬かっていない。次に、被含浸物2の含浸作業につ
いて説明する。
【0015】搬送治具1に保持された被含浸物2をp3
の位置の搬送治具保持部6に保持し、含浸液19を内部
に入れ密閉したチャンバー8内を、真空圧用バルブ13
を開き、真空ポンプ15によって含浸液19を減圧脱泡
すると共に、内部を一定の減圧状態にする。
【0016】真空計10により一定の減圧状態になった
ことが確認されると、p3の位置の搬送治具保持部6に
保持された搬送治具1を、第1昇降部5により被含浸物
2が含浸液19に完全に漬かるp6の位置まで下降さ
せ、真空圧用バルブ13を閉じる。
【0017】その後、常圧用バルブ11を開け、チャン
バー8内を大気圧にする。この時、真空含浸が行われ
る。
【0018】次に、含浸後の作業について説明する。含
浸作業終了後、チャンバー8はp5の位置からp4の位
置まで上昇する。まだ、被含浸物2に含浸液19が完全
に含浸されていないため、含浸液19に完全に浸漬させ
たまま搬送治具1に保持された被含浸物2を、取り出し
部20によりp6の位置の搬送治具保持部6より第2搬
送部18のp7の位置に取り出す。
【0019】この後、含浸槽17内の放置槽部22を第
2搬送部18により、p7の位置からp8の後工程設備
の取り出し位置まで順送りされる一定時間の間に、被含
浸物2は完全に含浸される。
【0020】搬送治具保持部6は、取り出し部20によ
り搬送治具1に保持された被含浸物2がP6の位置から
P7の位置に取り出された後、P8の後工程設備の取り
出し位置まで順送りされ被含浸物2が完全に含浸される
間にP3の位置まで上昇し、次の被含浸物2を保持した
搬送治具1の投入を行ない被含浸物2への含浸作業を繰
り返し行なう。
【0021】以上の一連の動作は完全に自動化されてお
り、従って本実施例の真空含浸装置は前後工程の設備と
ドッキングしてライン化することが可能となるものであ
る。
【0022】
【発明の効果】以上のように本発明による真空含浸装置
は、複数個の被含浸物を搬送治具に保持し、自動投入取
り出しを行い、また、チャンバー内に含浸液を入れたま
ま真空引きを行うことにより、従来のようにチャンバー
内を真空引き後に含浸液を供給し、含浸後に排出してい
た時間を短縮すると共に、ヒータにより含浸液を暖めて
粘度を低くし、被含浸物に含浸液が含浸しやすいように
して含浸後の放置時間を短縮し、含浸槽内で移動して被
含浸物を完全に含浸させることにより、チャンバー内で
真空含浸作業の時間を短縮し、インライン化すること
が可能になるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による真空含浸装置の全体構
成を示す正面断面図
【図2】同装置の動作を説明する正面断面図
【符号の説明】
1 搬送治具 2 被含浸物 3 第1搬送部 4 搬送治具投入部 5 第1昇降部 6 搬送治具保持部 7 第2昇降部 8 チャンバー 9 パッキン 10 真空計 11 常圧用バルブ 12 常圧配管 13 真空圧用バルブ 14 真空配管 15 真空ポンプ 16 プレート 17 含浸槽 18 第2搬送部 19 含浸液 20 取り出し部 21 ヒータ 22 放置槽部 p1〜p8 各作業工程におけるチャンバー、搬送治具
保持部、及び搬送治具の移動位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 天神 勝己 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 黒島 俊哉 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−257876(JP,A) 特開 昭58−40817(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 4/00 - 4/10 H01G 4/14 - 4/42 H01G 13/00 - 13/06

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 底面開放の壷形に形成されると共に真空
    ポンプに連結された真空配管と大気に連通される常圧配
    管をそれぞれバルブを介して備えて昇降自在に配設され
    たチャンバーと、このチャンバーの上面を挿通して吊り
    下げ状態で昇降自在に配設された搬送治具保持部と、こ
    の搬送治具保持部に被含浸物を保持した搬送治具を投入
    する投入部と、上記被含浸物に含浸する含浸液を貯蔵し
    た含浸槽と、上記チャンバーの下面と密着してチャンバ
    ー内部を密閉するように上記含浸槽内に配設されたプレ
    ートと、上記含浸槽内で含浸液に被含浸物を浸漬したま
    搬送治具保持部から上記被含浸物を保持した上記搬送
    治具を取り出す取り出し部と、この取り出された上記搬
    送治具を含浸槽内で移動して上記被含浸物を完全に含浸
    させる搬送部を備え、この取り出された被含浸物を上記
    搬送部により含浸槽内で移動させて完全に含浸させる間
    に、次の被含浸物の含浸作業を行なう真空含浸装置。
  2. 【請求項2】 含浸槽内に貯蔵された含浸液を昇温する
    ためのヒータを設けた請求項1記載の真空含浸装置。
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JP2008077736A (ja) 2006-09-20 2008-04-03 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ディスク装置及びその製造方法
CN114628168B (zh) * 2020-12-12 2023-06-30 丰宾电子科技股份有限公司 一种定量真空含浸机构
CN114210946B (zh) * 2021-12-24 2023-04-14 沈阳铸航科技有限公司 一种压力铸造件用浸渗装置

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