JP3360679B2 - Circuit board inspection adapter device, circuit board inspection method and inspection device - Google Patents

Circuit board inspection adapter device, circuit board inspection method and inspection device

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JP3360679B2
JP3360679B2 JP2000218275A JP2000218275A JP3360679B2 JP 3360679 B2 JP3360679 B2 JP 3360679B2 JP 2000218275 A JP2000218275 A JP 2000218275A JP 2000218275 A JP2000218275 A JP 2000218275A JP 3360679 B2 JP3360679 B2 JP 3360679B2
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、異方導電性コネクター
層を有する回路基板検査用アダプター装置並びに回路基
板の検査方法および検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adapter device for inspecting a circuit board having an anisotropic conductive connector layer, a method and an apparatus for inspecting a circuit board.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にプリント回路基板などの回路基板
においては、図19に示すように、回路基板90の中央
部に機能素子が高度の集積度で形成された機能素子領域
91が設けられると共に、その周縁部に機能素子領域9
1のための多数のリード電極92が配列されてなるリー
ド電極領域93が形成される。そして、現在において
は、機能素子領域91の集積度の増大に伴ってリード電
極領域93のリード電極数が増加し高密度化する傾向に
ある。
2. Description of the Related Art Generally, in a circuit board such as a printed circuit board, as shown in FIG. 19, a functional element region 91 in which functional elements are formed with a high degree of integration is provided at the center of a circuit board 90. The functional element region 9
A lead electrode region 93 in which a large number of lead electrodes 92 for one are arranged is formed. At present, with the increase in the degree of integration of the functional element region 91, the number of lead electrodes in the lead electrode region 93 tends to increase and the density tends to increase.

【0003】このような回路基板のリード電極と、これ
に接続すべき他の回路端子などとの電気的な接続を達成
するために、従来、各リード電極領域上に異方導電性シ
ートを介在させることが行われている。この異方導電性
シートは、厚さ方向にのみ導電性を示すもの、あるいは
加圧されたときに厚さ方向にのみ導電性を示す多数の加
圧導電性導電部を有するものであり、種々の構造のもの
が例えば特公昭56−48951号公報、特開昭51−
93393号公報、特開昭53−147772号公報、
特開昭54−146873号公報などにより、知られて
いる。
In order to achieve electrical connection between such lead electrodes of a circuit board and other circuit terminals to be connected thereto, conventionally, an anisotropic conductive sheet is interposed on each lead electrode region. Let it be done. The anisotropic conductive sheet has conductivity only in the thickness direction, or has a large number of pressurized conductive portions that show conductivity only in the thickness direction when pressed. Are disclosed, for example, in JP-B-56-48951 and JP-A-51-481.
No. 93393, JP-A-53-147772,
This is known from JP-A-54-146873 and the like.

【0004】然るに、上記の異方導電性シートは、それ
自体が単独の製品として製造され、また単独で取り扱わ
れるものであって、電気的接続作業においては回路基板
に対して特定の位置関係をもって保持固定することが必
要である。
However, the above-described anisotropic conductive sheet is manufactured as a single product itself and is handled independently, and has a specific positional relationship with respect to a circuit board in an electrical connection operation. It is necessary to hold and fix.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、独立し
た異方導電性シートを利用して回路基板の電気的接続を
達成する手段においては、検査対象である回路基板にお
けるリード電極の配列ピッチ(以下「電極ピッチ」とい
う。) 、すなわち互いに隣接するリード電極の中心間距
離が小さくなるに従って異方導電性シートの位置合わせ
および保持固定が困難となる、という問題点がある。
However, in the means for achieving the electrical connection of the circuit board using the independent anisotropic conductive sheet, the arrangement pitch of the lead electrodes on the circuit board to be inspected (hereinafter referred to as "the pitch of the lead electrodes"). In other words, there is a problem that the positioning and holding and fixing of the anisotropic conductive sheet become more difficult as the distance between the centers of the adjacent lead electrodes becomes smaller.

【0006】また、一旦は所望の位置合わせおよび保持
固定が実現された場合においても、温度変化による熱履
歴を受けた場合などには、熱膨張および熱収縮による応
力の程度が検査対象である回路基板を構成する材料と異
方導電性シートを構成する材料との間で異なるため、電
気的接続状態が変化して安定な接続状態が維持されな
い、という問題点がある。
[0006] Even if the desired alignment and holding and fixing have been realized, the degree of stress due to thermal expansion and thermal shrinkage is the circuit to be inspected if a thermal history due to a temperature change is received. Since there is a difference between the material forming the substrate and the material forming the anisotropic conductive sheet, there is a problem that the electrical connection state changes and a stable connection state is not maintained.

【0007】更に、検査対象である回路基板に対して安
定な接続状態が維持され得るとしても、例えば実装密度
の高いプリント回路基板のように、複雑で微細なパター
ンの被検査電極群を有する回路基板に対しては、当該被
検査電極の各々との電気的な接続を確実に達成すること
が困難であるため、所要の検査を十分に行うことができ
ない、という問題点がある。
Further, even if a stable connection state can be maintained with respect to a circuit board to be inspected, a circuit having a complicated and fine pattern of electrodes to be inspected, such as a printed circuit board having a high mounting density, is used. Since it is difficult to reliably achieve electrical connection with each of the electrodes to be inspected on the substrate, there is a problem that required inspection cannot be performed sufficiently.

【0008】本発明は、以上のような問題点を解決する
ものであって、その目的は、検査対象である回路基板に
おけるリード電極などの被検査電極が、電極ピッチが微
小であり、かつ微細で高密度の複雑なパターンのもので
ある場合にも、当該回路基板について所要の電気的接続
を確実に達成することができ、また温度変化による熱履
歴などの環境の変化に対しても良好な電気的接続状態が
安定に維持され、従って接続信頼性の高い回路基板検査
用アダプター装置を提供することにある。本発明の他の
目的は、当該アダプター装置を用いた回路基板の検査方
法および検査装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an inspection target electrode such as a lead electrode on a circuit board to be inspected having a fine electrode pitch and a fine electrode pitch. Even when the circuit board has a high-density and complicated pattern, the required electrical connection can be reliably achieved for the circuit board, and the circuit board has good resistance to environmental changes such as heat history due to temperature changes. An object of the present invention is to provide a circuit board inspection adapter device in which an electrical connection state is stably maintained, and thus connection reliability is high. Another object of the present invention is to provide a method and an apparatus for inspecting a circuit board using the adapter device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の回路基板検査用
アダプター装置は、検査対象回路基板と電気的検査装置
との間に介在されて当該回路基板の電極の電気的接続を
行う回路基板検査用アダプター装置であって、材質が寸
法安定性の高い耐熱性材料である基板および基板の上面
に設けられた配線層部分を有するアダプター本体と、こ
のアダプター本体の配線層部分の表面上に一体的に接着
乃至密着した状態で形成された、絶縁性の弾性高分子物
質中に導電性粒子が充填されて厚さ方向に伸びる導電部
が形成される異方導電性コネクター層とよりなり、前記
アダプター本体の配線層部分の表面には、検査対象回路
基板の被検査電極に対応して配置された接続用電極が形
成されると共に、基板の下面に格子点上に配置された端
子電極が形成され、前記配線層部分には、接続用電極と
端子電極とを電気的に接続するための2層以上の層内配
線部が形成されていることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A circuit board inspection adapter device according to the present invention is provided between a circuit board to be inspected and an electrical inspection device to electrically connect electrodes of the circuit board. Adapter device and the material is dimension
An adapter body having a substrate that is a heat-resistant material having high legal stability and a wiring layer portion provided on the upper surface of the substrate, and is integrally adhered to a surface of the wiring layer portion of the adapter body.
Or insulating elastic polymer formed in close contact
Conductive part that is filled with conductive particles and extends in the thickness direction
Formed on the surface of the wiring layer portion of the adapter body, a connection electrode arranged corresponding to the electrode to be inspected of the circuit board to be inspected is formed, Terminal electrodes arranged on lattice points are formed on the lower surface of the substrate, and two or more in-layer wiring portions for electrically connecting the connection electrodes and the terminal electrodes are formed in the wiring layer portion. It is characterized by having.

【0010】以上において、異方導電性コネクター層の
導電部は、アダプター本体の配線層部分の表面におけ
る、検査対象回路基板の被検査電極に対応した位置に形
成された接続用電極上に配置されていることが好まし
い。また、異方導電性コネクター層の外面において、導
電部が絶縁部の表面から突出する突出部を形成している
ことが好ましい。
In the above, the conductive portion of the anisotropic conductive connector layer is disposed on the connection electrode formed at the position corresponding to the electrode to be inspected on the circuit board to be inspected on the surface of the wiring layer portion of the adapter body. Is preferred. Further, it is preferable that the conductive portion forms a protruding portion protruding from the surface of the insulating portion on the outer surface of the anisotropic conductive connector layer.

【0011】本発明の回路基板の検査方法は、上記の回
路基板検査用アダプター装置を用い、その異方導電性コ
ネクター層の導電部を介して、検査対象回路基板の被検
査電極と電気的検査装置との電気的な接続を達成するこ
とにより、回路基板の検査を行うことを特徴とする。ま
た、本発明の回路基板の検査装置は、上記の回路基板検
査用アダプター装置を備えることを特徴とする。
According to a method for inspecting a circuit board of the present invention, the above-mentioned adapter device for circuit board inspection is used to electrically inspect an electrode to be inspected on a circuit board to be inspected through a conductive portion of an anisotropic conductive connector layer. The circuit board is inspected by achieving electrical connection with the device. Further, a circuit board inspection apparatus according to the present invention includes the above-described circuit board inspection adapter apparatus.

【0012】[0012]

【作用】本発明の回路基板検査用アダプター装置によれ
ば、アダプター本体の配線層部分の表面には、検査対象
回路基板の被検査電極に対応して配置された接続用電極
が形成されると共に、基板の下面には、格子点に配置さ
れた、電気的検査装置と接続される端子電極が形成され
ており、また配線層部分には接続用電極と端子電極とを
電気的に接続するための2層以上の層内配線部が形成さ
れており、しかもアダプター本体の配線層部分の表面上
には異方導電性コネクター層が一体的に設けられている
上、当該異方導電性コネクター層においては絶縁性の弾
性高分子物質中に導電性粒子が厚さ方向に並ぶよう配向
されて導電部が形成されているため、検査対象である回
路基板の被検査電極が、電極ピッチが微小であり、かつ
微細で高密度の複雑なパターンのパターンのものである
場合にも、厚み方向に圧縮されることにより、異方導電
性コネクター層において厚さ方向に伸びる導電部を介し
て、当該回路基板の被検査電極と電気的検査装置との所
要の電気的接続を確実に達成することができる。また、
異方導電性コネクター層がアダプター本体に一体的に設
けられているため、温度変化による熱履歴などの環境の
変化に対しても良好な電気的接続状態が安定に維持さ
れ、従って高い接続信頼性を得ることができる。上記の
回路基板の検査方法および回路基板の検査装置によれ
ば、上記の構成の回路基板検査用アダプター装置を用い
ることにより、高い信頼性で回路基板について所要の検
査を行うことができる。
According to the adapter device for circuit board inspection of the present invention, connection electrodes arranged corresponding to the electrodes to be inspected of the circuit board to be inspected are formed on the surface of the wiring layer portion of the adapter body. On the lower surface of the substrate, terminal electrodes arranged at lattice points and connected to an electrical inspection device are formed, and a wiring layer portion is used to electrically connect the connection electrodes and the terminal electrodes. And an anisotropic conductive connector layer is integrally provided on the surface of the wiring layer portion of the adapter body, and the anisotropic conductive connector layer Since the conductive part is formed by aligning the conductive particles in the insulating elastic polymer material in the thickness direction, the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected have a small electrode pitch. With fine, high-density Even in the case of a pattern having a simple pattern, the electrode is electrically tested with the electrode to be inspected of the circuit board through the conductive portion extending in the thickness direction in the anisotropic conductive connector layer by being compressed in the thickness direction. The required electrical connection with the device can be reliably achieved. Also,
Since the anisotropic conductive connector layer is provided integrally with the adapter body, a good electrical connection state is stably maintained against environmental changes such as heat history due to temperature changes, and therefore high connection reliability Can be obtained. According to the circuit board inspection method and the circuit board inspection apparatus described above, the required inspection of the circuit board can be performed with high reliability by using the circuit board inspection adapter device having the above configuration.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明を具体的に説明する。図1およ
び図2は、それぞれ、本発明の一実施例に係る回路基板
検査用アダプター装置10の構成を示す説明用断面図お
よびそのアダプター本体12の説明用断面図であり、図
3はアダプター装置10の各部の配置の状態を示す説明
用平面図、図4はコネクター層15部分の説明用拡大断
面図である。このアダプター装置10は、図1に示すよ
うに、全体が板状のアダプター本体12と、その上面に
設けられた異方導電性コネクター層(以下単に「コネク
ター層」という)15とにより構成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below. FIGS. 1 and 2 are an explanatory sectional view showing a configuration of an adapter device 10 for inspecting a circuit board according to an embodiment of the present invention and an explanatory sectional view of an adapter body 12, respectively. FIG. 4 is an explanatory plan view showing an arrangement state of each part of FIG. 10, and FIG. 4 is an enlarged enlarged sectional view of a connector layer 15 portion. As shown in FIG. 1, the adapter device 10 includes an adapter body 12 having a plate shape as a whole, and an anisotropic conductive connector layer (hereinafter simply referred to as a “connector layer”) 15 provided on an upper surface thereof. I have.

【0014】アダプター本体12は、絶縁性基板20
と、この基板20上に設けられた配線層部分21とより
なり、配線層部分21は、基板20の上面に形成された
第1絶縁層23とこの第1絶縁層23上に設けられた第
2絶縁層25との積層体によって構成されている。基板
20の材質は寸法安定性の高い耐熱性材料であることが
好ましく、各種の樹脂を使用することができるが、特に
ガラス繊維補強型エポキシ樹脂が最適である。また、第
1絶縁層23および第2絶縁層25は、いずれも、放射
線硬化樹脂により形成されている。
The adapter body 12 includes an insulating substrate 20
And a wiring layer portion 21 provided on the substrate 20. The wiring layer portion 21 includes a first insulating layer 23 formed on the upper surface of the substrate 20 and a first insulating layer 23 provided on the first insulating layer 23. It is composed of a laminate with two insulating layers 25. The material of the substrate 20 is preferably a heat-resistant material having high dimensional stability, and various resins can be used. In particular, a glass fiber reinforced epoxy resin is most suitable. Further, both the first insulating layer 23 and the second insulating layer 25 are formed of a radiation curable resin.

【0015】基板20の下面には、検査用テスターに適
宜の手段によって電気的に接続される端子電極30が格
子点上に配置されて設けられると共に、基板20の上面
には適宜のパターンの第1配線部33が形成され、端子
電極30と第1配線部33とは、基板20をその厚み方
向に貫通して伸びる短絡部32により電気的に接続され
ている。端子電極30に係る格子点間の距離、すなわち
端子電極30の電極ピッチは、特に限定されるものでは
なく、検査の条件に応じて適宜の大きさとすることがで
きるが、例えば2.54mmまたは1.8mmである。
On the lower surface of the substrate 20, there are provided terminal electrodes 30 electrically connected to the tester for testing by appropriate means arranged on lattice points, and on the upper surface of the substrate 20, a third pattern of an appropriate pattern is provided. One wiring portion 33 is formed, and the terminal electrode 30 and the first wiring portion 33 are electrically connected by a short-circuit portion 32 extending through the substrate 20 in the thickness direction. The distance between the lattice points of the terminal electrode 30, that is, the electrode pitch of the terminal electrode 30 is not particularly limited, and may be an appropriate size according to inspection conditions. 0.8 mm.

【0016】第1配線部33を含む基板20の上面には
第1絶縁層23が形成されている。この第1絶縁層23
の上面には適宜のパターンの第2配線部35が形成され
ており、当該第1絶縁層23をその厚み方向に貫通して
伸びる短絡部34により、第2配線部35と第1配線部
33とが電気的に接続されている。
A first insulating layer 23 is formed on the upper surface of the substrate 20 including the first wiring section 33. This first insulating layer 23
A second wiring portion 35 having an appropriate pattern is formed on the upper surface of the second wiring portion 35. The short-circuit portion 34 extending through the first insulating layer 23 in the thickness direction thereof and extending therethrough forms a second wiring portion 35 and a first wiring portion 33. And are electrically connected.

【0017】更に、第2配線部35を含む第1絶縁層2
3の上面には第2絶縁層25が形成されている。この第
2絶縁層25の上面には、検査対象である回路基板の被
検査電極(図示せず)のパターンに対応した位置に接続
用電極40が、当該上面から突出する状態に形成されて
いる。そして、当該第2絶縁層25をその厚み方向に貫
通して伸びる短絡部36により、接続用電極40と第2
配線部35とが電気的に接続されている。なお、第1配
線部33および第2配線部35は、図1または図2にお
いて、いずれも紙面と交わる方向に伸びる状態に形成さ
れ得ることは勿論であって、図3にはそのような状態が
示されている。
Further, the first insulating layer 2 including the second wiring portion 35
The second insulating layer 25 is formed on the upper surface of 3. On the upper surface of the second insulating layer 25, the connection electrode 40 is formed at a position corresponding to the pattern of the electrode to be inspected (not shown) on the circuit board to be inspected so as to protrude from the upper surface. . The connection electrode 40 and the second electrode are connected to each other by the short-circuit portion 36 extending through the second insulating layer 25 in the thickness direction.
The wiring section 35 is electrically connected. Note that the first wiring portion 33 and the second wiring portion 35 can be formed so as to extend in a direction intersecting the paper surface in FIG. 1 or FIG. 2, and such a state is shown in FIG. It is shown.

【0018】このように、アダプター本体12において
は、接続用電極40の各々が、短絡部36、第2配線部
35、短絡部34、第1配線部33および短絡部32を
介して端子電極30と電気的に接続されている。
As described above, in the adapter body 12, each of the connection electrodes 40 is connected to the terminal electrode 30 via the short-circuit portion 36, the second wiring portion 35, the short-circuit portion 34, the first wiring portion 33, and the short-circuit portion 32. Is electrically connected to

【0019】実際の構成において、接続用電極40と端
子電極30との電気的な接続は、回路基板の検査目的に
応じた態様で達成されればよい。従って、すべての接続
用電極40と端子電極30とが必ず1対1の対応関係で
接続される必要はなく、端子電極30、第1配線部3
3、第2配線部35および接続用電極40について種々
の要請される接続状態を実現することができる。例え
ば、第1配線部33または第2配線部35を利用して接
続用電極40同士を接続すること、複数の接続用電極4
0を1つの第1配線部33または第2配線部35に共通
に接続すること、1つの接続用電極40を複数の第1配
線部33または第2配線部35に同時に接続すること、
その他が可能である。
In an actual configuration, the electrical connection between the connection electrode 40 and the terminal electrode 30 may be achieved in a manner suitable for the purpose of inspecting the circuit board. Therefore, it is not always necessary to connect all the connection electrodes 40 and the terminal electrodes 30 in a one-to-one correspondence, and the terminal electrodes 30 and the first wiring portions 3 are not necessarily connected.
3. Various required connection states of the second wiring portion 35 and the connection electrode 40 can be realized. For example, connecting the connection electrodes 40 using the first wiring portion 33 or the second wiring portion 35,
0 is commonly connected to one first wiring portion 33 or second wiring portion 35, one connection electrode 40 is simultaneously connected to a plurality of first wiring portions 33 or second wiring portions 35,
Others are possible.

【0020】また、面方向に伸びる第2配線部35また
は第1配線部33を介することなしに、直接に連続する
短絡部を介して、接続用電極40と第1配線部33、第
2配線部35と端子電極30または接続用電極40と端
子電極30を電気的に接続することも可能である。
Further, the connection electrode 40 and the first wiring portion 33 and the second wiring portion are connected via a directly continuous short-circuit portion without passing through the second wiring portion 35 or the first wiring portion 33 extending in the plane direction. It is also possible to electrically connect the part 35 and the terminal electrode 30 or the connection electrode 40 and the terminal electrode 30.

【0021】以上のようなアダプター本体12の表面に
は、コネクター層15が一体的に接着乃至密着した状態
で形成されている。このコネクター層15は、図4に示
すように、絶縁性の弾性高分子物質E中に導電性粒子P
が密に充填されてなる多数の導電部17が接続用電極4
0上に位置された状態で、かつ、隣接する導電部17が
相互に絶縁部18によって絶縁された状態とされてい
る。各導電部17においては、導電性粒子Pが厚さ方向
に並ぶよう配向されており、厚さ方向に伸びる導電路が
形成されている。この導電部17は、厚さ方向に加圧さ
れて圧縮されたときに抵抗値が減少して導電路が形成さ
れる、加圧導電部であってもよい。これに対して、絶縁
部18は、加圧されたときにも厚さ方向に導電路が形成
されないものである。
On the surface of the adapter body 12 as described above, a connector layer 15 is formed in a state of being integrally adhered or adhered. As shown in FIG. 4, the connector layer 15 is made of conductive particles P in an insulating elastic polymer material E.
Of the connection electrodes 4 are densely filled with the conductive portions 17.
In this state, the conductive portions 17 are located on the zero and the adjacent conductive portions 17 are insulated from each other by the insulating portion 18. In each conductive portion 17, the conductive particles P are oriented so as to be arranged in the thickness direction, and a conductive path extending in the thickness direction is formed. The conductive portion 17 may be a pressurized conductive portion in which a conductive path is formed by reducing a resistance value when compressed in a thickness direction and compressed. On the other hand, the insulating portion 18 does not form a conductive path in the thickness direction even when pressed.

【0022】上記コネクター層15の導電部17におい
ては、導電性粒子Pの充填率が10体積%以上、特に1
5体積%以上であることが好ましい。導電部を加圧導電
部とする場合において、導電性粒子の充填率が高いとき
には、加圧力が小さいときにも確実に所期の電気的接続
を達成することができる点では好ましい。しかし、接続
用電極40の電極ピッチが小さくなると、隣接する導電
部間に十分な絶縁性が確保されなくなるおそれがあり、
このため、導電部17における導電性粒子Pの充填率は
40体積%以下であることが好ましい。
In the conductive portion 17 of the connector layer 15, the filling rate of the conductive particles P is 10% by volume or more, particularly 1%.
It is preferably at least 5% by volume. In the case where the conductive portion is a pressurized conductive portion, when the filling rate of the conductive particles is high, it is preferable in that the intended electrical connection can be reliably achieved even when the pressing force is small. However, when the electrode pitch of the connection electrode 40 is small, sufficient insulation between adjacent conductive portions may not be ensured,
For this reason, the filling rate of the conductive particles P in the conductive portion 17 is preferably 40% by volume or less.

【0023】このような構成の回路基板検査用アダプタ
ー装置においては、配線層部分21の上面にコネクター
層15が一体的に形成されており、しかも配線層部分2
1の接続用電極40上にコネクター層15の導電部17
が配置されているため、電気的接続作業時にコネクター
層15の位置合わせおよび保持固定を行うことが全く不
要であり、従ってリード電極領域の電極ピッチが微小で
ある場合にも、所要の電気的接続を確実に達成すること
ができる。
In the circuit board inspection adapter device having such a configuration, the connector layer 15 is integrally formed on the upper surface of the wiring layer portion 21 and the wiring layer portion 2 is formed.
The conductive portion 17 of the connector layer 15 on the first connection electrode 40
Are arranged, it is not necessary to perform positioning and holding and fixing of the connector layer 15 at the time of the electrical connection operation. Therefore, even when the electrode pitch of the lead electrode area is minute, the required electrical connection is required. Can be reliably achieved.

【0024】また、コネクター層15はアダプター本体
12と一体であるため、温度変化による熱履歴などの環
境の変化に対しても、良好な電気的接続状態が安定に維
持され、従って常に高い接続信頼性を得ることができ
る。
Further, since the connector layer 15 is integrated with the adapter main body 12, a good electrical connection state is stably maintained even when the environment changes such as a heat history due to a temperature change, and therefore the connection reliability is always high. Sex can be obtained.

【0025】図示の例においては、コネクター層15の
外面において、導電部17が絶縁部18の表面から突出
する突出部を形成している。このような例によれば、加
圧による圧縮の程度が絶縁部18より導電部17におい
て大きいために十分に抵抗値の低い導電路が確実に導電
部17に形成され、これにより、加圧力の変化乃至変動
に対して抵抗値の変化を小さくすることができ、その結
果、コネクター層15に作用される加圧力が不均一であ
っても、各導電部17間における導電性のバラツキの発
生を防止することができる。
In the example shown in the drawing, on the outer surface of the connector layer 15, the conductive portion 17 forms a projecting portion projecting from the surface of the insulating portion 18. According to such an example, since the degree of compression due to pressurization is greater in the conductive portion 17 than in the insulating portion 18, a conductive path having a sufficiently low resistance value is reliably formed in the conductive portion 17, whereby the pressing force is reduced. It is possible to reduce the change in the resistance value with respect to the change or the fluctuation. As a result, even if the pressing force applied to the connector layer 15 is not uniform, it is possible to prevent the occurrence of the conductive variation between the conductive portions 17. Can be prevented.

【0026】このように導電部17が突出部を形成する
場合には、当該突出部の突出高さhは、コネクター層1
5の全厚t(t=h+d、dは絶縁部18の厚さであ
る。)の8%以上であることが好ましい。また、コネク
ター層15の全厚tは、接続用電極40の中心間距離と
して定義される電極ピッチpの300%以下、すなわち
t≦3pであることが好ましい。このような条件が充足
されることにより、コネクター層15に作用される加圧
力が変化した場合にも、それによる導電部17の導電性
の変化が十分に小さく抑制されるからである。
When the conductive portion 17 forms a protrusion as described above, the protrusion height h of the protrusion is determined by the connector layer 1.
5 is preferably 8% or more of the total thickness t (t = h + d, where d is the thickness of the insulating portion 18). The total thickness t of the connector layer 15 is preferably 300% or less of the electrode pitch p defined as the distance between the centers of the connection electrodes 40, that is, t ≦ 3p. By satisfying such a condition, even when the pressure applied to the connector layer 15 changes, the change in the conductivity of the conductive portion 17 due to the change is sufficiently small.

【0027】導電部17が突出部を形成する場合におい
ては、突出部の平面における全体が導電性を有すること
は必ずしも必要ではなく、例えば突出部の周縁には、電
極ピッチの20%以下の導電路非形成部分が存在してい
てもよい。また、隣接する導電部17間の離間距離rの
最小値は、当該導電部17の幅Rの10%以上であるこ
とが好ましい。このような条件が満足されることによ
り、加圧されて突出部が変形したときの横方向の変位が
原因となって隣接する導電部17同士が電気的に接触す
るおそれを十分に回避することができる。以上の例にお
いて、導電部17の平面形状は接続用電極40と等しい
幅の矩形状とすることができるが、必要な面積を有する
円形、その他の適宜の形状とすることができる。
When the conductive portion 17 forms a projecting portion, it is not always necessary that the entire surface of the projecting portion has conductivity. A road non-forming portion may be present. Further, it is preferable that the minimum value of the separation distance r between the adjacent conductive portions 17 is 10% or more of the width R of the conductive portion 17. By satisfying such a condition, it is possible to sufficiently avoid the possibility that the adjacent conductive portions 17 are electrically contacted with each other due to lateral displacement when the protrusion is deformed by being pressed. Can be. In the above example, the planar shape of the conductive portion 17 can be a rectangular shape having the same width as the connection electrode 40, but can be a circular shape having a necessary area or any other appropriate shape.

【0028】導電部17の導電性粒子としては、例えば
ニッケル、鉄、コバルトなどの磁性を示す金属の粒子も
しくはこれらの合金の粒子、またはこれらの粒子に金、
銀、パラジウム、ロジウムなどのメッキを施したもの、
非磁性金属粒子もしくはガラスビーズなどの無機質粒子
またはポリマー粒子にニッケル、コバルトなどの導電性
磁性体のメッキを施したものなどを挙げることができ
る。
The conductive particles of the conductive portion 17 include, for example, magnetic metal particles such as nickel, iron and cobalt or particles of alloys thereof, or gold,
Those plated with silver, palladium, rhodium, etc.
Inorganic particles such as non-magnetic metal particles or glass beads or polymer particles plated with a conductive magnetic material such as nickel or cobalt can be used.

【0029】後述する方法においては、ニッケル、鉄、
またはこれらの合金などよりなる導電性磁性体粒子が用
いられ、また接触抵抗が小さいなどの電気的特性の点で
金メッキされた粒子を好ましく用いることができる。ま
た、磁気ヒステリシスを示さない点から、導電性超常磁
性体よりなる粒子も好ましく用いることができる。
In the method described below, nickel, iron,
Alternatively, conductive magnetic particles made of an alloy thereof or the like are used, and gold-plated particles can be preferably used in terms of electrical characteristics such as low contact resistance. Further, particles composed of a conductive superparamagnetic material can be preferably used because they do not show magnetic hysteresis.

【0030】導電性粒子の粒径は、導電部17の加圧変
形を容易にし、かつ導電部17において導電性粒子間に
十分な電気的な接触が得られるよう、3〜200μmで
あることが好ましく、特に10〜100μmであること
が好ましい。
The particle size of the conductive particles is preferably 3 to 200 μm so that the conductive portion 17 can be easily deformed under pressure and sufficient electrical contact can be obtained between the conductive particles in the conductive portion 17. Preferably, it is particularly preferably 10 to 100 μm.

【0031】導電部17を構成する絶縁性で弾性を有す
る高分子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が
好ましい。架橋高分子物質を得るために用いることがで
きる硬化性の高分子物質用材料としては、例えばシリコ
ーンゴム、ポリブタジエン、天然ゴム、ポリイソプレ
ン、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン
共重合体ゴム、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、ク
ロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、軟質液状エ
ポキシ樹脂などを挙げることができる。
As the insulating and elastic polymer constituting the conductive portion 17, a polymer having a crosslinked structure is preferable. Examples of curable polymer materials that can be used to obtain a crosslinked polymer include silicone rubber, polybutadiene, natural rubber, polyisoprene, styrene-butadiene copolymer rubber, and acrylonitrile-butadiene copolymer rubber. , Ethylene-propylene copolymer rubber, urethane rubber, polyester rubber, chloroprene rubber, epichlorohydrin rubber, and soft liquid epoxy resin.

【0032】具体的には、硬化処理前には液状であっ
て、硬化処理後にアダプター本体12の配線層部分21
と密着状態または接着状態を保持して一体となる高分子
物質用材料が好ましい。このような観点から、本発明に
好適な高分子物質用材料としては、液状シリコーンゴ
ム、液状ウレタンゴム、軟質液状エポキシ樹脂などを挙
げることができる。高分子物質用材料には、アダプター
本体12の配線層部分21に対する接着性を向上させる
ために、シランカップリング剤、チタンカップリング剤
などの添加剤を添加することができる。
Specifically, it is in a liquid state before the curing treatment, and after the curing treatment, the wiring layer portion 21 of the adapter body 12 is formed.
It is preferable to use a material for a polymer substance which is integrated with a state in which it is in close contact with or adhered to the material. From such a viewpoint, examples of the material for a polymer substance suitable for the present invention include liquid silicone rubber, liquid urethane rubber, and soft liquid epoxy resin. An additive such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent can be added to the polymer substance material in order to improve the adhesion of the adapter body 12 to the wiring layer portion 21.

【0033】絶縁部18を構成する材料としては、導電
部17を構成する高分子物質と同一のものまたは異なる
ものを用いることができるが、同様に硬化処理後にアダ
プター本体12の配線層部分21と密着状態または接着
状態を保持してアダプター本体12と一体となるものが
用いられる。
The material constituting the insulating portion 18 may be the same as or different from the polymer material constituting the conductive portion 17. An adapter that maintains the close contact state or the adhered state and is integrated with the adapter body 12 is used.

【0034】このような絶縁部を形成することにより、
コネクター層それ自体の一体性並びにそのアダプター本
体に対する一体性が確実に高くなるため、アダプター装
置全体としての強度が大きくなり、従って繰り返し圧縮
に対して優れた耐久性を得ることができる。
By forming such an insulating portion,
Since the integrity of the connector layer itself and the integrity of the connector layer with respect to the adapter main body are reliably increased, the strength of the entire adapter device is increased, and therefore, excellent durability against repeated compression can be obtained.

【0035】以上のような構成のアダプター装置は、そ
の上面に検査対象である回路基板が配置されて接続用電
極40に回路基板の被検査電極が対接されると共に、下
面の端子電極30が適宜の接続手段を介してテスターに
接続され、更に全体が厚み方向に圧縮するよう加圧され
た状態とされる。この状態においては、アダプター装置
のコネクター層15の導電部17が導電状態となり、こ
れにより、被検査電極とテスターとの所要の電気的な接
続が達成される。
In the adapter device configured as described above, the circuit board to be inspected is arranged on the upper surface, the electrode to be inspected on the circuit board is brought into contact with the connection electrode 40, and the terminal electrode 30 on the lower surface is connected to the connection electrode 40. It is connected to a tester via appropriate connection means, and is further pressurized to compress the whole in the thickness direction. In this state, the conductive portion 17 of the connector layer 15 of the adapter device is in a conductive state, whereby required electrical connection between the electrode to be inspected and the tester is achieved.

【0036】次に、本発明に係る回路基板検査用アダプ
ター装置の製造方法について説明する。この方法は、基
本的に、アダプター本体を形成する第1プロセスとこの
アダプター本体の表面上に異方導電性コネクター層を一
体的に設ける第2プロセスとよりなる。
Next, a method for manufacturing the adapter device for circuit board inspection according to the present invention will be described. This method basically includes a first process for forming an adapter body and a second process for integrally providing an anisotropic conductive connector layer on a surface of the adapter body.

【0037】第1プロセスは、以下の第1工程〜第3工
程を含む。 第1工程 この第1工程は、基板の下面に端子電極を形成すると共
に、上面に当該端子電極と電気的に接続された第1配線
部を形成する工程である。具体的には、図5に示すよう
に、例えば銅などよりなる金属薄層30Aおよび33A
が両面に積層して設けられた硬質樹脂よりなる平板状の
基板20が用意され、この基板20に対し、例えば数値
制御型ドリリング装置により、図6に示すようにスルー
ホール20Hが形成される。このスルーホール20Hの
ピッチは例えば2.54mm、孔径は例えば0.5mm
である。
The first process includes the following first to third steps. First Step This first step is a step of forming a terminal electrode on the lower surface of the substrate and forming a first wiring portion electrically connected to the terminal electrode on the upper surface. Specifically, as shown in FIG. 5, thin metal layers 30A and 33A made of, for example, copper or the like.
Is prepared by laminating on both surfaces a flat substrate 20 made of a hard resin, and through holes 20H are formed in the substrate 20 by, for example, a numerically controlled drilling device as shown in FIG. The pitch of the through holes 20H is, for example, 2.54 mm, and the hole diameter is, for example, 0.5 mm.
It is.

【0038】次に、上記基板20に対し、図7に示すよ
うに、無電解銅メッキ法、電解銅メッキ法によりスルー
ホール20H内が銅メッキされて基板20を貫通して伸
びる短絡部32が形成される。また、基板20の下面の
金属薄層30Aがフォトエッチング処理されて、格子点
上に配置された端子電極30が形成される。この端子電
極30の電極ピッチはスルーホール20Hと同様であ
り、例えば2.54mmである。更に、基板20の上面
の金属薄層33Aがフォトエッチング処理されて、最終
的に得るべき態様に応じたパターンの第1配線部33が
形成される。
Next, as shown in FIG. 7, a short-circuit portion 32 extending through the substrate 20 by plating the inside of the through hole 20H with the electroless copper plating method or the electrolytic copper plating method is provided on the substrate 20 as shown in FIG. It is formed. Further, the metal thin layer 30A on the lower surface of the substrate 20 is subjected to a photo-etching process to form the terminal electrodes 30 arranged on the lattice points. The electrode pitch of the terminal electrode 30 is the same as that of the through hole 20H, for example, 2.54 mm. Further, the thin metal layer 33A on the upper surface of the substrate 20 is subjected to a photo-etching process to form the first wiring portion 33 having a pattern according to a mode to be finally obtained.

【0039】第2工程 この第2工程は、上記の基板20の上面に、放射線硬化
樹脂による第1絶縁層と、この第1絶縁層の上面に位置
された、当該第1絶縁層を貫通して第1配線部に電気的
に接続された第2配線部とを形成する工程である。具体
的には、図8に示すように、上記の基板20の上面上
に、放射線の照射によって硬化する硬化性樹脂層23A
が、例えばそのような樹脂シートを真空ラミネート法に
よって一体的に被覆させることによって形成される。そ
の後、硬化性樹脂層23Aに対し、当該硬化性樹脂層2
3Aが感応する放射線の照射を含むフォトリソグラフィ
法を行うことにより、図9に示すように、バイアホール
23Hが形成された硬化樹脂よりなる第1絶縁層23が
形成される。
Second Step In this second step, a first insulating layer made of a radiation-curable resin is formed on the upper surface of the substrate 20, and the first insulating layer located on the upper surface of the first insulating layer is penetrated. And forming a second wiring portion electrically connected to the first wiring portion. Specifically, as shown in FIG. 8, a curable resin layer 23A which is cured by irradiation with radiation is formed on the upper surface of the substrate 20.
Is formed, for example, by integrally coating such a resin sheet by a vacuum lamination method. Then, the curable resin layer 2 is applied to the curable resin layer 23A.
By performing a photolithography method including irradiation of radiation sensitive to 3A, as shown in FIG. 9, a first insulating layer 23 made of a cured resin having via holes 23H is formed.

【0040】次に、図10に示すように、無電解銅メッ
キ法、電解銅メッキ法によりバイアホール23H内が銅
メッキされて第1絶縁層23を貫通して伸びる短絡部3
4が形成される。バイアホール23Hがスルーホール2
0Hの直上に位置されている場合には、短絡部32上に
短絡部34が連続して伸びる状態となる。そして、更に
第1絶縁層23の上面に銅メッキによる金属薄層35A
が形成され、フォトメッキ処理後、図11に示すよう
に、エッチング処理により、金属薄層35Aの一部が除
去されて所要のパターンの第2配線部35が形成され
る。
Next, as shown in FIG. 10, the inside of the via hole 23H is copper-plated by electroless copper plating or electrolytic copper plating, and the short-circuit portion 3 extending through the first insulating layer 23 is formed.
4 are formed. Via hole 23H is through hole 2
When it is located immediately above 0H, the short-circuit portion 34 continuously extends on the short-circuit portion 32. Then, a thin metal layer 35A formed by copper plating is further formed on the upper surface of the first insulating layer 23.
After the photoplating process, as shown in FIG. 11, a part of the thin metal layer 35A is removed by an etching process to form a second wiring portion 35 having a required pattern.

【0041】第3工程 この第3工程は、上記の第1絶縁層23の上面に、放射
線硬化樹脂による第2絶縁層と、この第2絶縁層の上面
に位置された、当該第2絶縁層を貫通して第2配線部に
電気的に接続された接続用電極とを形成する工程であ
る。具体的には、図12に示すように、第2配線部35
を含む第1絶縁層23の上面に、放射線の照射によって
硬化する硬化性樹脂液が塗布されることによって硬化性
樹脂層25Aが形成される。その後、硬化性樹脂層25
Aに対し、当該硬化性樹脂層25Aが感応する放射線の
照射を含むフォトリソグラフィ法を行うことにより、図
13に示すように、バイアホール25Hが形成された硬
化樹脂よりなる第2絶縁層25が形成される。
Third Step This third step comprises the steps of: forming a second insulating layer made of a radiation curable resin on the upper surface of the first insulating layer 23; and forming the second insulating layer on the upper surface of the second insulating layer. And forming a connection electrode that is electrically connected to the second wiring portion through the substrate. Specifically, as shown in FIG.
Is applied to the upper surface of the first insulating layer 23 containing the curable resin liquid, thereby forming the curable resin layer 25A. Then, the curable resin layer 25
A is subjected to a photolithography method including irradiation of radiation to which the curable resin layer 25A is sensitive, so that the second insulating layer 25 made of the cured resin in which the via holes 25H are formed is formed as shown in FIG. It is formed.

【0042】次いで、図14に示すように、フォトメッ
キ法、無電解メッキ法によりバイアホール25H内が銅
メッキされて第2絶縁層25を貫通して伸びる短絡部3
6が形成される。バイアホール25Hがバイアホール2
3Hの直上に位置されている場合には、短絡部34上に
短絡部36が連続して伸びる状態となる。そして、更に
第2絶縁層25の上面に銅メッキによる金属薄層が形成
され、フォトメッキ処理後、エッチング処理により、当
該金属薄層の一部が除去されて、図15に示すように、
検査対象である回路基板の被検査電極に対応したパター
ンの接続用電極40が形成され、斯くしてアダプター本
体12が製造される。
Next, as shown in FIG. 14, the inside of the via hole 25H is copper-plated by a photoplating method or an electroless plating method, and the short-circuit portion 3 extending through the second insulating layer 25 is formed.
6 are formed. Via hole 25H is Via hole 2
When it is located immediately above 3H, the short-circuit portion 36 extends continuously on the short-circuit portion 34. Then, a thin metal layer formed by copper plating is further formed on the upper surface of the second insulating layer 25. After the photo plating process, a part of the thin metal layer is removed by etching, and as shown in FIG.
The connection electrodes 40 having a pattern corresponding to the electrodes to be inspected of the circuit board to be inspected are formed, and thus the adapter body 12 is manufactured.

【0043】以上の第1プロセスにおいて、第1絶縁層
23または第2絶縁層25を形成するための硬化性樹脂
層を設ける手段は特に限定されるものではなく、硬化性
樹脂シートを真空ラミネート法によって形成する手段、
硬化性樹脂液をスクリーン印刷技術などの塗布法を利用
して塗布する手段、その他の手段を利用することができ
る。
In the above first process, the means for providing the curable resin layer for forming the first insulating layer 23 or the second insulating layer 25 is not particularly limited, and the curable resin sheet may be formed by a vacuum laminating method. Means formed by
Means for applying the curable resin liquid using an application method such as screen printing technology, and other means can be used.

【0044】しかし、実際には、基板20に接する下面
側の第1絶縁層23の厚みは、上面側の第2絶縁層25
の厚みより大きいことが好ましい。この場合において
は、上面側の第2絶縁層25の厚みが比較的小さいの
で、当該第2絶縁層25を形成するためのパターニング
をフォトリソグラフィーによって行う場合におけるいわ
ゆる解像性がよく、このため、高密度の接続用電極40
のパターンに十分に対応する高密度の導電路を、その各
々が確実に絶縁された状態で形成することが可能とな
る。また、下面側の第1絶縁層23の厚みが比較的大き
いことにより、第1配線部33と第2配線部35との間
の絶縁性を容易に確保することができる。当該第1絶縁
層23を形成するためのパターニングをフォトリソグラ
フィーによって行う場合における解像性は比較的悪い
が、基板20に形成される端子電極30の電極ピッチは
それほど高密度ではないため、実際上、解像性が問題と
なることがない。
However, in practice, the thickness of the first insulating layer 23 on the lower surface side in contact with the substrate 20 is different from that of the second insulating layer 25 on the upper surface side.
Is preferably greater than the thickness of In this case, since the thickness of the second insulating layer 25 on the upper surface side is relatively small, so-called resolution is good when patterning for forming the second insulating layer 25 is performed by photolithography. High-density connection electrode 40
High-density conductive paths sufficiently corresponding to the above-mentioned pattern can be formed in a state where each of them is insulated reliably. Further, since the thickness of the first insulating layer 23 on the lower surface side is relatively large, insulation between the first wiring portion 33 and the second wiring portion 35 can be easily secured. Although the resolution when the patterning for forming the first insulating layer 23 is performed by photolithography is relatively poor, since the electrode pitch of the terminal electrodes 30 formed on the substrate 20 is not so high, the The resolution does not matter.

【0045】以上のような観点から、第1絶縁層23の
厚みは例えば50〜100μmとされ、第2絶縁層25
の厚みは例えば40〜60μmとされるのが好ましい。
そして、第1絶縁層23の形成のように、厚みが50μ
m以上の硬化性樹脂層を設ける場合には、そのような硬
化性樹脂のシートを真空ラミネート法によって設けるこ
とは高い製造効率が得られる点で有利である。そのよう
な厚みの層を塗布法によって形成する場合には、多数回
にわたって重ね塗りを行うことが必要となり、均一な層
の形成が容易ではないからである。一方、第2絶縁層2
5の形成のように、50μm以下の硬化性樹脂層をを設
ける場合には、そのような硬化性樹脂の液体を塗布法に
よって有利に設けることができる。
From the above viewpoint, the thickness of the first insulating layer 23 is, for example, 50 to 100 μm, and the thickness of the second insulating layer 25 is
Is preferably, for example, 40 to 60 μm.
Then, as in the formation of the first insulating layer 23, the thickness is 50 μm.
When a curable resin layer having a thickness of m or more is provided, it is advantageous to provide such a curable resin sheet by a vacuum lamination method in that high production efficiency can be obtained. This is because, when a layer having such a thickness is formed by a coating method, it is necessary to perform recoating many times, and it is not easy to form a uniform layer. On the other hand, the second insulating layer 2
In the case where a curable resin layer having a thickness of 50 μm or less is provided as in the case of No. 5, a liquid of such a curable resin can be advantageously provided by a coating method.

【0046】第1配線部33、第2配線部35または接
続用電極40を形成する金属層の厚みを大きくする場合
には、必要な厚みに対応する膜厚のフォトレジスト膜を
形成してパターニングを行うことにより、当該金属層を
形成する部分に孔を形成し、この孔内に金属をメッキ法
などによって充填し、然る後にフォトレジスト膜を除去
すればよい。このような方法により、表面から突出した
状態の接続用電極40を容易に形成することができる。
To increase the thickness of the metal layer forming the first wiring section 33, the second wiring section 35 or the connection electrode 40, a photoresist film having a thickness corresponding to the required thickness is formed and patterned. Is performed, a hole is formed in a portion where the metal layer is to be formed, a metal is filled in the hole by plating or the like, and then the photoresist film is removed. By such a method, the connection electrode 40 projecting from the surface can be easily formed.

【0047】絶縁層に形成されたバイアホール23Hま
たは25H内に短絡部を形成する際には、メッキに先行
してサンドブラスト処理を行うことが好ましく、これに
よってバイアホールの底面を確実に露出させることがで
き、短絡部による電気的な接続を確実に達成することが
できる。また、絶縁層の上面に金属層を形成する際に
も、当該絶縁層の表面をサンドブラスト処理することに
より、当該金属層の付着性を向上させることができる。
When forming a short-circuit portion in the via hole 23H or 25H formed in the insulating layer, it is preferable to perform sandblasting prior to plating, thereby ensuring that the bottom surface of the via hole is exposed. And electrical connection by the short-circuit portion can be reliably achieved. In addition, when a metal layer is formed on the upper surface of the insulating layer, the adhesion of the metal layer can be improved by sandblasting the surface of the insulating layer.

【0048】以上のようにして得られるアダプター本体
12に対して、第2プロセスによってコネクター層15
が設けられる。この第2プロセスにおいては、硬化処理
によって絶縁性の弾性高分子物質となる高分子物質用材
料中に導電性磁性体粒子を分散させて流動性の混合物よ
りなるコネクター用材料が調製され、図16に示すよう
に、このコネクター用材料がアダプター本体12の上面
に塗布されることによりコネクター用材料層50が形成
され、これが金型のキャビティ内に配置される。
The connector layer 15 is applied to the adapter body 12 obtained as described above by the second process.
Is provided. In the second process, the conductive magnetic particles are dispersed in a polymer material that becomes an insulating elastic polymer material by curing treatment to prepare a connector material made of a fluid mixture. As shown in FIG. 5, the connector material is applied to the upper surface of the adapter body 12 to form a connector material layer 50, which is arranged in the mold cavity.

【0049】この金型は、各々電磁石を構成する上型5
1と下型52とよりなり、上型51には、接続用電極4
0に対応するパターンの強磁性体部分(斜線を付して示
す)Mと、それ以外の非磁性体部分Nとよりなる、下面
が平坦面である磁極板53が設けられており、当該磁極
板53の平坦な下面がコネクター用材料層50の表面か
ら離間されて間隙Gが形成された状態とされる。なお、
図16および図17においては、接続用電極40を除
き、アダプター本体12の詳細は省略されている。
This mold is an upper mold 5 that constitutes an electromagnet.
1 and a lower mold 52, and the upper mold 51 has a connection electrode 4
A magnetic pole plate 53 having a flat lower surface is provided which is composed of a ferromagnetic portion M (shown by oblique lines) having a pattern corresponding to 0 and a non-magnetic portion N other than the ferromagnetic portion. The flat lower surface of the plate 53 is separated from the surface of the connector material layer 50 so that the gap G is formed. In addition,
16 and 17, details of the adapter main body 12 are omitted except for the connection electrode 40.

【0050】この状態で上型51と下型52の電磁石を
動作させ、これにより、アダプター本体12の厚さ方向
の平行磁場を作用させる。その結果、コネクター用材料
層50においては接続用電極40上に位置する部分にお
いて、それ以外の部分より強い平行磁場が厚さ方向に作
用されることとなり、この分布を有する平行磁場によ
り、図17に示すように、コネクター用材料層50内の
導電性磁性体粒子が、強磁性体部分Mによる磁力により
接続用電極40上に位置する部分に集合して更に厚さ方
向に配向する。
In this state, the electromagnets of the upper die 51 and the lower die 52 are operated, whereby a parallel magnetic field in the thickness direction of the adapter body 12 is applied. As a result, in the portion of the connector material layer 50 located on the connection electrode 40, a stronger parallel magnetic field is applied in the thickness direction than in the other portions. As shown in (1), the conductive magnetic material particles in the connector material layer 50 are gathered in a portion located on the connection electrode 40 by the magnetic force of the ferromagnetic material portion M and further oriented in the thickness direction.

【0051】然るに、このとき、コネクター用材料層5
0の表面側には間隙Gが存在するため、導電性磁性体粒
子の移動集合によって高分子物質用材料も同様に移動す
る結果、接続用電極40上に位置する部分の高分子物質
用材料表面が隆起し、突出した導電部17が形成され
る。従って、形成される絶縁部18の厚さt1 は、初期
のコネクター用材料層50の厚さt0 より小さいものと
なる。そして、平行磁場を作用させたまま、あるいは平
行磁場を除いた後、硬化処理を行うことにより、突出部
を形成する導電部17と絶縁部18とよりなるコネクタ
ー層15をアダプター本体12上に一体的に設けること
ができ、以てアダプター装置が製造される。
However, at this time, the connector material layer 5
Since the gap G is present on the surface side of the polymer material 0, the polymer material also moves by the moving and gathering of the conductive magnetic particles. Are raised, and a protruding conductive portion 17 is formed. Therefore, the thickness t 1 of the formed insulating portion 18 is smaller than the initial thickness t 0 of the connector material layer 50. Then, while the parallel magnetic field is applied or after the parallel magnetic field is removed, the connector layer 15 including the conductive portion 17 and the insulating portion 18 forming the protrusion is integrally formed on the adapter body 12 by performing a curing process. The adapter device is manufactured.

【0052】磁極板としては、図18に示すように、上
型51が接続用電極40に対応するパターンの強磁性体
部分Mとそれ以外の非磁性体部分Nよりなり、当該上型
51の下面において強磁性体部分Mが非磁性体部分Nよ
り下方に突出した状態の磁極板55を使用することもで
きる。更に、全体が強磁性体よりなる磁極板であって、
接続用電極40に対応するパターンの部分が、それ以外
の部分より下方に突出した状態の磁極板を用いることも
できる。これらの場合にも、コネクター用材料層50に
対しては接続用電極40の領域において、より強い平行
磁場が作用されることとなる。
As shown in FIG. 18, the upper mold 51 is composed of a ferromagnetic portion M having a pattern corresponding to the connection electrode 40 and a non-magnetic material portion N, as shown in FIG. It is also possible to use the pole plate 55 in a state where the ferromagnetic portion M protrudes below the non-magnetic portion N on the lower surface. Furthermore, a pole plate made entirely of a ferromagnetic material,
It is also possible to use a magnetic pole plate in which a portion of the pattern corresponding to the connection electrode 40 protrudes below other portions. Also in these cases, a stronger parallel magnetic field is applied to the connector material layer 50 in the region of the connection electrode 40.

【0053】また、平行磁場を作用させたままで上型5
1と下型52の間隔が可変の金型を用い、始めは上型5
1をコネクター用材料層50のすぐ上に配置し、平行磁
場を作用させながら上型51と下型52の間隔を徐々に
広げ、これによってコネクター用材料層50の隆起を生
じさせ、その後に硬化処理を行うこともできる。
Further, the upper mold 5 is kept under the parallel magnetic field.
A mold having a variable distance between the lower mold 1 and the lower mold 52 is used.
1 is disposed immediately above the connector material layer 50, and the gap between the upper mold 51 and the lower mold 52 is gradually widened while applying a parallel magnetic field, thereby causing the connector material layer 50 to protrude and then hardened. Processing can also be performed.

【0054】本発明においては、コネクター層15の導
電部17が絶縁部18より突出していることは必須のこ
とではなく、平坦な表面を有するものとすることもでき
る。このような場合には、例えば図16に示した構成の
金型を用い、間隙Gを形成せずに処理すればよい。
In the present invention, it is not essential that the conductive portion 17 of the connector layer 15 protrudes from the insulating portion 18, but the conductive portion 17 may have a flat surface. In such a case, the processing may be performed without forming the gap G by using, for example, a mold having the configuration shown in FIG.

【0055】コネクター用材料層50の厚さは例えば
0.1〜3mmとされる。このコネクター用材料層50
のための高分子物質用材料は、導電性磁性体粒子の移動
が容易に行われるよう、その温度25℃における粘度が
101 sec-1の歪速度の条件下において104 〜10
7 センチポアズ程度であることが好ましい。コネクター
用材料層50の硬化処理は、平行磁場を作用させたまま
の状態で行うことが好ましいが、平行磁場の作用を停止
させた後に行うこともできる。
The thickness of the connector material layer 50 is, for example, 0.1 to 3 mm. This connector material layer 50
In order to facilitate the movement of the conductive magnetic particles, the material for a polymer substance has a viscosity at 25 ° C. of 10 4 to 10 under the condition of a strain rate of 10 1 sec -1.
It is preferably about 7 centipoise. The curing treatment of the connector material layer 50 is preferably performed while the parallel magnetic field is applied, but may be performed after the operation of the parallel magnetic field is stopped.

【0056】また、磁極板53、55の強磁性体部分M
は鉄、ニッケルなどの強磁性体により、また非磁性体部
分Nは、銅などの非磁性金属、ポリイミドなどの耐熱性
樹脂または空気層などにより形成することができる。コ
ネクター用材料層50に作用される平行磁場の強度は、
金型のキャビティの平均で200〜20,000ガウス
となる大きさが好ましい。
The ferromagnetic portions M of the pole plates 53 and 55
Can be formed of a ferromagnetic material such as iron or nickel, and the nonmagnetic portion N can be formed of a nonmagnetic metal such as copper, a heat-resistant resin such as polyimide, or an air layer. The intensity of the parallel magnetic field applied to the connector material layer 50 is
It is preferred that the mold cavity has an average size of 200 to 20,000 gauss.

【0057】硬化処理は、使用される材料によって適宜
選定されるが、通常、熱処理によって行われる。具体的
な加熱温度および加熱時間は、コネクター用材料層50
の高分子物質用材料の種類、導電性磁性体粒子の移動に
要する時間などを考慮して適宜選定される。例えば、高
分子物質用材料が室温硬化型シリコーンゴムである場合
に、硬化処理は、室温で24時間程度、40℃で2時間
程度、80℃で30分間程度で行われる。
The curing treatment is appropriately selected depending on the material used, but is usually carried out by heat treatment. The specific heating temperature and heating time are determined by the connector material layer 50.
The material is appropriately selected in consideration of the type of the polymer material, the time required for the movement of the conductive magnetic particles, and the like. For example, when the material for a polymer substance is a room-temperature-curable silicone rubber, the curing treatment is performed at room temperature for about 24 hours, at 40 ° C. for about 2 hours, and at 80 ° C. for about 30 minutes.

【0058】〔実施例〕以下、本発明の実施例を説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
Embodiments Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these embodiments.

【0059】実施例1 (イ)第1プロセス 第1工程 各々の厚みが35μmの銅金属薄層(30A,33A)
を厚さ0.5mmのガラス繊維補強型エポキシ樹脂より
なる基板(20)の両面に積層してなる材料を用意し、
これを縦330mm、横610mmの矩形状に裁断し、
これに、2軸ドリリング装置「ND−2J−18」(日
立精工社製)を用いてピッチが2.45mmの格子点上
に配置された状態となるよう、各々の内径が0.5mm
のスルーホール(20H)を形成した(図5および図6
参照)。
Example 1 (A) First Process First Step Each of the copper metal thin layers (30A, 33A) having a thickness of 35 μm
Is prepared by laminating on both sides of a substrate (20) made of glass fiber reinforced epoxy resin having a thickness of 0.5 mm,
This is cut into a rectangular shape of 330 mm length and 610 mm width,
Each of the inner diameters is set to 0.5 mm using a biaxial drilling device “ND-2J-18” (manufactured by Hitachi Seiko Co., Ltd.) so as to be arranged on a lattice point having a pitch of 2.45 mm.
(FIG. 5 and FIG. 6).
reference).

【0060】その後、銅メッキにより、スルーホール内
に短絡部を形成すると共に、基板の両面の金属薄層に対
してフォトエッチング処理することにより、下面には端
子電極(30)を形成し、上面には、短絡部(32)を
介して電気的に接続された第1配線部(33)を形成し
た(図7参照)。
Thereafter, a short-circuit portion is formed in the through-hole by copper plating, and a thin metal layer on both surfaces of the substrate is subjected to a photo-etching process, thereby forming a terminal electrode (30) on the lower surface and forming a terminal electrode (30) on the lower surface. A first wiring portion (33) electrically connected to the first wiring portion via a short-circuit portion (32) was formed (see FIG. 7).

【0061】第2工程 第1配線部を含む基板の表面に、厚さ75μmの紫外線
硬化性樹脂シートを真空ラミネート法によって積層させ
て硬化性樹脂層(23A)を形成し、この硬化性樹脂層
に対し、プリント基板用露光装置(ハイテックコーポレ
ーション社製)を用い、パターンフィルムマスクを介し
て245mJ/cm2 のエネルギーで露光処理し、温度
30℃、濃度1%の炭酸水素ナトリウム水溶液によりス
プレー現像して、硬化した樹脂層により第1絶縁層(2
3)を形成した。
Second Step A 75 μm-thick ultraviolet curable resin sheet is laminated on the surface of the substrate including the first wiring portion by vacuum lamination to form a curable resin layer (23A). Was exposed with an energy of 245 mJ / cm 2 through a pattern film mask using an exposure apparatus for printed circuit boards (manufactured by Hi-Tech Corporation), and spray-developed with a 30% aqueous sodium hydrogen carbonate solution at a temperature of 30 ° C. And the first insulating layer (2
3) was formed.

【0062】その後、電解銅メッキ法により、第1絶縁
層に形成されたバイアホール(23H)内に金属銅を充
填して短絡部(34)を形成すると共に、第1絶縁層の
上面の全面に無電解銅メッキ法により金属薄層(35
A)を形成し、フォトメッキ法により配線部を形成した
後、当該金属薄層に対してエッチング処理することによ
り、短絡部を介して第1配線部と電気的に接続された第
2配線部(35)を形成した(図8〜図11参照)。そ
の後、硬化樹脂層に対してコンベアー式紫外線露光装置
(オーク製作所製)を用い、2000mJ/cm2 のエ
ネルギーで露光処理し、熱風乾燥機を用いて150℃、
30分間の熱処理を行った。
Thereafter, metal copper is filled in the via holes (23H) formed in the first insulating layer by electrolytic copper plating to form short-circuit portions (34), and the entire upper surface of the first insulating layer is formed. A thin metal layer (35
A), a wiring portion is formed by a photoplating method, and then the thin metal layer is subjected to an etching process, whereby the second wiring portion electrically connected to the first wiring portion via the short-circuit portion. (35) was formed (see FIGS. 8 to 11). Thereafter, the cured resin layer is exposed to light at an energy of 2000 mJ / cm 2 using a conveyor-type ultraviolet exposure apparatus (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.), and heated at 150 ° C. using a hot air drier.
Heat treatment was performed for 30 minutes.

【0063】第3工程 第2工程によって得られたアダプター本体材料に対し、
第2配線部を含む第1絶縁層の上面に、二液型紫外線硬
化性樹脂「NPR−60−5P」(日本ポリテック社
製)を、スクリーン印刷機「MELODY−MARKII
MR−60」により、ポリエステルクリーンメッシュ
を張ったスクリーン印刷用版を介して、スキージー速度
10mm/secの条件で3回塗布し、温度80℃の熱
風乾燥機炉で15分間乾燥させる工程を2回繰り返し、
これにより厚みが40μmの硬化性樹脂層(25A)を
形成した。そして、他は第2工程と同様の処理を行っ
て、硬化した樹脂層による第2絶縁層(25)を形成す
ると共に、第2配線部に電気的に接続された短絡部(3
6)を形成した(図12〜図14参照)。
Third Step The adapter body material obtained in the second step is
On the upper surface of the first insulating layer including the second wiring portion, a two-part ultraviolet curable resin “NPR-60-5P” (manufactured by Nippon Polytech) is screen-printed by “MELODY-MARKII”.
Using MR-60, a process of applying three times at a squeegee speed of 10 mm / sec through a screen printing plate with a polyester clean mesh and drying it in a hot air dryer oven at a temperature of 80 ° C. for 15 minutes is performed twice. repetition,
Thereby, a curable resin layer (25A) having a thickness of 40 μm was formed. Otherwise, the same processing as in the second step is performed to form the second insulating layer (25) of the cured resin layer, and the short-circuit portion (3) electrically connected to the second wiring portion.
6) was formed (see FIGS. 12 to 14).

【0064】更に、第2絶縁層の上面にパターン状の銅
メッキ層を形成した上、厚みが50μmのフォトレジス
ト膜を設け、これをフォトリソグラフィ法により処理し
て検査対象回路基板の被検査電極に対応するパターンに
従って除去し、斯くして形成された穴部に銅メッキ法に
より金属銅を充填し、その後フォトレジスト膜を剥離す
ることにより、突出高さが50μmの接続用電極(4
0)を形成し、更に各接続用電極の被検査電極には厚み
2μmの金メッキを施し、アダプター本体を製造した。
Further, a patterned copper plating layer is formed on the upper surface of the second insulating layer, and a photoresist film having a thickness of 50 μm is provided. Is removed according to a pattern corresponding to the pattern, and the hole thus formed is filled with metallic copper by a copper plating method, and then the photoresist film is peeled off to form a connection electrode (4) having a protrusion height of 50 μm.
0) was formed, and the electrodes to be inspected of each connection electrode were plated with gold having a thickness of 2 μm to manufacture an adapter body.

【0065】ここに得られたアダプター本体の接続用電
極は、各電極の寸法が0.15mm平方で電極ピッチが
0.25mmの電極群と、各電極の寸法が幅0.2mm
長さ0.5mmの矩形で電極ピッチが0.6mmの電極
群と、各電極の寸法が1mm平方で電極ピッチが2mm
の電極群とを有するものであった。
The connection electrodes of the adapter body obtained here were an electrode group in which the dimensions of each electrode were 0.15 mm square and the electrode pitch was 0.25 mm, and the dimensions of each electrode were 0.2 mm in width.
An electrode group having a rectangular shape with a length of 0.5 mm and an electrode pitch of 0.6 mm, and a dimension of each electrode of 1 mm square and an electrode pitch of 2 mm
Electrode group.

【0066】第2プロセス 室温硬化型ウレタンゴムに平均粒径26μmのニッケル
よりなる導電性磁性体粒子を15体積%となる割合で混
合してなるコネクター用材料を調製し、これを上記のア
ダプター本体の表面に塗布したものを、基本的に図18
に示した金型を用いる方法に従って処理した。すなわ
ち、下面において強磁性体部分Mが非磁性体部分Nより
0.1mm突出する磁極板55を用い、強磁性体部分M
の下面とコネクター用材料層との間に0.03mmの間
隙を形成して平行磁場を作用させてコネクター用材料層
を隆起させ、この状態で室温で24時間放置して硬化さ
せ、これにより、導電部の厚さtが0.3mm、絶縁部
の厚さdが0.27mm、導電部の突出割合(t−d)
/tが10%のコネクター層を形成し、もって回路基板
検査用アダプター装置を製造した。
Second Process A connector material was prepared by mixing room-temperature-curable urethane rubber with conductive magnetic particles of nickel having an average particle size of 26 μm at a ratio of 15% by volume, and this was mixed with the adapter body described above. 18 is basically applied to the surface of FIG.
The method was performed according to the method using the mold shown in FIG. That is, a magnetic pole plate 55 in which the ferromagnetic portion M protrudes 0.1 mm from the non-magnetic portion N on the lower surface is used.
A gap of 0.03 mm is formed between the lower surface of the connector material layer and the connector material layer, and a parallel magnetic field is applied to raise the connector material layer. In this state, the connector material layer is left standing at room temperature for 24 hours to be cured. The thickness t of the conductive part is 0.3 mm, the thickness d of the insulating part is 0.27 mm, and the protrusion ratio of the conductive part (t−d)
A connector layer having a / t of 10% was formed, and an adapter device for circuit board inspection was manufactured.

【0067】実験例1 以上のアダプター装置について、抵抗測定器「ミリオー
ムハイテスター」(日置電機社製)を用い、基板の下面
側に共通の導電板を配置してすべての端子電極を短絡状
態とし、この導電板と各接続用電極との間の電気抵抗値
をプローブピンを利用して測定した。その結果、すべて
の接続用電極について、電気抵抗値は33mΩ以下と非
常に小さく、接続されるべき端子電極と接続用電極との
間の電気的な接続が十分に達成されていることが確認さ
れた。
EXPERIMENTAL EXAMPLE 1 With respect to the above-mentioned adapter device, a common conductive plate was arranged on the lower surface side of the substrate by using a resistance measuring device "Milliohm High Tester" (manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.), and all terminal electrodes were short-circuited. The electrical resistance between the conductive plate and each connection electrode was measured using a probe pin. As a result, it was confirmed that the electric resistance value of all the connection electrodes was as very small as 33 mΩ or less, and that the electric connection between the terminal electrode to be connected and the connection electrode was sufficiently achieved. Was.

【0068】実験例2 更に当該アダプター装置について、上記と同様の抵抗測
定器を用い、互いに絶縁状態とされるべき隣接する接続
用電極の間の電気抵抗値をプローブピンを利用して測定
したところ、電気抵抗値はいずれも2MΩ以上と非常に
大きく、十分な絶縁状態が達成されていることが確認さ
れた。
Experimental Example 2 With respect to the adapter device, the electric resistance between adjacent connecting electrodes to be insulated from each other was measured using a probe pin, using the same resistance measuring device as described above. In addition, the electric resistance value was as very large as 2 MΩ or more, and it was confirmed that a sufficient insulating state was achieved.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明の回路基板検査用アダプター装置
によれば、アダプター本体の配線層部分の表面には、検
査対象回路基板の被検査電極に対応して配置された接続
用電極が形成されると共に、基板の下面には、格子点に
配置された、電気的検査装置と接続される端子電極が形
成されており、また配線層部分には接続用電極と端子電
極とを電気的に接続するための2層以上の層内配線部が
形成されており、しかもアダプター本体の配線層部分の
表面上には異方導電性コネクター層が一体的に設けられ
ている上、当該異方導電性コネクター層においては絶縁
性の弾性高分子物質中に導電性粒子が厚さ方向に並ぶよ
う配向されて導電部が形成されているため、検査対象で
ある回路基板の被検査電極が、電極ピッチが微小であ
り、かつ微細で高密度の複雑なパターンのものである場
合にも、厚み方向に圧縮されることにより、異方導電性
コネクター層において厚さ方向に伸びる導電部を介し
て、当該回路基板の被検査電極と電気的検査装置との所
要の電気的接続を確実に達成することができる。また、
異方導電性コネクター層がアダプター本体に一体的に設
けられているため、温度変化による熱履歴などの環境の
変化に対しても良好な電気的接続状態が安定に維持さ
れ、従って高い接続信頼性を得ることができる。
According to the adapter device for circuit board inspection of the present invention, connection electrodes arranged corresponding to the electrodes to be inspected of the circuit board to be inspected are formed on the surface of the wiring layer portion of the adapter body. On the lower surface of the substrate, terminal electrodes arranged at grid points and connected to an electrical inspection device are formed, and the connection electrodes and the terminal electrodes are electrically connected to the wiring layer portion. In addition, two or more in-layer wiring portions are formed for the connection, and an anisotropic conductive connector layer is integrally provided on the surface of the wiring layer portion of the adapter body. In the connector layer, the conductive particles are arranged in the insulating elastic polymer material so that the conductive particles are aligned in the thickness direction to form the conductive part. Small, fine and dense Even when those complex patterns of, by being compressed in the thickness direction, via the conductive portion extending in the thickness direction in the anisotropically conductive connector layer, electrical inspection and the electrodes to be inspected of the circuit board The required electrical connection with the device can be reliably achieved. Also,
Since the anisotropic conductive connector layer is provided integrally with the adapter body, a good electrical connection state is stably maintained against environmental changes such as heat history due to temperature changes, and therefore high connection reliability Can be obtained.

【0070】本発明の回路基板の検査方法および回路基
板の検査装置によれば、上記の構成の回路基板検査用ア
ダプター装置を用いることにより、高い信頼性で回路基
板について所要の検査を行うことができる。
According to the circuit board inspection method and the circuit board inspection apparatus of the present invention, the required inspection of the circuit board can be performed with high reliability by using the circuit board inspection adapter device having the above-described configuration. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る回路基板検査用アダプ
ター装置の構成を示す説明用断面図である。
FIG. 1 is an explanatory sectional view showing a configuration of an adapter device for circuit board inspection according to one embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるアダプター装置のアダプター本体
の説明用断面図である。
FIG. 2 is a sectional view for explaining an adapter body of the adapter device in FIG. 1;

【図3】本発明の一実施例に係るアダプター装置におけ
る各部の配置の状態を示す説明用平面図である。
FIG. 3 is an explanatory plan view showing an arrangement state of each part in the adapter device according to one embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例に係るアダプター装置におけ
るコネクター層部分の説明用拡大断面図である。
FIG. 4 is an enlarged sectional view for explaining a connector layer portion in the adapter device according to the embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例に係る回路基板検査用アダプ
ター装置の製造方法に用いられる基板材料の説明用断面
図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a substrate material used in the method for manufacturing a circuit board inspection adapter device according to one embodiment of the present invention.

【図6】基板材料にスルーホールが形成された状態の説
明用断面図である。
FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a through hole is formed in a substrate material.

【図7】基板材料に係る短絡部と第1配線部が形成され
た状態の説明用断面図である。
FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a short-circuit portion and a first wiring portion according to a substrate material are formed.

【図8】第1絶縁層のための硬化性樹脂層が形成された
状態の説明用断面図である。
FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a curable resin layer for a first insulating layer is formed.

【図9】第1絶縁層にバイアホールが形成された状態の
説明用断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view for explaining a state in which a via hole is formed in a first insulating layer.

【図10】第1絶縁層に係る短絡部と第2配線部のため
の金属薄層が形成された状態の説明用断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a state where a thin metal layer for a short-circuit portion and a second wiring portion according to a first insulating layer is formed.

【図11】第2配線部が形成された状態の説明用断面図
である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a state where a second wiring portion is formed.

【図12】第2絶縁層のための硬化性樹脂層が形成され
た状態の説明用断面図である。
FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a curable resin layer for a second insulating layer is formed.

【図13】第2絶縁層にバイアホールが形成された状態
の説明用断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view for explaining a state in which a via hole is formed in a second insulating layer.

【図14】第2絶縁層に係る短絡部が形成された状態の
説明用断面図である。
FIG. 14 is an explanatory cross-sectional view illustrating a state where a short-circuit portion according to a second insulating layer is formed.

【図15】接続用電極が形成されて完成したアダプター
本体の説明用断面図である。
FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view of an adapter body completed by forming connection electrodes.

【図16】コネクター用材料層が形成されたアダプター
本体が金型にセットされた状態を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 16 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the adapter body on which the connector material layer is formed is set in a mold.

【図17】図16において、平行磁場が作用された状態
を示す説明用断面図である。
FIG. 17 is an explanatory sectional view showing a state where a parallel magnetic field is applied in FIG. 16;

【図18】コネクター層を形成するために用いられる金
型の他の例を示す説明用断面図である。
FIG. 18 is an explanatory cross-sectional view showing another example of a mold used for forming a connector layer.

【図19】プリント回路基板の一例の配置を示す説明図
である。
FIG. 19 is an explanatory diagram showing an arrangement of an example of a printed circuit board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 アダプター装置 12 アダプタ
ー本体 15 異方導電性コネクター層 17 導電部 18 絶縁部 20 絶縁性基
板 21 配線層部分 23 第1絶縁
層 25 第2絶縁層 30 端子電極 32 短絡部 33 第1配線
部 34 短絡部 35 第2配線
部 36 短絡部 40 接続用電
極 E 弾性高分子物質 P 導電性粒子 30A 金属薄層 33A 金属薄
層 20H スルーホール 23A 硬化性
樹脂層 23H バイアホール 35A 金属薄
層 25A 硬化性樹脂層 25H バイア
ホール 50 コネクター用材料層 51 上型 52 下型 M 強磁性体部
分 N 非磁性体部分 53 磁極板 G 間隙 55 磁極板 90 回路基板 91 機能素子
領域 92 リード電極 93 リード電
極領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Adapter apparatus 12 Adapter main body 15 Anisotropic conductive connector layer 17 Conductive part 18 Insulating part 20 Insulating board 21 Wiring layer part 23 1st insulating layer 25 2nd insulating layer 30 Terminal electrode 32 Short circuit part 33 First wiring part 34 Short circuit Part 35 second wiring part 36 short-circuit part 40 connection electrode E elastic polymer substance P conductive particle 30A thin metal layer 33A thin metal layer 20H through hole 23A curable resin layer 23H via hole 35A thin metal layer 25A curable resin layer 25H Via hole 50 Connector material layer 51 Upper die 52 Lower die M Ferromagnetic part N Non-magnetic part 53 Magnetic pole plate G Gap 55 Magnetic pole plate 90 Circuit board 91 Functional element area 92 Lead electrode 93 Lead electrode area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05K 3/00 H01R 23/68 303E (72)発明者 井上 和夫 東京都中央区築地2丁目11番24号 日本 合成ゴム株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−183974(JP,A) 特開 平2−2944(JP,A) 特開 平4−151564(JP,A) 特開 平5−218150(JP,A) 特開 平4−89579(JP,A) 特開 昭63−243768(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01R 11/01 H01R 12/16 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H05K 3/00 H01R 23/68 303E (72) Inventor Kazuo Inoue 2-11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. (56) References JP-A-3-183974 (JP, A) JP-A-2-2944 (JP, A) JP-A-4-151564 (JP, A) JP-A-5-218150 (JP, A) JP-A-4-89579 (JP, A) JP-A-63-243768 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01R 11/01 H01R 12/16

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 検査対象回路基板と電気的検査装置との
間に介在されて当該回路基板の電極の電気的接続を行う
回路基板検査用アダプター装置であって、材質が寸法安定性の高い耐熱性材料である 基板および基
板の上面に設けられた配線層部分を有するアダプター本
体と、このアダプター本体の配線層部分の表面上に一体
的に接着乃至密着した状態で形成された、絶縁性の弾性
高分子物質中に導電性粒子が充填されて厚さ方向に伸び
る導電部が形成される異方導電性コネクター層とよりな
り、 前記アダプター本体の配線層部分の表面には、検査対象
回路基板の被検査電極に対応して配置された接続用電極
が形成されると共に、基板の下面に格子点上に配置され
た端子電極が形成され、前記配線層部分には、接続用電
極と端子電極とを電気的に接続するための2層以上の層
内配線部が形成されていることを特徴とする回路基板検
査用アダプター装置。
1. A circuit board inspection adapter device interposed between a circuit board to be inspected and an electrical inspection device for electrically connecting electrodes of the circuit board, wherein the adapter device is made of a material having high dimensional stability and high heat resistance. An adapter body having a substrate that is a conductive material and a wiring layer portion provided on the upper surface of the substrate; and an insulating elastic material formed integrally with or adhered to the surface of the wiring layer portion of the adapter body.
Polymer particles are filled with conductive particles and extend in the thickness direction
That the conductive portion is formed becomes more anisotropically conductive connector layer, the surface of the wiring layer portion of the adapter body, connecting electrodes arranged to correspond to test electrodes of the test object circuit board is formed And terminal electrodes arranged on lattice points on the lower surface of the substrate, and two or more in-layer wiring portions for electrically connecting the connection electrodes and the terminal electrodes to the wiring layer portion. An adapter device for inspecting a circuit board, wherein an adapter device is formed.
【請求項2】 異方導電性コネクター層の導電部が、ア
ダプター本体の配線層部分の表面における、検査対象回
路基板の被検査電極に対応した位置に形成された接続用
電極上に配置されていることを特徴とする請求項1に記
載の回路基板検査用アダプター装置。
2. A method according to claim 1, wherein the conductive portion of the anisotropic conductive connector layer is disposed on a connection electrode formed at a position corresponding to the electrode to be inspected on the circuit board to be inspected on the surface of the wiring layer portion of the adapter body. The adapter device for circuit board inspection according to claim 1, wherein
【請求項3】 異方導電性コネクター層の外面におい
て、導電部が絶縁部の表面から突出する突出部を形成し
ていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載
の回路基板検査用アダプター装置。
3. The circuit board inspection according to claim 1, wherein the conductive portion has a protruding portion protruding from the surface of the insulating portion on the outer surface of the anisotropic conductive connector layer. Adapter device.
【請求項4】 請求項1〜請求項3のいずれかに記載の
回路基板検査用アダプター装置を用い、その異方導電性
コネクター層の導電部を介して、検査対象回路基板の被
検査電極と電気的検査装置との電気的な接続を達成する
ことにより、回路基板の検査を行うことを特徴とする回
路基板の検査方法。
4. An electrode for inspection of a circuit board to be inspected, using the adapter for circuit board inspection according to claim 1 through a conductive portion of an anisotropic conductive connector layer. A method for inspecting a circuit board, wherein the circuit board is inspected by achieving an electrical connection with an electrical inspection apparatus.
【請求項5】 請求項1〜請求項3のいずれかに記載の
回路基板検査用アダプター装置を備えてなることを特徴
とする回路基板の検査装置。
5. An apparatus for inspecting a circuit board, comprising the adapter apparatus for circuit board inspection according to claim 1. Description:
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