JP3354268B2 - 排ガス浄化方法 - Google Patents

排ガス浄化方法

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JP3354268B2
JP3354268B2 JP02105594A JP2105594A JP3354268B2 JP 3354268 B2 JP3354268 B2 JP 3354268B2 JP 02105594 A JP02105594 A JP 02105594A JP 2105594 A JP2105594 A JP 2105594A JP 3354268 B2 JP3354268 B2 JP 3354268B2
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【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体工場の建屋内等
で発生する廃ガスと廃水とを管内に並流させて、それぞ
れを建屋外に移送する排ガス浄化方法、特に水質が水道
水クラスの浄化用水を使用しないで廃ガスの浄化を可能
にする排ガス浄化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】次に、図２を参照し、従来の排ガス浄化
方法、たとえばクリーンルームに設置されたドラフトチ
ャンバ内等で半導体ウェーハを洗浄処理した際に、この
ドラフトチャンバから発生する廃ガスと廃水とを管内に
並流させて、それぞれをクリーンルーム（建屋）外に移
送する排ガス浄化方法について説明する。
【０００３】図２に示すように従来の排ガス浄化方法に
よる気液排出管２１は、クリーンルーム（図示せず）内
に設置されたドラフトチャンバ２３の内部に上流側２１
ａを連結するとともに、下流側２１ｂを上述のクリーン
ルーム（建屋）外に導出し、半導体ウェーハ（図示せ
ず）を洗浄処理する際にドラフトチャンバ２３内で発生
する廃ガス１１及び廃水１２を管内に並流させている。
【０００４】この気液排出管２１の下流側２１ｂは、排
気管２１ｂ−１と排水管２１ｂ−２とに分岐されてお
り、排気管２１ｂ−１は管内を流れる廃ガス１１（たと
えば熱濃硫酸から発生するガスを含む空気）を大気中に
放出する役割を担っているものであり、排水管２１ｂ−
２は管内で廃ガス１１と並流する廃水１２（たとえば硫
酸を僅かに含む水）を廃水処理装置（図示せず）に送り
込む役割を担っているものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述の廃ガ
ス１１を排気管２１ｂ−１から大気中に放出するには、
この廃ガス１１に含まれる硫酸ガスを放出前に除去する
ことが不可欠であることは言うまでもない。
【０００６】このため、従来の気液排出管２１には散水
手段２２を配設し、この散水手段２２から水質が水道水
クラスの水１３（以降、浄化用水１３という）を管内に
シャワー状に噴射し、この浄化用水１３によって廃ガス
１１を浄化（廃ガス１１に含まれる硫酸ガスを浄化用水
１３の中に溶かし込み、廃ガス１１をクリーン化）して
排気管２１ｂ−１から大気中に放出していた。
【０００７】しかし、このような方法により廃ガス１１
を浄化するには、大量の浄化用水１３が必要となり、処
理コストが増加する問題があった。本発明は、このよう
な問題を解消するためになされたものであって、その目
的は浄化用水１３を使用しないで廃ガス１１の浄化を可
能にする排ガス浄化方法の提供にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】図１に示すように前述の
目的は、半導体ウェーハ等を処理する処理液から発生す
るガスと空気とからなる廃ガス及び処理液と水とからな
る廃水とを管内に並流させる排ガス浄化方法において、
この廃ガス１１と廃水１２との接触面積を増加させるこ
とのできる攪拌手段３２を管内に有することを特徴とす
る排ガス浄化方法によって達成される。
【０００９】
【作用】本発明の排ガス浄化方法においては、その管内
を廃ガス１１と並流する廃水１２を攪拌手段３２が攪拌
し、この廃水１２が廃ガス１１に含まれる不純物、たと
えば硫酸ガスを溶かし込むことにより、この廃ガス１１
を浄化している。
【００１０】したがって、本発明の排ガス浄化方法は廃
ガス１１とともに管内を並流する廃水１２によりこの廃
ガス１１を浄化できるために浄化用水１３が不要とな
る。
【００１１】
【実施例】以下、図１を参照し、本発明の第１及び第２
の実施例の気液排出管について説明する。図１は本発明
の第１及び第２の実施例の模式的な説明図であり、同図
（ａ）は第１及び第２の実施例の模式的な要部側断面
図、同図（ｂ）は気液排出管の要部の平面視の断面部で
ある。
【００１２】なお、本明細書においては、同一部品、同
一材料等に対しては全図をとおして同じ符号を付与して
ある。図１（ａ）、（ｂ）で示すように本発明の第１の
実施例の気液排出管３１は、図２を参照した説明した従
来の気液排出管２１から散水手段２２を取り除くととも
に、この気液排出管２１の管内に廃水１２の流れの方向
を交互に変える邪魔板３２を連設して構成したものであ
る。
【００１３】この邪魔板３２は、気液排出管３１を流れ
る廃水１２を乱流状態（この状態においては廃水１２の
表面積が大幅に増加）とし、廃ガス１１に含まれる硫酸
ガスを廃水１２中に溶かし込まし、この廃ガス１１を浄
化する。
【００１４】したがって、本発明の第１の実施例の気液
排出管３１においては、廃ガス１１を浄化するための浄
化用水１３が全く不要となる。本発明の第２の実施例の
気液排出管３１’（図１（ａ）参照）は、上述の第１の
実施例の排気管２１ｂ−１の外周部に冷却用蛇管３２を
捲回し、この排気管２１ｂ−１を流れる廃ガス１１をそ
の露点以下に冷却できるように構成したものである。
【００１５】したがって、このような第２の実施例の排
気管２１ｂ−１を流れる廃ガス１１（但し、この廃ガス
１１中の硫酸ガスは廃水１２により殆ど除かれている）
をその露点以下の温度に冷却用蛇管３２によって冷却す
れば、硫酸ガスを含む廃ガス１１中の水蒸気が排気管２
１ｂ−１の内壁に結露し、この廃ガス１１中に含まれる
硫酸ガス量は第１の実施例の気液排出管３１によって処
理された廃ガス１１に含まれる硫酸ガス量より格段に少
なくなる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、水質が水
道水クラスの浄化用水を使用しないで廃ガスの浄化を可
能にする排ガス浄化方法の提供を可能にする。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１及び第２の実施例の模式的な説
明図
【図２】 従来の排ガス浄化方法の模式的な説明図
【符号の説明】
１１ 廃ガス １２ 廃水 １３ 浄化用水 ２１ 気液排出管 ２１ａ 上流側 ２１ｂ 下流側 ２１ｂ−１ 排気管 ２１ｂ−２ 排水管 ２２ 散水手段 ２３ ドラフトチャンバ ３１、３１’ 気液排出管 ３２ 邪魔板（攪拌手段） ３３ 冷却用蛇管（冷却手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 53/34 B01D 53/14

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 半導体ウェーハ等を処理する処理液から
    発生するガスと空気とからなる廃ガス及び前記処理液と
    水とからなる廃水とを管内に並流させる排ガス浄化方法
    において、 前記廃ガス（１１）と前記廃水（１２）との接触を増加
    させる攪拌手段（３１）を管内に有することを特徴とす
    る排ガス浄化方法。
  2. 【請求項２】 前記廃ガス（１１）をその露点以下の温
    度に冷却する冷却手段（３３）を有することを特徴とす
    る請求項１記載の排ガス浄化方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20180132021A (ko) * 2015-11-02 2018-12-11 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 기판 처리 장치
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