JP3336152B2 - スチーム発生装置 - Google Patents
スチーム発生装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放電によりスチームを
イオン化するスチーム発生装置に関する。
イオン化するスチーム発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、この種のスチーム発生装置と
しては、スチーム発生室内に一対の放電電極を対向配置
し、放電電極の放電によりスチームをイオン化（微細
化）してスチーム噴出孔から外部へ放出し、特に毛髪や
肌にスチームを作用させる場合にスチームが毛髪や肌に
浸透し易くなるようにしたものが知られている。
しては、スチーム発生室内に一対の放電電極を対向配置
し、放電電極の放電によりスチームをイオン化（微細
化）してスチーム噴出孔から外部へ放出し、特に毛髪や
肌にスチームを作用させる場合にスチームが毛髪や肌に
浸透し易くなるようにしたものが知られている。
【０００３】また、従来の放電電極２０′は、例えば図
７に示すように、放電電極２０′の基部２０ｂをテフロ
ンチューブ３０にて被覆したものが知られており、この
放電電極２０′をスチーム発生室（図示せず）のハウジ
ングに設けた支持開口部にテフロン材から成る固定部を
挿着し、この固定部に上記テフロンチューブ３０で被覆
した放電電極２０′を挿入して固定するようにしてい
た。このテフロンチューブ３０は揆水性を有しており、
結露防止を図るうえで有効である。尚、図中の６０は高
圧発生手段に電気的に接続される端子部、２２はカシメ
部、Ｒは抵抗部である。
７に示すように、放電電極２０′の基部２０ｂをテフロ
ンチューブ３０にて被覆したものが知られており、この
放電電極２０′をスチーム発生室（図示せず）のハウジ
ングに設けた支持開口部にテフロン材から成る固定部を
挿着し、この固定部に上記テフロンチューブ３０で被覆
した放電電極２０′を挿入して固定するようにしてい
た。このテフロンチューブ３０は揆水性を有しており、
結露防止を図るうえで有効である。尚、図中の６０は高
圧発生手段に電気的に接続される端子部、２２はカシメ
部、Ｒは抵抗部である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
構造では、テフロンチューブ３０で被覆された放電電極
２０′と、スチーム発生室の支持開口部に挿着されるテ
フロン材の固定部とが別部材であるため、部品点数の増
加により組立て性及び作業性が低下するばかりか、部材
の寸法精度、取付け精度の誤差等に起因して、放電電極
２０′の位置ずれ（芯ずれ）や、放電電極２０′間の距
離の変化等が生じるおそれがあり、そのために安定した
放電ができなくなり、結果的にイオン化スチーム粒子を
安定的に発生させることができないという問題があっ
た。
構造では、テフロンチューブ３０で被覆された放電電極
２０′と、スチーム発生室の支持開口部に挿着されるテ
フロン材の固定部とが別部材であるため、部品点数の増
加により組立て性及び作業性が低下するばかりか、部材
の寸法精度、取付け精度の誤差等に起因して、放電電極
２０′の位置ずれ（芯ずれ）や、放電電極２０′間の距
離の変化等が生じるおそれがあり、そのために安定した
放電ができなくなり、結果的にイオン化スチーム粒子を
安定的に発生させることができないという問題があっ
た。
【０００５】本発明は、上記従来の課題に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、放電の安定化を図
ることができると共に、組立て性及び作業性の向上を図
ることができ、且つ結露によるリーク発生を防止するこ
とができるスチーム発生装置を提供するにあり、さらに
他の目的とするところは、スチーム発生室の防水効果を
容易に高めることができるスチーム発生装置を提供する
にある。
たもので、その目的とするところは、放電の安定化を図
ることができると共に、組立て性及び作業性の向上を図
ることができ、且つ結露によるリーク発生を防止するこ
とができるスチーム発生装置を提供するにあり、さらに
他の目的とするところは、スチーム発生室の防水効果を
容易に高めることができるスチーム発生装置を提供する
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、スチーム発生室１３内に一対の放電電極
２０を対向配置し、放電電極２０の放電によりスチーム
をイオン化するようにしたスチーム発生装置において、
各放電電極２０の夫々の基部２０ｂに難燃材から成る支
持体２２を一体形成して一対の電極ブロック２３を構成
し、各放電電極２０の先部２０ａをスチーム発生室１３
内に突出させた状態で各電極ブロック２３の支持体２２
部分をスチーム発生室１３のハウジング２４に設けた支
持開口部２５に挿嵌すると共に、スチーム発生室１３内
へ突出した電極ブロック２３の支持体２２部分の表面２
２ａを揆水性材２６で被覆して成ることに特徴を有して
いる。
に、本発明は、スチーム発生室１３内に一対の放電電極
２０を対向配置し、放電電極２０の放電によりスチーム
をイオン化するようにしたスチーム発生装置において、
各放電電極２０の夫々の基部２０ｂに難燃材から成る支
持体２２を一体形成して一対の電極ブロック２３を構成
し、各放電電極２０の先部２０ａをスチーム発生室１３
内に突出させた状態で各電極ブロック２３の支持体２２
部分をスチーム発生室１３のハウジング２４に設けた支
持開口部２５に挿嵌すると共に、スチーム発生室１３内
へ突出した電極ブロック２３の支持体２２部分の表面２
２ａを揆水性材２６で被覆して成ることに特徴を有して
いる。
【０００７】また、電極ブロック２３の支持体２２部分
とスチーム発生室１３の支持開口部２５との嵌合面が該
支持体２２の挿嵌方向Ａに対して傾斜したテーパ面であ
るのが好ましい。
とスチーム発生室１３の支持開口部２５との嵌合面が該
支持体２２の挿嵌方向Ａに対して傾斜したテーパ面であ
るのが好ましい。
【０００８】
【作用】本発明によれば、各放電電極２０の夫々の基部
２０ｂに難燃材から成る支持体２２を一体形成して一対
の電極ブロック２３を構成し、各放電電極２０の先部２
０ａをスチーム発生室１３内に突出させた状態で各電極
ブロック２３の支持体２２部分をスチーム発生室１３の
ハウジング２４に設けた支持開口部２５に挿嵌したか
ら、電極ブロック２３の一体化により、部材の寸法精
度、取付け精度の誤差が生じなくなり、従来のような放
電電極２０の位置ずれ（芯ずれ）や、放電電極２０間の
距離Ｄの変化等が生じなくなり、安定した放電ができる
ようになる。しかも、スチーム発生室１３内へ突出した
電極ブロック２３の支持体２２部分の表面２２ａを揆水
性材２６で被覆したから、揆水性材２６による揆水作用
により支持体２２部分の表面２２ａでの結露防止を図る
ことができる。
２０ｂに難燃材から成る支持体２２を一体形成して一対
の電極ブロック２３を構成し、各放電電極２０の先部２
０ａをスチーム発生室１３内に突出させた状態で各電極
ブロック２３の支持体２２部分をスチーム発生室１３の
ハウジング２４に設けた支持開口部２５に挿嵌したか
ら、電極ブロック２３の一体化により、部材の寸法精
度、取付け精度の誤差が生じなくなり、従来のような放
電電極２０の位置ずれ（芯ずれ）や、放電電極２０間の
距離Ｄの変化等が生じなくなり、安定した放電ができる
ようになる。しかも、スチーム発生室１３内へ突出した
電極ブロック２３の支持体２２部分の表面２２ａを揆水
性材２６で被覆したから、揆水性材２６による揆水作用
により支持体２２部分の表面２２ａでの結露防止を図る
ことができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。本実施例では、図３に示すように、スチーム発生
機構１を内蔵しているヘッド部２と、高圧発生手段３を
内蔵しており使用時に保持する部分であるハンドル４と
で構成された本体５と、この本体５に対して開閉操作自
在となった基台６とを備えたスチームヘアカール器７を
例示する。この基台６には、フック８，９によりブラシ
部１０が着脱自在に装着されると共に、基台６と本体５
とに夫々ブリスル１１が設けられ、さらに基台６を本体
５から開放するための操作子１２が設けられており、操
作子１２により基台６を本体５に閉じた状態にして基台
６に取付けたブラシ部１０で毛髪をブラッシングする状
態と、基台６と本体５とを開放した状態にしてブラシ部
１０を基台６から取外すと共にブリスル１１，１１間に
毛髪を挟み込んでブラッシングする状態とのいずれかを
自由に選択できる構造となっている。
する。本実施例では、図３に示すように、スチーム発生
機構１を内蔵しているヘッド部２と、高圧発生手段３を
内蔵しており使用時に保持する部分であるハンドル４と
で構成された本体５と、この本体５に対して開閉操作自
在となった基台６とを備えたスチームヘアカール器７を
例示する。この基台６には、フック８，９によりブラシ
部１０が着脱自在に装着されると共に、基台６と本体５
とに夫々ブリスル１１が設けられ、さらに基台６を本体
５から開放するための操作子１２が設けられており、操
作子１２により基台６を本体５に閉じた状態にして基台
６に取付けたブラシ部１０で毛髪をブラッシングする状
態と、基台６と本体５とを開放した状態にしてブラシ部
１０を基台６から取外すと共にブリスル１１，１１間に
毛髪を挟み込んでブラッシングする状態とのいずれかを
自由に選択できる構造となっている。
【００１０】また、スチーム発生機構１のスチーム発生
室１３内にはヒータ部１４と放電部１５とが配置されて
いる。ヒータ部１４には給水タンク１６からフェルト１
７を介して水が供給され、この水はヒータ部１４により
加熱されて蒸気化し、発生したスチームが放電部１５の
放電により、弱酸性化し、その粒子が微細化（イオン
化）されて、本体５に設けたスチーム噴出孔１８から開
口部１９より噴出するようになっている。このようにイ
オン化スチーム粒子を噴出させながらブラッシングを行
なえば、毛髪への水分の浸透性が良く、通常のスチーム
に比べて、例えば約０．１〜０．９ポイント水分率を上
げることができ、しっとり感のある仕上がりが得られる
と共に、毛髪に対するブリスル１１の通りも良くなって
毛髪を傷め難くすると共に、癖毛を伸ばす効果が高くな
る。また、これに伴い静電気量も温風でブラッシングす
ると多くなって髪の毛が広がり易く、ストレートにまと
まり難いが、水分を与えながらのブラッシングの場合に
は静電気が水分で抑えられるため、ストレートにまとま
り易くなる。
室１３内にはヒータ部１４と放電部１５とが配置されて
いる。ヒータ部１４には給水タンク１６からフェルト１
７を介して水が供給され、この水はヒータ部１４により
加熱されて蒸気化し、発生したスチームが放電部１５の
放電により、弱酸性化し、その粒子が微細化（イオン
化）されて、本体５に設けたスチーム噴出孔１８から開
口部１９より噴出するようになっている。このようにイ
オン化スチーム粒子を噴出させながらブラッシングを行
なえば、毛髪への水分の浸透性が良く、通常のスチーム
に比べて、例えば約０．１〜０．９ポイント水分率を上
げることができ、しっとり感のある仕上がりが得られる
と共に、毛髪に対するブリスル１１の通りも良くなって
毛髪を傷め難くすると共に、癖毛を伸ばす効果が高くな
る。また、これに伴い静電気量も温風でブラッシングす
ると多くなって髪の毛が広がり易く、ストレートにまと
まり難いが、水分を与えながらのブラッシングの場合に
は静電気が水分で抑えられるため、ストレートにまとま
り易くなる。
【００１１】ここで、放電部１５は、図１、図２、図
４、図５に示すように、一対の放電電極２０，２０から
成り、これら放電電極２０の先部２０ａがスチーム発生
室１３内に対向配置されている。放電電極２０の材質
は、例えば長さが８ｍｍ程度の棒状に加工された銀パラ
ジウム（ＡｇＰｄ、Ｐｄ：４０％）が用いられる。放電
電極２０の基部２０ｂには略Ｌ字状に形成されたリード
部２１の一端２１ａ側がカシメにより連結されている。
リード部２１の材質は、黄銅板（ＢＳＰ：０．３ｔ）か
ら成る。このリード部２１の他端２１ｂ側はカシメ部２
２、抵抗部Ｒ及び端子部６０を介して後述する高圧発生
手段３に電気的に接続されている。
４、図５に示すように、一対の放電電極２０，２０から
成り、これら放電電極２０の先部２０ａがスチーム発生
室１３内に対向配置されている。放電電極２０の材質
は、例えば長さが８ｍｍ程度の棒状に加工された銀パラ
ジウム（ＡｇＰｄ、Ｐｄ：４０％）が用いられる。放電
電極２０の基部２０ｂには略Ｌ字状に形成されたリード
部２１の一端２１ａ側がカシメにより連結されている。
リード部２１の材質は、黄銅板（ＢＳＰ：０．３ｔ）か
ら成る。このリード部２１の他端２１ｂ側はカシメ部２
２、抵抗部Ｒ及び端子部６０を介して後述する高圧発生
手段３に電気的に接続されている。
【００１２】各放電電極２０の夫々の基部２０ｂには、
例えばＰ．Ｐ．Ｓ（ポリフェニレンサルファイド）等の
ような難燃材より成る支持体２２が一体形成されて電極
ブロック２３が構成される。本実施例では、放電電極２
０の基部２０ｂを含むリード部２１のＬ字状部分全体が
支持体２２と一体形成され、且つ放電電極２０の先部２
０ａをスチーム発生室１３内に突出させた状態で電極ブ
ロック２３の支持体２２部分がスチーム発生室１３のハ
ウジング２４に設けた支持開口部２５（図５）に挿嵌さ
れるようになっている。この電極ブロック２３の支持体
２２部分の外面は支持開口部２５に対する電極ブロック
２３の挿嵌方向Ａに向かう程徐々に先細状となるように
傾斜したテーパ面となっており、一方、支持開口部２５
の内面もまた該支持体２２部分と同じ方向に傾斜したテ
ーパ面となっており、電極ブロック２３の支持体２２部
分がハウジング２４の支持開口部２５によるテーパ挿入
止めにより固定されるようになっている。
例えばＰ．Ｐ．Ｓ（ポリフェニレンサルファイド）等の
ような難燃材より成る支持体２２が一体形成されて電極
ブロック２３が構成される。本実施例では、放電電極２
０の基部２０ｂを含むリード部２１のＬ字状部分全体が
支持体２２と一体形成され、且つ放電電極２０の先部２
０ａをスチーム発生室１３内に突出させた状態で電極ブ
ロック２３の支持体２２部分がスチーム発生室１３のハ
ウジング２４に設けた支持開口部２５（図５）に挿嵌さ
れるようになっている。この電極ブロック２３の支持体
２２部分の外面は支持開口部２５に対する電極ブロック
２３の挿嵌方向Ａに向かう程徐々に先細状となるように
傾斜したテーパ面となっており、一方、支持開口部２５
の内面もまた該支持体２２部分と同じ方向に傾斜したテ
ーパ面となっており、電極ブロック２３の支持体２２部
分がハウジング２４の支持開口部２５によるテーパ挿入
止めにより固定されるようになっている。
【００１３】さらに、スチーム発生室１３内へ突出した
電極ブロック２３の支持体２２部分の表面２２ａにはテ
フロン等のような揆水性材２６が被覆されている。支持
体２２の外面には爪状の突起８０が突設され、揆水性材
２６の内面には該突起８０が嵌合する凹部８１が凹設さ
れ、突起８０と凹部８１との凹凸嵌合により、揆水性材
２６は支持体２２の外面に位置決めされ、揆水性材２６
による結露防止効果が得られるようになっている。
電極ブロック２３の支持体２２部分の表面２２ａにはテ
フロン等のような揆水性材２６が被覆されている。支持
体２２の外面には爪状の突起８０が突設され、揆水性材
２６の内面には該突起８０が嵌合する凹部８１が凹設さ
れ、突起８０と凹部８１との凹凸嵌合により、揆水性材
２６は支持体２２の外面に位置決めされ、揆水性材２６
による結露防止効果が得られるようになっている。
【００１４】次に、放電電極２０に接続される高圧発生
手段３の回路図の一例を図６に示す。この例では、電源
スイッチＳＷはオンオフ切替型であり、オン位置でヒー
タ部１４と高圧発生手段３とに通電される。高圧発生手
段３は、抵抗Ｒ、ダイオードＤ、コンデンサＣ、高圧ト
ランス７０から成り、高圧トランス７０の一次側コイル
と並列に所定の電圧でオンするスイッチング素子Ｑが接
続されている。ここで、高圧発生手段３に電源が供給さ
れると、コンデンサＣに電荷が充電され、スイッチング
素子Ｑの両端電圧も上昇する。そして、スイッチング素
子Ｑの両端電圧が所定の電圧に達すれば、スイッチング
素子ＱのオンでコンデンサＣに充電された電荷がスイッ
チング素子Ｑを通じて高圧トランス７０に流れ、高圧ト
ランス７０の二次側に高電圧が生じて、放電電極２０で
空間放電する。高圧トランス７０の一次側コイルと二次
側コイルの間を短絡している抵抗Ｒ２は、二次側コイル
の電位を安定させるためのものである。尚、高圧発生手
段３は図６の構成に限定されるものではない。
手段３の回路図の一例を図６に示す。この例では、電源
スイッチＳＷはオンオフ切替型であり、オン位置でヒー
タ部１４と高圧発生手段３とに通電される。高圧発生手
段３は、抵抗Ｒ、ダイオードＤ、コンデンサＣ、高圧ト
ランス７０から成り、高圧トランス７０の一次側コイル
と並列に所定の電圧でオンするスイッチング素子Ｑが接
続されている。ここで、高圧発生手段３に電源が供給さ
れると、コンデンサＣに電荷が充電され、スイッチング
素子Ｑの両端電圧も上昇する。そして、スイッチング素
子Ｑの両端電圧が所定の電圧に達すれば、スイッチング
素子ＱのオンでコンデンサＣに充電された電荷がスイッ
チング素子Ｑを通じて高圧トランス７０に流れ、高圧ト
ランス７０の二次側に高電圧が生じて、放電電極２０で
空間放電する。高圧トランス７０の一次側コイルと二次
側コイルの間を短絡している抵抗Ｒ２は、二次側コイル
の電位を安定させるためのものである。尚、高圧発生手
段３は図６の構成に限定されるものではない。
【００１５】しかして、上記電極ブロック２３の放電電
極の先部をスチーム発生室内に突出させた状態で電極ブ
ロック２３の支持体２２部分をスチーム発生室１３のハ
ウジング２４に設けた支持開口部２５に挿嵌させるよう
にしたから、電極ブロック２３の一体化により、部材の
寸法精度、取付け精度の誤差を無くすことができ、これ
に伴い放電電極２０の位置が安定化し、放電電極２０間
の距離Ｄの変化等も生じなくなり、従って、放電の安定
化が図られ、イオン化スチーム粒子を安定的に発生させ
ることができる。また、放電電極２０と支持体２２との
一体化により、部品点数が減少し、組立て性及び作業性
がアップする。さらに、スチーム発生室１３内へ突出し
た電極ブロック２３の支持体２２部分の表面２２ａを揆
水性材２６で被覆したことにより、揆水性材２６による
揆水作用によりスチーム発生室１３内に露出した支持体
２２部分の表面２２ａでの結露防止を図ることができ、
安定した放電を行いながら、同時にリーク発生を防止で
きる。そのうえ、電極ブロック２３の支持体２２部分と
スチーム発生室１３の支持開口部２５との嵌合面を該支
持体２２の挿嵌方向Ａに対して傾斜したテーパ面とした
から、電極ブロック２３の支持体２２部分とスチーム発
生室１３の支持開口部２５とのテーパ嵌合により、支持
開口部２５からの水漏れや、スチーム漏れが生じるのを
確実に防止でき、スチーム発生室１３の防水効果を高め
ることが容易となる。
極の先部をスチーム発生室内に突出させた状態で電極ブ
ロック２３の支持体２２部分をスチーム発生室１３のハ
ウジング２４に設けた支持開口部２５に挿嵌させるよう
にしたから、電極ブロック２３の一体化により、部材の
寸法精度、取付け精度の誤差を無くすことができ、これ
に伴い放電電極２０の位置が安定化し、放電電極２０間
の距離Ｄの変化等も生じなくなり、従って、放電の安定
化が図られ、イオン化スチーム粒子を安定的に発生させ
ることができる。また、放電電極２０と支持体２２との
一体化により、部品点数が減少し、組立て性及び作業性
がアップする。さらに、スチーム発生室１３内へ突出し
た電極ブロック２３の支持体２２部分の表面２２ａを揆
水性材２６で被覆したことにより、揆水性材２６による
揆水作用によりスチーム発生室１３内に露出した支持体
２２部分の表面２２ａでの結露防止を図ることができ、
安定した放電を行いながら、同時にリーク発生を防止で
きる。そのうえ、電極ブロック２３の支持体２２部分と
スチーム発生室１３の支持開口部２５との嵌合面を該支
持体２２の挿嵌方向Ａに対して傾斜したテーパ面とした
から、電極ブロック２３の支持体２２部分とスチーム発
生室１３の支持開口部２５とのテーパ嵌合により、支持
開口部２５からの水漏れや、スチーム漏れが生じるのを
確実に防止でき、スチーム発生室１３の防水効果を高め
ることが容易となる。
【００１６】また本実施例では、銀パラジウムから成る
放電電極２０の基部２０ｂに黄銅板から成るリード部２
１をつなぎ合わせたものを難燃材から成る支持体２２で
一体化して電極ブロック２３を構成したから、従来（図
７）のＬ字状に曲成された放電電極２０′では２３ｍｍ
程度必要であったものを、本実施例では放電電極２０の
長さを８ｍｍ程度にまで短縮することが可能となり、コ
ストダウンが図られる。尚、放電電極２０の材質は銀パ
ラジウムに限定されるものではなく、リード部２１の材
質は黄銅板に限定されるものではない。
放電電極２０の基部２０ｂに黄銅板から成るリード部２
１をつなぎ合わせたものを難燃材から成る支持体２２で
一体化して電極ブロック２３を構成したから、従来（図
７）のＬ字状に曲成された放電電極２０′では２３ｍｍ
程度必要であったものを、本実施例では放電電極２０の
長さを８ｍｍ程度にまで短縮することが可能となり、コ
ストダウンが図られる。尚、放電電極２０の材質は銀パ
ラジウムに限定されるものではなく、リード部２１の材
質は黄銅板に限定されるものではない。
【００１７】
【発明の効果】上述のように、請求項１の発明は、スチ
ーム発生室内に一対の放電電極を対向配置し、放電電極
の放電によりスチームをイオン化するようにしたスチー
ム発生装置において、各放電電極の夫々の基部に難燃材
から成る支持体を一体形成して一対の電極ブロックを構
成し、各放電電極の先部をスチーム発生室内に突出させ
た状態で各電極ブロックの支持体部分をスチーム発生室
のハウジングに設けた支持開口部に挿嵌したから、電極
ブロックの一体化により、部材の寸法精度、取付け精度
の誤差を無くすことができ、これに伴い放電電極の位置
が安定化し、放電電極間の距離の変化等も生じなくな
り、従って、放電の安定化が図られ、イオン化スチーム
粒子を安定的に発生させることができ、且つ部品点数が
減少して組立て性及び作業性の向上を図ることができ
る。更にスチーム発生室内へ突出した電極ブロックの支
持体部分の表面を揆水性材で被覆したことにより、揆水
性材による揆水作用により支持体部分の表面での結露防
止を図ることができ、安定した放電を行いながら、同時
にリーク発生を防止できるという効果を奏する。
ーム発生室内に一対の放電電極を対向配置し、放電電極
の放電によりスチームをイオン化するようにしたスチー
ム発生装置において、各放電電極の夫々の基部に難燃材
から成る支持体を一体形成して一対の電極ブロックを構
成し、各放電電極の先部をスチーム発生室内に突出させ
た状態で各電極ブロックの支持体部分をスチーム発生室
のハウジングに設けた支持開口部に挿嵌したから、電極
ブロックの一体化により、部材の寸法精度、取付け精度
の誤差を無くすことができ、これに伴い放電電極の位置
が安定化し、放電電極間の距離の変化等も生じなくな
り、従って、放電の安定化が図られ、イオン化スチーム
粒子を安定的に発生させることができ、且つ部品点数が
減少して組立て性及び作業性の向上を図ることができ
る。更にスチーム発生室内へ突出した電極ブロックの支
持体部分の表面を揆水性材で被覆したことにより、揆水
性材による揆水作用により支持体部分の表面での結露防
止を図ることができ、安定した放電を行いながら、同時
にリーク発生を防止できるという効果を奏する。
【００１８】請求項２の発明は、請求項１の電極ブロッ
クの支持体部分とスチーム発生室の支持開口部との嵌合
面が該支持体の挿嵌方向に対して傾斜したテーパ面であ
るから、請求項１記載の効果に加えて、電極ブロックの
支持体部分とスチーム発生室の支持開口部とがテーパ嵌
合して支持開口部から水漏れや、スチーム漏れが生じる
のが確実に防がれ、スチーム発生室の防水効果を高める
ことが容易となる。
クの支持体部分とスチーム発生室の支持開口部との嵌合
面が該支持体の挿嵌方向に対して傾斜したテーパ面であ
るから、請求項１記載の効果に加えて、電極ブロックの
支持体部分とスチーム発生室の支持開口部とがテーパ嵌
合して支持開口部から水漏れや、スチーム漏れが生じる
のが確実に防がれ、スチーム発生室の防水効果を高める
ことが容易となる。
【図１】本発明の一実施例の放電部付近の断面図であ
る。
る。
【図２】同上の電極ブロックの断面図である。
【図３】同上の放電部を備えたスチームヘアカール器の
断面図である。
断面図である。
【図４】（ａ）はスチーム発生室付近の側面断面図、
（ｂ）は正面断面図である。
（ｂ）は正面断面図である。
【図５】（ａ）は電極ブロックの配置状態を説明する一
部破断側面図、（ｂ）は（ａ）のＢ部の拡大断面図であ
る。
部破断側面図、（ｂ）は（ａ）のＢ部の拡大断面図であ
る。
【図６】同上の高圧発生手段の回路図である。
【図７】従来の放電電極の断面図である。
１３ スチーム発生室 ２０ 放電電極 ２０ａ 先部 ２０ｂ 基部 ２２ 支持体 ２２ａ 表面 ２３ 電極ブロック ２４ ハウジング ２５ 支持開口部 ２６ 揆水性材 Ａ 挿嵌方向
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A45D 20/50 A45D 1/04 A45D 7/02 A46B 11/00 102
Claims (2)
- 【請求項１】 スチーム発生室内に一対の放電電極を対
向配置し、放電電極の放電によりスチームをイオン化す
るようにしたスチーム発生装置において、各放電電極の
夫々の基部に難燃材から成る支持体を一体形成して一対
の電極ブロックを構成し、各放電電極の先部をスチーム
発生室内に突出させた状態で各電極ブロックの支持体部
分をスチーム発生室のハウジングに設けた支持開口部に
挿嵌すると共に、スチーム発生室内へ突出した電極ブロ
ックの支持体部分の表面を揆水性材で被覆して成ること
を特徴とするスチーム発生装置。 - 【請求項２】 電極ブロックの支持体部分とスチーム発
生室の支持開口部との嵌合面が該支持体の挿嵌方向に対
して傾斜したテーパ面であることを特徴とする請求項１
記載のスチーム発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12856695A JP3336152B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | スチーム発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12856695A JP3336152B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | スチーム発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08317814A JPH08317814A (ja) | 1996-12-03 |
| JP3336152B2 true JP3336152B2 (ja) | 2002-10-21 |
Family
ID=14987933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12856695A Expired - Fee Related JP3336152B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | スチーム発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3336152B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4089184B2 (ja) * | 2001-08-10 | 2008-05-28 | 松下電工株式会社 | イオン供給装置 |
| JP4042747B2 (ja) * | 2005-01-28 | 2008-02-06 | 松下電工株式会社 | ヘアードライヤ |
| JP4765845B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2011-09-07 | パナソニック電工株式会社 | ヘアーケア装置 |
| JP4293211B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2009-07-08 | パナソニック電工株式会社 | ヘアーアイロン |
-
1995
- 1995-05-26 JP JP12856695A patent/JP3336152B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08317814A (ja) | 1996-12-03 |
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