JP3326297B2 - セメント瓦加工装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、セメントを主材として
成形された瓦を搬送する搬送装置を設け、その搬送装置
による搬送途中で、未硬化の塗膜が表面に形成された瓦
に砂を付着させる砂付着装置を設けてあるセメント瓦加
工装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、セメント加工装置において、セメ
ント瓦の表面に砂を付着させて紋様等をつける砂付着装
置は、図１０に示すように、コンベア３に定姿勢で載置
されたセメント瓦１１に、その上から砂粒１２を真下に
落下させるだけの砂撒布装置２を設けてあるだけであっ
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような砂付着装置では、図１０に示すように、瓦１１が
役物のように、立体的で種々の角度の面を有するもので
あれば、砂の落下を受けるような瓦の上向きの面１１
ａ,１１ｂには砂粒１２は付着するが、砂の落下方向に
略平行な立設面１１ｃや複雑な凹凸面には砂を付着させ
ることが困難であるという問題があった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、こうした問題
を解決するためのものであり、第１〜第６の特徴構成を
有する。即ち、第１の特徴構成は、セメントを主材とし
て成形された立設面を有する瓦を搬送する搬送装置を設
け、前記搬送装置による搬送途中で、未硬化の塗膜が表
面に形成された瓦に砂を付着させる砂付着装置を設けて
あるセメント瓦加工装置であって、前記砂付着装置を構
成するに、砂を落下供給する砂撒布装置と、前記砂撒布
装置から落下する砂の一部を当て付けて、落下方向とは
異なる方向で瓦に向けて飛散させる反射板を備えた砂の
反射装置とを設けてあるものであり、第２の特徴構成
は、セメントを主材として成形された立設面を有する瓦
を搬送する搬送装置を設け、前記搬送装置による搬送途
中で、未硬化の塗膜が表面に形成された瓦に砂を付着さ
せる砂付着装置を設けてあるセメント瓦加工装置であっ
て、前記砂付着装置を構成するに、砂を落下供給する砂
撒布装置と、前記砂撒布装置から落下する砂の一部を受
けて、落下方向とは異なる方向で瓦に向けて摺動案内す
る案内板を備えた砂の案内装置とを設けてあるものであ
り、第３の特徴構成は、セメントを主材として成形され
た立設面を有する瓦を搬送する搬送装置を設け、前記搬
送装置による搬送途中で、未硬化の塗膜が表面に形成さ
れた瓦に砂を付着させる砂付着装置を設けてあるセメン
ト瓦加工装置であって、前記砂付着装置を構成するに、
砂を掻きあげて飛散させる砂掻きあげ装置に、撒布する
砂を瓦の方向に向けて飛散させるための案内面を形成し
てあるカバーを設けたものであり、第４の特徴構成は、
セメントを主材として成形された立設面を有する瓦を搬
送する搬送装置を設け、前記搬送装置による搬送途中
で、未硬化の塗膜が表面に形成された瓦に砂を付着させ
る砂付着装置を設けてあるセメント瓦加工装置であっ
て、前記砂付着装置を構成するに、砂を落下供給する砂
撒布装置と、前記砂撒布装置から落下する砂の一部に対
して、その落下する方向とは異なる方向に気体流を吹き
つけて、瓦に対して前記砂を当て付ける砂落下方向変更
手段を設けたものであり、第５の特徴構成は、セメント
を主材として成形された瓦を搬送する搬送装置を設け、
前記搬送装置による搬送途中で、未硬化の塗膜が表面に
形成された瓦に砂を付着させる砂付着装置を設けてある
セメント瓦加工装置であって、前記砂付着装置を構成す
るに、瓦の姿勢を変更自在に支持する支持具を設けると
ともに、前記支持具による支持姿勢を駆動変更する姿勢
変更機構を設け、前記支持具によって支持された瓦に砂
を落下供給する砂撒布装置を設けたものであり、さら
に、第６の特徴構成は、セメントを主材として成形され
た瓦を搬送する搬送装置を設け、前記搬送装置による搬
送途中で、未硬化の塗膜が表面に形成された瓦に砂を付
着させる砂付着装置を設けてあるセメント瓦加工装置で
あって、前記砂付着装置を構成するに、砂を浮遊させる
砂浮遊室と、前記砂浮遊室の上部にその砂浮遊室内の空
気を吸引する吸引部とを設けてある浮遊装置を設け、前
記瓦を支持して前記砂浮遊室内に、前記瓦を進入退出自
在にする瓦支持装置を設けたものである。

【作用】つまり、第１の特徴構成においては、砂撒布装
置から落下する砂の一部を当て付けて、落下方向とは異
なる方向で瓦に向けて飛散させる反射板を備えた砂の反
射装置とを設けてあるので、前記砂撒布装置から供給さ
れて落下する砂の一部は、前記反射板に当たって飛散
し、その飛散する砂は、瓦の横側方から当たり、落下す
る砂の落下方向に平行な立設面にも当てることができ
る。第２の特徴構成においては、砂撒布装置から落下す
る砂の一部を受けて、落下方向とは異なる方向で前記瓦
に向けて摺動案内する案内板を備えた砂の案内装置を設
けて構成したので、前記案内装置に設けた案内板の摺動
面に沿って落下する砂が、その落下方向とは異なる方向
に飛んで瓦の面に当たるので、第１の特徴構成と同様の
結果をもたらす。第３の特徴構成においては、砂を掻き
あげて飛散させる砂掻きあげ装置に、撒布する砂を瓦の
方向に向けて飛散させるための案内面を形成してあるカ
バーを設けたので、前記砂掻きあげ装置によりばら撒か
れる砂は、鉛直方向にのみ落下するのではなく、放物線
を描いて横から投げられるので、幅広い角度範囲をもっ
て砂を瓦の表面に当てることができる。第４の特徴構成
においては、砂を落下供給する砂撒布装置と、前記砂撒
布装置から落下する砂の一部に対して、その落下する方
向とは異なる方向に気体流を吹きつけて、瓦に対して前
記砂を当て付ける砂落下方向変更手段を設けたので、こ
の砂落下方向変更手段からの風に乗った砂をその風の強
さによって種々の方向に落下させることができ、第１の
特徴構成と同様の結果が得られる。この砂が瓦の表面に
当たる角度は、前記風の強さ及び方向ならびに前記砂落
下方向変更手段の位置により決まる。第５の特徴構成に
おいては、瓦の姿勢を変更自在に支持する支持具を設け
るとともに、前記支持具による支持姿勢を駆動変更する
姿勢変更機構を設け、前記支持具によって支持された瓦
に砂を落下供給する砂撒布装置を設けたので、砂の落下
方向を変えること無く瓦の面の方向を変えることによ
り、種々の方向の面に砂を当てることができる。第６の
特徴構成においては、砂を浮遊させる砂浮遊室と、砂浮
遊室の上部にその砂浮遊室内の空気を吸引する吸引部と
を設けてある浮遊装置を設け、瓦を支持して、砂浮遊室
内に、前記瓦を進入退出自在にする瓦支持装置を設けた
ので、瓦の面の方向に拘わらず砂を付着させることがで
きる。この構成においては、瓦を浮遊した砂に囲まれる
状態におくことができるので、任意の方向の面に同時に
砂を付着させることができる。

【０００５】

【発明の効果】従って、第１の特徴構成においては、案
内板に当たって飛散する砂が、砂の落下方向に略平行な
瓦の面にも横側方から当たり、付着するようになるの
で、そのまま落下する砂は瓦の上向きの面に付着すると
ともに、前記瓦の立設面にも容易に付着させることがで
き、また、複雑な形状の凹凸面にも付着させることがで
きる。第２の特徴構成においては、案内板の摺動面に沿
って落下する砂が、その落下方向とは異なる方向で瓦の
面に当たるので、第１の特徴構成と同様の結果をもたら
す。第３の特徴構成においては、ばら撒かれる砂は、鉛
直方向にのみ落下するのではなく、放物線を描いて横か
ら投げられるので、幅広い角度範囲をもって瓦の面に当
てることができ、そのために水平から垂直に至る種々の
方向に沿った瓦の面に砂を付着させることができ、複雑
な形状の凹凸面にも付着させることができる。第４の特
徴構成においては、砂落下方向変更手段からの風に乗っ
た砂をその風の強さによって種々の方向に向けて瓦の面
に当てることができるので、第１の特徴構成と同様の結
果が得られる。なお、前記風の強さを適度に強くするこ
とにより、砂の瓦に当たる速度、方向を調節できるの
で、付着させるためには砂を強く瓦に衝突させなければ
ならないような場合に有効である。第５の特徴構成にお
いては、砂の落下方向を変えること無く瓦の面の方向を
変えることにより、種々の方向の面に砂を付着させるこ
とができるので、従来のままの砂撒布装置を用いて瓦の
立設面にも砂を付着させることができ、また、複雑な形
状の凹凸面にも付着させることができる。第６の特徴構
成においては、任意の方向の面に同時に砂を付着させる
ことができるので、複雑な形状の瓦に砂を付着させよう
とする場合に有効である。

【０００６】

【実施例】

〔実施例１〕図１に第１の特徴構成の実施例を示す。セ
メントを主材として成形されたセメント瓦１１を搬送す
る搬送装置３に沿ってその上方に、搬送途中で、未硬化
の塗膜が表面に形成された瓦１１の表面に砂を付着させ
て紋様等をつける砂付着装置１が設けられており、前記
瓦１１は、上方に向かない面を有する場合には、その上
方に向いていない面が前記搬送装置３の搬送方向に平行
にになるように前記搬送装置３に載置されて搬送され
る。そして、この砂付着装置１は、砂を落下供給する砂
撒布装置２と砂撒布装置２から落下する砂を当て付け
て、落下方向とは異なる方向で瓦１１に向けて飛散させ
る反射板４ａを備えた反射装置４を設けて構成されてい
る。前記砂撒布装置２は、砂を落下供給するホッパから
なる砂供給部２ａと、その軸心周りに回転しながら前記
砂供給部２ａから落下する砂を受けて撒布する前記砂供
給部２ａの下方に設けられたローラ状の、その外周に螺
旋溝を有する砂撒布体としてのローラ２ｂと、このロー
ラ２ｂを駆動回転させる駆動部２ｃとからなっている。
前記ローラ２ｂはその両端部を対向する支持架台１３に
回転自在に軸支されており、一方の支持架台１３ａに設
けられた前記駆動部２ｃにより回転駆動される。また、
前記搬送装置３には、前記砂撒布装置２の直下及びこれ
に対してその搬送方向の前後に、搬送されてくる瓦１１
を検知するためにセンサ（図示省略）が設けられてい
る。このようにして、搬送装置３上の瓦１１がこの砂撒
布装置２の下の領域にさしかかると、前記センサによる
瓦１１の検知に連動して前記駆動部２ｃが駆動され、相
当時間前記ローラ２ｂが回転駆動され、この間瓦１１の
上から砂が撒布される。一方、前記ローラ２ｂから落下
する砂を当て付けて一定方向へ反射させる偏平な反射板
４ａが、取付部材４ｄに固着された支軸４ｂの周りに上
下回転自在に取り付けられると共に、その取付部材４ｄ
を上下方向に垂下した支持体４ｃに上下摺動自在に固定
して、前記反射装置４を構成してある。前記砂の反射装
置４は、前記ローラ２ｂの両端部を回転自在に支持する
とともに、ホッパからなる砂供給部２ａを支持する、対
向して配置された支持架台１３夫々の下部に対向して取
り付けられている。一対の前記反射板４ａは、その先端
の間隔が搬送されてくる瓦１１の幅よりも広くなるよう
に配設されている。前記支持架台１３は、前記ローラ２
ｂの回転軸方向の中央部が前記搬送装置３の幅方向の中
央部の略真上に位置するように、且つ、前記ローラ２ｂ
の回転軸方向が前記搬送装置３の搬送方向と直交するよ
うに、さらに、前記砂撒布装置２が前記搬送装置３に対
して適当な高さに位置するように配設されている。以上
のように構成されているので、搬送装置３に載置され搬
送される上向きの面１１ａ,１１ｂ 以外の立設面１１ｃ
を有する瓦１１が前記砂撒布装置２の下の領域にさしか
かると、前記ローラ２ｂが回転を始め、このローラ２ｂ
から砂粒１２が撒布され、落下軌跡Ｂ_1,Ｂ₂ を描いて落
下する。この垂直に落下する砂粒１２は前記瓦１１の前
記上向きの面１１ａ,１１ｂ には付着するが、前記瓦１
１の前記立設面１１ｃには付着しないが、この瓦１１の
両側に位置する前記反射板４ａの反射面４ｅに衝突した
砂粒１２は反射してその落下方向を変え、飛跡Ａを描い
て前記瓦１１の側方からその前記立設面１１ｃに衝突
し、付着する。この砂粒１２の飛跡（例えばＡ）は前記
反射面４ｅの方向及び高さによって決まる。従って、前
記反射板４ａは、砂を付着させようとする瓦１１の形状
によって、所望の飛跡が異なるため、予め前記支軸４ｂ
の周りに揺動させて方向を定めておく。

【０００７】〔実施例２〕図２に第２の特徴構成の実施
例を示す。実施例１と同様に、搬送装置３に沿ってその
上方に砂付着装置１が設けられている。この砂付着装置
１は、砂を落下供給する上記実施例１と同様に構成した
砂撒布装置２と、その砂撒布装置２の砂撒布体であるロ
ーラ２ｂから落下する砂を受けて、落下方向とは異なる
方向で瓦１１に向けて摺動案内する案内板５ａを備えた
案内装置５から構成されている。搬送装置３及びこれに
載置され搬送される瓦１１と、その載置方向等は、実施
例１と同様であり、前記砂撒布装置２も実施例１と同様
に配設されている。前記砂の案内装置５は、砂が摺動自
在な案内板５ａが、取付部材５ｄに固着された支軸５ｂ
の周りに上下回転自在に取り付けられていると共に、そ
の取付部材５ｄを上下吊設した支持体５ｃに上下移動可
能に固定して構成されている。前記砂の案内装置５は、
前記砂撒布装置２の両側端部を支持する対向して設けら
れた支持架台１３夫々の下部に、前記支持体５ｃを取り
付けて、対向させて設けてある。一対の前記砂の案内装
置５は、夫々の案内板５ａの先端の間隔が搬送されてく
る瓦１１の幅よりも広くなるように配設されている。以
上のように構成されているので、搬送装置３に載置され
搬送される実施例１と同様の瓦１１が前記砂撒布装置２
の下の領域にさしかかると、砂供給部２ａから砂が供給
されると同時に、ローラ２ｂが回転駆動され、このロー
ラ２ｂから砂粒１２がに撒布され、落下軌跡（例えば
Ｂ）を描いて落下する。この垂直に落下する砂粒１２
は、瓦１１の上向きの面１１ａ,１１ｂには付着し、瓦
１１の立設面１１ｃには付着しないが、この瓦１１の両
側に位置する前記案内板５ａの案内面５ｅに接触した砂
粒１２は前記案内面５ｅに沿ってすべりながらその運動
方向を変え、前記落下軌跡とは異なる飛跡（例えばＡ）
を描いて前記瓦１１の側方から前記瓦１１の前記立設面
１１ｃに衝突し、付着する。この砂粒１２の飛跡は前記
案内面５ｅの方向及び高さによって決まる。従って、前
記案内板５ａは、砂を付着させようとする瓦１１の形状
によって、所望の飛跡が異なるため、予め前記支軸５ｂ
の周りに揺動させて、方向を定めておく。

【０００８】〔実施例３〕図３に第３の特徴構成の実施
例を示す。実施例１と同様の搬送装置３に沿って、その
両側に、前記搬送装置３上に載置されて搬送されてくる
未硬化の塗膜が表面に形成された瓦１１に向けて、砂を
掻きあげて、砂を飛散させる砂掻きあげ装置６が設けら
れて、砂付着装置１を構成している。搬送装置３及びこ
れに載置され搬送される前記瓦１１と、その載置方向等
は、前記実施例１と同様である。前記砂掻きあげ装置６
は、内部に砂溜まり１２ａを形成可能な砂槽６ｄと、そ
の砂槽６ｄにおける前記搬送装置３搬送方向の両側に設
けられた側壁に、回転自在に軸支され、且つ、回転駆動
される砂掛け手段とから構成されている。即ち、その底
部が箱型の前記砂槽６ｄは、開口部を前記搬送装置３に
向けて配置され、この搬送装置３から離れた側の後壁
は、上方に曲面的に延長されてこの砂槽６ｄの上部を覆
うカバー６ｅを形成し、この砂槽６ｄの前記搬送装置３
の搬送方向の前後の側壁は同じく上方に平面的に延長さ
れて前記カバー６ｅと接合し、この側壁に前記砂掛け手
段の回転軸６ｃを枢支している。なお、この砂槽６ｄに
は、前記砂溜まり１２ａの砂が不足しないように砂を供
給し、その砂溜まり１２ａの砂の深さをほぼ一定に保
つ、砂供給機構（図示省略）が設けられている。前記砂
掛け手段は、前記回転軸６ｃに複数の支板６ｂの一端を
固定し、この支板６ｂの各他端、前記回転軸６ｃの回転
方向に向けて開いた断面Ｖ字状の砂掻きあげ片６ａを取
り付けて構成してあり、、駆動装置（図示省略）により
矢印Ｒ方向に回転駆動される。この砂掛け手段は、前記
砂掻きあげ片６ａが最下位置に到ったときに前記砂溜ま
り１２ａの砂の中に完全に没する位置に配置されてい
る。前記砂掛け手段が前記駆動装置により前記矢印Ｒ方
向に回転駆動されると、前記砂掻きあげ片６ａは前記砂
溜まり１２ａの砂の中に進入し、その形状が回転方向に
凹に形成されているので、前記砂溜まり１２ａから砂１
２ｂを掬い上げ、さらに回転して、前記砂１２ｂを前記
搬送装置３に載置された前記瓦１１に向けて前記砂槽６
ｄの開口から投げ放ち、砂粒１２は放物線状の飛跡（例
えばＡ₁,Ａ₂,Ａ₃等）を描いて、前記瓦１１の上向きの
面１１ａ,１１ｂ及び立設面１１ｃに向けて飛散する。
前記カバー６ｅは、前記砂掻きあげ片６ａが掬い上げ、
撒布する前記砂粒１２の上方向への無用の飛散を防止す
るものであり、このカバー６ｅの曲面部の内面は、前記
撒布する砂粒１２を瓦１１の方向に向けて飛散させるた
めの案内面６ｆを形成している。このようにして撒布さ
れる砂粒１２は、上方から落下するものではなく、側方
から撒布されるので、夫々の砂粒１２は飛跡Ａ₁,Ａ ₂,Ａ
₃ 等の放物線を描いて飛散し、その結果、前記瓦１１の
前記上向きの面１１ａ,１１ｂ及び前記立設面１１ｃに
もれなく衝突し、付着する。

【０００９】〔実施例４〕図５に第４の特徴構成の実施
例を示す。前記実施例１と同様に搬送装置３に沿ってそ
の上方に砂付着装置１が設けられている。この砂付着装
置１は砂撒布装置２と砂落下方向変更手段７から構成さ
れている。搬送装置３及びこれに載置され搬送される瓦
１１とその載置方向等は前記実施例１と同様であり、前
記砂撒布装置２も前記実施例１と同様の構成であり、同
様にして配設されている。落下してくる砂粒１２に向け
て空気を吹きつける、その空気噴出口が横長の偏平長方
形状のノズル７ａが、支持体７ｃに、その支持体７ｃに
前記搬送装置３の搬送方向に向けて立設されたピン７ｂ
の周りに回転自在に固定された取付板７ｄを介して取り
付けられ、前記砂落下方向変更手段７を構成している。
一対の前記砂落下方向変更手段７が、砂撒布装置２を支
持する対向して設けられた支持架台１３,１３ 夫々の下
部に夫々の前記支持体７ｃの上端部を吊下固定して、対
向して取り付けられている。前記支持体７ｃは伸縮自在
に構成され、その下端部に取り付けられた前記ノズル７
ａが上下位置を変更できるようになっている。一対の前
記ノズル７ａは、夫々に供給空気の圧力、量を調節変更
可能な図示しない空気供給手段が接続され、搬送されて
くる前記瓦１１に向けて空気を吹く方向を上下方向に調
節自在に取り付けられている。以上のように構成されて
いるので、前記搬送装置３に載置され搬送される前記瓦
１１が前記砂撒布装置２の下の領域にさしかかると、そ
の砂撒布体であるローラ２ｂから砂粒１２が均一に撒布
され、落下軌跡Ｂを描いて落下する。また、同時に前記
空気供給手段から前記ノズル７ａに空気が供給され、こ
のノズル７ａから空気流Ｅが吹き出されるが、その空気
流Ｅに乗らずに垂直に落下する砂粒１２は前記瓦１１の
上向きの面１１ａ,１１ｂ には付着し、前記瓦１１の立
設面１１ｃには付着しない。しかし、この瓦１１の両側
に位置する前記ノズル７ａから吹き出す空気流Ｅに乗っ
た砂粒１２は前記気流の方向にその運動方向を変え、前
記ノズル７ａから吹き出す空気流Ｅに応じた飛跡（例え
ばＡ）を描いて前記瓦１１の側方からその前記立設面１
１ｃにも衝突し、付着する。この砂粒１２の飛跡Ａは前
記ノズル７ａの方向、高さ及び空気流Ｅの吹き出す速度
によって決まる。従って、前記ノズル７ａは、砂を付着
させようとする瓦１１の形状によって、所望の飛跡が異
なるため、予め前記支持体７ｃを伸縮して前記取付板７
ｄの位置を調整し、さらに、これを前記ピン７ｂの周り
に揺動させて、方向を定めておくほか、前記空気供給手
段の空気圧を調整しておく。

【００１０】〔実施例５〕図７に第４の特徴構成の別の
実施例を示す。砂撒布装置２は、その軸心周りに回転し
ながら砂を撒布する円筒状の網状体からなる砂撒布体２
ｂと、この砂撒布体２ｂを駆動回転させる駆動部２ｃ及
び前記砂撒布体２ｂに砂を供給する砂供給部２ａとから
なっている。前記砂撒布体２ｂは、一方の支持架台１３
に固定された前記駆動部２ｃと、同じく他方の支持架台
１３に設けられた前記砂供給部２ａとの間に回転自在に
軸支されており、前記駆動部２ｃにより回転駆動され
る。また、前記砂撒布体２ｂには、その回転中は前記砂
供給部２ａから常に砂が供給され、その回転に伴って、
供給された砂が、その砂撒布体２ｂの回転軸方向に均一
に分散される手段が設けられている。搬送装置３及び砂
撒布装置２の配置に関する構成は、前記実施例４のもの
と同様であるが、この実施例では瓦１１は、上述の各実
施例とは異なり、その表面のうち上方に向いていない、
例えば前記瓦１１の立設面１１ｃを搬送装置３の搬送方
向Ｆに向けて搬送される。砂落下方向変更手段７は、前
記砂撒布体２ｂを回転自在に支持する対向して設けられ
た支持架台１３ａ,１３ｂ 夫々の下部の前記搬送方向Ｆ
の前方及び後方に夫々対向して前記搬送方向Ｆに対して
前後に揺動自在に、夫々その一端部で取り付けられた各
一対の第１支持体７ｅ,７ｅと、夫々の前記第１支持体
７ｅ,７ｅの他端部に、その一端部で前記搬送方向Ｆに
対して前後に揺動自在に枢支される夫々一対の第２支持
体７ｆ,７ｆと、夫々その両端で前記一対の第２支持体
７ｆ,７ｆの他端部に夫々固定された実施例４と同様の
一対のノズル７ａ,７ａ とで構成されている。夫々の前
記第１支持体７ｅの一端部には、夫々前記砂供給部２ａ
を設けた前記一方の支持架台１３ａ及び前記駆動部２ｃ
を設けた前記他方の支持架台１３ｂの夫々の下部の取り
付け位置で夫々の前記第１支持体７ｅを揺動駆動制御す
る駆動制御部（図示省略）が設けられており、また、前
記第１支持体７ｅの他端部には夫々に前記第２支持体７
ｆを揺動駆動制御する揺動制御部（図示省略）が設けら
れている。夫々の前記駆動制御部及び前記揺動制御部
は、各一対毎に連動制御され、前記ノズル７ａの位置及
び姿勢を制御している。また、一対の前記ノズル７ａに
は、夫々に供給する空気の圧力及び量を調節変更可能な
空気供給手段（図示省略）が接続されている。さらに、
前記搬送装置３には、その搬送方向Ｆに対して前記砂撒
布装置２の前後および直下の位置にはセンサ（図示省
略）が設けられており、瓦１１の接近及び通過並びに直
下の位置にあることを検知している。前記両ノズル７
ａ,７ａ は、前記駆動制御部及び前記揺動制御部の制御
によって通常は退避位置に置かれ、砂供給及び空気供給
は停止している。前記搬送装置３に載置された瓦１１が
搬送されて、接近位置が検知されると、砂撒布体２ｂが
回転駆動されて砂の撒布を開始するとともに、搬送方向
Ｆに対して前方側の前記ノズル７ａは前記駆動制御部及
び前記揺動制御部の制御により、図７（ａ）に示すよう
に前記瓦１１の前面への砂吹きつけ位置に姿勢制御さ
れ、空気供給が開始される。前記砂撒布体２ｂから撒布
される砂粒１２は空気流Ｅ₁により、気流に流されてそ
の砂粒１２及びその気流Ｅ₁に応じた飛跡（例えばＡ₁)
を描いて前記瓦１１の前方の立設面１１ｃに付着する。
勿論、この際に、その上向きの面１１ａ,１１ｂにも付
着する。前記瓦１１が搬送されて前記直下の位置が検出
されると、前記前方側の前記ノズル７ａは前記駆動制御
部及び前記揺動制御部の制御により、図７（ｂ）に示す
ように、再び前記退避位置に戻り、前記前方側の前記ノ
ズル７ａへの空気供給は停止する。この状態では、砂粒
１２は単純に落下撒布されるだけで、砂粒１２は均一に
撒布され、落下軌跡（例えばＢ）を描いて落下し、前記
砂粒１２は前記瓦１１の前記上向きの面１１ａ,１１ｂ
には付着し、その前記立設面１１ｃには付着しない。さ
らに、前記瓦１１が搬送されて、前記直下の位置が検出
されなくなると、前記搬送方向Ｆに対して後方側の前記
ノズル７ａは前記駆動制御部及び前記揺動制御部の制御
により、図７の（ｃ）に示すように瓦１１の後面への砂
吹きつけ位置に姿勢制御され、前記後方側の前記ノズル
７ａへの空気供給が開始される。前記砂撒布体２ｂから
撒布される砂粒１２は空気流Ｅ₂により、気流に流され
てその砂粒１２及びその気流Ｅ₂に応じた飛跡 (例えば
Ａ₂)を描いて前記瓦１１の後方の立設面１１ｃに付着す
る。勿論、この際に、その上向きの面１１ａ,１１ｂに
も付着する。さらに前記瓦１１が搬送されて、前記通過
位置が検出されると、再び前記後方側の前記ノズル７ａ
への空気供給が停止し、前記駆動制御部及び前記揺動制
御部の制御により前記退避位置に戻り、前記砂撒布体２
ｂは停止し、砂供給部２ａからの砂供給も停止する。こ
のようにして、一個の瓦１１への砂付着を終わる。以上
のように、搬送装置３に載置され搬送される瓦１１に
は、その位置により、異なる砂の撒布を受けるので、前
記空気流Ｅ₁,Ｅ₂ の方向及び高さ並びに強さを適当に制
御することにより、瓦１１の形状に合わせた砂撒布がで
きるとともに、前記空気流Ｅ₁,Ｅ₂ を適当に制御するこ
とにより、瓦１１の面に付着する砂の密度に位置的な変
化を与えることができる。

【００１１】〔実施例６〕図８に第５の特徴構成の実施
例を示す。前記実施例１と同様の搬送装置３に沿ってそ
の上方に砂撒布装置２が３基、等間隔に配設されてお
り、前記搬送装置３には、瓦１１の姿勢を変更自在に支
持する支持具８が、前記砂撒布装置２の配置間隔に合わ
せて等間隔に配置されている。搬送される瓦１１の載置
方向等は前記実施例１と同様であり、前記砂撒布装置２
も、前記実施例１のものと同様の構成であり、同様にし
て配設されている。前記支持具８は、両端部が板状の支
持板で形成された凹状の基台８ｂと、この基台８ｂの前
記支持板の上部に設けられたピン孔を貫通するピン８ｃ
により左右に揺動自在に枢支された瓦受台８ａとで構成
され、前記ピン８ｃの軸芯方向を前記搬送装置３の搬送
方向に一致させて、その搬送装置３の幅方向の中央部に
前記基台８ｂを固定してある。夫々の前記瓦受台８ａ
は、水平位置に前記基台８ｂから弾性的に付勢して姿勢
を維持されている。夫々の前記砂撒布装置２の設置位置
には前記瓦受台８ａを傾動させる姿勢変更機構（図示省
略）が設けられており、前記瓦受台８ａは、この姿勢変
更機構により、瓦１１の砂を付着させるべき面を上方に
向けるように傾動される。砂付着の実際の一例を示す
と、第１の前記砂撒布装置２の設置位置に設けられた前
記姿勢変更機構は動作させず、第２の前記砂撒布装置２
の設置位置に設けられた前記姿勢変更機構は、瓦１１の
前記搬送装置３の搬送方向に見て右側の立設面１１ｃに
砂を付着させるように前記瓦受台８ａを前記搬送方向に
見て左側に傾動するように設定し、第３の前記砂撒布装
置２の設置位置に設けられた前記姿勢変更機構は、前記
瓦１１の前記搬送装置３の搬送方向に見て左側の立設面
１１ｃに砂を付着させるように前記瓦受台８ａを前記搬
送方向に見て右側に傾動するように設定してある。図８
（ａ）は前記第１の砂撒布装置２の設置位置に於いて搬
送方向に見た図で、前記第１の砂撒布装置２からは、砂
粒１２が落下軌跡Ｂ₁,Ｂ ₂,Ｂ₃ 等を経て垂直に落下し、
前記瓦受台８ａ上に水平に載置されている前記瓦１１の
上向きの面１１ａ,１１ｂ の上に落下し、付着する。図
８（ｂ）は前記第２の砂撒布装置２の設置位置に於いて
搬送方向に見た図で、前記第２の砂撒布装置２からは、
砂粒１２が落下軌跡Ｂ₁,Ｂ₂,Ｂ₃ 等を経て垂直に落下
し、前記瓦受台８ａ上に搬送方向に見て左に傾けて載置
されている前記瓦１１の前記上向きの面１１ａ,１１ｂ
及び搬送方向に見て右側の立設面１１ｃ上に落下し、付
着する。第３の前記砂撒布装置２の設置位置に於いて搬
送方向に見た図は省略するが、図８（ｂ）と同様で、前
記第２の砂撒布装置２からは、砂粒１２が垂直に落下
し、前記瓦受台８ａ上に搬送方向に見て右に傾けて載置
されている前記瓦１１の前記上向きの面１１ａ,１１ｂ
及び前記搬送方向に見て左側の立設面１１ｃの上に落下
し、付着する。

【００１２】〔実施例７〕図９に第６の特徴構成の実施
例を示す。未硬化の塗膜が表面に形成されたセメント瓦
１１をその表面に砂を付着させるために搬送する搬送装
置３に沿ってその上方に、砂を浮遊させる浮遊装置９
（この支持架台は図示を省略する）が固設されており、
その搬送装置３には、前記浮遊装置９の砂浮遊室内９ａ
に前記瓦１１を進入退出自在にする、複数の瓦支持台１
０が等間隔に設けられている。そして、この瓦支持台１
０と前記浮遊装置９とで砂付着装置１を構成している。
前記搬送装置３には、前記浮遊装置９の直下に、搬送さ
れてくる瓦１１を検知するためにセンサ（図示省略）が
設けられている。前記浮遊装置９は、中空円筒状の容器
からなっており、その下端部には中央に円穴の開いた底
板９ｇが設けられており、その底板９ｇの内周部は、円
錐面状に上方に折れて円錐面部を形成しており、その内
部が砂浮遊空間である砂浮遊室９ａを形成しており、前
記円錐面部には多数の透孔９ｈが設けられている。ま
た、前記浮遊装置９の上端部は、逆漏斗状に形成され
て、吸引部９ｋとなっており、その吸引部９ｋと前記砂
浮遊室９ａを形成する円筒との境界部に多数の空気孔９
ｄを有する分散板９ｃが設けられている。さらに、前記
円筒の上端部付近にはその円筒内面の接線と内面の軸方
向の線がほぼ一致するように円管状の、砂気送設備（図
示省略）に接続される砂供給管９ｂが内部を連通して固
設されている。そして、前記吸引部９ｋの内部には前記
分散板９ｃの上方に複数の整流板９ｅが設けられてお
り、前記吸引部９ｋの状端部の管状部分は吸引ポンプ
（図示省略）に接続される吸引管９ｆを形成している。
一方、前記瓦支持台１０は、前記搬送装置３の幅方向の
中央部に上下昇降可能に多数等間隔に、外部からの操作
のないときは下降端に位置するように固設されており、
前記浮遊装置９の直下部に設けられた昇降機構（図示省
略）により上昇下降操作される。前記浮遊装置９の砂供
給管９ｂから砂が気流搬送され、その浮遊装置９内の浮
遊空間を構成する浮遊室９ａに砂が渦を巻いて送り込ま
れる。一方、前記吸引管９ｆからはこの浮遊室９ａ内の
空気が吸引され、砂のこの浮遊室９ａ外への落下が防止
され、砂粒１２はこの浮遊室９ａ内で浮遊する。一方、
前記搬送装置３上の前記支持台１０に載置された瓦１１
が搬送されて、前記浮遊装置９の直下に到達すると[図
９（ａ)]、前記センサの検知信号に基づき制御機構（図
示省略）の制御が働き、前記搬送装置３は一旦停止し、
前記支持台１０が上昇操作される。前記瓦１１が前記浮
遊装置９の下端部の前記円穴内に進入し、前記支持台１
０の上端が前記底板９ｇの内周縁に位置すると、前記制
御機構の制御が働き、前記支持台１０の前記昇降機構は
停止する[図９（ｂ)]。この状態では、前記円穴は前記
支持台１０及び前記瓦１１により半ば閉じられ、この円
穴を通って上昇する気流は遮られ、前記瓦１１の上方の
上昇気流は上昇速度が遅くなり、この部分で浮遊してい
た砂粒１２は旋回を続けながら下降する。このために、
その下降する砂粒１２は前記瓦１１の各面に様々な方向
から当たり、前記瓦１１の各面に付着することになる。
その後、前記支持台１０は前記制御機構の制御により下
降し、前記浮遊装置への砂の気流搬送、前記吸引管９ｆ
からの吸引は順次停止する。その後、前記搬送装置３は
再起動し、再び瓦１１の搬送を始め、前記砂付着後の瓦
１１は下流へ送る出される。図９における分散板９ｃは
吸引管９ｆからの吸引による砂浮遊室９ａ内の上昇気流
を均一化するためのもので、多数の空気孔９ｄが設けら
れており、この分散板９ｃの上方に設けられた整流板９
ｅとともに砂浮遊室９ａ内での渦巻いて浮遊する砂粒１
２を安定して浮遊させる働きをする。また、底板９ｇの
前記円錐面部設けられた多数の透孔９ｈは、前記図９
（ｂ）の状態において瓦１１の周囲の上昇気流を維持さ
せるためのものである。

【００１３】〔別実施例〕 〈１〉以上の実施例の中で用いた砂撒布装置は回転する
砂撒布体を設けたものであるが、この砂撒布装置の構成
はこれらに限らず、砂を落下供給するものであればよ
く、ホッパから直接砂を撒布するものでもよい。また、
搬送装置にセンサを設け、砂撒布装置を制御して起動・
停止させる構成は省略してもよい。 〈２〉実施例１において、砂の反射装置は、夫々砂撒布
体の回転軸芯方向に摺動可能に取り付けられてあっても
よく、さらに、これが移動機構により瓦の形状に応じて
移動されるものであってもよい。また、反射板の位置及
び姿勢を駆動制御して、搬送される瓦の形状に応じてそ
の位置及び姿勢を制御するようにしてもよい。 〈３〉実施例２において、砂の案内装置は駆動部と砂供
給部を夫々砂撒布体の回転軸芯方向に摺動可能に取り付
けられてあってもよく、さらに、これが移動機構により
瓦の形状に応じて移動されるものであってもよい。ま
た、案内板の位置及び姿勢は、これを駆動制御して、搬
送される瓦の形状に応じてその位置及び姿勢を制御する
ようにしてもよい。 〈４〉実施例３において、図４に示すように、砂掻きあ
げ装置６の後壁を前記図３の後壁より低い位置から曲面
を描くようにし、後方に膨らんだ形状に前記カバー６ｅ
を形成し、その案内面６ｆの一部を、砂掻きあげ片６ａ
の回転外周円筒面にほぼ沿う形状に形成し、その円筒面
の半径を前記回転外周円筒面の半径より僅かに小さくし
た抵抗摺動面６ｇに形成し、砂溜まり１２ａの後壁及び
前記案内面６ｆに連続したなだらかな形状に成形してあ
ってもよい。ここでは、前記砂掛け手段は前記図３の位
置より後壁に寄っており、この砂掛け手段が駆動装置
（図示省略）により矢印Ｒ方向に回転駆動されるとき
に、前記砂掻きあげ片６ａが前記後壁に接する位置より
僅かに近い位置に設けられる。このように構成すれば、
支板６ｂは、その取り付けられている回転軸６ｃの軸芯
方向に幅を有する平板状の弾性体で形成されているの
で、前記砂掻きあげ片６ａが前記砂溜まり１２ａの砂の
中に進入する際及びこの砂溜まり１２ａの砂の中にある
ときには砂の抵抗により、また、前記後壁に接当する際
には前記抵抗摺動面６ｇとの間の摺動抵抗により弾性的
に撓んで、回転の遅れを生ずる。このように、前記支板
６ｂが撓んだまま前記砂掻きあげ片６ａが前記砂溜まり
１２ａから掬い上げた砂１２ｂを保持し、前記砂掻きあ
げ片６ａが前記抵抗摺動面６ｇから離間すると、前記支
板６ｂの撓みの反力で回転方向Ｒに加速され、前記砂１
２ｂは強く投げ放たれる（その後、前記支板６ｂは振動
した後、原状に戻る）。こうして、砂粒１２は加速され
て撒布されるので、前記砂掛け手段の回転速度を遅くし
ても前記砂粒１２は充分に前記瓦１１に到達するので、
回転速度を速くしたときの駆動装置（図示省略）への変
動負荷を小さくできる。さらに、砂粒１２の撒布の際の
初速度を大きくできるので、前記砂粒１２の飛跡は水平
に近づけることができ、その砂粒１２を前記瓦１１の前
記立設面１１ｃにさらに付着させやすくなる。また、水
平軸周りに回転する砂掻きあげ片によって砂を飛散させ
る構成に代えて、他の方法によって砂を掻きあげて砂を
飛散させるものであってもよい。また、砂掻きあげ片
は、円形の支持体に保持させたものでもよい。また、そ
の形状も長い断面Ｕ字状のもの或いは断面コ字状のもの
であってもよく、また、その形状が碗型のものであって
もよく、さらに、これが複数並べて設けられたものであ
ってもよい。砂掻きあげ装置の回転方向も逆の方向に回
転させて（勿論この場合の砂掻きあげ片を取り付ける向
きも逆になる）、砂を投げ上げるものであってもよく、
さらに、カバーを更に前に延長して、投げ上げられた砂
を反射して瓦に向けるものであってもよい。 〈５〉実施例４において前記図５のノズル７ａを、図６
に示すように、各支持体７ｃにつき夫々２本宛設けても
よく、上下のノズル７ａから夫々吹き出す空気流Ｅ₁,Ｅ
₂ の夫々の方向並びに強さを調節することにより、砂粒
１２の飛跡Ａを自由に変化できる。また、砂落下方向変
更手段は、夫々砂撒布体の回転軸芯方向に摺動可能に取
り付けられてあってもよく、さらに、これが移動機構に
より瓦の形状に応じて移動されるものであってもよい。
また、搬送される瓦の形状に応じてそのノズルの位置及
び姿勢ならびにノズルから吹き出す空気圧を制御するよ
うにしてもよい。 〈６〉実施例５においては、砂撒布体の内部に設けたそ
の軸方向に砂を均一に分散させる手段は省略することも
でき、さらに、砂撒布装置には砂を自動的に補給する砂
供給部は、自動的に供給するものでなくてもよく、あら
かじめ砂を砂撒布体に仕込んでおく構成でもよい。さら
に、揺動制御部を省略してもよく、また、揺動制御部に
代えて、ノズルを固定せずにノズルの姿勢のみを制御す
る姿勢制御部を設けてもよく、さらに、これらを一体化
して駆動制御部としてもよい。また、空気圧は可変とし
て、搬送される瓦の形状に応じて制御してもよく、これ
と上記駆動制御部、揺動制御部、姿勢制御部等と連動制
御してもよい。 〈７〉実施例６においては、第１の砂撒布装置を省略
し、他の２箇所のみで砂を付着させるようにしてもよ
い。瓦受台を重力的に平位置に維持するようにしてもよ
く、また、揺動させる瓦受台に代えて、上下移動自在の
２つの支持体を用いて、これを姿勢変更機構により上下
駆動し、瓦を傾動して瓦の姿勢を変更する構成としても
よく、その他、傾動して瓦の姿勢を変更することのでき
るこれとは異なる機構の瓦受台を設けてもよい。また、
瓦受台に姿勢変更機構を付設し、所定位置でこの姿勢変
更機構を作動させるようにしてもよい。 〈８〉実施例７においては、砂を浮遊させる方法は問わ
ず、砂浮遊空間内に砂を浮遊させ、且つ、その砂浮遊空
間内に瓦を進入させ、退出させることのできる浮遊装置
が設けられ、その砂浮遊空間内に瓦を進入させ、砂を付
着後に瓦を退出させられる構成であればよい。 〈９〉その他、本発明の構成は、上記の実施例の構成に
限られるものではなく、本発明の特徴構成に基づく構成
であればよい。

【００１４】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の特徴構成の実施例の説明用正面
図

【図２】本発明の第２の特徴構成の実施例の説明用正面
図

【図３】本発明の第３の特徴構成の実施例の正面視一部
断面説明図

【図４】本発明の第３の特徴構成の他の実施例の正面視
要部断面説明図

【図５】本発明の第４の特徴構成の実施例の説明用正面
図

【図６】本発明の第４の特徴構成の他の実施例の説明用
正面図

【図７】本発明の第４の特徴構成の他の実施例の側面視
一部断面説明図

【図８】本発明の第５の特徴構成の実施例の正面視説明
図

【図９】本発明の第５の特徴構成の実施例の正面視説明
図

【図１０】従来技術の斜視説明用要部図

【符号の説明】

１ 砂付着装置 ２ 砂撒布装置 ３ 搬送装置 ４ 反射装置 ４ａ 反射板 ５ 案内装置 ５ａ 案内板 ６ 砂掻きあげ装置 ７ 砂落下方向変更手段 ８ 支持具 ９ 浮遊装置 ９ａ 砂浮遊空間 １０ 瓦支持装置 １１ 瓦 Ｅ 気体流

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−281904（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−176348（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−55907（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−50521（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−108123（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−140779（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B28B 11/06

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 セメントを主材として成形された立設面
   （ １１ｃ) を有する瓦（１１）を搬送する搬送装置
   （３）を設け、前記搬送装置（３）による搬送途中で、
   未硬化の塗膜が表面に形成された瓦（１１）に砂を付着
   させる砂付着装置 （１）を設けてあるセメント瓦加工
   装置であって、 前記砂付着装置（１）を構成するに、砂を落下供給する
   砂撒布装置（２）と、前記砂撒布装置（２）から落下す
   る砂の一部を当て付けて、落下方向とは異なる方向で前
   記瓦（１１）に向けて飛散させる反射板（４ａ）を備え
   た砂の反射装置（４）とを設けてあるセメント瓦加工装
   置。
2. 【請求項２】 セメントを主材として成形された立設面
   （ １１ｃ) を有する瓦（１１）を搬送する搬送装置
   （３）を設け、前記搬送装置（３）による搬送途中で、
   未硬化の塗膜が表面に形成された瓦（１１）に砂を付着
   させる砂付着装置 （１）を設けてあるセメント瓦加工
   装置であって、 前記砂付着装置（１）を構成するに、砂を落下供給する
   砂撒布装置（２）と、前記砂撒布装置（２）から落下す
   る砂の一部を受けて、落下方向とは異なる方向で前記瓦
   （１１）に向けて摺動案内する案内板（５ａ）を備えた
   砂の案内装置（５）とを設けてあるセメント瓦加工装
   置。
3. 【請求項３】 セメントを主材として成形された立設面
   （ １１ｃ) を有する瓦（１１）を搬送する搬送装置
   （３）を設け、前記搬送装置（３）による搬送途中で、
   未硬化の塗膜が表面に形成された瓦（１１）に砂を付着
   させる砂付着装置 （１）を設けてあるセメント瓦加工
   装置であって、 前記砂付着装置（１）を構成するに、砂を掻きあげて飛
   散させる砂掻きあげ装置（６）に、撒布する砂を瓦（
   １１) の方向に向けて飛散させるための案内面（ ６
   ｆ) を形成してあるカバー（ ６ｅ) を設けたセメント
   瓦加工装置。
4. 【請求項４】 セメントを主材として成形された立設面
   （ １１ｃ) を有する瓦（１１）を搬送する搬送装置
   （３）を設け、前記搬送装置（３）による搬送途中で、
   未硬化の塗膜が表面に形成された瓦（１１）に砂を付着
   させる砂付着装置 （１）を設けてあるセメント瓦加工
   装置であって、 前記砂付着装置（１）を構成するに、砂を落下供給する
   砂撒布装置（２）と、前記砂撒布装置（２）から落下す
   る砂の一部に対して、その落下する方向とは異なる方向
   に気体流（Ｅ）を吹きつけて、前記瓦（１１）に対して
   前記砂を当て付ける砂落下方向変更手段（７）を設けた
   セメント瓦加工装置。
5. 【請求項５】 セメントを主材として成形された瓦（１
   １）を搬送する搬送装置（３）を設け、前記搬送装置
   （３）による搬送途中で、未硬化の塗膜が表面に形成さ
   れた瓦（１１）に砂を付着させる砂付着装置（１）を設
   けてあるセメント瓦加工装置であって、 前記砂付着装置（１）を構成するに、瓦（１１）の姿勢
   を変更自在に支持する支持具（８）を設けるとともに、
   前記支持具（８）による支持姿勢を駆動変更する姿勢変
   更機構を設け、前記支持具（８）によって支持された瓦
   （１１）に砂を落下供給する砂撒布装置（２）を設けて
   あるセメント瓦加工装置。
6. 【請求項６】 セメントを主材として成形された瓦（１
   １）を搬送する搬送装置（３）を設け、前記搬送装置
   （３）による搬送途中で、未硬化の塗膜が表面に形成さ
   れた瓦（１１）に砂を付着させる砂付着装置（１）を設
   けてあるセメント瓦加工装置であって、 前記砂付着装置（１）を構成するに、砂を浮遊させる砂
   浮遊室（ ９ａ) と、前記砂浮遊室（ ９ａ) の上部に
   その砂浮遊室（ ９ａ) 内の空気を吸引する吸引部（
   ９ｋ) とを設けてある浮遊装置（９）を設け、前記瓦
   （１１）を支持して前記砂浮遊室 （９ａ）内に、前記
   瓦（１１）を進入退出自在にする瓦支持装置（１０）を
   設けてあるセメント瓦加工装置。