JP3319612B2 - 粗面パターン付きホログラム及びその作成方法 - Google Patents
粗面パターン付きホログラム及びその作成方法Info
- Publication number
- JP3319612B2 JP3319612B2 JP05033292A JP5033292A JP3319612B2 JP 3319612 B2 JP3319612 B2 JP 3319612B2 JP 05033292 A JP05033292 A JP 05033292A JP 5033292 A JP5033292 A JP 5033292A JP 3319612 B2 JP3319612 B2 JP 3319612B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hologram
- pattern
- light
- relief
- rough surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は迷光カットや位置合わせ
等の機能を有する粗面パターン付きホログラム及びその
作成方法に関するものである。
等の機能を有する粗面パターン付きホログラム及びその
作成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ホログラムをレリーフパターンで
形成することが知られており、このレリーフホログラム
は、エンボス法、熱プレス法、２Ｐ法（紫外線もしくは
電子線で硬化する樹脂を用いて複製する方法）、射出成
形法などで容易に複製できるため、レインボーホログラ
ム、ホログラム光学素子（ＨＯＥ）、コンピュータグラ
フィックホログラム（ＣＧＨ）等の大量生産に使用され
ている。
形成することが知られており、このレリーフホログラム
は、エンボス法、熱プレス法、２Ｐ法（紫外線もしくは
電子線で硬化する樹脂を用いて複製する方法）、射出成
形法などで容易に複製できるため、レインボーホログラ
ム、ホログラム光学素子（ＨＯＥ）、コンピュータグラ
フィックホログラム（ＣＧＨ）等の大量生産に使用され
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レリーフホ
ログラムは、通常、図６に示すようにガラス基板１上に
積層した樹脂２にレリーフパターン３が形成され、その
周囲や近傍領域には非ホログラム領域４が存在する。そ
のため、例えば、半導体レーザ５でホログラムを照明し
たとき、照明光の非ホログラム領域の透過光が、ホログ
ラム像が良く見える焦点７の位置と重なって、いわゆる
迷光となり、ホログラム像がよく見えなくなってしまう
という問題があった。これを防ぐためには、非ホログラ
ム領域に光不透過層を設ける方法があるが、そのために
はレリーフパターンの複製と光不透過層の形成という２
工程を要してしまうという問題があった。
ログラムは、通常、図６に示すようにガラス基板１上に
積層した樹脂２にレリーフパターン３が形成され、その
周囲や近傍領域には非ホログラム領域４が存在する。そ
のため、例えば、半導体レーザ５でホログラムを照明し
たとき、照明光の非ホログラム領域の透過光が、ホログ
ラム像が良く見える焦点７の位置と重なって、いわゆる
迷光となり、ホログラム像がよく見えなくなってしまう
という問題があった。これを防ぐためには、非ホログラ
ム領域に光不透過層を設ける方法があるが、そのために
はレリーフパターンの複製と光不透過層の形成という２
工程を要してしまうという問題があった。
【０００４】また、ホログラムを光軸を合わせて固定す
るためには、ホログラム上に位置合わせマークを設けれ
ばよいが、レリーフパターンの複製をした後に位置合わ
せマークをつける必要があり、２工程を要するととも
に、ホログラムマークがずれてしまうという問題があっ
た。
るためには、ホログラム上に位置合わせマークを設けれ
ばよいが、レリーフパターンの複製をした後に位置合わ
せマークをつける必要があり、２工程を要するととも
に、ホログラムマークがずれてしまうという問題があっ
た。
【０００５】本発明は上記課題を解決するためのもの
で、迷光をなくすとともに、位置合わせマークを正確
に、かつ容易に形成することができる粗面パターン付き
ホログラム及びその作成方法を提供することを目的とす
る。
で、迷光をなくすとともに、位置合わせマークを正確
に、かつ容易に形成することができる粗面パターン付き
ホログラム及びその作成方法を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、光源からの光
がレリーフホログラムパターンにより結像する位置と、
レリーフホログラムパターンの周囲もしくは近傍領域の
非ホログラム領域を散乱もしくは回折されずに透過する
光源からの光の光路とが重なるホログラムにおいて、前
記非ホログラム領域にレリーフホログラムパターンと同
一面上で粗面が形成され、非ホログラム領域の部分を透
過する光を散乱してホログラムの再生像に対する迷光が
生じないようにしたことを特徴とする。
がレリーフホログラムパターンにより結像する位置と、
レリーフホログラムパターンの周囲もしくは近傍領域の
非ホログラム領域を散乱もしくは回折されずに透過する
光源からの光の光路とが重なるホログラムにおいて、前
記非ホログラム領域にレリーフホログラムパターンと同
一面上で粗面が形成され、非ホログラム領域の部分を透
過する光を散乱してホログラムの再生像に対する迷光が
生じないようにしたことを特徴とする。
【０００７】また、本発明は、レリーフホログラムが、
原版となるレリーフホログラムのパターンを利用して複
製されたものであることを特徴とする。
原版となるレリーフホログラムのパターンを利用して複
製されたものであることを特徴とする。
【０００８】また、本発明のホログラム作成方法は、光
源からの光がレリーフホログラムパターンにより結像す
る位置と、レリーフホログラムパターンの周囲もしくは
近傍領域の非ホログラム領域を散乱もしくは回折されず
に透過する光源からの光の光路とが重なるホログラムの
作成方法において、ホログラムパターンが形成された感
光体と光散乱板を密着させ、ホログラム領域をマスクし
て光照射することにより、ホログラムパターンの周囲も
しくは近傍領域の非ホログラム領域にホログラムパター
ンと同一面上に、非ホログラム領域の部分を透過する光
を散乱してホログラムの再生像に対する迷光を生じない
ようにする粗面を形成することを特徴とする。
源からの光がレリーフホログラムパターンにより結像す
る位置と、レリーフホログラムパターンの周囲もしくは
近傍領域の非ホログラム領域を散乱もしくは回折されず
に透過する光源からの光の光路とが重なるホログラムの
作成方法において、ホログラムパターンが形成された感
光体と光散乱板を密着させ、ホログラム領域をマスクし
て光照射することにより、ホログラムパターンの周囲も
しくは近傍領域の非ホログラム領域にホログラムパター
ンと同一面上に、非ホログラム領域の部分を透過する光
を散乱してホログラムの再生像に対する迷光を生じない
ようにする粗面を形成することを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明は、図１に示すように、ガラス基板１上
に積層した樹脂２にレリーフパターン３を形成し、その
周囲や近傍領域の非ホログラム領域に、後述するような
方法で粗面８を形成したものである。このようなレリー
フホログラムを半導体レーザ５で照明すると、非ホログ
ラム領域の透過光は、粗面８で散乱されて全方位へ放射
される散乱光９となって光が弱められ、ホログラムの再
生光に対して迷光とはならない。
に積層した樹脂２にレリーフパターン３を形成し、その
周囲や近傍領域の非ホログラム領域に、後述するような
方法で粗面８を形成したものである。このようなレリー
フホログラムを半導体レーザ５で照明すると、非ホログ
ラム領域の透過光は、粗面８で散乱されて全方位へ放射
される散乱光９となって光が弱められ、ホログラムの再
生光に対して迷光とはならない。
【００１０】このように、レリーフパターンの形成され
ていない非ホログラム領域に光を散乱させるように粗面
を形成するようにしたので、非ホログラム領域の透過光
はホログラムの再生光に対して迷光とならず、また粗面
はレリーフパターンと同一面上に形成するようにしたの
で、１回のレリーフ複製でホログラムと粗面を同時に形
成することができる。
ていない非ホログラム領域に光を散乱させるように粗面
を形成するようにしたので、非ホログラム領域の透過光
はホログラムの再生光に対して迷光とならず、また粗面
はレリーフパターンと同一面上に形成するようにしたの
で、１回のレリーフ複製でホログラムと粗面を同時に形
成することができる。
【００１１】
【００１２】
【実施例】次に本発明の実施例を説明する。 〔実施例１〕図２（ａ）に示すように、フォトレジスト
として東京応化（株）製ＯＦＰＲ８００を用い、ガラス
基板１０上にスピンナー法により１５００回転／分でポ
ジ型フォトレジスト層１２をコーティングし、レリーフ
ホログラム乾板１２を作成した。次いで、干渉縞を濃淡
２値化したパターン１４が形成された振幅ホログラムか
らなるクロムマスク１３を用意し、このマスクのクロム
マスク面側を乾板１２に密着させて紫外線１５を４０ｍ
Ｊ照射した。
として東京応化（株）製ＯＦＰＲ８００を用い、ガラス
基板１０上にスピンナー法により１５００回転／分でポ
ジ型フォトレジスト層１２をコーティングし、レリーフ
ホログラム乾板１２を作成した。次いで、干渉縞を濃淡
２値化したパターン１４が形成された振幅ホログラムか
らなるクロムマスク１３を用意し、このマスクのクロム
マスク面側を乾板１２に密着させて紫外線１５を４０ｍ
Ｊ照射した。
【００１３】この後、図２（ｂ）に示すようにすりガラ
ス１６を乾板１２に密着させ、クロムマスク１７を介し
て粗面にする領域にのみ紫外線１５を４０ｍＪ照射し
た。
ス１６を乾板１２に密着させ、クロムマスク１７を介し
て粗面にする領域にのみ紫外線１５を４０ｍＪ照射し
た。
【００１４】次いで、現像液として東京応化（株）製Ｎ
ＭＤー３を用いて露光済みの乾板の現像を行い、図２
（ｃ）に示すようにレリーフパターン１８と粗面１９が
一体化して同一面に形成されたレリーフホログラムレン
ズが得られた。
ＭＤー３を用いて露光済みの乾板の現像を行い、図２
（ｃ）に示すようにレリーフパターン１８と粗面１９が
一体化して同一面に形成されたレリーフホログラムレン
ズが得られた。
【００１５】〔実施例２〕図３（ａ）に示すように、ガ
ラス基板２０上に干渉縞を濃淡２値化したクロムパター
ン２３が形成された振幅ホログラムからなるクロムマス
クを用意し、このパターン形成面上に、実施例１と同様
にしてポジ型フォトレジスト２１をコーティングしてレ
リーフホログラム乾板２２を作成した。
ラス基板２０上に干渉縞を濃淡２値化したクロムパター
ン２３が形成された振幅ホログラムからなるクロムマス
クを用意し、このパターン形成面上に、実施例１と同様
にしてポジ型フォトレジスト２１をコーティングしてレ
リーフホログラム乾板２２を作成した。
【００１６】次いで、図３（ｂ）に示すように、乾板２
２のレジスト面側にすりガラス２６からなる拡散板を密
着させ、クロムマスク２５を介してガラス基板２０側か
ら粗面にする領域のみに紫外線２４を４０ｍＪ照射し
た。
２のレジスト面側にすりガラス２６からなる拡散板を密
着させ、クロムマスク２５を介してガラス基板２０側か
ら粗面にする領域のみに紫外線２４を４０ｍＪ照射し
た。
【００１７】その後、実施例１と同様にして現像を行
い、図３（ｃ）に示すよう、レリーフパターン２７と粗
面２８が一体化して同一面に形成されたレリーフホログ
ラムレンズのレジスト原版が得られた。
い、図３（ｃ）に示すよう、レリーフパターン２７と粗
面２８が一体化して同一面に形成されたレリーフホログ
ラムレンズのレジスト原版が得られた。
【００１８】次に、図３（ｄ）に示すように、アクリル
基板３０に紫外線硬化樹脂３１を滴下し、レジスト原版
を密着させた。このレジスト原版の密着により、フォト
レジストパターン２７の部分は紫外線硬化樹脂３１が排
除され、フォトレジストパターン間に紫外線硬化樹脂３
１が満たされる。この状態でアクリル基板３０側から紫
外線３２を４５０ｍＪ照射した。
基板３０に紫外線硬化樹脂３１を滴下し、レジスト原版
を密着させた。このレジスト原版の密着により、フォト
レジストパターン２７の部分は紫外線硬化樹脂３１が排
除され、フォトレジストパターン間に紫外線硬化樹脂３
１が満たされる。この状態でアクリル基板３０側から紫
外線３２を４５０ｍＪ照射した。
【００１９】そして、再度、紫外線を照射し、十分に樹
脂を硬化（ポリマー化）させ、図３（ｅ）に示すように
レリーフパターン３２と粗面３３が一体化して同一面に
形成されたレリーフホログラムレンズが得られた。
脂を硬化（ポリマー化）させ、図３（ｅ）に示すように
レリーフパターン３２と粗面３３が一体化して同一面に
形成されたレリーフホログラムレンズが得られた。
【００２０】〔実施例３〕実施例１または実施例２と同
様な方法で、図４に示すように、ガラス基板４０上にレ
リーフパターン４１を、同一面の他の領域に位置合わせ
マーク４２を作成し、レリーフパターンと位置合わせマ
ークが一体化して同一面に形成されたレリーフホログラ
ムレンズが得られた。
様な方法で、図４に示すように、ガラス基板４０上にレ
リーフパターン４１を、同一面の他の領域に位置合わせ
マーク４２を作成し、レリーフパターンと位置合わせマ
ークが一体化して同一面に形成されたレリーフホログラ
ムレンズが得られた。
【００２１】〔実施例４〕実施例１または実施例２と同
様な方法で、図５に示すように、ガラス基板５０上にレ
リーフパターン５１を、同一面上でその周囲に粗面から
なる迷光カット領域５２を作成し、レリーフパターンと
迷光カット領域が一体化して同一面に形成されたレリー
フホログラムレンズが得られた。
様な方法で、図５に示すように、ガラス基板５０上にレ
リーフパターン５１を、同一面上でその周囲に粗面から
なる迷光カット領域５２を作成し、レリーフパターンと
迷光カット領域が一体化して同一面に形成されたレリー
フホログラムレンズが得られた。
【００２２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ホログラ
ムと同一面に形成された粗面が、ホログラムに対する照
明光の、非ホログラム領域での光を散乱するため、光が
弱くなり、ホログラムの再生光と重ならないので迷光と
ならず、また、粗面はレリーフパターンと同一面上に形
成するようにしたので、１回のレリーフ複製でホログラ
ムと粗面を同時に形成することができる。
ムと同一面に形成された粗面が、ホログラムに対する照
明光の、非ホログラム領域での光を散乱するため、光が
弱くなり、ホログラムの再生光と重ならないので迷光と
ならず、また、粗面はレリーフパターンと同一面上に形
成するようにしたので、１回のレリーフ複製でホログラ
ムと粗面を同時に形成することができる。
【００２３】また、レリーフ複製時に非ホログラム領域
に位置合わせマークを同時に形成することにより、１工
程で正確に位置合わせマークの形成を行うことができ
る。
に位置合わせマークを同時に形成することにより、１工
程で正確に位置合わせマークの形成を行うことができ
る。
【図１】 本発明の粗面パターン付きホログラムを説明
する図である。
する図である。
【図２】 本発明の粗面パターン付きホログラム作成方
法の一実施例を説明する図である。
法の一実施例を説明する図である。
【図３】 本発明の粗面パターン付きホログラム作成方
法の他の実施例を説明する図である。
法の他の実施例を説明する図である。
【図４】 ホログラムと同一面に位置合わせマークを形
成する実施例を説明する図である。
成する実施例を説明する図である。
【図５】 ホログラムと同一面に迷光カット領域を形成
する実施例を説明する図である。
する実施例を説明する図である。
【図６】 従来のレリーフホログラムを説明する図であ
る。
る。
１…ガラス基板、２…樹脂、３…レリーフパターン、５
…半導体レーザ、７…焦点、８…粗面、９…散乱光。
…半導体レーザ、７…焦点、８…粗面、９…散乱光。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03H 1/00 - 1/30
Claims (3)
- 【請求項１】 光源からの光がレリーフホログラムパタ
ーンにより結像する位置と、レリーフホログラムパター
ンの周囲もしくは近傍領域の非ホログラム領域を散乱も
しくは回折されずに透過する光源からの光の光路とが重
なるホログラムにおいて、前記非ホログラム領域にレリ
ーフホログラムパターンと同一面上で粗面が形成され、
非ホログラム領域の部分を透過する光を散乱してホログ
ラムの再生像に対する迷光が生じないようにしたことを
特徴とする粗面パターン付きホログラム。 - 【請求項２】 前記レリーフホログラムが、原版となる
レリーフホログラムのパターンを利用して複製されたも
のである請求項１記載の粗面パターン付きホログラム。 - 【請求項３】 光源からの光がレリーフホログラムパタ
ーンにより結像する位置と、レリーフホログラムパター
ンの周囲もしくは近傍領域の非ホログラム領域を散乱も
しくは回折されずに透過する光源からの光の光路とが重
なるホログラムの作成方法において、ホログラムパター
ンが形成された感光体と光散乱板を密着させ、ホログラ
ム領域をマスクして光照射することにより、ホログラム
パターンの周囲もしくは近傍領域の非ホログラム領域に
ホログラムパターンと同一面上に、非ホログラム領域の
部分を透過する光を散乱してホログラムの再生像に対す
る迷光を生じないようにする粗面を形成することを特徴
とする粗面パターン付きホログラムの作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05033292A JP3319612B2 (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 粗面パターン付きホログラム及びその作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05033292A JP3319612B2 (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 粗面パターン付きホログラム及びその作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05249878A JPH05249878A (ja) | 1993-09-28 |
| JP3319612B2 true JP3319612B2 (ja) | 2002-09-03 |
Family
ID=12855965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05033292A Expired - Lifetime JP3319612B2 (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | 粗面パターン付きホログラム及びその作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3319612B2 (ja) |
-
1992
- 1992-03-09 JP JP05033292A patent/JP3319612B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05249878A (ja) | 1993-09-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5480047A (en) | Method for forming a fine resist pattern | |
| US4589686A (en) | Anticounterfeiting method and device | |
| JPS58200275A (ja) | パタ−ン状フレネルホログラムの製造方法 | |
| US3580657A (en) | Blazed surface hologram | |
| JP3945728B2 (ja) | ホログラム記録フィルムの記録方法 | |
| KR20010095295A (ko) | 하이브리드 광학 마스터 디스크에서 워터마크 이미지를형성시키는 방법 | |
| JPH07506224A (ja) | 投影照明用の解像力強化光学位相構造体 | |
| JP2003195475A (ja) | ホログラムマスク作製用の露光方法及び装置、並びにホログラムマスクを用いた記録方法 | |
| US4444456A (en) | Holographic method and apparatus for transformation of a light beam into a line source of required curvature and finite numerical aperture | |
| JP3319612B2 (ja) | 粗面パターン付きホログラム及びその作成方法 | |
| JP3321194B2 (ja) | フォトマスク | |
| JPH06202539A (ja) | ホログラム及びそれを取り扱う情報パターンの再生装置 | |
| TW202217469A (zh) | 大型全像光學元件複製方法以及該方法所複製的大型全像光學元件 | |
| JP3714432B2 (ja) | ホログラム表示体及びその作成方法 | |
| JPS59154482A (ja) | ホログラムおよびその製作方法 | |
| JPH06201906A (ja) | 光反射体、エンコーダ及びその製造方法 | |
| JP3380591B2 (ja) | ホログラム作成方法 | |
| JP4179533B2 (ja) | ホログラム回折格子複合体 | |
| JP3247366B2 (ja) | エバネッセント波を使用したホログラム及びその作成方法 | |
| JPH0424681B2 (ja) | ||
| CN111512191B (zh) | 主衍射光栅的制造装置及制造方法 | |
| JP3242945B2 (ja) | ホログラム | |
| JP3224244B2 (ja) | ホログラム複製方法 | |
| KR970023046A (ko) | 홀로그램 영상을 갖는 광디스크와 이의 제조방법 | |
| JPH0358077A (ja) | ホログラムおよびその作製方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080621 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080621 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090621 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090621 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100621 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110621 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110621 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120621 Year of fee payment: 10 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120621 Year of fee payment: 10 |