JP3302484B2 - めっき方法 - Google Patents
めっき方法Info
- Publication number
- JP3302484B2 JP3302484B2 JP03614594A JP3614594A JP3302484B2 JP 3302484 B2 JP3302484 B2 JP 3302484B2 JP 03614594 A JP03614594 A JP 03614594A JP 3614594 A JP3614594 A JP 3614594A JP 3302484 B2 JP3302484 B2 JP 3302484B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- plating solution
- container
- solution
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、めっき対象物、例えば
半導体のウエーハやセラミックパッケージ、あるいは装
飾品などをめっき槽内に満たしためっき液に接触させて
めっき処理するタイプのめっき技術に関する。
半導体のウエーハやセラミックパッケージ、あるいは装
飾品などをめっき槽内に満たしためっき液に接触させて
めっき処理するタイプのめっき技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウエーハにめっきを施すための従来の代
表的なシステムは、図６に示すように、電気ヒータ２０
を用いた加熱槽２１で加熱しためっき液Ｍを循環管路２
２により循環させつつめっき槽２３に満たした状態と
し、このめっき槽２３内においてラック２４に保持させ
たウエーハ２５のめっき対象面に選択的にめっき液を接
触させることでめっき処理を行なうようにしている（例
えば実公昭５８−８７７４号公報、実開平３−１９７０
号公報等を参照）。
表的なシステムは、図６に示すように、電気ヒータ２０
を用いた加熱槽２１で加熱しためっき液Ｍを循環管路２
２により循環させつつめっき槽２３に満たした状態と
し、このめっき槽２３内においてラック２４に保持させ
たウエーハ２５のめっき対象面に選択的にめっき液を接
触させることでめっき処理を行なうようにしている（例
えば実公昭５８−８７７４号公報、実開平３−１９７０
号公報等を参照）。
【０００３】このため、めっき金属がめっき液の循環経
路である加熱槽２１、循環管路２２及びめっき槽２３に
析出して徐々に蓄積することになる。この析出しためっ
き金属は定期的に洗浄液で洗浄する必要があるが、この
洗浄作業は、めっき液の循環経路が複雑であること、ま
た使用する洗浄液の取扱いに十分な注意を必要とするこ
となどから、比較的高度な技能を必要とし、めっき処理
工程のなかでも比較的熟練性が要求される作業となって
いる。
路である加熱槽２１、循環管路２２及びめっき槽２３に
析出して徐々に蓄積することになる。この析出しためっ
き金属は定期的に洗浄液で洗浄する必要があるが、この
洗浄作業は、めっき液の循環経路が複雑であること、ま
た使用する洗浄液の取扱いに十分な注意を必要とするこ
となどから、比較的高度な技能を必要とし、めっき処理
工程のなかでも比較的熟練性が要求される作業となって
いる。
【０００４】しかるに、最近の労働力事情から熟練作業
者の確保が困難になりつつあるのはめっき処理業界も例
外でなく、洗浄作業のような熟練性を要求する作業を必
要としなくする方向での改良が強く望まれて来ている。
者の確保が困難になりつつあるのはめっき処理業界も例
外でなく、洗浄作業のような熟練性を要求する作業を必
要としなくする方向での改良が強く望まれて来ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、めっき処理、特に加熱により所定の温度設定とした
めっき液をめっき槽に満たし、このめっき槽内において
めっき対象物をめっき液に接触させてめっきを施すよう
なめっき処理について、熟練性を要する洗浄作業を行な
わないで済ませることができるようにすることにある。
は、めっき処理、特に加熱により所定の温度設定とした
めっき液をめっき槽に満たし、このめっき槽内において
めっき対象物をめっき液に接触させてめっきを施すよう
なめっき処理について、熟練性を要する洗浄作業を行な
わないで済ませることができるようにすることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的のため
に、本発明では、使い捨て可能に形成しためっき液容器
をめっき槽として用い、このめっき液容器を加熱用液体
を満たしたホットバス内に漬けてめっき液を加熱しなが
らめっき処理を行なうようにしている。
に、本発明では、使い捨て可能に形成しためっき液容器
をめっき槽として用い、このめっき液容器を加熱用液体
を満たしたホットバス内に漬けてめっき液を加熱しなが
らめっき処理を行なうようにしている。
【０００７】この方法によると、めっき液容器をホット
バスによる間接加熱で加熱するようにしているので、め
っき金属が析出して来る要素はめっき液容器だけとな
る。そしてこのめっき液容器を使い捨てとするようにし
ているので、めっき処理装置のメンテナンスとしての析
出金属の洗浄作業を完全に不要化することができる。
バスによる間接加熱で加熱するようにしているので、め
っき金属が析出して来る要素はめっき液容器だけとな
る。そしてこのめっき液容器を使い捨てとするようにし
ているので、めっき処理装置のメンテナンスとしての析
出金属の洗浄作業を完全に不要化することができる。
【０００８】このような方法については、めっき液の製
造過程からめっき処理過程にめっき液を供給する、つま
り例えばめっき液製造業者からめっき処理業者にめっき
液を納品するについて用いるめっき液供給用容器をめっ
き槽用のめっき液容器に用いるようにすると、従来でも
使い捨てであった供給用容器をそのまま使い捨てのめっ
き槽とすることができ、同じく使い捨てでも資源的な無
駄を少なくすることができる。まためっき液容器、つま
りめっき液供給用容器をめっき液製造業者が回収してま
とめて洗浄処理した後に再使用するようにすることで、
熟練を要するめっき処理装置の洗浄作業は実質的に不要
としてなお且つ資源的な無駄をなくすこともできる。
造過程からめっき処理過程にめっき液を供給する、つま
り例えばめっき液製造業者からめっき処理業者にめっき
液を納品するについて用いるめっき液供給用容器をめっ
き槽用のめっき液容器に用いるようにすると、従来でも
使い捨てであった供給用容器をそのまま使い捨てのめっ
き槽とすることができ、同じく使い捨てでも資源的な無
駄を少なくすることができる。まためっき液容器、つま
りめっき液供給用容器をめっき液製造業者が回収してま
とめて洗浄処理した後に再使用するようにすることで、
熟練を要するめっき処理装置の洗浄作業は実質的に不要
としてなお且つ資源的な無駄をなくすこともできる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。第
１の実施例は、図１に示すようなシステム構成を用いて
いる。即ち、加熱用の液体Ｌを満たしたホットバス１内
にめっき液製造業者からめっき液を納品するについて用
いためっき液供給用容器２をそのままめっき液容器３と
して漬け、このめっき液容器３内のめっき液Ｍにラック
４に保持させた図示せぬめっき対象物を接触させるよう
にしている。またラック４には回転力伝達部４ｓを設
け、この回転力伝達部４ｓを介して図外の駆動系から回
転力を伝えてラック４を回転させることでめっき液Ｍと
めっき対象物との相対動を与えるようにしている。
１の実施例は、図１に示すようなシステム構成を用いて
いる。即ち、加熱用の液体Ｌを満たしたホットバス１内
にめっき液製造業者からめっき液を納品するについて用
いためっき液供給用容器２をそのままめっき液容器３と
して漬け、このめっき液容器３内のめっき液Ｍにラック
４に保持させた図示せぬめっき対象物を接触させるよう
にしている。またラック４には回転力伝達部４ｓを設
け、この回転力伝達部４ｓを介して図外の駆動系から回
転力を伝えてラック４を回転させることでめっき液Ｍと
めっき対象物との相対動を与えるようにしている。
【００１０】めっき液供給用容器２は、金属をベースに
して内部にフッ素系の樹脂をコーティングした容器本体
５と密封用の蓋６よりなっており、めっき液容器３とし
て用いる場合にはその蓋６を外した状態で用いる。
して内部にフッ素系の樹脂をコーティングした容器本体
５と密封用の蓋６よりなっており、めっき液容器３とし
て用いる場合にはその蓋６を外した状態で用いる。
【００１１】第２の実施例は、図２に示す構成のシステ
ムを用いており、基本的には第１実施例と同じである
が、めっき液とめっき対象物との相対動の与え方におい
て異なっている。即ち、ホットバス１の外部に設けた磁
気源７によりめっき液容器３内の金属棒８を回転させる
マグネットスターラーによりめっき液Ｍの攪拌を行なう
ようにしている。従ってこの場合にはめっき対象物を回
転させる必要がないので、単に吊り下げておくだけで足
りる構造のラック９を用いることになる。
ムを用いており、基本的には第１実施例と同じである
が、めっき液とめっき対象物との相対動の与え方におい
て異なっている。即ち、ホットバス１の外部に設けた磁
気源７によりめっき液容器３内の金属棒８を回転させる
マグネットスターラーによりめっき液Ｍの攪拌を行なう
ようにしている。従ってこの場合にはめっき対象物を回
転させる必要がないので、単に吊り下げておくだけで足
りる構造のラック９を用いることになる。
【００１２】以上のようなシステムによるめっき処理に
用いるラックの一具体例は、図３及び図４に示すような
構造となる。このラック１０は、ウエーハ１１を２枚一
組で処理できるようにしたもので、それぞれ内側面に２
本の保持溝１２、１２を有する一対の半円環状の枠部材
１３、１３を互いの一端で回動可能に接続してウエーハ
１１の外周に相似な円環状に形成した枠体１４に回転力
伝達部１５を接続してなっている。また各枠部材１３、
１３の保持溝１２、１２の内側壁には図５に示すように
カソード用の電極端子１６の先端部が弾性的に出没可能
となるようにして僅かに突出させられている。
用いるラックの一具体例は、図３及び図４に示すような
構造となる。このラック１０は、ウエーハ１１を２枚一
組で処理できるようにしたもので、それぞれ内側面に２
本の保持溝１２、１２を有する一対の半円環状の枠部材
１３、１３を互いの一端で回動可能に接続してウエーハ
１１の外周に相似な円環状に形成した枠体１４に回転力
伝達部１５を接続してなっている。また各枠部材１３、
１３の保持溝１２、１２の内側壁には図５に示すように
カソード用の電極端子１６の先端部が弾性的に出没可能
となるようにして僅かに突出させられている。
【００１３】ウエーハ１１をこれに保持させるには、先
ず両枠部材１３、１３を図中に想像線で示す状態に回動
させて開いた状態とし、そこで両枠部材１３、１３の間
にウエーハ１１、１１を互いにめっき対象面が外側にな
る背中合わせにして挟んでから両枠部材１３、１３を閉
じる。この際に、ウエーハ１１の周縁部は電極端子１６
の先端部を保持溝１２の内側壁内に押し込むようにして
擦り、この結果そこに施されているレジスト膜が電極端
子１６の先端部で削り取られ、電極端子１６とウエーハ
１１との導通状態が得られる。またこの状態で両ウエー
ハ１１、１１の裏側はめっき液に対し完全な密封状態に
なり、ラック１０をめっき液に漬けた場合に両ウエーハ
１１、１１の表側面、つまりめっき対象面だけを選択的
にめっき液に接触させることができる。
ず両枠部材１３、１３を図中に想像線で示す状態に回動
させて開いた状態とし、そこで両枠部材１３、１３の間
にウエーハ１１、１１を互いにめっき対象面が外側にな
る背中合わせにして挟んでから両枠部材１３、１３を閉
じる。この際に、ウエーハ１１の周縁部は電極端子１６
の先端部を保持溝１２の内側壁内に押し込むようにして
擦り、この結果そこに施されているレジスト膜が電極端
子１６の先端部で削り取られ、電極端子１６とウエーハ
１１との導通状態が得られる。またこの状態で両ウエー
ハ１１、１１の裏側はめっき液に対し完全な密封状態に
なり、ラック１０をめっき液に漬けた場合に両ウエーハ
１１、１１の表側面、つまりめっき対象面だけを選択的
にめっき液に接触させることができる。
【００１４】このラック１０は、ウエーハを２枚一組で
扱うことができるので、ウエーハ１枚当たりのめっき液
の使用量を大幅に節減でき、また処理能力当たりの装置
サイズを小さくできるという優れた利点を持っている。
従って、このラック１０を、めっき液供給用容器やめっ
き液容器を用いてめっき槽の使い捨て化を図る方法と組
み合わせることにより、熟練性を要する洗浄作業の不要
化と共にめっき液の使用量の節減やシステム装置全体の
小型化を図ることができる。
扱うことができるので、ウエーハ１枚当たりのめっき液
の使用量を大幅に節減でき、また処理能力当たりの装置
サイズを小さくできるという優れた利点を持っている。
従って、このラック１０を、めっき液供給用容器やめっ
き液容器を用いてめっき槽の使い捨て化を図る方法と組
み合わせることにより、熟練性を要する洗浄作業の不要
化と共にめっき液の使用量の節減やシステム装置全体の
小型化を図ることができる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したごとく本発明によると、め
っき処理におけるメンテナンスとして析出金属の洗浄作
業を完全に不要とすることができ、めっき作業について
の熟練作業者不足の時代への対応を可能とする。
っき処理におけるメンテナンスとして析出金属の洗浄作
業を完全に不要とすることができ、めっき作業について
の熟練作業者不足の時代への対応を可能とする。
【図１】第１実施例におけるめっきシステムの構成図。
【図２】第２実施例におけるめっきシステムの構成図。
【図３】本発明の方法に用いることのできるめっき対象
物保持用のラックの側面図。
物保持用のラックの側面図。
【図４】図３中のＳＡ4 ─ＳＡ4 線に沿う断面図。
【図５】枠部材の保持溝への電極端子の組込み状態を示
す断面図。
す断面図。
【図６】従来の代表的なめっきシステムの構成図。
１ ホットバス ２ めっき液供給用容器 ３ めっき液容器 １１ ウエーハ（めっき対象物） Ｌ 加熱用液体 Ｍ めっき液
Claims (2)
- 【請求項１】 加熱により所定の温度設定としためっき
液をめっき槽に満たし、このめっき槽内においてめっき
対象物をめっき液に接触させてめっきを施すようにした
めっき方法において、使い捨て可能に形成しためっき液
容器をめっき槽として用い、このめっき液容器を加熱用
液体を満たしたホットバス内に漬けてめっき液を加熱し
ながらめっき処理を行なうようにしたことを特徴とする
めっき方法。 - 【請求項２】 めっき液の製造過程からめっき処理過程
にめっき液を供給するについて用いるめっき液供給用容
器をめっき槽用のめっき液容器として用いるようにした
請求項１記載のめっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03614594A JP3302484B2 (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03614594A JP3302484B2 (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | めっき方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07243099A JPH07243099A (ja) | 1995-09-19 |
| JP3302484B2 true JP3302484B2 (ja) | 2002-07-15 |
Family
ID=12461633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03614594A Expired - Lifetime JP3302484B2 (ja) | 1994-03-07 | 1994-03-07 | めっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3302484B2 (ja) |
-
1994
- 1994-03-07 JP JP03614594A patent/JP3302484B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07243099A (ja) | 1995-09-19 |
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