JP3294985B2 - 表面の曲率測定装置 - Google Patents
表面の曲率測定装置Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/255—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures for measuring radius of curvature
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも部分的
に反射性をもつ表面の曲率半径を測定する装置に関す
る。より詳しくは（これ以外を排除するものではな
い）、製造された製品または製造途中の製品の表面曲率
半径が仕様要求内にあるかどうかの簡単かつ正確な“記
述”（ｓｔａｔｅｍｅｎｔ）を、それが仕様要求の曲率
半径からどれほどずれているかの指示と共に提示する装
置に関する。
に反射性をもつ表面の曲率半径を測定する装置に関す
る。より詳しくは（これ以外を排除するものではな
い）、製造された製品または製造途中の製品の表面曲率
半径が仕様要求内にあるかどうかの簡単かつ正確な“記
述”（ｓｔａｔｅｍｅｎｔ）を、それが仕様要求の曲率
半径からどれほどずれているかの指示と共に提示する装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】表面曲率半径測定を行う装置は既知であ
り、このことに関し、英国特許２２６５２１Ｂが背景情
報として注目される。
り、このことに関し、英国特許２２６５２１Ｂが背景情
報として注目される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、少な
くとも部分的に反射性をもつ表面の表面曲率半径を効率
よく測定する装置を提供することである。
くとも部分的に反射性をもつ表面の表面曲率半径を効率
よく測定する装置を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に従えば、少なく
とも部分的に反射性のある表面の曲率半径を測定装置に
して、互いに平行にして所定の距離離れた電磁放射の少
なくとも第１ビームと第２ビームとを生じさせる電磁放
射源と、該ビームを集束させる第１レンズ手段と、第１
レンズ手段と前記表面との間に位置されたビームスプリ
ッタと、ビームスプリッタと前記表面との間に位置され
た第２レンズ手段と、前記表面から反射された少なくと
も第１ビームと第２ビームとを、第２レンズ手段とビー
ムスプリッタとを介して受容するように配置された電磁
放射検出手段と、および前記測定値を検出器上における
反射ビームの位置に依存して計算するプロセス手段とを
有し、さらに、ビーム分離装置が第２レンズ手段と前記
表面との間に位置され、ビームの分離を増加または減少
させるように構成されている装置が提供される。
とも部分的に反射性のある表面の曲率半径を測定装置に
して、互いに平行にして所定の距離離れた電磁放射の少
なくとも第１ビームと第２ビームとを生じさせる電磁放
射源と、該ビームを集束させる第１レンズ手段と、第１
レンズ手段と前記表面との間に位置されたビームスプリ
ッタと、ビームスプリッタと前記表面との間に位置され
た第２レンズ手段と、前記表面から反射された少なくと
も第１ビームと第２ビームとを、第２レンズ手段とビー
ムスプリッタとを介して受容するように配置された電磁
放射検出手段と、および前記測定値を検出器上における
反射ビームの位置に依存して計算するプロセス手段とを
有し、さらに、ビーム分離装置が第２レンズ手段と前記
表面との間に位置され、ビームの分離を増加または減少
させるように構成されている装置が提供される。
【０００５】
【実施例】以下、本発明を理解するための参考例及び本
発明の実施例を付図を参照して説明する。図１の参考例
において、図示の装置は人手保持式であるが、例えば旋
盤台またはロボット腕に固定されてもよいことは理解さ
れよう。図１において、人手保持式装置は、レーザ形態
の第１と第２の電磁放射源２と４とを有する。レーザ
は、人−機械入力インタフェイス１０を持つ制御器、プ
ロセッサ回路により制御されるレーザ駆動器６により駆
動される。レーザ２、４はそれぞれ電磁放射ビームを発
生し、該ビームは集束レンズ１２とビームスプリッタ１
４とを通過する。ビームは互いに平行であり、所定の距
離離されている。ビームは、ビームスプリッタを通り、
ビームを測定すべき表面１８へと向かわせる変換レンズ
１６へ導かれる。曲率半径を測定する必要のある表面は
レンズであってよいが、反射性または部分的反射性のあ
る表面であれば良い。表面はビーム１、２を変換レンズ
に向け逆に反射させ、ビームはさらにビームスプリッタ
へ導かれ、検出器２０の表面へ向けられる。これらビー
ムはＸ１、Ｘ２とする。検出器プロセッサ２２は表面の
曲率半径を、反射されたビームＸ１、Ｘ２の検出器表面
上の位置と、２本のビームの間の表面１８上の距離とに
基づいて計算するように構成されている。検出器プロセ
ッサ２２は、制御器、プロセッサ回路８により制御され
る。
発明の実施例を付図を参照して説明する。図１の参考例
において、図示の装置は人手保持式であるが、例えば旋
盤台またはロボット腕に固定されてもよいことは理解さ
れよう。図１において、人手保持式装置は、レーザ形態
の第１と第２の電磁放射源２と４とを有する。レーザ
は、人−機械入力インタフェイス１０を持つ制御器、プ
ロセッサ回路により制御されるレーザ駆動器６により駆
動される。レーザ２、４はそれぞれ電磁放射ビームを発
生し、該ビームは集束レンズ１２とビームスプリッタ１
４とを通過する。ビームは互いに平行であり、所定の距
離離されている。ビームは、ビームスプリッタを通り、
ビームを測定すべき表面１８へと向かわせる変換レンズ
１６へ導かれる。曲率半径を測定する必要のある表面は
レンズであってよいが、反射性または部分的反射性のあ
る表面であれば良い。表面はビーム１、２を変換レンズ
に向け逆に反射させ、ビームはさらにビームスプリッタ
へ導かれ、検出器２０の表面へ向けられる。これらビー
ムはＸ１、Ｘ２とする。検出器プロセッサ２２は表面の
曲率半径を、反射されたビームＸ１、Ｘ２の検出器表面
上の位置と、２本のビームの間の表面１８上の距離とに
基づいて計算するように構成されている。検出器プロセ
ッサ２２は、制御器、プロセッサ回路８により制御され
る。
【０００６】レーザは、可視範囲の波長を放射するダイ
オードレーザであり、従って、操作者に対し実際の測定
が何処で行われているかの表示を提供する。レーザは、
図１に示すような種々のレンズおよびプリズムを用い
て、測定すべき表面へと向けられるコリメートされたビ
ームを放射する。ビームは互いに平行であり、所定の距
離離されている。
オードレーザであり、従って、操作者に対し実際の測定
が何処で行われているかの表示を提供する。レーザは、
図１に示すような種々のレンズおよびプリズムを用い
て、測定すべき表面へと向けられるコリメートされたビ
ームを放射する。ビームは互いに平行であり、所定の距
離離されている。
【０００７】使用される測定方法は非接触式であり、接
触機器である球面計を用いた方法に比較し、より正確で
あり得る。本実施例においては図１に示すように、２本
の平行ビーム１、２が所定の距離で間をおいて表面上に
入射している。ビーム戻りが検出器２０に入射されたと
き、その位置が検出器プロセッサ２２内の記憶装置に記
憶され、曲率半径を計算するために使用される。
触機器である球面計を用いた方法に比較し、より正確で
あり得る。本実施例においては図１に示すように、２本
の平行ビーム１、２が所定の距離で間をおいて表面上に
入射している。ビーム戻りが検出器２０に入射されたと
き、その位置が検出器プロセッサ２２内の記憶装置に記
憶され、曲率半径を計算するために使用される。
【０００８】図２に示す図式と、関連方程式（後述す
る）とが、２個の測定された角度と、ビーム間の距離
と、表面１８の求められる曲率半径との間に簡単な関係
が存在することを示している。２本の入力ビームからの
戻りをそれぞれ区別するためには、検出器２０内に位置
検知ダイオードを使用して、戻りが明確に同定され得る
だけ各ビームを別々に励起する必要がある。これを達成
する他の方法は、それぞれ偏光を用い、各偏光に対する
個別の検出器とを使用することである。ビームの間が広
い場合、本方法は球面に対してだけ正確であることに注
意すべきである。しかし、充分高いサンプリング頻度を
与えるようにビームが互いに近接している場合には、本
方法はどんな円滑な表面形状に対しても機能する。
る）とが、２個の測定された角度と、ビーム間の距離
と、表面１８の求められる曲率半径との間に簡単な関係
が存在することを示している。２本の入力ビームからの
戻りをそれぞれ区別するためには、検出器２０内に位置
検知ダイオードを使用して、戻りが明確に同定され得る
だけ各ビームを別々に励起する必要がある。これを達成
する他の方法は、それぞれ偏光を用い、各偏光に対する
個別の検出器とを使用することである。ビームの間が広
い場合、本方法は球面に対してだけ正確であることに注
意すべきである。しかし、充分高いサンプリング頻度を
与えるようにビームが互いに近接している場合には、本
方法はどんな円滑な表面形状に対しても機能する。
【０００９】図３に図１の装置を修正した多ビームの変
形態様が示されている。図３において、類似の要素は、
図１におけると同じ符号が付されており、その作用は同
じである。図１と図２との間の相違は、図１におけるレ
ーザ形態の電磁放射源２、４が、レーザとレーザ駆動器
２６により駆動される不連続ビーム発生器２４に置き換
えられていることである。不連続ビーム発生器は、全て
平行でありビーム間の距離がＸである複数個のビーム、
ビーム１〜ビームＮ、を発生させる。ビームは集束レン
ズ１２を通過し、次いで、図１に関連して説明したのと
全く同じ方法で処理される。
形態様が示されている。図３において、類似の要素は、
図１におけると同じ符号が付されており、その作用は同
じである。図１と図２との間の相違は、図１におけるレ
ーザ形態の電磁放射源２、４が、レーザとレーザ駆動器
２６により駆動される不連続ビーム発生器２４に置き換
えられていることである。不連続ビーム発生器は、全て
平行でありビーム間の距離がＸである複数個のビーム、
ビーム１〜ビームＮ、を発生させる。ビームは集束レン
ズ１２を通過し、次いで、図１に関連して説明したのと
全く同じ方法で処理される。
【００１０】この場合探査ビームは、例えば走査鏡／プ
リズムと適切な光学装置、または、図３の不連続ビーム
発生器２４内に置かれたＬＣＤ光シャッタを設けること
により表面を横断走査され、かくて、表面の形状を算定
するに必要な連続的または、可変のサンプル間隔を提供
している。
リズムと適切な光学装置、または、図３の不連続ビーム
発生器２４内に置かれたＬＣＤ光シャッタを設けること
により表面を横断走査され、かくて、表面の形状を算定
するに必要な連続的または、可変のサンプル間隔を提供
している。
【００１１】図４は、本発明の実施例を示すものであ
り、測定すべき表面１８と変換レンズ１６との間に位置
された追加の装置（すなわち、ビーム分離装置）２８を
有する図１に類似の装置のブロック図である。同一要素
は図１におけると同じ符号を付されており、その作用も
同じである。ビーム分離装置２８は、例えば付加光学装
置を変換レンズ１６に取り付けることにより、ビームの
間の距離を増大または減少させることが出来る。ビーム
分離装置２８は、種々の大きさのレンズの種々の曲率半
径を正確に決定することを可能にしている。
り、測定すべき表面１８と変換レンズ１６との間に位置
された追加の装置（すなわち、ビーム分離装置）２８を
有する図１に類似の装置のブロック図である。同一要素
は図１におけると同じ符号を付されており、その作用も
同じである。ビーム分離装置２８は、例えば付加光学装
置を変換レンズ１６に取り付けることにより、ビームの
間の距離を増大または減少させることが出来る。ビーム
分離装置２８は、種々の大きさのレンズの種々の曲率半
径を正確に決定することを可能にしている。
【００１２】表面が機械加工される際、ユニットからの
出力が切削工具を制御し得るように、測定を実時間で実
施することが可能であり、従って、必要に応じて機械加
工を修正し、また、必要な曲率半径または形状が達成さ
れたときに機械を停止させる自動システムを提供するこ
とが出来る。図示のユニットは人手保持設計に対し特に
適しているが、測定に際しユニットを、例えば旋盤台に
固定したり、一時的に試験される表面近傍に固定するこ
とも可能である。
出力が切削工具を制御し得るように、測定を実時間で実
施することが可能であり、従って、必要に応じて機械加
工を修正し、また、必要な曲率半径または形状が達成さ
れたときに機械を停止させる自動システムを提供するこ
とが出来る。図示のユニットは人手保持設計に対し特に
適しているが、測定に際しユニットを、例えば旋盤台に
固定したり、一時的に試験される表面近傍に固定するこ
とも可能である。
【００１３】次の数学方程式のセットは、曲率半径ｒ
が、所定距離ｘ離れた２本の平行ビームに対して如何に
して決定され得るかを示している。
が、所定距離ｘ離れた２本の平行ビームに対して如何に
して決定され得るかを示している。
【数１】
【数２】
【数３】
【数４】
【数５】
【数６】
【数７】
【数８】
【数９】
【数１０】
【数１１】
【数１２】
【数１３】
【数１４】
【数１５】
【数１６】
【数１７】
【数１８】 ここで、 ｒ＝要求された曲率半径 ｙ＝上方半径法線（ｎｏｒｍａｌ）からの垂直線と下方
半径との交点から下方半径法線までの距離 ｘ＝ビーム間距離 ∂ｘ＝ｘと下方半径法線との交点との間の余剰距離、 θ＝表面法線の上方測定角 φ＝表面法線の下方測定角 さらに、平坦表面からの表面高さを次式から導き出すこ
とも可能である。 Δｈ＝ｙｃｏｓφ ｙ＝ｒ−ｒｃｏｓθ／ｃｏｓφ ｒ＝ｘ／（ｓｉｎθ−ｓｉｎφ） 故に Δｈ＝〔ｘｃｏｓφ／（ｓｉｎθ−ｓｉｎφ）〕（１−
ｃｏｓθ／ｃｏｓφ） ここで、 Δｈ＝入射ビームの衝突点の間の高さ 各レーザに対し多様な波長を使用することにより、波長
フィルタを用いて各レーザを分離させ、また、各波長に
対して線型検出器を使用することが可能になる。この技
術を使用することにより、戻りビーム間の分解能を維持
しつつ、ビームを互いに非常に近接させる（ｘが小さ
い）ことが出来る。このことは、機械的に走査される測
定ユニットに有利であり、曲率半径の分解能が改良され
る。
半径との交点から下方半径法線までの距離 ｘ＝ビーム間距離 ∂ｘ＝ｘと下方半径法線との交点との間の余剰距離、 θ＝表面法線の上方測定角 φ＝表面法線の下方測定角 さらに、平坦表面からの表面高さを次式から導き出すこ
とも可能である。 Δｈ＝ｙｃｏｓφ ｙ＝ｒ−ｒｃｏｓθ／ｃｏｓφ ｒ＝ｘ／（ｓｉｎθ−ｓｉｎφ） 故に Δｈ＝〔ｘｃｏｓφ／（ｓｉｎθ−ｓｉｎφ）〕（１−
ｃｏｓθ／ｃｏｓφ） ここで、 Δｈ＝入射ビームの衝突点の間の高さ 各レーザに対し多様な波長を使用することにより、波長
フィルタを用いて各レーザを分離させ、また、各波長に
対して線型検出器を使用することが可能になる。この技
術を使用することにより、戻りビーム間の分解能を維持
しつつ、ビームを互いに非常に近接させる（ｘが小さ
い）ことが出来る。このことは、機械的に走査される測
定ユニットに有利であり、曲率半径の分解能が改良され
る。
【００１４】上述したビームスプリッタは、例えば部分
反射性の鏡のようなビーム分離を生じさせる如何なる手
段をも包含し得ることは当業者には理解されよう。
反射性の鏡のようなビーム分離を生じさせる如何なる手
段をも包含し得ることは当業者には理解されよう。
【図１】部分的に反射性の表面の曲率半径を測定する装
置のブロック図。
置のブロック図。
【図２】測定される角度と、ビーム１、ビーム２間の距
離との間の関係を示す。
離との間の関係を示す。
【図３】図１の装置の多ビーム変形のブロック図。
【図４】ビーム分離装置を含む図１の装置を示す。
２、４ 電磁放射源、レーザ ６ レーザ駆動器 ８ 制御器、プロセッサ回路 １０ 人−機械入力インタフェイス １２ 集束レンズ １４ ビームスプリッタ １６ 変換レンズ １８ 表面 ２０ 検出器 ２２ 検出器プロセッサ ２４ ビーム発生器 ２６ レーザ駆動器 ２８ 付加装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 11/255 G01B 21/20 G01M 11/00
Claims (8)
- 【請求項１】 少なくとも部分的に反射性のある表面の
曲率半径を測定装置にして、互いに平行にして所定の距
離離れた電磁放射の少なくとも第１ビームと第２ビーム
とを生じさせる電磁放射源と、該ビームを集束させる第
１レンズ手段と、第１レンズ手段と前記表面との間に位
置されたビームスプリッタと、ビームスプリッタと前記
表面との間に位置された第２レンズ手段と、前記表面か
ら反射された少なくとも第１ビームと第２ビームとを、
第２レンズ手段とビームスプリッタとを介して受容する
ように配置された電磁放射検出手段と、および前記測定
値を検出器上における反射ビームの位置に依存して計算
するプロセス手段とを有する装置において、 ビーム分離装置が第２レンズ手段と前記表面との間に位
置され、ビームの分離を増加または減少させるように構
成されている ことを特徴とする装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の装置において、検出器
と電磁放射源とを制御するため制御手段が設けられてい
る装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載の装置において、前記電
源が第１レーザと第２レーザとを有し、前記制御手段が
各レーザのレーザ駆動器を制御している装置。 - 【請求項４】 請求項１に記載の装置において、ビーム
生成手段が第１レンズ手段を通る複数個のビームを生成
している装置。 - 【請求項５】 請求項４に記載の装置において、ビーム
が単一のレーザ源から生成されている装置。 - 【請求項６】 請求項４に記載の装置において、ビーム
が複数個のレーザ源から生成されている装置。 - 【請求項７】 請求項１から６のいずれか１項に記載の
装置において、測定されるべき前記表面がレンズである
装置。 - 【請求項８】 請求項１から７のいずれか１項に記載の
装置において、該装置が人手保持されている装置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB9502710.8A GB9502710D0 (en) | 1995-02-11 | 1995-02-11 | Improvements in or relating to surface curvature measurement |
| GB95248837 | 1995-12-05 | ||
| GB9524883A GB2297836B (en) | 1995-02-11 | 1995-12-05 | Improvements in or relating to surface curvature measurement |
| GB95027108 | 1995-12-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08247741A JPH08247741A (ja) | 1996-09-27 |
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Family
ID=26306488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02395396A Expired - Fee Related JP3294985B2 (ja) | 1995-02-11 | 1996-02-09 | 表面の曲率測定装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5633718A (ja) |
| EP (1) | EP0726446B1 (ja) |
| JP (1) | JP3294985B2 (ja) |
| AT (1) | ATE222349T1 (ja) |
| AU (1) | AU4225796A (ja) |
| DE (1) | DE69622896T2 (ja) |
| ES (1) | ES2181814T3 (ja) |
Families Citing this family (14)
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|---|---|---|---|---|
| DE19851176B4 (de) * | 1998-11-06 | 2010-10-14 | Carl Zeiss Meditec Ag | Anordnung zur Bestimmung von Krümmungsradien |
| US6075604A (en) * | 1998-11-10 | 2000-06-13 | International Business Machines Corporation | Apparatus for measuring curvature of magnetic read/write head sliders |
| US6538817B1 (en) * | 1999-10-25 | 2003-03-25 | Aculight Corporation | Method and apparatus for optical coherence tomography with a multispectral laser source |
| KR100556612B1 (ko) * | 2002-06-29 | 2006-03-06 | 삼성전자주식회사 | 레이저를 이용한 위치 측정 장치 및 방법 |
| DE20306904U1 (de) * | 2003-05-02 | 2003-09-04 | Univ Magdeburg Tech | Vorrichtung zur Messung der Schichtdicke und der Krümmung von mindestens teilweise reflektierenden Oberflächen von Schichten |
| DE60331151D1 (de) * | 2003-10-27 | 2010-03-18 | Bea Sa | Entfernungsmessgerät |
| US7570368B2 (en) * | 2004-05-12 | 2009-08-04 | Veeco Instruments Inc. | Method and apparatus for measuring the curvature of reflective surfaces |
| FR2879736B1 (fr) * | 2004-12-20 | 2007-02-02 | Essilor Int | Procede et dispositif de mesure sans contact de la courbure d'un objet ophtalmique |
| JP5611168B2 (ja) * | 2011-10-24 | 2014-10-22 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバの曲率の測定方法 |
| JP6430307B2 (ja) * | 2014-03-27 | 2018-11-28 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 曲率測定装置及び曲率測定方法 |
| TWI506242B (zh) * | 2014-12-12 | 2015-11-01 | Ind Tech Res Inst | 薄膜曲率量測裝置及其方法 |
| TWI624643B (zh) * | 2016-08-19 | 2018-05-21 | 財團法人工業技術研究院 | 一種薄膜曲率量測裝置及其方法 |
| US20180059219A1 (en) * | 2016-08-31 | 2018-03-01 | Qualcomm Incorporated | Multi-beam position sensing devices |
| CN110709204B (zh) | 2017-03-29 | 2022-02-01 | 新泽西鲁特格斯州立大学 | 小样品曲率半径和热膨胀实时测量系统和方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4735508A (en) * | 1986-06-02 | 1988-04-05 | Honeywell Inc. | Method and apparatus for measuring a curvature of a reflective surface |
| US5067817A (en) * | 1990-02-08 | 1991-11-26 | Bauer Associates, Inc. | Method and device for noncontacting self-referencing measurement of surface curvature and profile |
| GB9205655D0 (en) | 1992-03-14 | 1992-04-29 | Roke Manor Research | Improvements in or relating to surface curvature measurement |
-
1996
- 1996-01-26 DE DE69622896T patent/DE69622896T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-01-26 ES ES96101238T patent/ES2181814T3/es not_active Expired - Lifetime
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