JP3284182B2 - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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Description
ビデュアル)機器やOA(オフィスオートメーション)
機器等に使用できる液晶表示装置およびその製造方法に
関する。
ート型パソコン等のディスプレイに用いられるカラー液
晶表示装置には、絶縁性基板上に着色層を平面的に分離
配置して形成したカラーフィルタが使用されている。
図13に示す構成のものが知られている。図13に示す
カラー液晶表示装置は、対向基板21と駆動用基板23
の間に液晶24を封入し、封止材25で封止することに
より構成される。対向基板21は、ガラス基板20上に
三原色(R、G、B)の着色層26をそれぞれ形成する
とともに、各着色層間に洩れ光によるコントラストや色
純度の低下を防止する役割を果たすブラックマトリクス
27を設け、これをトップコート材28で平滑化し、そ
の上面に透明電極29を設けたものである。一方、駆動
用基板23は、ガラス基板20上に駆動用透明電極22
を形成したものである。
は、駆動用基板23と対向基板21の貼り合わせを行っ
た後に検査を行って、例えば駆動用基板23の不良が判
明すれば、そのカラー液晶表示装置が不良となり使い物
にならない。従って、駆動用基板23の状態で検査を行
い不良によっては修正を行いこれを良品とすることが考
えられている。
駆動用基板における画像表示領域の外部に信号入力用の
検査パッドを設けている。信号線に信号を入力し、この
検査パッドにプローブを置いて信号を検出することによ
り信号線の断線及び短絡不良の検査を行っている。
7−318980号公報で示されている方法では、全て
の信号線に対応した検査パッドにプローブを配置する手
間が煩雑であるとともに細かいピッチの信号線において
は検査パッドにプローブを配置するのが困難である。さ
らには、プローブを検査パッドに短絡させた際に静電気
が発生し、画像表示領域のアクティブ素子がダメージを
受けやすい。
されたものであり、プローブを置く必要が無く簡単に駆
動用基板の検査が行える液晶表示装置およびその製造方
法を提供するものである。
基板上にアクティブ素子と、ゲートバス配線と、ソース
バス配線と、補助容量配線と、前記アクティブ素子に導
通された電極とを有し、前記電極がマトリクス状に配列
されて画像表示領域を構成する液晶表示装置において、
前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記
検査用電極は、ゲートバス配線、ソースバス配線それぞ
れの配線端部に形成されており、絶縁性基板上における
ゲートバス配線、ソースバス配線において検査用電極が
形成されている側と反対側にドライバが形成されている
ことを特徴とし、それによって上記目的が達成される。
クティブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線
と、補助容量配線と、前記アクティブ素子に導通された
電極とを有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画
像表示領域を構成する液晶表示装置において、前記画像
表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記検査用電
極の一部は、透明導電膜によって形成されることを特徴
とする。
領域にも形成されることが好ましい。
層を有することが好ましい。
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
前記欠陥検査を行う工程は、絶縁性基板上に形成された
ドライバを動作させることにより行われることを特徴と
し、それによって上記目的が達成される。
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
画像表示領域外に着色する検査用電極によって前記配線
または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程は、ソ
ースバス配線に電圧を印加し他の配線に接続された検査
用電極を観察することによって行われることを特徴と
し、それによって上記目的が達成される。
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
前記電極上部に電極を利用して形成した着色層を形成す
る工程を有することを特徴とし、それによって上記目的
が達成される。
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置において、前記画像表示領域
外に着色する検査用電極を設け、前記検査用電極は、ゲ
ートバス配線、ソースバス配線それぞれの配線端部に形
成されており、絶縁性基板上におけるゲートバス配線、
ソースバス配線において検査用電極が形成されている側
と反対側にドライバが形成されていることを特徴として
いるので、プローブを使用することなく検査用電極の着
色によって目視によっても液晶表示装置の検査が可能と
なる。
スバス配線、それぞれの配線端部に形成されているの
で、それぞれの配線の断線及びそれぞれの配線同士の短
絡を検査することが出来る。
ースバス配線において検査用電極が形成されている側と
反対側にドライバが形成されているので、このドライバ
を動作させて基板の検査を行うことが出来、さらにこの
ドライバの検査も同時に行うことが出来る。
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置において、前記画像表示領域
外に着色する検査用電極を設け、前記検査用電極の一部
は、透明導電膜によって形成されるので、検査用電極の
色の変化が認識しやすくなる。
領域にも形成されるので、検査用電極の色の変化がさら
に認識しやすくなる。
層を有するので、この着色層は画素電極に対応している
ため、対向基板側に形成した場合のように開口率の低下
は起こらない。また、電極上に着色層を形成する際に検
査用電極への着色層の付加を検査することによって信号
線の検査を同時に行うことが出来る。
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
前記欠陥検査を行う工程は、絶縁性基板上に形成された
ドライバを動作させることにより行われるので、プロー
ブを使用することなく検査用電極の着色によって目視に
よっても液晶表示装置の検査が可能となるとともに、欠
陥検査用の信号入力を必要とせずに欠陥検査を行うこと
が出来る。さらには、このドライバの検査を同時に行う
ことが出来る。
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
画像表示領域外に着色する検査用電極によって前記配線
または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程は、ソ
ースバス配線に電圧を印加し他の配線に接続された検査
用電極を観察することによって行われるので、プローブ
を使用することなく検査用電極の着色によって目視によ
っても液晶表示装置の検査が可能となるとともに、ソー
スバス配線の断線検査並びにソースバス配線とこれに交
差しているゲートバス配線及び補助容量配線との短絡検
査を容易に行うことが出来る。
ブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助
容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを
有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領
域を構成する液晶表示装置の製造方法において、前記画
像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記配線ま
たは前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有し、
前記電極上部に電極を利用して形成した着色層を形成す
る工程を有するので、プローブを使用することなく検査
用電極の着色によって目視によっても液晶表示装置の検
査が可能となるとともに、電極上に着色層を形成する際
に検査用電極への着色層の付加を検査することによって
信号線の検査を同時に行うことが出来る。
に説明する。
第1の実施形態を図1を用いて説明する。図1において
絶縁性基板1上にゲートバス配線15、ソースバス配線
16、補助容量配線30が配設されている。また、ゲー
トバス配線15とソースバス配線16の交点にはアクテ
ィブ素子3が形成されている。それぞれのアクティブ素
子3に対応して表示を行うための液晶駆動電極12が形
成され、この液晶駆動電極12がマトリクス状に形成さ
れて画像表示領域40を構成している。本実施形態にお
いては、それぞれの配線の端部に検査用電極35a、3
5b、35cが設けられており、それぞれの検査用電極
上には電圧が加わると変色する材料が配設されている。
この材料として例えば液晶フィルムを使用すればよい。
について説明する。
電極35bが設けられている側の他端側から検査用信号
を順次もしくは一斉に入力する。そして検査用電極35
bを観察するが、もしソースバス配線16に断線があれ
ば検査用電極35bに電圧が印加されず検査用電極35
bが変色しないので断線の有無がわかる。このような断
線はソースバス配線16に予備配線を形成しておけば断
線部において予備配線と接続することによって欠陥を救
済することも出来る。
ス配線16に交差しているゲートバス配線15及び補助
容量配線30との間で短絡欠陥があると検査用電極35
a及び35cが変色するので短絡欠陥も検査することが
出来る。このような短絡欠陥もレーザーを用いて短絡を
解除し欠陥を救済することが出来る。
加し、ゲートバス配線15に接続している検査用電極3
5aを観察し、ゲートバス配線15の断線の有無を検査
する。ここで、ゲートバス配線15と補助容量配線30
との短絡があれば補助容量配線30に接続している検査
用電極35cの変色の程度でこれらの配線同士のリーク
の程度がわかる。
って簡単に、バス配線の断線及び短絡欠陥の検査を行う
ことが出来る。
第2の実施形態を図2を用いて説明する。図2は絶縁性
基板1上にゲートドライバ41及びソースドライバ42
が同一基板上に形成されたものである。その他の構成は
図1と同様である。図2において絶縁性基板1上にゲー
トバス配線15、ソースバス配線16、補助容量配線3
0が配設されている。また、ゲートバス配線15とソー
スバス配線16の交点にはアクティブ素子3が形成され
ている。それぞれのアクティブ素子3に対応して表示を
行うための液晶駆動電極12が形成され、この液晶駆動
電極12がマトリクス状に形成されて画像表示領域40
を構成している。本実施形態においては、それぞれの配
線の端部に検査用電極35a、35b、35cが設けら
れており、それぞれの検査用電極上には電圧が加わると
変色する材料が配設されている。この材料として例えば
液晶フィルムを使用すればよい。
について説明する。
電極35bが設けられている側の他端側からソースドラ
イバ42を動作させて検査用信号を順次入力する。そし
て検査用電極35bを観察するが、もしソースバス配線
16に断線があれば検査用電極35bに電圧が印加され
ず検査用電極35bが変色しないので断線の有無がわか
る。このような断線はソースバス配線16に予備配線を
形成しておけば断線部において予備配線と接続すること
によって欠陥を救済することも出来る。また、ソースド
ライバ42が中途から動作せずに不良となっていれば動
作していない部分に対応する検査用電極35bが着色し
ないのでソースドライバ42の不良部分がわかる。
ス配線16に交差しているゲートバス配線15及び補助
容量配線30との間で短絡欠陥があると検査用電極35
a及び35cが変色するので短絡欠陥も検査することが
出来る。このような短絡欠陥もレーザーを用いて短絡を
解除し欠陥を救済することが出来る。
ートバス配線15に順次電圧を印加し、ゲートバス配線
15に接続している検査用電極35aを観察し、ゲート
バス配線15の断線の有無を検査する。また、ゲートド
ライバ41が中途から動作せずに不良となっていれば動
作していない部分に対応する検査用電極35aが着色し
ないのでゲートドライバ41の不良部分がわかる。
線30との短絡があれば補助容量配線30に接続してい
る検査用電極35cの変色の程度でこれらの配線同士の
リークの程度がわかる。
って簡単に、バス配線の断線及び短絡欠陥の検査、さら
にはゲートドライバ及びソースドライバの検査を行うこ
とが出来る。
第3の実施の形態を図3、図4、図5、図6、図7、図
8および図9を参照しながら説明する。図3は本実施形
態であるアクティブマトリクス基板の簡略化した平面図
であり、図4は図3のA−A線断面図であり、図5は図
3のB−B線断面図であり、図6は基板端部の平面図で
あり、図7は図6のA−A線断面図であり、図8は図6
のB−B線断面図であり、図9は図6のC−C線断面図
であり、アクティブマトリクス基板は、主に絶縁性基板
1上にマトリクス配列したTFT3とそれらのTFTの
オン・オフによって作動するカラーフィルタ形成用電極
(画素電極)12bで構成されている。
タンタル(Ta)等から成るゲート電極5、ゲートバス
配線15、画像表示部外のゲートバス配線15′、補助
容量配線30、画像表示部外の補助容量配線30′が形
成され、このゲート電極5、ゲートバス配線15、補助
容量配線30を覆って窒化シリコン(SiNx)膜等か
ら成るゲート絶縁膜6が形成されている。
は、ノンドープのアモルファスシリコン(a−Si)層
から成る半導体層7が形成されている。さらに、この半
導体層7上には絶縁層10が形成され、この絶縁層10
の一部を覆って、さらに半導体層7の両端部には、例え
ばリン(P)ドープのアモルファスシリコン(n+型a
−Si)8a、8bが形成され、このn+型a−Si層
8a、8b上にはチタン(Ti)等から成るソース電極
9aおよびドレイン電極9bが形成されている。
T3が構成される。ここで、ゲート電極5はゲートバス
配線15に接続し、ソース電極9aはTiよりなるソー
スバス配線16に接続されている。このゲートバス配線
15、補助容量配線30とソースバス配線16とは絶縁
膜を介して相互に絶縁されマトリクス状に形成されてい
る。これらの配線は画像表示部外の15′、16′、3
0′まで存在している。
ホール11a、11b、11dおよび画像表示部外の配
線15′、16′、30′以外のTFT3上、画素領域
上、ソースバス配線16上及びゲートバス配線15上の
全面にアクリル系樹脂で形成される。
線15とソースバス配線16に囲まれた表示領域にIT
O(Indium Tin Oxide)からなるカラ
ーフィルタ形成用電極(画素電極)12bを、コンタク
トホール11bを介してドレイン電極9bに電気的に接
続している。カラーフィルタ形成用電極(画素電極)上
には、カラーフィルタ13を電気化学的手法で赤、緑、
青が順次所定のパターンで形成されている。TFT3の
上方にはITO等からなる遮光層形成用電極12aが有
機樹脂保護膜11上に形成され、コンタクトホール11
aを介してソース電極9aに電気的に接続している。遮
光層形成用電極12a上には、TFTのCr等からなる
遮光層18aが、電気化学的手法により形成されてい
る。
aおよびカラーフィルタ13の上にポリイミド等からな
る配向膜14を形成し、この配向膜14上には液晶を並
べるためにラビング等による配向処理が施されている。
えばITOから成る対向電極17が形成され、その対向
電極上に例えばポリイミドから成る配向膜14が形成さ
れ、液晶を並ばせるために配向膜表面に配向処理が施さ
れている。
リクス基板および対向基板を、基板間の間隙を一定に保
つために、プラスチックビーズ等を散布工程により散在
させたスペーサを介して封止剤で貼り合わせ、シールの
一部に設けられた注入口から液晶4を注入して、液晶4
の注入完了後に注入口を封止することによって、液晶表
示素子が構成される。
て、透過光の制御をすることにより、透過型液晶表示装
置として機能させることができる。
を用いた液晶表示装置の製造方法について説明する。図
10は本発明の液晶表示装置の製造方法を示す工程図で
ある。
基板1上にTFT3、このTFT3に電気的に接続され
たゲートバス配線15(図示せず)およびソースバス配
線16、補助容量配線30(図示せず)及び図6に示す
画像表示部外のゲートバス配線15′(図示せず)、補
助容量配線30′(図示せず)を形成する。
にタンタル金属層を0.5μmで堆積した。次いでフォ
トリソグラフィ法およびエッチング法によりこの金属層
をパターニングし、図3に示すように、互いに平行する
複数のゲートバス配線15、補助容量配線30を形成す
る。このゲートバス配線15の分岐されている部分が後
に形成されるTFT3のゲート電極5として機能する。
補助容量配線30を覆って全面にSiNxから成るゲー
ト絶縁膜6を0.5μm厚で堆積する。ゲートバス配線
15から分岐したゲート電極5上に形成されたゲート絶
縁膜6の上に後に半導体層7となるノンドープのアモル
ファスシリコン(以下ではa−Siと略称する)層を
0.03μmの厚みで、また後に絶縁層10と成るSi
Nx層を0.02μmの厚みで、それぞれ連続して堆積
させる。SiNx層を所定の形状にパターニングし、ゲ
ート電極5の上方のみを残して絶縁層10を形成する。
ンタクト層8a、8bとなるリン(P)をドープしたア
モルファスシリコン(以下ではn+型a−Siと略称す
る)層を、プラズマCVD法により、0.045μmの
厚みで堆積する。次にこのn+型a−Si層および前記
a−Si層を所定の形状にパターニングし、半導体層7
およびコンタクト層8a、8bを形成する。コンタクト
層8a、8bは半導体層7と、後に形成されるソース電
極9aおよびドレイン電極9bとの間のオーミックコン
タクトのために設けられる。この時点ではコンタクト層
8a、8bは絶縁層10上で繋がっている。
り、Ti金属層を0.2μmの厚みで堆積し、このTi
金属層をエッチングによりパターニングして、ソース電
極9aおよびドレイン電極9bを形成する。この時、絶
縁層10上のコンタクト層8a、8bも同時にエッチン
グ除去し、ソース電極9aの下方部とドレイン電極9b
の下方部とに分割する。以上のようにしてTFT3を形
成する。
画像表示部外のソースバス配線はソース電極9aおよび
ドレイン電極9bと同時に形成され、ゲートバス配線1
5、補助容量配線30と直交して配置される。
ル系樹脂からなる感光性の有機樹脂保護膜11をTFT
3、ソースバス配線16及びゲートバス配線15(図示
せず)を覆うように絶縁性基板1全面に、スピナーで
4.0μmの厚みで塗布する。
リソグラフィ法により、遮光マスクを介して、絶縁性基
板1上に塗布した有機樹脂保護膜11に紫外線を照射し
て感光させる。
樹脂保護膜11をエッチングすることにより、コンタク
トホール11a、11b、11d(図示せず)を設け
る。このコンタクトホール11aはTFT3上のソース
電極9aと、コンタクトホール11bはドレイン電極9
bと、電気的に接続できるように設けており、コンタク
トホール11dは補助容量配線30上の絶縁膜6と接続
できるように設けている。
脂保護膜11にコンタクトホール11a、11b、11
dを設けた絶縁性基板1上の全面に、スパッタリング法
により、ITO膜を0.08μmの厚みで堆積する。こ
のITO膜を所定の形状にパターニングを行い、マトリ
クス状に配列された表示部となるカラーフィルタ形成用
電極(画素電極)12bとTFT3上の遮光部となる遮
光層形成用電極12aをそれぞれ電気的に独立するよう
に形成する。
極)12bとTFT3のドレイン電極9bとは電気的に
接続される。また、遮光層形成用電極12aとTFT3
のソース電極9aとは電気的に接続される。このよう
に、有機樹脂保護膜11をカラーフィルタ形成用電極
(画素電極)12bより先に形成することで、カラーフ
ィルタ形成用電極(画素電極)12bはソースバス配線
16、ゲートバス配線15およびTFT3といった通常
では形成できない領域まで覆うことができるため、液晶
表示装置の高開口率化を行うことができる。
バス配線15、補助容量配線30を接地し、ソースバス
配線16のみに直流(DC)電圧を印加し、表1に示す
クロムメッキ浴中にTFT3等が形成された絶縁性基板
1を浸漬し、アノードには不溶性電極として鉛(Pb)
を用いて、ソースバス配線16にカソード電流密度30
A・dm-2で13.3秒間電流を流して、遮光層形成用
電極12a上にクロムからなる遮光層18aを0.5μ
m厚に形成した。
ると、断線部以降は遮光層形成用電極12a上およびソ
ースバス配線検査用電極16′上にクロムからなる遮光
層18a、18bが形成されないので、容易に断線の検
査を行うことができる。また、ソースバス配線16とゲ
ートバス配線15にリークがある場合には、リークが存
在する画像表示部外のゲートバス配線15′(検査用電
極)上にクロムからなる遮光層18cが0.5μm厚未
満で形成される。ソースバス配線16と補助容量配線3
0にリークがある場合には、リークが存在する画像表示
部外の補助容量配線30′(検査用電極)上にクロムか
らなる遮光層18dが0.5μm厚未満で形成されるた
め、リーク部の検出も容易に行うことができる。このよ
うに、電着法によって遮光層を形成し、この遮光層の材
料の検査用電極への付着を調べることによって断線及び
リーク検査を容易に行うことが出来る。
からなる遮光層18aを電着法により形成したが、電気
化学的方法であればいずれでもよく、例えばミセル電解
法により形成してもよい。
フィルタ形成用電極(画素電極)12b上に、ミセル電
解法で3色のカラーフィルタ13を以下に説明するよう
にして形成する。
G)の2mM水溶液に、赤色顔料(Lithol Sc
arlet K3700:BASF製)を1〜2g加え
て分散させ、さらに臭化リチウム(支持塩)0.1Mを
加え、超音波ホモジナイザで30分間分散させ、さらに
スターラで3日間撹拌して、赤色の着色分散液を調整す
る。
(FPEG)の2mM水溶液に、緑色顔料(Melio
gen Green L9361:BASF製)を1〜
2g加えて分散させ、さらに臭化リチウム(支持塩)
0.1Mを加え、超音波ホモジナイザで30分間分散さ
せ、さらにスターラで3日間撹拌して、緑色の着色分散
液を調製する。
(FPEG)の2mM水溶液に、青色顔料(Melio
gen Blue B7080:BASF製)を1〜2
g加えて分散させ、さらに臭化リチウム(支持塩)0.
1Mを加え、超音波ホモジナイザで30分間分散させ、
さらにスターラで3日間撹拌して、青色の着色分散液を
調製する。このようにして、赤色、青色、緑色の着色分
散液をそれぞれ別々に作製した。
れた基板を浸漬し、赤色の着色層用電極線の電極取り出
し窓口帯を用い、赤色の画素に対応する信号ラインを電
気的に選択し、参照電極として飽和甘コウ電極および陰
極としてアルミニウム板を利用し、ミセル電解を0.5
Vの電圧、25℃の温度で30分間の条件にして行っ
た。ミセル電解の処理終了後、純水で洗浄し、180℃
で1時間のベーキング処理を行い、カラーフィルタ形成
用電極(画素電極)12b上に赤色のカラーフィルタ1
3を形成した。一旦ミセル電解により形成された膜は、
ベーキング処理を行うことにより、導電性を失う。
前工程で得られた基板を浸漬し、緑色の画素に対応する
信号ラインを電気的に選択し、緑色のカラーフィルタ1
3を形成する。この時、先に形成した赤色のカラーフィ
ルタはベーキング処理により導電性を失っているので、
緑色のカラーフィルタが重なって付着することはない。
さらに同様にして、青色のカラーフィルタ13を対応す
る画素に形成した。
ス配列したTFT3とそれらのTFTのオン・オフによ
って作動するカラーフィルタ形成用電極(画素電極)1
2b上に形成されたカラーフィルタ13を作製すること
ができる。
は、それぞれ赤色のカラーフィルタが0.5μm、緑色
のカラーフィルタが0.4μmおよび青色のカラーフィ
ルタが0.6μmであった。
極)12b上にカラーフィルタ13をミセル電解法によ
り形成したが、電気化学的方法であればいずれでもよ
く、例えば電着法により形成してもよい。
形成された絶縁性基板1上に、ポリイミドからなる配向
膜14をオフセット印刷法を利用して、0.08μmの
厚みで形成し、液晶を並ばせるために、配向膜14の表
面をラビング等により配向処理を行った。
成された絶縁性基板1に対向する絶縁性基板2には、全
面にITOからなる対向電極17を形成し、さらにその
上に配向膜14を形成し、液晶を並ばせるために、配向
膜14の表面をラビング等により配向処理を行う。
縁性基板1との間に、基板間の間隙を一定に保つプラス
チックビーズ等を散布工程により基板間に散在させたス
ペーサを介してシール剤で貼り合わせ、基板間に液晶4
を注入して、封止することによりアクティブマトリクス
型液晶表示装置を作製した。
置の第4の実施の形態を図11、図12を参照しながら
説明する。図11は基板端部の平面図であり、図12は
図11のA−A線断面図である。尚アクティブ素子部分
は第3の実施の形態と同様である。本実施の形態はソー
スバス配線検査用電極16′、ゲートバス配線検査用電
極15′、補助容量配線検査用電極30′上に配線と重
ならない領域を持つ透明導電膜からなるITO12d、
12e、12fが存在する点で前記実施形態と異なる。
これらのITO12d、12e、12fは遮光層形成用
電極12a、カラーフィルタ形成用電極12bのITO
と同時に形成される。このように遮光性のある金属配線
と重ならない領域に検査用電極として透明導電膜を形成
することで透明導電膜上の着色が容易に確認できるので
配線の検査が容易に行える。
ィブ素子と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補
助容量配線と、前記アクティブ素子に導通された電極と
を有し、前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示
領域を構成する液晶表示装置において、前記画像表示領
域外に着色する検査用電極を設けたことを特徴としてい
るので、プローブを使用することなく検査用電極の着色
によって目視によっても液晶表示装置の検査が可能とな
る。
スバス配線、それぞれの配線端部に形成されているの
で、それぞれの配線の断線及びそれぞれの配線同士の短
絡を検査することが出来る。
ースバス配線において検査用電極が形成されている側と
反対側にドライバが形成されているので、このドライバ
を動作させて基板の検査を行うことが出来、さらにこの
ドライバの検査も同時に行うことが出来る。
成されるので、検査用電極の色の変化が認識しやすくな
る。
領域にも形成されるので、検査用電極の色の変化がさら
に認識しやすくなる。
層を有するので、この着色層は画素電極に対応している
ため、対向基板側に形成した場合のように開口率の低下
は起こらない。また、電極上に着色層を形成する際に検
査用電極への着色層の付加を検査することによって信号
線の検査を同時に行うことが出来る。
ブ素子と、前記アクティブ素子に信号を供給する配線
と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、前
記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構成
する液晶表示装置の製造方法において、前記画像表示領
域外に着色する検査用電極によって前記配線または前記
アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を有するので、プ
ローブを使用することなく検査用電極の着色によって目
視によっても液晶表示装置の検査が可能となる。
に形成されたドライバを動作させることにより行われる
ので、欠陥検査用の信号入力を必要とせずに欠陥検査を
行うことが出来る。さらには、このドライバの検査を同
時に行うことが出来る。
け、前記配線または前記アクティブ素子の欠陥検査を行
う工程は、ソースバス配線に電圧を印加し他の配線に接
続された検査用電極を観察することによって行われるの
で、ソースバス配線の断線検査とソースバス配線とソー
スバス配線と交差しているゲートバス配線及び補助容量
配線との短絡検査を容易に行うことが出来る。
するので、電極上に着色層を形成する際に検査用電極へ
の着色層の付加を検査することによって信号線の検査を
同時に行うことが出来る。
図である。
図である。
図である。
る。
図である。
ある。
成用電極 12e 画像表示部外のゲートバス配線上遮光層形
成用電極 12f 画像表示部外の補助容量配線上遮光層形成
用電極 13 カラーフィルタ 14 配向膜 15 ゲートバス配線 15′ 画像表示部外のゲートバス配線 16 ソースバス配線 16′ 画像表示部外のソースバス配線 17 対向電極 18a TFT上の遮光層 18b 画像表示部外のソースバス配線上遮光層 18c 画像表示部外のゲートバス配線上遮光層 18d 画像表示部外の補助容量配線上遮光層 18e 画像表示部外の遮光層 19 染色レジストによる遮光層 20 ガラス基板 21 対向基板 22 駆動用透明電極 23 駆動用基板 24 液晶 25 封止材 26 着色層 27 ブラックマトリクス 28 トップコート材 29 透明電極 30 補助容量配線 30′ 画像表示部外の補助容量配線 31 シール剤 35 検査用電極
Claims (7)
- 【請求項1】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
成する液晶表示装置において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、 前記検査用電極は、ゲートバス配線、ソースバス配線そ
れぞれの配線端部に形成されており、 絶縁性基板上におけるゲートバス配線、ソースバス配線
において検査用電極が形成されている側と反対側にドラ
イバが形成されている ことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
成する液晶表示装置において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、 前記検査用電極の一部は、透明導電膜によって形成され
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項3】 前記検査用電極は、前記配線と重ならな
い領域にも形成されることを特徴とする請求項2記載の
液晶表示装置。 - 【請求項4】 前記電極上には電極を利用して形成した
着色層を有することを特徴とする請求項1または請求項
2記載の液晶表示装置。 - 【請求項5】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
成する液晶表示装置の製造方法において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記
配線または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を
有し、 前記欠陥検査を行う工程は、絶縁性基板上に形成された
ドライバを動作させる ことにより行われることを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項6】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
成する液晶表示装置の製造方法において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記
配線または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を
有し、 画像表示領域外に着色する検査用電極によって前記配線
または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程は、ソ
ースバス配線に電圧を印加し他の配線に接続された検査
用電極を観察することによって行われることを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項7】 一方の絶縁性基板上にアクティブ素子
と、ゲートバス配線と、ソースバス配線と、補助容量配
線と、前記アクティブ素子に導通された電極とを有し、
前記電極がマトリクス状に配列されて画像表示領域を構
成する液晶表示装置の製造方法において、 前記画像表示領域外に着色する検査用電極を設け、前記
配線または前記アクティブ素子の欠陥検査を行う工程を
有し、 前記電極上部に電極を利用して形成した着色層を形成す
る工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23553897A JP3284182B2 (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23553897A JP3284182B2 (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1172803A JPH1172803A (ja) | 1999-03-16 |
JP3284182B2 true JP3284182B2 (ja) | 2002-05-20 |
Family
ID=16987473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP23553897A Expired - Lifetime JP3284182B2 (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3284182B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
JP5011472B2 (ja) * | 2006-09-11 | 2012-08-29 | 株式会社ジャパンディスプレイイースト | 液晶表示装置 |
US20140218673A1 (en) * | 2011-05-09 | 2014-08-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal panel, liquid crystal panel aggregate, and manufacturing method for liquid crystal panel |
-
1997
- 1997-09-01 JP JP23553897A patent/JP3284182B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1172803A (ja) | 1999-03-16 |
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