JP3280549B2 - イオンソース - Google Patents
イオンソースInfo
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- JP3280549B2 JP3280549B2 JP26224295A JP26224295A JP3280549B2 JP 3280549 B2 JP3280549 B2 JP 3280549B2 JP 26224295 A JP26224295 A JP 26224295A JP 26224295 A JP26224295 A JP 26224295A JP 3280549 B2 JP3280549 B2 JP 3280549B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- source
- ionization chamber
- ion source
- filament
- electrons
- Prior art date
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は質量分析計に用いら
れるイオンソースに関する。
れるイオンソースに関する。
【０００２】
【従来の技術】ガス分析等の分野で用いられる質量分析
計には、試料ガス中の原子・分子等をイオン化し、生成
したイオンを加速するために、例えば、図２に示すよう
なイオンソース（イオン源）１が設けられる。
計には、試料ガス中の原子・分子等をイオン化し、生成
したイオンを加速するために、例えば、図２に示すよう
なイオンソース（イオン源）１が設けられる。
【０００３】そのイオンソース１は、試料ガス２をイオ
ン化するためのイオン化室３、イオンをイオン化室３か
ら押し出す押出電極４、押し出されたイオンを引き出し
加速する引出電極５、電子をイオン化室３内に射出する
フィラメント６、電子を射出するための適当な電場を与
えるための電極（エレクトロンリペラ）７、集電子電極
８および電子流を収束させる磁場を形成するためのソー
スマグネット９，１０等よりなる。なお、１１はステン
レス鋼よりなるマグネット支持部材である。
ン化するためのイオン化室３、イオンをイオン化室３か
ら押し出す押出電極４、押し出されたイオンを引き出し
加速する引出電極５、電子をイオン化室３内に射出する
フィラメント６、電子を射出するための適当な電場を与
えるための電極（エレクトロンリペラ）７、集電子電極
８および電子流を収束させる磁場を形成するためのソー
スマグネット９，１０等よりなる。なお、１１はステン
レス鋼よりなるマグネット支持部材である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、フィラメン
ト６の周りの電位がそのフィラメント６よりも低いと電
子が射出されないため、ソースマグネット９，１０の電
位が０Ｖであることから、上述のように、エレクトロン
リペラ７をそのフィラメント６と一方のソースマグネッ
ト９との間に設けているのである。
ト６の周りの電位がそのフィラメント６よりも低いと電
子が射出されないため、ソースマグネット９，１０の電
位が０Ｖであることから、上述のように、エレクトロン
リペラ７をそのフィラメント６と一方のソースマグネッ
ト９との間に設けているのである。
【０００５】しかし、このような構成では、部品点数が
多い上に、イオンソース１が嵩高くなり、また、エレク
トロンリペラ７の透磁率の影響で磁場が乱れることがあ
った。
多い上に、イオンソース１が嵩高くなり、また、エレク
トロンリペラ７の透磁率の影響で磁場が乱れることがあ
った。
【０００６】本発明はこのような実情に鑑みてなされ、
構成が簡易でコンパクト化され、磁場の乱れも生じない
イオンソースを提供することを目的としている。
構成が簡易でコンパクト化され、磁場の乱れも生じない
イオンソースを提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を
解決するための手段を以下のように構成している。すな
わち、一対のソースマグネット間にイオン化室が設けら
れ、かつその一方のソースマグネットと前記イオン化室
との間にフィラメントが設けられており、そのフィラメ
ントから前記イオン化室に向けて電子を加速するために
必要な電場を形成するための電位が前記ソースマグネッ
トに印加されてなることを特徴としている。
解決するための手段を以下のように構成している。すな
わち、一対のソースマグネット間にイオン化室が設けら
れ、かつその一方のソースマグネットと前記イオン化室
との間にフィラメントが設けられており、そのフィラメ
ントから前記イオン化室に向けて電子を加速するために
必要な電場を形成するための電位が前記ソースマグネッ
トに印加されてなることを特徴としている。
【０００８】
【作用】フィラメントからイオン化室に向けて電子を加
速するために必要な電場を形成するための電位を直接ソ
ースマグネットに印加することにより、そのソースマグ
ネットでエレクトロンリペラの役目を果たすことがで
き、エレクトロンリペラを省くことができる。
速するために必要な電場を形成するための電位を直接ソ
ースマグネットに印加することにより、そのソースマグ
ネットでエレクトロンリペラの役目を果たすことがで
き、エレクトロンリペラを省くことができる。
【０００９】これにより、構成部品点数を減らし、イオ
ンソースのコンパクト化を図ることができ、かつ、エレ
クトロンリペラの透磁率に起因する磁場の乱れの発生を
回避することができる。
ンソースのコンパクト化を図ることができ、かつ、エレ
クトロンリペラの透磁率に起因する磁場の乱れの発生を
回避することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に本発明のイオンソースの実
施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１はイオ
ンソース１の構成を示し、ステンレス鋼よりなる支持部
材１１の両端に吸着固定された一対のソースマグネット
９，１０間に、別途図示しない支持部材によってイオン
化室３が支持されており、その一方のソースマグネット
９とイオン化室３との間には、イオン化室３に電子を射
出するためのフィラメント６が設けられ、９００Ｖ程度
の電圧が印加される。
施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１はイオ
ンソース１の構成を示し、ステンレス鋼よりなる支持部
材１１の両端に吸着固定された一対のソースマグネット
９，１０間に、別途図示しない支持部材によってイオン
化室３が支持されており、その一方のソースマグネット
９とイオン化室３との間には、イオン化室３に電子を射
出するためのフィラメント６が設けられ、９００Ｖ程度
の電圧が印加される。
【００１１】そして、そのフィラメント６に近い側のソ
ースマグネット９に８００Ｖ程度の電圧が印加されるよ
うになっており、これにより、そのソースマグネット９
で、フィラメント６からイオン化室３に向けて電子を射
出するために必要な電場を形成することができる。一
方、イオン化室３内には押出電極４が設けられ、１．３
ＫＶ程度の電圧が印加され、電子によってイオン化され
た試料ガス２のイオンがイオン化室３から押し出され、
そのイオン化室３の外部に近接して設けられている引出
電極（１ＫＶ程度の電圧が印加）５によってさらに加速
され分析部（図示省略）へと射出される。なお、８は集
電子電極である。
ースマグネット９に８００Ｖ程度の電圧が印加されるよ
うになっており、これにより、そのソースマグネット９
で、フィラメント６からイオン化室３に向けて電子を射
出するために必要な電場を形成することができる。一
方、イオン化室３内には押出電極４が設けられ、１．３
ＫＶ程度の電圧が印加され、電子によってイオン化され
た試料ガス２のイオンがイオン化室３から押し出され、
そのイオン化室３の外部に近接して設けられている引出
電極（１ＫＶ程度の電圧が印加）５によってさらに加速
され分析部（図示省略）へと射出される。なお、８は集
電子電極である。
【００１２】上述のように、イオンソース１内に磁場を
形成するためのソースマグネット９で電子射出用の電場
をも形成するので、エレクトロンリペラを不要とするこ
とができ、部材点数の削減とコンパクト化を図れるとと
もに、コストの低減化をも図ることができる。さらに、
従来、エレクトロンリペラの素材のもつ透磁率によって
磁場が乱れる原因となっていたが、このような難点が完
全に解消される。
形成するためのソースマグネット９で電子射出用の電場
をも形成するので、エレクトロンリペラを不要とするこ
とができ、部材点数の削減とコンパクト化を図れるとと
もに、コストの低減化をも図ることができる。さらに、
従来、エレクトロンリペラの素材のもつ透磁率によって
磁場が乱れる原因となっていたが、このような難点が完
全に解消される。
【００１３】上述のソースマグネット９への印加電圧
は、フィラメント６への印加電圧よりも低くなければな
らないが、低過ぎるとその電位がフィラメント６の周囲
を覆ってしまい電子が飛びださないため、８００Ｖ程度
が適当であるが、これは参考値であって、その値は適宜
に設定されてよいのはいうまでもない。
は、フィラメント６への印加電圧よりも低くなければな
らないが、低過ぎるとその電位がフィラメント６の周囲
を覆ってしまい電子が飛びださないため、８００Ｖ程度
が適当であるが、これは参考値であって、その値は適宜
に設定されてよいのはいうまでもない。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のイオンソ
ースによれば、ソースマグネットに電圧を印加してフィ
ラメントからイオン化室に向けて電子を加速するために
必要な電場を形成したので、エレクトロンリペラを不要
とすることができ、部品点数の削減とコンパクト化を図
れ、かつコストの低減化をも図れる。
ースによれば、ソースマグネットに電圧を印加してフィ
ラメントからイオン化室に向けて電子を加速するために
必要な電場を形成したので、エレクトロンリペラを不要
とすることができ、部品点数の削減とコンパクト化を図
れ、かつコストの低減化をも図れる。
【００１５】また、エレクトロンリペラの透磁率に起因
する磁場の乱れも解消でき、信頼性の高い安定した分析
精度を得ることができる。
する磁場の乱れも解消でき、信頼性の高い安定した分析
精度を得ることができる。
【図１】本発明のイオンソースの一例を示す構成図であ
る。
る。
【図２】従来のイオンソースの一例を示す構成図であ
る。
る。
１…イオンソース、３…イオン化室、６…フィラメン
ト、９…ソースマグネット。
ト、９…ソースマグネット。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永田 寧 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 日本真 空技術株式会社内 (72)発明者 中村 静雄 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 日本真 空技術株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−267045（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−168328（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−112485（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−150460（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 49/10 H01J 27/20 H01J 27/08
Claims (1)
- 【請求項１】 一対のソースマグネット間にイオン化室
が設けられ、かつその一方のソースマグネットと前記イ
オン化室との間にフィラメントが設けられており、その
フィラメントから前記イオン化室に向けて電子を加速す
るために必要な電場を形成するための電位が前記ソース
マグネットに印加されてなることを特徴とするイオンソ
ース。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26224295A JP3280549B2 (ja) | 1995-09-15 | 1995-09-15 | イオンソース |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26224295A JP3280549B2 (ja) | 1995-09-15 | 1995-09-15 | イオンソース |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0980023A JPH0980023A (ja) | 1997-03-28 |
| JP3280549B2 true JP3280549B2 (ja) | 2002-05-13 |
Family
ID=17373059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26224295A Expired - Fee Related JP3280549B2 (ja) | 1995-09-15 | 1995-09-15 | イオンソース |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3280549B2 (ja) |
-
1995
- 1995-09-15 JP JP26224295A patent/JP3280549B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0980023A (ja) | 1997-03-28 |
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Legal Events
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110222 Year of fee payment: 9 |
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