JP3264403B2 - リン酸モノエステル類及びこれを含有する化粧料 - Google Patents
リン酸モノエステル類及びこれを含有する化粧料Info
- Publication number
- JP3264403B2 JP3264403B2 JP32760093A JP32760093A JP3264403B2 JP 3264403 B2 JP3264403 B2 JP 3264403B2 JP 32760093 A JP32760093 A JP 32760093A JP 32760093 A JP32760093 A JP 32760093A JP 3264403 B2 JP3264403 B2 JP 3264403B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- phosphoric acid
- carbon atoms
- ultraviolet
- skin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Description
テル類及びそれを含有する紫外線吸収効果に優れた化粧
料に関する。
疾患の原因の一つとして紫外線が問題となっている。こ
のような状況下において、皮膚を紫外線から守ること
が、近年重視され紫外線防御物質を配合した日焼止め製
剤、スキンケア用品、ファンデーション等の化粧品など
が上市されている。
00nm)、UV−B(290〜320nm)及びUV
−C(290nm未満)に区別され、前記皮膚疾患の予
防のため、これらのなかで地上に到達するUV−A及び
UV−Bの防御物質の開発がなされている。例えば、U
V−Aの防御物質としては、酸化チタン、酸化鉄、酸化
亜鉛などの無機化合物、4−t−ブチル−4’−メトキ
シジベンゾイルメタンなどの油溶性の有機化合物が知ら
れている。また、UV−Bの防御物質としては、パラア
ミノ安息香酸、サリチル酸、メトキシ桂皮酸、ベンゾフ
ェノンなどの誘導体が知られている。
剤には、それ自体に皮膚に対する刺激性がないこと(安
全性が高いこと)、更に光エネルギーを吸収した場合に
も皮膚に刺激を与えないことが要求される。この要求を
満たすため、紫外線防御物質自体が直接皮膚に触れない
ような紫外線吸収剤が提案されている。例えば、紫外線
防御物質をモンモリロナイトなどの粘土鉱物にインター
カレーションさせる方法が知られている(特開昭62−
181213号、特開昭60−81124号等)。この
方法によれば、紫外線防御物質は粘土鉱物の層間に挿入
されているので皮膚には触れず、安全性を高めることが
できる。しかし、紫外線防御物質を油剤と混合したり、
エマルション系に配合したりした場合には、層間に挿入
された紫外線防御物質が油剤や活性剤分子と交換されて
外部に浸出してしまい、結局皮膚に触れてしまうという
問題がある。
させるため、汗や脂等で容易に流れにくく皮膚上におけ
る残存性が高いことが要求される。このような要求を満
足させるためのものとして、不溶性の金属塩を紫外線防
御物質とし、それを粉体表面に被覆してなる紫外線吸収
剤が知られている(特開昭60−130655号公報
等)。しかし、この場合は、紫外線吸収効果自体が十分
ではなく、効果の向上を目的として前記粉体を増量した
場合には、きしむとか粉っぽいといった使用感の悪さが
顕著に現れる。
成剤によりマイクロカプセル化したものが知られている
(特開平2−251240号公報等)。しかし、この場
合は、マイクロカプセル形成剤として化粧品用途におけ
る安全性の高い物質を使用せざるをえないため材料が限
定されることに加え、紫外線吸収効果を低下させないよ
うにカプセルの膜厚や形状を制御することが技術的に困
難であることなどの問題がある。
は、上記の問題点を解決し、皮膚に対する安全性が高
く、また皮膚上での残存性の高い高持続性の紫外線吸収
剤を提供することにある。
発明者らは鋭意検討の結果、紫外線吸収基を導入したリ
ン酸モノエステル塩により、上記目的が達成できること
を見出し、本発明を完成した。
環を有するアシル基を示し、R2 は炭素数2〜12の炭
素原子間に酸素原子が挿入されていてもよい直鎖又は分
岐鎖のアルキレン基を示し、Mは2価以上の多価金属イ
オンを示し、mはn/2となる数を示し、nはMの原子
価を示す)で表されるリン酸モノエステル類を提供する
ものである。
リン酸モノエステル類を含有する化粧料を提供するもの
である。
般式(1)で表わされるものであり、式中、R1 は少な
くとも一つのベンゼン環を有するアシル基であるが、本
発明のリン酸モノエステル類はこのベンゼン核の存在に
より、紫外部、特に波長290〜320nmにおいて顕
著な吸収能を有するものである。この少なくとも一つの
ベンゼン環を有するアシル基としては、置換基を有して
いてもよいシンナモイル基又はベンゾイル基が好まし
い。これらの基が置換基を有する場合には、ベンゼン核
上に1以上を有することができ、例えば、置換基として
炭素数1〜22のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アルキ
ルアミノ基、ジアルキルアミノ基を1〜3個有すること
ができる。ここで、炭素数1〜22のアルコキシ基とし
ては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプ
ロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t
ert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、ネオペン
チルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−オクチルオ
キシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、ヘキサドデシルオキシ基などを挙げることができ
る。また、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基のア
ルキル基は炭素数1〜22のものが好ましく、かかるア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
n−ブチル基、イソプロピル基、sec−ブチル基、t
ert−ブチル基、n−ペンチルオキシ基、ネオペンチ
ルオキシ基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エ
チルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基などを挙
げることができる。
ては、p−メトキシシンナモイル基、o−メトキシシン
ナモイル基、p−エトキシシンナモイル基、o−エトキ
シシンナモイル基、2,4−又は2,6−ジメトキシシ
ンナモイル基、3−ヒドロキシ−4−メトキシシンナモ
イル基などの置換シンナモイル基、p−(N,N−ジメ
チルアミノ)ベンゾイル基、p−(N,N−ジエチルア
ミノ)ベンゾイル基、p−ヒドロキシベンゾイル基、o
−ヒドロキシベンゾイル基、p−アミノベンゾイル基、
o−アミノベンゾイル基などの置換ベンゾイル基などを
挙げることができる。
12の炭素原子間に酸素原子が挿入されていてもよい直
鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示すが、このアルキレン
基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、
ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン
基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン
基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、3−メチ
ルペンタメチレン基、2−メチルオクタメチレン基、モ
ノオキサペンタメチレン基、トリオキサウンデカメチレ
ン基、メチルエチレン基、メチルプロピレン基、メチル
ブチレン基、メチルペンタメチレン基などを挙げること
ができる。
イオンを示すが、この2価以上の多価金属イオンとして
は、バリウム原子、カルシウム原子、マグネシウム原
子、アルミニウム原子、鉄原子、亜鉛原子などを挙げる
ことができる。これらのなかでもカルシウム原子又はア
ルミニウム原子が好ましい。
ル類の特に好ましい具体例としては、下記式で表される
化合物(1a)〜(1e)が挙げられる。
例えば次のようにして製造することができる。すなわ
ち、まず、R1 に対応するカルボン酸をR2 に対応する
ジオールを用いてモノエステル化する。次に、これをオ
キシ塩化リンによりリン酸化し、その後、中和又は塩交
換することにより本発明のリン酸モノエステル類(1)
を得ることができる。
反応は、例えばベンゼン、トルエン、ヘキサンなどの不
活性溶媒中、p−トルエンスルホン酸などの酸触媒の存
在下、ジオールをカルボン酸に対して好ましくは1〜1
0mol 倍量、特に好ましくは3〜5mol 倍量用い、70
〜130℃で3〜50時間反応させることにより行うの
が好ましい。また、モノエステルとオキシ塩化リンとの
リン酸化反応は、例えばエーテル、テトラヒドロフラン
などの不活性溶媒中、ピリジン、トリエチルアミンなど
の塩基の存在下、オキシ塩化リンをモノエステルに対し
て好ましくは0.8〜1.1mol 倍量、特に好ましくは
0.95〜1.0mol 倍量用い、−50〜10℃で1〜
12時間反応させることにより行うのが好ましい。さら
に、中和又は塩交換反応は、得られたリン酸エステル
を、メタノール、エタノール、水などの極性溶媒中、リ
ン酸エステルに、好ましくは0.5〜2.5mol 倍量の
塩化カルシウム、酢酸カルシウム、酢酸アルミニウムな
どの塩を用いて、15〜60℃で1〜5時間反応させる
ことにより行うのが好ましい。
ノエステル類(1)は、化粧品油剤に容易に分散し、優
れた紫外線吸収作用、特にUV−B吸収作用を有し、ま
た皮膚上での残存性が高く、高持続性であり、化粧料等
に配合して用いるのに好適である。
ステル類(1)を、各種油剤、有機系油性紫外線吸収
剤、公知の化粧料成分などとともに配合することにより
製造することができる。
ウ類、エステル油などを挙げることができるが、本発明
においては芳香族系炭化水素油、脂肪族系炭化水素油、
飽和又は不飽和の油脂、合成エステル油などが好まし
い。具体的には、例えば流動パラフィン、スクワラン、
ヘキサデカン、イソヘキサデカン、ジカプリン酸ネオペ
ンチルグリコール、アジピン酸ジイソプロピル、イソオ
クタン酸ミリスチル、1−イソステアロイル−3−ミリ
ストイルグリセリン、ラウリン酸ヘキシル、ホホバ油、
オレイン酸オクチルドデシル、オレイン酸オレイル、ト
リオクタン酸グリセリルなどを挙げることができる。
フェノン誘導体、パラアミノ安息香酸誘導体、パラメト
キシ桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体などが好ましい。
具体的には、例えばパラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキ
シル、パラ−N,N−ジメチルアミノ安息香酸2−エチ
ルヘキシル、パラアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、4−t
−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、2,4
−ジヒドロキシベンゾフェノン、パラメトキシサリチル
酸2−エチルヘキシルなどを挙げることができる。
ポリエーテル変性シリコーン、一般化粧料油剤、保湿
剤、細胞間脂質(セラミドなど)、上記以外の紫外線吸
収剤(酸化チタン、酸化亜鉛などの無機系の吸収剤、動
植物の抽出エキスなどの天然系の吸収剤など)、キレー
ト剤、pH調節剤、防腐剤、増粘剤、色素、香料、薬効成
分、乳化剤、洗浄剤、抗酸化剤などを挙げることができ
る。
テル類(1)は、全組成中に0.01〜30重量%、特
に1〜20重量%配合すると、特に紫外線吸収効果に優
れ、しかも使用感、持続性も良好であり好ましい。
発明はこれらにより制限されるものではない。
1,4−ブタンジオール500.0g(5.56mol
)、p−トルエンスルホン酸1.0g及びトルエン5
00mlを2lの四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下、
ディーンスタークトラップを用いて水が溜出しなくなる
まで還流した。反応終了後、倍量のトルエンで稀釈し、
水、飽和炭酸水素ナトリウム、水及び飽和食塩水を用い
この順序で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。濾過後、溶媒を留去して、白色結晶のモノエステ
ル体138.7gを得た。200MHz 1H−NMR
(CDCl3,TMS標準)により、δ=1.7にヒド
ロキシ基、δ=3.8にメトキシ基、δ=1.55−
1.6,3.7,4.25にメチレン、δ=6.3,
7.7にオレフィン、δ=6.9,7.5に芳香環のそ
れぞれのプロトンシグナルを確認した。TLCは1スポ
ット(吸着剤;シリカゲル,展開溶媒;トルエン:エー
テル=1:1,検出波長;UV254nm,300n
m,Rf=約0.4)であった。
9mol )を同量のテトラヒドロフランに溶解させたもの
を2lの四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下、−50
℃に冷却し、攪拌しながらモノエステル体128g
(0.512mol )及びトリエチルアミン49.3g
(0.49mol )をテトラヒドロフラン300mlに溶解
させたものを滴下し、反応させた。この時、反応温度は
−30℃以下に保持した。そのまま、3時間攪拌を継続
したのち、水30gをテトラヒドロフランに溶解させた
ものを更に滴下した。次に、0℃まで昇温し、その後同
温度で12時間攪拌したのち、析出してきた固体を濾過
により除き、溶媒を留去した。得られた残渣に2N塩酸
3000mlを加え、50℃で3時間攪拌した。室温まで
冷却後、倍量の水で稀釈し、酢酸エチルで抽出した。水
洗後、溶媒を留去して、淡桃色固体のリン酸エステル酸
型130gを得た。31P−NMRによると、純度は99
%以上であった。
ノール2000mlに溶解させたものに、酢酸アルミウム
200gを水1000mlに溶解させたものを加え、40
〜50℃で1.5時間攪拌したのち、倍量の水を加え、
室温まで冷却した。析出してきた固体を濾過により集
め、水、エタノール及びアセトンを用いこの順序で洗浄
したのち、乾燥し、白色固体の式(1b)で表される化
合物450gを得た。200MHz 1H−NMR(CD
Cl3,TMS標準)により、δ=3.8にメトキシ
基、δ=1.3、1.6にβ−メチレン、δ=4.2、
4.25にα−メチレン、δ=6.3、7.7にオレフ
ィン、δ=6.9、7.5に芳香環のプロトンシグナル
を確認した。また、31P−NMRによると、純度は99
%以上であった。更に、この式(1b)で表される化合
物200mgを硫酸バリウム800mgに分散させ、日立U
−4000型分光光度計により、UV吸収スペクトルを
測定した結果、309nmに極大波長を有するUV−B
吸収性の化合物であることを確認した。
1,12−ドデカンジオール200.0g(0.990
mol )、p−トルエンスルホン酸0.5g、トルエン5
00ml及びヘキサン250mlを2lの四つ口フラスコに
入れ、窒素雰囲気下、ディーンスタークトラップを用い
て水が溜出しなくなるまで還流した。反応終了後、倍量
のトルエンで稀釈し、水、飽和炭酸水素ナトリウム、水
及び飽和食塩水を用いこの順序で洗浄したのち、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去して、
白色結晶のモノエステル体38.0gを得た。GLC分
析によると純度は98%であった。200MHz 1H−
NMR(CDCl3,TMS標準)により、δ=1.7
にヒドロキシ基、δ=3.8にメトキシ基、δ=1.5
5−1.9,3.7,4.2にメチレン、δ=6.3,
7.7にオレフィン、δ=6.9,7.5に芳香環のそ
れぞれのプロトンシグナルを確認した。
65mol )を同量のテトラヒドロフランに溶解させたも
のを300mlの四つ口フラスコに入れ、窒素雰囲気下、
−50℃に冷却した。その後、モノエステル体24.1
g(0.067mol )及びトリエチルアミン6.6g
(0.065mol )をテトラヒドロフラン100mlに溶
解させたものを滴下し、反応させた。この時、反応温度
は−30℃以下に保持した。そのまま、2時間攪拌を継
続したのち、水3.5gをテトラヒドロフランに溶解さ
せたものを更に滴下した。次に、0℃まで昇温し、その
後同温度で12時間攪拌したのち、析出してきた固体を
濾過により除き、溶媒を留去した。得られた残渣に2N
塩酸150mlを加え、室温で1時間攪拌したのち、酢酸
エチルで抽出した。水洗後、溶媒を留去して、淡茶色固
体のリン酸エステル酸型29gを得た。200MHz 1
H−NMR(CDCl3,TMS標準)により、δ=
3.8にメトキシ基、δ=1.3−1.7,4.05,
4.2にメチレン、δ=6.3,7.7にオレフィン、
δ=6.9,7.5に芳香環のそれぞれのプロトンシグ
ナルを確認した。また、31P−NMRによると、純度は
99%以上であった。
ールに溶解させたものに、10%酢酸カルシウム水溶液
100g、水及びエタノールを加え、50℃で3時間攪
拌したのち、倍量の水を加え、室温まで冷却した。析出
してきた固体を濾過により集め、水、エタノール及びア
セトンを用いこの順序で洗浄したのち、乾燥し、白色固
体の式(1c)で表される化合物13gを得た。200
MHz 1H−NMR(CDCl3,TMS標準)によ
り、δ=3.8にメトキシ基、δ=1.2−1.6、
4.15、4.2にメチレン、δ=6.3、7.7にオ
レフィン、δ=6.9、7.5に芳香環のプロトンシグ
ナルを確認した。また、31P−NMRによると、純度は
99%以上であった。更に、この式(1c)で表される
化合物200mgを硫酸バリウム800mgに分散させ、日
立U−4000型分光光度計により、UV吸収スペクト
ルを測定した結果、310nmに極大波長を有するUV
−B吸収性の化合物であることを確認した。
外性吸収剤の成分であるp−メトキシ桂皮酸カルシウム
塩との皮膚に対する感触を比較した。試験方法は、各5
0mgを皮膚上にのせ、指で広げた場合の感触を評価し
た。その結果、化合物1bは平滑性に優れ、べたつきも
なかった。化合物1cはべたつきはなかったが、ややき
しみがあった。p−メトキシ桂皮酸カルシウム塩は、凝
集しやすく、明らかにきしみがあった。
製造した。
べとつきもなかった。また、汗や脂でなどでも流れ落ち
にくく、紫外線防御効果が長時間持続した。
法により製造した。
がなく、きしみ、粉っぽさ、べとつきなどもなく、使用
感がよかった。また、汗や脂などでも流れ落ちにくく、
紫外線防御効果が長時間持続した。
は、優れた紫外線吸収効果を有するものである。また、
本発明の化粧料は、肌に対する刺激がなく、きしみ、粉
っぽさ、べとつきもないので、使用感が優れている。ま
た、汗や脂などでも流れ落ちにくく皮膚上における残存
性が高いので、長時間にわたって優れた紫外線吸収効果
を持続することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式(1); 【化1】 (式中、R1 は炭素数1〜22のアルコキシ基を有して
いてもよいシンナモイル基又はジ(炭素数1〜22のア
ルキル)アミノ基を有していてもよいベンゾイル基を示
し、R2 は炭素数2〜12の炭素原子間に酸素原子が挿
入されていてもよい直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示
し、Mは2価以上の多価金属イオンを示し、mはn/2
となる数を示し、nはMの原子価を示す)で表されるリ
ン酸モノエステル類。 - 【請求項2】 一般式(1)中、基R1 がp−メトキシ
シンナモイル基である請求項1記載のリン酸モノエステ
ル類。 - 【請求項3】 一般式(1)中、Mがカルシウム原子又
はアルミニウム原子である請求項1又は2記載のリン酸
モノエステル類。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項記載のリン
酸モノエステル類を含有する化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32760093A JP3264403B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | リン酸モノエステル類及びこれを含有する化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32760093A JP3264403B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | リン酸モノエステル類及びこれを含有する化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07188263A JPH07188263A (ja) | 1995-07-25 |
JP3264403B2 true JP3264403B2 (ja) | 2002-03-11 |
Family
ID=18200875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32760093A Expired - Fee Related JP3264403B2 (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | リン酸モノエステル類及びこれを含有する化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3264403B2 (ja) |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP32760093A patent/JP3264403B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07188263A (ja) | 1995-07-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4906617A (en) | Pharmaceutical compositions containing saturated aromatic peroxides | |
FI89592B (fi) | Solskyddsfoereningar, dessa innehaollande kompositioner samt foerfarande foer kosmetiskt skyddande av huden mot UV-straolning | |
US4851439A (en) | Fumaric acid derivatives, process for the production thereof and pharmaceutical compositions containing same | |
US5149695A (en) | Fumaric acid derivatives, process for the production thereof and pharmaceutical compositions containing same | |
KR100300816B1 (ko) | N-아실아미노산에스테르및이것을이용한육모제혹은양모제 | |
US5000945A (en) | Method of stabilizing a UVB absorbing compound, a stabilized UV absorber, and a cosmetic composition containing the same | |
US4367220A (en) | Lipstick composition and process for preparing same | |
FI89708B (fi) | Kromoforhaltiga solskyddsfoereningar, dessa innehaollande solskyddskompositioner och foerfarande foer kosmetiskt skyddande av huden mot uv-straolning | |
EP0627410B1 (en) | N-acylglutamine derivative | |
KR100457949B1 (ko) | 3,4,5-트리메톡시 페닐아세트산, 3,4,5-트리메톡시 신남산또는 3,4,5-트리메톡시 히드로 신남산의 에스테르화합물 및 이를 함유하는 미백 화장료조성물 | |
CA1263664A (en) | Diesters | |
JPH0517399A (ja) | エステル誘導体及びこれを含有する化粧料 | |
US4867965A (en) | Fatty acid diesters | |
JP3264403B2 (ja) | リン酸モノエステル類及びこれを含有する化粧料 | |
EP0663206B1 (en) | Naphthalenmethylenemalonic diesters, and UV absorbers and cosmetic compositions containing the diesters | |
US5505936A (en) | Phosphoric diesters which absorb UV rays, method of preparing the same, and cosmetic compositions containing the same | |
EP1575532A4 (en) | MIXED DICARBOXYLIC ACID ESTERS AS PIGMENT DISPERSION AGENTS | |
JP3555902B2 (ja) | 紫外線吸収能を有する新規リン酸ジエステル類、その製造法及びこれを含有する化粧料 | |
US3944550A (en) | Vitamin E orotate and a method of producing the same | |
JP3007171B2 (ja) | 糖桂皮酸誘導体及び紫外線吸収剤 | |
JPH05230081A (ja) | 新規リン酸エステル、該リン酸エステルを有効成分とする紫外線吸収剤及び該紫外線吸収剤を含有する化粧料 | |
JP3165300B2 (ja) | 化粧料 | |
JPH0763613B2 (ja) | 油中水型乳化組成物 | |
JPH05230082A (ja) | 新規ジルコニウム化合物、該化合物を有効成分とする紫外線吸収剤及び該紫外線吸収剤を含有する化粧料 | |
JPS5934168B2 (ja) | 新規アロイン又はアロエエモジン化合物及びそれを含有した化粧料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071228 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081228 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081228 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091228 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091228 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |