JP3263652B2 - 放射光源の安定化方法、装置及び放射光源 - Google Patents
放射光源の安定化方法、装置及び放射光源Info
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- JP3263652B2 JP3263652B2 JP05328498A JP5328498A JP3263652B2 JP 3263652 B2 JP3263652 B2 JP 3263652B2 JP 05328498 A JP05328498 A JP 05328498A JP 5328498 A JP5328498 A JP 5328498A JP 3263652 B2 JP3263652 B2 JP 3263652B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射光源の安定化
方法、装置及び放射光源に係り、特に、シンクロトロン
放射光源に用いるのに好適な、放射光源の安定化方法、
装置、及び、これを用いた放射光源に関する。
方法、装置及び放射光源に係り、特に、シンクロトロン
放射光源に用いるのに好適な、放射光源の安定化方法、
装置、及び、これを用いた放射光源に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子は超高真空（１０-10 torr）内を光
速で閉軌道（円、レーストラック又は対称的な軌道）を
描く。光速の電子が磁場で曲げられるとき、その接線方
向に特定の範囲の波長を持つ電磁波が放出される。これ
がシンクロトロン放射光（以下ＳＯＲ光と称する）であ
り、該ＳＯＲ光を発生する装置をＳＯＲ光源という。こ
のＳＯＲ光が物質に照射されると、物質の表面に吸着し
ているＨ2 、Ｈ2 Ｏ、ＣＯ2 等のガスが放出される。
速で閉軌道（円、レーストラック又は対称的な軌道）を
描く。光速の電子が磁場で曲げられるとき、その接線方
向に特定の範囲の波長を持つ電磁波が放出される。これ
がシンクロトロン放射光（以下ＳＯＲ光と称する）であ
り、該ＳＯＲ光を発生する装置をＳＯＲ光源という。こ
のＳＯＲ光が物質に照射されると、物質の表面に吸着し
ているＨ2 、Ｈ2 Ｏ、ＣＯ2 等のガスが放出される。
【０００３】このＳＯＲ光を使用する者にとって、ＳＯ
Ｒ光を一定の強度で長時間使用できることが重要であ
る。電子（以下ビーム）が閉じ込められた真空チャンバ
内は、ＳＯＲ光で満たされる。そのため、ビームが閉軌
道を描いている間は、大量のガスが発生している。この
ガスとビームが衝突散乱するため、ビームが減衰し、Ｓ
ＯＲ光の強度も低下する。従って、ビームが長時間閉軌
道を描くためには、超高真空が必要不可欠となる。
Ｒ光を一定の強度で長時間使用できることが重要であ
る。電子（以下ビーム）が閉じ込められた真空チャンバ
内は、ＳＯＲ光で満たされる。そのため、ビームが閉軌
道を描いている間は、大量のガスが発生している。この
ガスとビームが衝突散乱するため、ビームが減衰し、Ｓ
ＯＲ光の強度も低下する。従って、ビームが長時間閉軌
道を描くためには、超高真空が必要不可欠となる。
【０００４】ＳＯＲ光によって大量に発生するガスを排
気するには大容量の真空ホンプが必要であり、この目的
で開発されたのが、真空容器内のガスを凝縮して真空度
を高めるクライオパネルである。このクライオパネル３
０は、図４に例示する如く、ビームダクト１４と共に、
電子線加速器を構成する真空チャンバ２０内に置かれ
る。ビームダクト１４内をまわる電子（ビーム）１０か
ら、ＳＯＲ光１２が放射される。このＳＯＲ光１２が、
ビームダンプ１８に照射されると、該ビームダンプ１８
は、いわゆる脱ガス状態となり、真空チャンバ２０内に
ガスを放出する。このガスをクライオパネル３０に吸着
することで、真空チャンバ２０内の真空度を一定に保っ
ている。図において、１６はバッフルである。
気するには大容量の真空ホンプが必要であり、この目的
で開発されたのが、真空容器内のガスを凝縮して真空度
を高めるクライオパネルである。このクライオパネル３
０は、図４に例示する如く、ビームダクト１４と共に、
電子線加速器を構成する真空チャンバ２０内に置かれ
る。ビームダクト１４内をまわる電子（ビーム）１０か
ら、ＳＯＲ光１２が放射される。このＳＯＲ光１２が、
ビームダンプ１８に照射されると、該ビームダンプ１８
は、いわゆる脱ガス状態となり、真空チャンバ２０内に
ガスを放出する。このガスをクライオパネル３０に吸着
することで、真空チャンバ２０内の真空度を一定に保っ
ている。図において、１６はバッフルである。
【０００５】前記クライオパネル３０は、真空容器内の
ガスを吸着して真空度を高めるための、例えば小型冷凍
機によって４Ｋに冷却された吸着材（例えば活性炭）パ
ネル３２と、これを取り囲む８０Ｋのシェブロン３４
と、輻射シールドとして作用し、効率的にクライオパネ
ル３０を冷却するためのシールド板３６で構成される。
ガスを吸着して真空度を高めるための、例えば小型冷凍
機によって４Ｋに冷却された吸着材（例えば活性炭）パ
ネル３２と、これを取り囲む８０Ｋのシェブロン３４
と、輻射シールドとして作用し、効率的にクライオパネ
ル３０を冷却するためのシールド板３６で構成される。
【０００６】前記シェブロン３４は、外部の大容量の液
体窒素タンク（以下、単にタンクと称する）４０より、
断熱二重配管５０を介して液体窒素を供給することで冷
却されている。
体窒素タンク（以下、単にタンクと称する）４０より、
断熱二重配管５０を介して液体窒素を供給することで冷
却されている。
【０００７】図において、４２は、タンク４０内の圧力
が一定となるように制御するコールドエバポレータ（以
下ＣＥと称する）、４４は、タンク４０内の圧力を検出
する圧力計、５２は、前記断熱二重配管５０を通って、
前記タンク４０からシェブロン３４に供給される液体窒
素の流量を制御するための流量制御弁、５４は、前記シ
ェブロン３４から排出される液体窒素を冷却するための
熱交換器、５６は、該熱交換器５４を介して放出ライン
５８に放出される液体窒素の流量を測定する流量計であ
る。
が一定となるように制御するコールドエバポレータ（以
下ＣＥと称する）、４４は、タンク４０内の圧力を検出
する圧力計、５２は、前記断熱二重配管５０を通って、
前記タンク４０からシェブロン３４に供給される液体窒
素の流量を制御するための流量制御弁、５４は、前記シ
ェブロン３４から排出される液体窒素を冷却するための
熱交換器、５６は、該熱交換器５４を介して放出ライン
５８に放出される液体窒素の流量を測定する流量計であ
る。
【０００８】前記ビームダンプ１８からのガス放出量は
温度に依存するため、この変動範囲は真空チャンバ２０
内の真空度に影響を与える。又、真空チャンバ２０内の
ビーム１０の寿命は、真空チャンバ２０内の真空度に依
存し、電子ビームを加速器に入射する際、微妙な真空度
の変動が入射効率に影響を与える。従って、強度が安定
したＳＯＲ光１２を供給するには、シェブロン３４の温
度を一定にし、真空度の変動を抑える必要がある。
温度に依存するため、この変動範囲は真空チャンバ２０
内の真空度に影響を与える。又、真空チャンバ２０内の
ビーム１０の寿命は、真空チャンバ２０内の真空度に依
存し、電子ビームを加速器に入射する際、微妙な真空度
の変動が入射効率に影響を与える。従って、強度が安定
したＳＯＲ光１２を供給するには、シェブロン３４の温
度を一定にし、真空度の変動を抑える必要がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】通常、前記タンク４０
内の圧力は、ＣＥ４２により一定になるように制御され
ている。該タンク４０の内圧は、常時一定圧力、例えば
４Kgf ／cm2 Ｇに設定されており、液体窒素の液面を一
定圧力で押しているかのように見える。しかし、実際に
は、液面の高さに応じた自重（水頭圧）が液面に加わ
る。又、液体窒素は、タンク４０から断熱二重配管５
０、流量制御弁５２、シェブロン３４、熱交換器５４、
流量計５６を経て外部に放出されるが、タンク４０内の
液体窒素が沸騰状態にあるため、配管を流れるガスは１
００％の液体ではなく、気体と液体の混合状態の二相気
体が流れている。タンク４０の液面が低下してくると、
断熱二重配管５０内のガス圧力が低下するため、配管を
流れるガスの温度は低下する。又、沸騰した液体を配管
内に流し込んでいるためか、実際は、配管内で圧縮・膨
脹を繰り返す周期的な変化をしている。これは、流量計
５６により流量変化が確認できている。いずれにせよ、
これらの圧力変化がシェブロン３４の温度を不安定にし
ており、真空チャンバ２０内の真空度を一定に維持する
ことができず、安定強度のＳＯＲ光を長時間に渡って供
給することができないという問題点を有していた。
内の圧力は、ＣＥ４２により一定になるように制御され
ている。該タンク４０の内圧は、常時一定圧力、例えば
４Kgf ／cm2 Ｇに設定されており、液体窒素の液面を一
定圧力で押しているかのように見える。しかし、実際に
は、液面の高さに応じた自重（水頭圧）が液面に加わ
る。又、液体窒素は、タンク４０から断熱二重配管５
０、流量制御弁５２、シェブロン３４、熱交換器５４、
流量計５６を経て外部に放出されるが、タンク４０内の
液体窒素が沸騰状態にあるため、配管を流れるガスは１
００％の液体ではなく、気体と液体の混合状態の二相気
体が流れている。タンク４０の液面が低下してくると、
断熱二重配管５０内のガス圧力が低下するため、配管を
流れるガスの温度は低下する。又、沸騰した液体を配管
内に流し込んでいるためか、実際は、配管内で圧縮・膨
脹を繰り返す周期的な変化をしている。これは、流量計
５６により流量変化が確認できている。いずれにせよ、
これらの圧力変化がシェブロン３４の温度を不安定にし
ており、真空チャンバ２０内の真空度を一定に維持する
ことができず、安定強度のＳＯＲ光を長時間に渡って供
給することができないという問題点を有していた。
【００１０】従って従来は、加速器を運転するオペレー
タを特定の人間に固定したりしていたが、人員のやりく
りが大変であるだけでなく、必ずしも十分とは言えなか
った。
タを特定の人間に固定したりしていたが、人員のやりく
りが大変であるだけでなく、必ずしも十分とは言えなか
った。
【００１１】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、放射光源の真空チャンバ内に閉じ込
められた電子ビームから放出される放射光を安定化する
ことを課題とする。
くなされたもので、放射光源の真空チャンバ内に閉じ込
められた電子ビームから放出される放射光を安定化する
ことを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空チャンバ
内に閉じ込められた電子ビームから放出される放射光を
安定化するための放射光源の安定化方法であって、前記
真空チャンバ内に設けられた冷却手段に、真空断熱され
ると共に背圧が調整された気液分離装置を用いて気体成
分を排除した、一定圧力、流量の液体窒素の液体成分を
供給することにより、前記課題を解決したものである。
内に閉じ込められた電子ビームから放出される放射光を
安定化するための放射光源の安定化方法であって、前記
真空チャンバ内に設けられた冷却手段に、真空断熱され
ると共に背圧が調整された気液分離装置を用いて気体成
分を排除した、一定圧力、流量の液体窒素の液体成分を
供給することにより、前記課題を解決したものである。
【００１３】又、前記方法により、クライオパネルのシ
ェブロンに液体窒素を供給するようにして、シェブロン
の温度を一定に維持し、これにより、真空チャンバ内の
真空度もほぼ一定に維持できるようにしたものである。
ェブロンに液体窒素を供給するようにして、シェブロン
の温度を一定に維持し、これにより、真空チャンバ内の
真空度もほぼ一定に維持できるようにしたものである。
【００１４】本発明は、又、真空チャンバ内に閉じ込め
られた電子ビームから放出される放射光を安定化するた
めの放射光源の安定化装置であって、前記真空チャンバ
内に設けられた冷却手段に液体窒素を供給するための液
体窒素ラインの途中に設けられた、真空断熱層で真空断
熱され、気体成分が排除された、一定圧力の液体成分を
前記冷却手段に供給するための気液分離装置と、該気液
分離装置の背圧を調整するための背圧調整手段と、前記
気液分離装置から冷却手段に供給される液体成分の流量
を制御するための流量制御手段とを備えるようにして、
前記課題を解決したものである。
られた電子ビームから放出される放射光を安定化するた
めの放射光源の安定化装置であって、前記真空チャンバ
内に設けられた冷却手段に液体窒素を供給するための液
体窒素ラインの途中に設けられた、真空断熱層で真空断
熱され、気体成分が排除された、一定圧力の液体成分を
前記冷却手段に供給するための気液分離装置と、該気液
分離装置の背圧を調整するための背圧調整手段と、前記
気液分離装置から冷却手段に供給される液体成分の流量
を制御するための流量制御手段とを備えるようにして、
前記課題を解決したものである。
【００１５】又、前記気液分離装置が、ガス入口から供
給される二相気体があてられる気液分離板と、該気液分
離板により分離された液体成分のみを溜めて行く容器と
を含むようにしたものである。
給される二相気体があてられる気液分離板と、該気液分
離板により分離された液体成分のみを溜めて行く容器と
を含むようにしたものである。
【００１６】本発明は、又、前記安定化装置を備えた放
射光源を提供するものである。
射光源を提供するものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施形態を詳細に説明する。
実施形態を詳細に説明する。
【００１８】本実施形態は、図４に示したようなＳＯＲ
光源のクライオパネル３０の冷却系統において、図１に
示す如く、タンク４０と流量制御弁５２の間に気液分離
装置６０を設け、該気液分離装置６０により気体成分が
排除された、一定圧力の液体成分のみの液体窒素を、前
記クライオパネル３０のシェブロン３４に供給するよう
にしたものである。
光源のクライオパネル３０の冷却系統において、図１に
示す如く、タンク４０と流量制御弁５２の間に気液分離
装置６０を設け、該気液分離装置６０により気体成分が
排除された、一定圧力の液体成分のみの液体窒素を、前
記クライオパネル３０のシェブロン３４に供給するよう
にしたものである。
【００１９】前記気液分離装置６０は、図２に詳細に示
す如く、ガス入口６２から供給される二相気体があてら
れる、支柱６４で図の上方から支えられた気液分離板６
６と、該気液分離板６６により分離された液体成分のみ
を溜めて行く、真空断熱層６９で真空断熱された容器６
８と、該容器６８内の液面レベルを検出する液面計７０
と、前記気液分離板６６により分離された気体成分を冷
却水で冷却するための熱交換器７２（図１）と、該熱交
換器７２によって冷却された気体成分が所定圧力、例え
ば４kgf ／cm2 Ｇを超えたときに放出ライン５８に放出
するための背圧調整弁７４（図１）とを備えており、前
記液面計７０によって検出される液面レベルが一定高さ
となるように、前記流量制御弁５２が制御されている。
す如く、ガス入口６２から供給される二相気体があてら
れる、支柱６４で図の上方から支えられた気液分離板６
６と、該気液分離板６６により分離された液体成分のみ
を溜めて行く、真空断熱層６９で真空断熱された容器６
８と、該容器６８内の液面レベルを検出する液面計７０
と、前記気液分離板６６により分離された気体成分を冷
却水で冷却するための熱交換器７２（図１）と、該熱交
換器７２によって冷却された気体成分が所定圧力、例え
ば４kgf ／cm2 Ｇを超えたときに放出ライン５８に放出
するための背圧調整弁７４（図１）とを備えており、前
記液面計７０によって検出される液面レベルが一定高さ
となるように、前記流量制御弁５２が制御されている。
【００２０】前記気液分離板６６は、例えば図３に示す
ような、直径２０ｍｍの液体通過穴６７が開けられた、
直径１５５ｍｍの円板とされている。
ような、直径２０ｍｍの液体通過穴６７が開けられた、
直径１５５ｍｍの円板とされている。
【００２１】前記背圧調整弁７４は、放出側の圧力が設
定値を超えると、例えばスプリング伸び弁が開くように
されている。
定値を超えると、例えばスプリング伸び弁が開くように
されている。
【００２２】他の点に関しては、図４に示した従来例と
同様であるので、説明は省略する。
同様であるので、説明は省略する。
【００２３】以下、本実施形態の作用を説明する。
【００２４】断熱二重配管５０を介してタンク４０から
供給される二相気体は、ガス入口６２から気液分離装置
６０の容器６８内に導入され、気液分離板６６にあてら
れる。該気液分離板６６を通過した液体成分は、容器６
８に溜められる。一方、気液分離板６６によって分離さ
れた気体成分は、容器６８内の圧力が設定値、例えば４
kgf／cm2を超えると、背圧調整弁７４が開かれて、放出
ラインに放出される。即ち、この気液分離装置６０は、
その内部の液体窒素の液面を押す力が一定となるよう
に、背圧調整弁７４で制御されている。又、該気液分離
装置６０内に収められた液面計７０が示す液面レベルが
一定となるように、流量制御弁５２で制御して、気液分
離装置６０内の水頭圧が一定に維持される。
供給される二相気体は、ガス入口６２から気液分離装置
６０の容器６８内に導入され、気液分離板６６にあてら
れる。該気液分離板６６を通過した液体成分は、容器６
８に溜められる。一方、気液分離板６６によって分離さ
れた気体成分は、容器６８内の圧力が設定値、例えば４
kgf／cm2を超えると、背圧調整弁７４が開かれて、放出
ラインに放出される。即ち、この気液分離装置６０は、
その内部の液体窒素の液面を押す力が一定となるよう
に、背圧調整弁７４で制御されている。又、該気液分離
装置６０内に収められた液面計７０が示す液面レベルが
一定となるように、流量制御弁５２で制御して、気液分
離装置６０内の水頭圧が一定に維持される。
【００２５】このような気液分離装置６０を液体窒素ラ
インに導入することで、シェブロン３４にほぼ１００％
液体の安定した液体窒素を流すことができ、温度が８０
±１Ｋとほぼ安定した状態になり、真空チャンバ２０内
の真空度もほぼ一定にすることができた。
インに導入することで、シェブロン３４にほぼ１００％
液体の安定した液体窒素を流すことができ、温度が８０
±１Ｋとほぼ安定した状態になり、真空チャンバ２０内
の真空度もほぼ一定にすることができた。
【００２６】本実施形態においては、気液分離装置を気
液分離板を用いて構成しているので、構成が簡単であ
り、安価である。又、運転も簡単である。更に、小型で
すむため、設置スペースもあまり必要としない。なお、
気液分離装置の構成は、これに限定されない。
液分離板を用いて構成しているので、構成が簡単であ
り、安価である。又、運転も簡単である。更に、小型で
すむため、設置スペースもあまり必要としない。なお、
気液分離装置の構成は、これに限定されない。
【００２７】前記実施形態においては、本発明が、ＳＯ
Ｒ光源のクライオパネルのシェブロンへの液体窒素の供
給に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定
されず、ＳＯＲ光源の他の冷却対象にも、同様に適用で
きることは明らかである。又、クライオパネルの吸着剤
も活性炭に限定されない。
Ｒ光源のクライオパネルのシェブロンへの液体窒素の供
給に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定
されず、ＳＯＲ光源の他の冷却対象にも、同様に適用で
きることは明らかである。又、クライオパネルの吸着剤
も活性炭に限定されない。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、一定圧力の液体成分の
みの液体窒素を放射光源の冷却手段に供給可能となる。
又、気液混合の温度的に不安定なガスではなく、より温
度が安定な液体ガスを供給できる。従って、放射光源の
真空チャンバ内に閉じ込められた電子ビームから放出さ
れる放射光を安定化することができる。
みの液体窒素を放射光源の冷却手段に供給可能となる。
又、気液混合の温度的に不安定なガスではなく、より温
度が安定な液体ガスを供給できる。従って、放射光源の
真空チャンバ内に閉じ込められた電子ビームから放出さ
れる放射光を安定化することができる。
【図１】本発明の実施形態が適用された、ＳＯＲ光源の
クライオパネルへの液体窒素供給系統を示す管路図
クライオパネルへの液体窒素供給系統を示す管路図
【図２】前記実施形態で用いられている気液分離装置の
構成を示す断面図
構成を示す断面図
【図３】同じく気液分離板の形状を示す平面図
【図４】ＳＯＲ光源のクライオパネルの従来の冷却系統
を示す管路図
を示す管路図
１０…電子ビーム １２…ＳＯＲ光 １４…ビームダクト ３０…クライオパネル ３４…シェブロン ４０…液体窒素タンク ５０…断熱二重配管 ５２…流量制御弁 ５４、７２…熱交換器 ５６…流量計 ５８…放出ライン ６０…気液分離装置 ６２…ガス入口 ６６…気液分離板 ６８…容器 ６９…真空断熱層 ７０…液面計 ７４…背圧調整弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F25D 3/10 F04B 37/08 H05H 13/04
Claims (5)
- 【請求項１】真空チャンバ内に閉じ込められた電子ビー
ムから放出される放射光を安定化するための放射光源の
安定化方法であって、 前記真空チャンバ内に設けられた冷却手段に、真空断熱
されると共に背圧が調整された気液分離装置を用いて気
体成分を排除した、一定圧力、流量の液体窒素の液体成
分 を供給することを特徴とする放射光源の安定化方法。 - 【請求項２】前記冷却手段が、クライオパネルのシェブ
ロンであることを特徴とする請求項１に記載の放射光源
の安定化方法。 - 【請求項３】真空チャンバ内に閉じ込められた電子ビー
ムから放出される放射光を安定化するための放射光源の
安定化装置であって、 前記真空チャンバ内に設けられた冷却手段に液体窒素を
供給するための 液体窒素ラインの途中に設けられた、真
空断熱層で真空断熱され、気体成分が排除された、一定
圧力の液体成分を前記冷却手段に供給するための気液分
離装置と、 該気液分離装置の背圧を調整するための背圧調整手段
と、 前記気液分離装置から冷却手段に供給される液体成分の
流量を制御するための流量制御手段と、 を備えたこと を特徴とする放射光源の安定化装置。 - 【請求項４】前記気液分離装置が、 ガス入口から供給される二相気体があてられる気液分離
板と、 該気液分離板により分離された液体成分のみを溜めて行
く容器と、を 含むことを特徴とする請求項３に記載の放射光源の安
定化装置。 - 【請求項５】請求項３又は４に記載の放射光源の安定化
装置を備えたことを特徴とする放射光源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05328498A JP3263652B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 放射光源の安定化方法、装置及び放射光源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05328498A JP3263652B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 放射光源の安定化方法、装置及び放射光源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11248327A JPH11248327A (ja) | 1999-09-14 |
| JP3263652B2 true JP3263652B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=12938444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05328498A Expired - Fee Related JP3263652B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 放射光源の安定化方法、装置及び放射光源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3263652B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4823760B2 (ja) * | 2006-01-18 | 2011-11-24 | 関西電力株式会社 | Ｌｎｇ冷熱を利用した冷却方法と蓄冷装置 |
| KR101203237B1 (ko) * | 2008-06-19 | 2012-11-20 | 마우리시오 리오세코 오리후엘라 | 액체 질소와의 직접 계량 접촉을 통해 식품을 초고속 냉동하는 장치 |
| CN102032440A (zh) * | 2009-09-28 | 2011-04-27 | 张家港圣汇气体化工装备有限公司 | 液化天然气加气系统用气液分离器 |
-
1998
- 1998-03-05 JP JP05328498A patent/JP3263652B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11248327A (ja) | 1999-09-14 |
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