JPH11248327A - 液体窒素の供給方法及び装置 - Google Patents
液体窒素の供給方法及び装置Info
- Publication number
- JPH11248327A JPH11248327A JP5328498A JP5328498A JPH11248327A JP H11248327 A JPH11248327 A JP H11248327A JP 5328498 A JP5328498 A JP 5328498A JP 5328498 A JP5328498 A JP 5328498A JP H11248327 A JPH11248327 A JP H11248327A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- gas
- liquid nitrogen
- vacuum
- supplying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 一定圧力の液体成分のみの液体窒素を供給先
に供給する。 【解決手段】 真空断熱された気液分離装置６０を用い
て気体成分を排除する。
に供給する。 【解決手段】 真空断熱された気液分離装置６０を用い
て気体成分を排除する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体窒素の供給方
法及び装置に係り、特に、シンクロトロン放射光源を構
成する電子線加速器の真空チャンバ内に設置されるクラ
イオパネルに供給する際に用いるのに好適な、一定圧力
の液体成分のみを供給可能な液体窒素の供給方法及び装
置に関する。
法及び装置に係り、特に、シンクロトロン放射光源を構
成する電子線加速器の真空チャンバ内に設置されるクラ
イオパネルに供給する際に用いるのに好適な、一定圧力
の液体成分のみを供給可能な液体窒素の供給方法及び装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子は超高真空（１０-10 torr）内を光
速で閉軌道（円、レーストラック又は対称的な軌道）を
描く。光速の電子が磁場で曲げられるとき、その接線方
向に特定の範囲の波長を持つ電磁波が放出される。これ
がシンクロトロン放射光（以下ＳＯＲ光と称する）であ
り、該ＳＯＲ光を発生する装置をＳＯＲ光源という。こ
のＳＯＲ光が物質に照射されると、物質の表面に吸着し
ているＨ2 、Ｈ2 Ｏ、ＣＯ2 等のガスが放出される。
速で閉軌道（円、レーストラック又は対称的な軌道）を
描く。光速の電子が磁場で曲げられるとき、その接線方
向に特定の範囲の波長を持つ電磁波が放出される。これ
がシンクロトロン放射光（以下ＳＯＲ光と称する）であ
り、該ＳＯＲ光を発生する装置をＳＯＲ光源という。こ
のＳＯＲ光が物質に照射されると、物質の表面に吸着し
ているＨ2 、Ｈ2 Ｏ、ＣＯ2 等のガスが放出される。
【０００３】このＳＯＲ光を使用する者にとって、ＳＯ
Ｒ光を一定の強度で長時間使用できることが重要であ
る。電子（以下ビーム）が閉じ込められた真空チャンバ
内は、ＳＯＲ光で満たされる。そのため、ビームが閉軌
道を描いている間は、大量のガスが発生している。この
ガスとビームが衝突散乱するため、ビームが減衰し、Ｓ
ＯＲ光の強度も低下する。従って、ビームが長時間閉軌
道を描くためには、超高真空が必要不可欠となる。
Ｒ光を一定の強度で長時間使用できることが重要であ
る。電子（以下ビーム）が閉じ込められた真空チャンバ
内は、ＳＯＲ光で満たされる。そのため、ビームが閉軌
道を描いている間は、大量のガスが発生している。この
ガスとビームが衝突散乱するため、ビームが減衰し、Ｓ
ＯＲ光の強度も低下する。従って、ビームが長時間閉軌
道を描くためには、超高真空が必要不可欠となる。
【０００４】ＳＯＲ光によって大量に発生するガスを排
気するには大容量の真空ホンプが必要であり、この目的
で開発されたのが、真空容器内のガスを凝縮して真空度
を高めるクライオパネルである。このクライオパネル３
０は、図４に例示する如く、ビームダクト１４と共に、
電子線加速器を構成する真空チャンバ２０内に置かれ
る。ビームダクト１４内をまわる電子（ビーム）１０か
ら、ＳＯＲ光１２が放射される。このＳＯＲ光１２が、
ビームダンプ１８に照射されると、該ビームダンプ１８
は、いわゆる脱ガス状態となり、真空チャンバ２０内に
ガスを放出する。このガスをクライオパネル３０に吸着
することで、真空チャンバ２０内の真空度を一定に保っ
ている。図において、１６はバッフルである。
気するには大容量の真空ホンプが必要であり、この目的
で開発されたのが、真空容器内のガスを凝縮して真空度
を高めるクライオパネルである。このクライオパネル３
０は、図４に例示する如く、ビームダクト１４と共に、
電子線加速器を構成する真空チャンバ２０内に置かれ
る。ビームダクト１４内をまわる電子（ビーム）１０か
ら、ＳＯＲ光１２が放射される。このＳＯＲ光１２が、
ビームダンプ１８に照射されると、該ビームダンプ１８
は、いわゆる脱ガス状態となり、真空チャンバ２０内に
ガスを放出する。このガスをクライオパネル３０に吸着
することで、真空チャンバ２０内の真空度を一定に保っ
ている。図において、１６はバッフルである。
【０００５】前記クライオパネル３０は、真空容器内の
ガスを吸着して真空度を高めるための、例えば小型冷凍
機によって４Ｋに冷却された吸着材（例えば活性炭）パ
ネル３２と、これを取り囲む８０Ｋのシェブロン３４
と、輻射シールドとして作用し、効率的にクライオパネ
ル３０を冷却するためのシールド板３６で構成される。
ガスを吸着して真空度を高めるための、例えば小型冷凍
機によって４Ｋに冷却された吸着材（例えば活性炭）パ
ネル３２と、これを取り囲む８０Ｋのシェブロン３４
と、輻射シールドとして作用し、効率的にクライオパネ
ル３０を冷却するためのシールド板３６で構成される。
【０００６】前記シェブロン３４は、外部の大容量の液
体窒素タンク（以下、単にタンクと称する）４０より、
断熱二重配管５０を介して液体窒素を供給することで冷
却されている。
体窒素タンク（以下、単にタンクと称する）４０より、
断熱二重配管５０を介して液体窒素を供給することで冷
却されている。
【０００７】図において、４２は、タンク４０内の圧力
が一定となるように制御するコールドエバポレータ（以
下ＣＥと称する）、４４は、タンク４０内の圧力を検出
する圧力計、５２は、前記断熱二重配管５０を通って、
前記タンク４０からシェブロン３４に供給される液体窒
素の流量を制御するための流量制御弁、５４は、前記シ
ェブロン３４から排出される液体窒素を冷却するための
熱交換器、５６は、該熱交換器５４を介して放出ライン
５８に放出される液体窒素の流量を測定する流量計であ
る。
が一定となるように制御するコールドエバポレータ（以
下ＣＥと称する）、４４は、タンク４０内の圧力を検出
する圧力計、５２は、前記断熱二重配管５０を通って、
前記タンク４０からシェブロン３４に供給される液体窒
素の流量を制御するための流量制御弁、５４は、前記シ
ェブロン３４から排出される液体窒素を冷却するための
熱交換器、５６は、該熱交換器５４を介して放出ライン
５８に放出される液体窒素の流量を測定する流量計であ
る。
【０００８】前記ビームダンプ１８からのガス放出量は
温度に依存するため、この変動範囲は真空チャンバ２０
内の真空度に影響を与える。又、真空チャンバ２０内の
ビーム１０の寿命は、真空チャンバ２０内の真空度に依
存し、電子ビームを加速器に入射する際、微妙な真空度
の変動が入射効率に影響を与える。従って、強度が安定
したＳＯＲ光１２を供給するには、シェブロン３４の温
度を一定にし、真空度の変動を抑える必要がある。
温度に依存するため、この変動範囲は真空チャンバ２０
内の真空度に影響を与える。又、真空チャンバ２０内の
ビーム１０の寿命は、真空チャンバ２０内の真空度に依
存し、電子ビームを加速器に入射する際、微妙な真空度
の変動が入射効率に影響を与える。従って、強度が安定
したＳＯＲ光１２を供給するには、シェブロン３４の温
度を一定にし、真空度の変動を抑える必要がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】通常、前記タンク４０
内の圧力は、ＣＥ４２により一定になるように制御され
ている。該タンク４０の内圧は、常時一定圧力、例えば
４Kgf ／cm2 Ｇに設定されており、液体窒素の液面を一
定圧力で押しているかのように見える。しかし、実際に
は、液面の高さに応じた自重（水頭圧）が液面に加わ
る。又、液体窒素は、タンク４０から断熱二重配管５
０、流量制御弁５２、シェブロン３４、熱交換器５４、
流量計５６を経て外部に放出されるが、タンク４０内の
液体窒素が沸騰状態にあるため、配管を流れるガスは１
００％の液体ではなく、気体と液体の混合状態の二相気
体が流れている。タンク４０の液面が低下してくると、
断熱二重配管５０内のガス圧力が低下するため、配管を
流れるガスの温度は低下する。又、沸騰した液体を配管
内に流し込んでいるためか、実際は、配管内で圧縮・膨
脹を繰り返す周期的な変化をしている。これは、流量計
５６により流量変化が確認できている。いずれにせよ、
これらの圧力変化がシェブロン３４の温度を不安定にし
ており、真空チャンバ２０内の真空度を一定に維持する
ことができず、安定強度のＳＯＲ光を長時間に渡って供
給することができないという問題点を有していた。
内の圧力は、ＣＥ４２により一定になるように制御され
ている。該タンク４０の内圧は、常時一定圧力、例えば
４Kgf ／cm2 Ｇに設定されており、液体窒素の液面を一
定圧力で押しているかのように見える。しかし、実際に
は、液面の高さに応じた自重（水頭圧）が液面に加わ
る。又、液体窒素は、タンク４０から断熱二重配管５
０、流量制御弁５２、シェブロン３４、熱交換器５４、
流量計５６を経て外部に放出されるが、タンク４０内の
液体窒素が沸騰状態にあるため、配管を流れるガスは１
００％の液体ではなく、気体と液体の混合状態の二相気
体が流れている。タンク４０の液面が低下してくると、
断熱二重配管５０内のガス圧力が低下するため、配管を
流れるガスの温度は低下する。又、沸騰した液体を配管
内に流し込んでいるためか、実際は、配管内で圧縮・膨
脹を繰り返す周期的な変化をしている。これは、流量計
５６により流量変化が確認できている。いずれにせよ、
これらの圧力変化がシェブロン３４の温度を不安定にし
ており、真空チャンバ２０内の真空度を一定に維持する
ことができず、安定強度のＳＯＲ光を長時間に渡って供
給することができないという問題点を有していた。
【００１０】従って従来は、加速器を運転するオペレー
タを特定の人間に固定したりしていたが、人員のやりく
りが大変であるだけでなく、必ずしも十分とは言えなか
った。
タを特定の人間に固定したりしていたが、人員のやりく
りが大変であるだけでなく、必ずしも十分とは言えなか
った。
【００１１】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、クライオパネル等の液体窒素の供給
先に、一定圧力の液体成分のみを供給することを課題と
する。
くなされたもので、クライオパネル等の液体窒素の供給
先に、一定圧力の液体成分のみを供給することを課題と
する。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、液体窒素を供
給先に供給する際に、真空断熱された気液分離装置を用
いて気体成分を排除し、一定圧力の液体成分のみを供給
することにより、前記課題を解決したものである。
給先に供給する際に、真空断熱された気液分離装置を用
いて気体成分を排除し、一定圧力の液体成分のみを供給
することにより、前記課題を解決したものである。
【００１３】又、前記方法により、クライオパネルのシ
ェブロンに液体窒素を供給するようにして、シェブロン
の温度を一定に維持し、これにより、真空チャンバ内の
真空度もほぼ一定に維持できるようにしたものである。
ェブロンに液体窒素を供給するようにして、シェブロン
の温度を一定に維持し、これにより、真空チャンバ内の
真空度もほぼ一定に維持できるようにしたものである。
【００１４】本発明は、又、液体窒素を供給先に供給す
るための液体窒素の供給装置において、液体窒素ライン
の途中に、真空断熱層で真空断熱された気液分離装置を
設け、該気液分離装置により気体成分が排除された、一
定圧力の液体成分のみの液体窒素を供給するようにし
て、前記課題を解決したものである。
るための液体窒素の供給装置において、液体窒素ライン
の途中に、真空断熱層で真空断熱された気液分離装置を
設け、該気液分離装置により気体成分が排除された、一
定圧力の液体成分のみの液体窒素を供給するようにし
て、前記課題を解決したものである。
【００１５】又、前記気液分離装置が、ガス入口から供
給される二相気体があてられる気液分離板と、該気液分
離板により分離された液体成分のみを溜めて行く容器
と、前記気液分離板により分離された気体成分を放出す
るための背圧調整弁とを含むようにしたものである。
給される二相気体があてられる気液分離板と、該気液分
離板により分離された液体成分のみを溜めて行く容器
と、前記気液分離板により分離された気体成分を放出す
るための背圧調整弁とを含むようにしたものである。
【００１６】更に、前記容器内の液面レベルを検出する
液面計と、該液面計で検出される液面レベルが一定値と
なるように、前記容器から供給先に供給される液体成分
の流量を制御する液量制御弁とを備えたものである。
液面計と、該液面計で検出される液面レベルが一定値と
なるように、前記容器から供給先に供給される液体成分
の流量を制御する液量制御弁とを備えたものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施形態を詳細に説明する。
実施形態を詳細に説明する。
【００１８】本実施形態は、図４に示したようなＳＯＲ
光源のクライオパネル３０の冷却系統において、図１に
示す如く、タンク４０と流量制御弁５２の間に気液分離
装置６０を設け、該気液分離装置６０により気体成分が
排除された、一定圧力の液体成分のみの液体窒素を、前
記クライオパネル３０のシェブロン３４に供給するよう
にしたものである。
光源のクライオパネル３０の冷却系統において、図１に
示す如く、タンク４０と流量制御弁５２の間に気液分離
装置６０を設け、該気液分離装置６０により気体成分が
排除された、一定圧力の液体成分のみの液体窒素を、前
記クライオパネル３０のシェブロン３４に供給するよう
にしたものである。
【００１９】前記気液分離装置６０は、図２に詳細に示
す如く、ガス入口６２から供給される二相気体があてら
れる、支柱６４で図の上方から支えられた気液分離板６
６と、該気液分離板６６により分離された液体成分のみ
を溜めて行く、真空断熱層６９で真空断熱された容器６
８と、該容器６８内の液面レベルを検出する液面計７０
と、前記気液分離板６６により分離された気体成分を冷
却水で冷却するための熱交換器７２（図１）と、該熱交
換器７２によって冷却された気体成分が所定圧力、例え
ば４kgf ／cm2 Ｇを超えたときに放出ライン５８に放出
するための背圧調整弁７４（図１）とを備えており、前
記液面計７０によって検出される液面レベルが一定高さ
となるように、前記流量制御弁５２が制御されている。
す如く、ガス入口６２から供給される二相気体があてら
れる、支柱６４で図の上方から支えられた気液分離板６
６と、該気液分離板６６により分離された液体成分のみ
を溜めて行く、真空断熱層６９で真空断熱された容器６
８と、該容器６８内の液面レベルを検出する液面計７０
と、前記気液分離板６６により分離された気体成分を冷
却水で冷却するための熱交換器７２（図１）と、該熱交
換器７２によって冷却された気体成分が所定圧力、例え
ば４kgf ／cm2 Ｇを超えたときに放出ライン５８に放出
するための背圧調整弁７４（図１）とを備えており、前
記液面計７０によって検出される液面レベルが一定高さ
となるように、前記流量制御弁５２が制御されている。
【００２０】前記気液分離板６６は、例えば図３に示す
ような、直径２０ｍｍの液体通過穴６７が開けられた、
直径１５５ｍｍの円板とされている。
ような、直径２０ｍｍの液体通過穴６７が開けられた、
直径１５５ｍｍの円板とされている。
【００２１】前記背圧調整弁７４は、放出側の圧力が設
定値を超えると、例えばスプリング伸び弁が開くように
されている。
定値を超えると、例えばスプリング伸び弁が開くように
されている。
【００２２】他の点に関しては、図４に示した従来例と
同様であるので、説明は省略する。
同様であるので、説明は省略する。
【００２３】以下、本実施形態の作用を説明する。
【００２４】断熱二重配管５０を介してタンク４０から
供給される二相気体は、ガス入口６２から気液分離装置
６０の容器６８内に導入され、気液分離板６６にあてら
れる。該気液分離板６６を通過した液体成分は、容器６
８に溜められる。一方、気液分離板６６によって分離さ
れた気体成分は、容器６８内の圧力が設定値、例えば４
kgf ／cm2 を超えると、背圧調整弁７４が開かれて、放
出ラインに放出される。即ち、この気液分離装置６０
は、その内部の液体窒素の液面を押す力が一定となるよ
うに、背圧調整弁７４で制御されている。又、該気液分
離装置６０内に収められた液面計７０が示す液面レベル
が一定となれるように、流量制御弁５２で制御して、気
液分離装置６０内の水頭圧が一定に維持される。
供給される二相気体は、ガス入口６２から気液分離装置
６０の容器６８内に導入され、気液分離板６６にあてら
れる。該気液分離板６６を通過した液体成分は、容器６
８に溜められる。一方、気液分離板６６によって分離さ
れた気体成分は、容器６８内の圧力が設定値、例えば４
kgf ／cm2 を超えると、背圧調整弁７４が開かれて、放
出ラインに放出される。即ち、この気液分離装置６０
は、その内部の液体窒素の液面を押す力が一定となるよ
うに、背圧調整弁７４で制御されている。又、該気液分
離装置６０内に収められた液面計７０が示す液面レベル
が一定となれるように、流量制御弁５２で制御して、気
液分離装置６０内の水頭圧が一定に維持される。
【００２５】このような気液分離装置６０を液体窒素ラ
インに導入することで、シェブロン３４にほぼ１００％
液体の安定した液体窒素を流すことができ、温度が８０
±１Ｋとほぼ安定した状態になり、真空チャンバ２０内
の真空度もほぼ一定にすることができた。
インに導入することで、シェブロン３４にほぼ１００％
液体の安定した液体窒素を流すことができ、温度が８０
±１Ｋとほぼ安定した状態になり、真空チャンバ２０内
の真空度もほぼ一定にすることができた。
【００２６】本実施形態においては、気液分離装置を気
液分離板を用いて構成しているので、構成が簡単であ
り、安価である。又、運転も簡単である。更に、小型で
すむため、設置スペースもあまり必要としない。なお、
気液分離装置の構成は、これに限定されない。
液分離板を用いて構成しているので、構成が簡単であ
り、安価である。又、運転も簡単である。更に、小型で
すむため、設置スペースもあまり必要としない。なお、
気液分離装置の構成は、これに限定されない。
【００２７】前記実施形態においては、本発明が、ＳＯ
Ｒ光源のクライオパネルのシェブロンへの液体窒素の供
給に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定
されず、ＳＯＲ光源の他の冷却対象や、加速器以外の一
般の液体窒素が供給されるシステム全般に、同様に適用
できることは明らかである。又、クライオパネルの吸着
剤も活性炭に限定されない。
Ｒ光源のクライオパネルのシェブロンへの液体窒素の供
給に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定
されず、ＳＯＲ光源の他の冷却対象や、加速器以外の一
般の液体窒素が供給されるシステム全般に、同様に適用
できることは明らかである。又、クライオパネルの吸着
剤も活性炭に限定されない。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、一定圧力の液体成分の
みの液体窒素を供給先に供給可能となる。又、気液混合
の温度的に不安定なガスではなく、より温度が安定な液
体ガスを供給できる。
みの液体窒素を供給先に供給可能となる。又、気液混合
の温度的に不安定なガスではなく、より温度が安定な液
体ガスを供給できる。
【図１】本発明の実施形態が適用された、ＳＯＲ光源の
クライオパネルへの液体窒素供給系統を示す管路図
クライオパネルへの液体窒素供給系統を示す管路図
【図２】前記実施形態で用いられている気液分離装置の
構成を示す断面図
構成を示す断面図
【図３】同じく気液分離板の形状を示す平面図
【図４】ＳＯＲ光源のクライオパネルの従来の冷却系統
を示す管路図
を示す管路図
１０…電子ビーム １２…ＳＯＲ光 １４…ビームダクト ３０…クライオパネル ３４…シェブロン ４０…液体窒素タンク ５０…断熱二重配管 ５２…流量制御弁 ５４、７２…熱交換器 ５６…流量計 ５８…放出ライン ６０…気液分離装置 ６２…ガス入口 ６６…気液分離板 ６８…容器 ６９…真空断熱層 ７０…液面計 ７４…背圧調整弁
Claims (5)
- 【請求項１】液体窒素を供給先に供給する際に、 真空断熱された気液分離装置を用いて気体成分を排除
し、 一定圧力の液体成分のみを供給することを特徴とする液
体窒素の供給方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の液体窒素の供給方法によ
り、クライオパネルのシェブロンに液体窒素を供給する
ことを供給することを特徴とする液体窒素の供給方法。 - 【請求項３】液体窒素を供給先に供給するための液体窒
素の供給装置において、 液体窒素ラインの途中に、真空断熱層で真空断熱された
気液分離装置を設け、 該気液分離装置により気体成分が排除された、一定圧力
の液体成分のみの液体窒素を供給することを特徴とする
液体窒素の供給装置。 - 【請求項４】請求項３に記載の液体窒素の供給装置にお
いて、前記気液分離装置が、 ガス入口から供給される二相気体があてられる気液分離
板と、 該気液分離板により分離された液体成分のみを溜めて行
く容器と、 前記気液分離板により分離された気体成分を放出するた
めの背圧調整弁と、 を含むことを特徴とする液体窒素の供給装置。 - 【請求項５】請求項４に記載の液体窒素の供給装置にお
いて、更に、 前記容器内の液面レベルを検出する液面計と、 該液面計で検出される液面レベルが一定値となるよう
に、前記容器から供給先に供給される液体成分の流量を
制御する液量制御弁と、 を備えたことを特徴とする液体窒素の供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05328498A JP3263652B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 放射光源の安定化方法、装置及び放射光源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05328498A JP3263652B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 放射光源の安定化方法、装置及び放射光源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11248327A true JPH11248327A (ja) | 1999-09-14 |
| JP3263652B2 JP3263652B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=12938444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05328498A Expired - Fee Related JP3263652B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 放射光源の安定化方法、装置及び放射光源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3263652B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007218573A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-30 | Kansai Electric Power Co Inc:The | Ｌｎｇ冷熱を利用した冷却方法と蓄冷装置 |
| CN102032440A (zh) * | 2009-09-28 | 2011-04-27 | 张家港圣汇气体化工装备有限公司 | 液化天然气加气系统用气液分离器 |
| JP2011524972A (ja) * | 2008-06-19 | 2011-09-08 | サド，ヤミル アディブ マシーズ | 滴下した液体窒素の直接接触による超高速食品冷凍装置 |
-
1998
- 1998-03-05 JP JP05328498A patent/JP3263652B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007218573A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-30 | Kansai Electric Power Co Inc:The | Ｌｎｇ冷熱を利用した冷却方法と蓄冷装置 |
| JP2011524972A (ja) * | 2008-06-19 | 2011-09-08 | サド，ヤミル アディブ マシーズ | 滴下した液体窒素の直接接触による超高速食品冷凍装置 |
| CN102032440A (zh) * | 2009-09-28 | 2011-04-27 | 张家港圣汇气体化工装备有限公司 | 液化天然气加气系统用气液分离器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3263652B2 (ja) | 2002-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5331817A (en) | Portable self-cooling and self-heating device for food and beverage containers | |
| JPH0155392B2 (ja) | ||
| JPS60230029A (ja) | クライオポンプを備えた漏洩検出装置 | |
| US5050403A (en) | Cooling container for a sorption apparatus | |
| US4346752A (en) | Self-driven chemical heat pipe | |
| JP2008215799A (ja) | 吸着冷凍システムの作動方法 | |
| GB2127493A (en) | An arrangement and a method for the rapid regeneration of self-contained cryopumps | |
| JP3263652B2 (ja) | 放射光源の安定化方法、装置及び放射光源 | |
| EP0699277B1 (en) | Modified cryogenic diffusion pump | |
| JPH11248280A (ja) | クライオパネルの冷却装置 | |
| US5829270A (en) | Cryogenics | |
| EP0100554B1 (en) | Process for cooling and fluidizing | |
| JP2843307B2 (ja) | オゾン濃縮装置及びオゾン濃縮方法 | |
| US11719449B2 (en) | Systems for refrigerating an enclosure | |
| JPH09196528A (ja) | 高効率冷却用熱交換器 | |
| JPH11159922A (ja) | 吸収式ヒートポンプシステム | |
| Hoenig et al. | New developments in liquid hydrogen target systems at the cambridge electron accelerator | |
| JP3316859B2 (ja) | 化学蓄熱システム | |
| JPS63297983A (ja) | 低温保冷装置 | |
| Borisov et al. | Powerful 3He/4He dilution refrigerator for frozen spin target | |
| JPS6350301A (ja) | 水素吸蔵・放出方法 | |
| RU2057653C1 (ru) | Криостат для транспортного средства на магнитной подвеске | |
| JPS5969669A (ja) | 磁気冷凍装置 | |
| JPS6349887B2 (ja) | ||
| JPS58112305A (ja) | 超電導磁石装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071221 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081221 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081221 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091221 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |