JP3254373B2 - Clean room and its operation method - Google Patents
Clean room and its operation methodInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はクリーンルームに係
り、特に天井プレナムチャンバと床下レタンチャンバ間
に構成されるクリーンルームおよびその運転方法に関
し、特にベイ方式や混流式のクリーンルームなど清浄空
間に層流と乱流が共存するクリーンルームおよびその運
転方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a clean room, and more particularly to a clean room and a method of operating the same between a ceiling plenum chamber and an underfloor retan chamber, and more particularly, to laminar flow and turbulence in a clean space such as a bay type or mixed flow type clean room. The present invention relates to a clean room in which a stream coexists and an operation method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、半導体製造用のクリーンルー
ムなど、高い清浄度(例えば、米国連邦規格209Eの
クラスM4〜M1)が要求されるクリーンルームでは、
図4に示すような全面垂直層流方式が採用されている。
この全面垂直層流方式のクリーンルーム402は、天井
プレナムチャンバ404と床下レタンチャンバ406の
間に形成される。天井プレナムチャンバ404とクリー
ンルーム402との境界面にはULPAフィルタなどの
高性能フィルタ408が全面に配置されてクリーンエア
ーの吹き出し面を構成している。床下レタンチャンバ4
06とクリーンルームとの境界面には複数の吸込口が形
成された吸込面410が形成されており、その上面に半
導体製造装置などの各種機器411a〜411dが設置
されている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a clean room requiring a high cleanliness (for example, classes M4 to M1 of US Federal Standard 209E), such as a clean room for semiconductor manufacturing,
A vertical laminar flow system as shown in FIG. 4 is employed.
The clean room 402 of the entire vertical laminar flow system is formed between the ceiling plenum chamber 404 and the underfloor retan chamber 406. A high-performance filter 408 such as an ULPA filter is disposed on the entire boundary surface between the ceiling plenum chamber 404 and the clean room 402 to form a clean air blowing surface. Underfloor urethane chamber 4
A suction surface 410 in which a plurality of suction ports are formed is formed on a boundary surface between the cleaning room 06 and the clean room, and various devices 411a to 411d such as a semiconductor manufacturing apparatus are installed on an upper surface thereof.
【0003】外気供給ダクト412から給気された外気
OAおよびクリーンルームからの還気414は、ファン
416により、フィルタ418、無結露コイル420お
よびサイレンサ422、424を順次通過して、天井プ
レナムチャンバ404に送られ、高性能フィルタ408
により濾過されて、垂直層流のクリーンエアーとして、
床面(吸込面)410方向に流される。The outside air OA supplied from the outside air supply duct 412 and the return air 414 from the clean room pass through the filter 418, the non-condensing coil 420, and the silencers 422, 424 by a fan 416, and are passed to the ceiling plenum chamber 404. Sent, high-performance filter 408
, As vertical laminar clean air,
The water flows in the direction of the floor surface (suction surface) 410.
【0004】図4に示すような全面垂直層流方式のクリ
ーンルームはクリーンルーム402全域にわたってほぼ
同一の清浄度を達成することが可能であり、従ってクリ
ーンルームの使い勝手の自由度は高くなるが、その反
面、設備費や運転費も高くなるという問題があった。ま
たクリーンルーム全域にわたりほぼ同一の垂直気流を循
環させているため、送風動力も大きくなりランニングコ
ストがかさむという問題があった。A clean room of the vertical laminar flow type as shown in FIG. 4 can achieve almost the same cleanliness over the entire clean room 402, so that the degree of freedom of use of the clean room is increased. There was a problem that equipment costs and operating costs also increased. In addition, since almost the same vertical airflow is circulated throughout the clean room, there is a problem that the blowing power is increased and the running cost is increased.
【0005】かかる全面垂直層流方式の問題点を克服す
る方式として、近年いわゆるオープンベイ方式のクリー
ンルームが提案されている。このオープンベイ方式のク
リーンルームを図5に示す。なおこのオープンベイ方式
のクリーンルームの基本的な構成は、図4に関連して説
明した全面垂直層流方式のクリーンルームと実質的に同
一なので、同じ機能を有する構成要素について、同一の
番号を付することにより、重複説明を省略することとす
る。As a method for overcoming the problem of the vertical laminar flow system, a so-called open bay type clean room has recently been proposed. FIG. 5 shows this open bay type clean room. Note that the basic configuration of the open bay type clean room is substantially the same as the entire vertical laminar flow type clean room described with reference to FIG. 4, and thus the same reference numerals are given to components having the same functions. Thus, the duplicate description will be omitted.
【0006】このオープンベイ方式のクリーンルームで
は、そのエリアで必要とされる清浄度に応じてフィルタ
408の設置面積割合や性能を選定している。たとえ
ば、ウェハが移動したり、製造装置のロード部に移載し
たりする、汚染を非常に嫌うプロセスエリア(例えば、
402a、402c)では、その天井部に設置されるフ
ィルタ408の設置面積割合を上げたり、フィルタ40
8の性能を上げて、清浄度を高く設定する。これに対し
て、製造装置のメンテナンス部(例えば402b、40
2d)やメンテナンス員の通路(例えば、402e)な
ど通常は高い清浄度が要求されないエリアでは、その天
井部に設置されるフィルタ408の設置面積割合を低く
したり、あるいはフィルタ408の性能を下げるなどし
て、清浄度を低く設定している。さらに、このオープン
ベイ方式の場合、清浄度の高いエリアと低いエリアとの
境界面に、バックパネル(例えば、製造装置の背面部と
メンテナンスエリアを区分けするサンドイッチ鋼板製等
の固定壁)430や垂れ壁(例えば、製造装置前面部と
作業通路の区分けに使用する透明なアクリル板などの垂
れ壁)432、ビニールカーテン、アイリッド(図示せ
ず)などの壁体を設置して、両エリア間を区分し、気流
の混合をなくし、あるいは減らすことにより、クロスコ
ンタミネーションを防止している。[0006] In this open bay type clean room, the installation area ratio and performance of the filter 408 are selected according to the cleanliness required in the area. For example, a process area that is extremely resistant to contamination, such as when a wafer moves or is transferred to a load section of a manufacturing apparatus (for example,
402a and 402c), the installation area ratio of the filter 408 installed on the ceiling is increased,
The performance of No. 8 is improved, and the cleanliness is set high. On the other hand, the maintenance unit (for example, 402b, 40
In areas where high cleanliness is not normally required, such as 2d) and the passage of maintenance personnel (for example, 402e), the installation area ratio of the filter 408 installed on the ceiling is reduced, or the performance of the filter 408 is reduced. And the cleanliness is set low. Further, in the case of this open bay system, a back panel (for example, a fixed wall made of a sandwich steel plate or the like that separates a back surface of the manufacturing apparatus from a maintenance area) 430 or a droop is provided at a boundary surface between an area with high cleanliness and an area with low cleanliness. A wall (for example, a hanging wall made of a transparent acrylic plate or the like used to separate the front of the manufacturing apparatus from the work passage) 432, a wall such as a vinyl curtain, an eye lid (not shown), and the like are installed to separate the two areas. In addition, cross contamination is prevented by eliminating or reducing air flow mixing.
【0007】以上のようなオープンベイ方式のクリーン
ルームでは、循環送風量が図4に示す全面垂直層流方式
に比べて少なくなるので、送風動力が小さくなり、従っ
てランニングコストも下がる。また清浄度の低いエリア
では相対的にフィルタの設置面積が少なくなるので設備
費や運転費が下がる。しかしながら、フィルタ408や
垂れ壁432やバックパネル430、ビニールカーテ
ン、アイリッドの設置場所が固定されてしまうため、製
造装置の入れ替えやラインの変更を行う場合は、フィル
タの設置場所の変更(従って、シールもやり直す必要が
ある。)や、垂れ壁432やバックパネル430の取り
外しと取り付け工事が必要となり手間がかかり、大規模
な変更を行う場合には、クリーンルームを停止する必要
もあった。In the above-described open bay type clean room, the amount of circulating air is smaller than that in the entire vertical laminar flow system shown in FIG. 4, so that the air blowing power is reduced and the running cost is also reduced. In an area with low cleanliness, the installation area of the filter is relatively small, so that the equipment cost and the operating cost are reduced. However, since the installation location of the filter 408, the hanging wall 432, the back panel 430, the vinyl curtain, and the eye lid is fixed, when the manufacturing apparatus is replaced or the line is changed, the installation location of the filter is changed (accordingly, the sealing is performed). Also, it is necessary to remove and attach the hanging wall 432 and the back panel 430, and it is troublesome, and when making large-scale changes, it is necessary to stop the clean room.
【0008】ところで、上記クリーンルーム内には、半
導体ウェハやLCD基板などを製造するための製造装置
が設置される。かかる製造装置には、通常、開閉自在の
扉を有するメンテナンス部が設けられている。このメン
テナンス部は、ウェハが製造ラインを流れている通常製
造時には閉止されており、汚染空気が装置内部に侵入す
ることはない。しかし、必要に応じて、あるいは定期的
(例えば、1日に1度、あるいは1週間に1度)に行わ
れる装置内部の清掃等のメンテナンス時には、このメン
テナンス部は開放される。そのため、メンテナンス部が
開放されている間は、装置内部の汚染を防止するため
に、製造装置周辺に清浄空気を流す必要がある。この
点、従来のオープンベイ方式のクリーンルームでは、製
造装置をメンテナンスしているかどうかにかかわらず、
常にある程度の清浄度の空気を供給しておかなければな
らず、ランニングコストの増大に結びついていた。Incidentally, a manufacturing apparatus for manufacturing a semiconductor wafer, an LCD substrate and the like is installed in the clean room. Such a manufacturing apparatus is usually provided with a maintenance unit having a door that can be opened and closed. This maintenance unit is closed during normal manufacturing in which a wafer flows on a manufacturing line, and contaminated air does not enter the inside of the apparatus. However, the maintenance unit is opened as needed or at the time of maintenance such as cleaning of the inside of the apparatus which is performed periodically (for example, once a day or once a week). Therefore, while the maintenance unit is open, it is necessary to flow clean air around the manufacturing apparatus in order to prevent contamination inside the apparatus. In this regard, in the conventional open bay type clean room, regardless of whether the manufacturing equipment is maintained,
Air of a certain degree of cleanliness must always be supplied, leading to an increase in running costs.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のクリ
ーンルームが有する上記のような問題点に鑑みて成され
たものであり、その目的は、垂れ壁やバックパネルなど
の壁体を使用せずにクリーンルーム内に清浄度の異なる
領域を自由に構成することが可能であり、またそれらの
領域の変更も容易に行うことが可能であり、またクリー
ンルームの建設施工方法を簡略化することが可能であ
り、従って工期を短縮し、建設コストを下げることが可
能であり、さらにクリーンルームの使い勝手の自由度を
高めることが可能であり、加えてランニングコストの低
減を図ることが可能な新規かつ改良されたクリーンルー
ムを提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of a conventional clean room, and its object is to use a wall such as a hanging wall or a back panel. It is possible to freely configure areas with different cleanliness in the clean room without changing the area, and it is also possible to easily change those areas and simplify the construction and construction method of the clean room Therefore, the construction period can be shortened, the construction cost can be reduced, the degree of freedom of the clean room can be increased, and the running cost can be reduced. Is to provide a clean room.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば、天井プレナムチャンバ(102)
と床下レタンチャンバ(106)間に構成されるクリー
ンルーム(104)は、清浄度の高い高清浄度エリア
(104H)と、その高清浄度エリアの清浄度よりも相
対的に低い清浄度の低清浄度エリア(104L)から構
成されるとともに、これらの高清浄度エリア(104
H)と低清浄度エリア(104L)の間にバッファ空間
(104B)が設けられる。そして、少なくとも高清浄
度エリア(104H)とバッファ空間(104B)の天
井プレナムチャンバにそれぞれにファンフィルタユニッ
ト(200)を設置し、その各ファンフィルタユニット
(200)により、各空間における単位面積あたりの平
均風速が、バッファ空間(104B)の平均風速は高清
浄度エリア(104H)の平均風速以下となり、低清浄
度エリア(104L)の平均風速はバッファ空間(10
4B)の平均風速よりも小さくなるように調整する。か
かる構成によれば、清浄空気が高清浄度エリア(104
H)から低清浄度エリア(104L)に自然に流れるよ
うに気流方向を調整することが可能であり、さらにま
た、低清浄空間に生じる乱流が高清浄度エリア(104
H)に逆流し、またはクロスコンタミネーションを引き
起こす現象をバッファ空間(104B)を設けることに
より解消できる。According to the present invention, a ceiling plenum chamber (102) is provided.
A clean room (104) formed between the high-purity area and the under-floor urethane chamber (106) has a high cleanliness area (104H) and a low cleanliness that is relatively lower than the cleanliness of the high cleanliness area. And a high cleanliness area (104L).
H) and the buffer space between the low cleanliness area (104L)
(104B) is provided . Then, set up a fan filter unit (200), respectively to the ceiling plenum chamber at least highly clean area (104H) and buffer space (104B), the more the fan filter unit (200), per unit area in each space The average wind speed in the buffer space (104B) is equal to or lower than the average wind speed in the high cleanliness area (104H), and the average wind speed in the low cleanliness area (104L) is
Adjust so as to be lower than the average wind speed of 4B). According to this configuration, the clean air is supplied to the high cleanliness area (104).
H), it is possible to adjust the air flow direction so as to flow naturally from the low cleanliness area (104L) to the low cleanliness area (104L).
The phenomenon of causing backflow to H) or causing cross-contamination can be eliminated by providing the buffer space (104B).
【0011】従って、本発明によれば、従来のように、
垂れ壁やバックパネルなどの壁体を一切使用せずとも、
低清浄度エリア(104L)と高清浄度エリア(104
H)のクロスコンタミネーションを有効に防止すること
が可能である。またファンフィルタユニット(200)
はシリコーンシール等を用いない乾式工法で設置可能な
ので移設を非常に容易に行うことが可能である。また、
天井プレナムチャンバ(102)が負圧になるメリット
を活かすことで、クリーンルームの操業が稼働中の移設
も可能になる。さらに、本発明によれば、垂れ壁やバッ
クパネルを一切使用しないので、製造装置(110a〜
110e)の入れ換えや、ラインの変更などに伴うクリ
ーンルーム(104)内のレイアウト変更が容易にな
る。また垂れ壁やバックパネルがないために作業員の移
動の自由度が増し、作業性の向上を図ることができる。
またアイリッドやバックパネルを使用しない分だけ設備
コストを下げることができる。Therefore, according to the present invention, as in the prior art,
Even without using any walls such as hanging walls and back panels,
Low cleanliness area (104L) and high cleanliness area (104L)
H) It is possible to effectively prevent the cross contamination. Also fan filter unit (200)
Can be installed by a dry method without using a silicone seal or the like, so that the transfer can be performed very easily. Also,
By taking advantage of the negative pressure in the ceiling plenum chamber (102), it is possible to relocate the clean room during operation. Furthermore, according to the present invention, since no hanging wall or back panel is used, the manufacturing apparatus (110a to 110a)
It is easy to change the layout in the clean room (104) due to replacement of 110e) or change of lines. Further, since there is no hanging wall or back panel, the degree of freedom of movement of the worker is increased, and the workability can be improved.
In addition, equipment costs can be reduced by the amount that the eye lid and the back panel are not used.
【0012】また、本発明によれば、高清浄度エリア
(104H)の吸込口(108a)として用いられる床
面(108)の有効開口面積を、低清浄度エリア(10
4L)の吸込口(108b)として用いられる床面(1
08)の有効開口面積よりも各空間の風量比において小
さくすることで、さらに効果的に気流の方向を高清浄度
エリア(104H)から低清浄度エリア(104L)に
調整することが可能となる。According to the present invention, the effective opening area of the floor (108) used as the suction port (108a) of the high cleanliness area (104H) is changed to the low cleanliness area (10H).
Floor (1L) used as a suction port (108b)
08), the air flow direction can be more effectively adjusted from the high cleanliness area (104H) to the low cleanliness area (104L) by making the air flow ratio of each space smaller than the effective opening area of (08). .
【0013】さらに、上記のように構成されるクリーン
ルーム(104)内に製造装置(110a〜110e)
を設置する際には、そのメンテナンス部側が低清浄度エ
リア(104L)に向けて設置することが好ましく、少
なくともそのメンテナンス部の天井付近(例えば、バッ
ファ空間(104B)や低清浄度エリア(104L)の
上部(116、118)に設置されるファンフィルタユ
ニット(200a、200b)を、必要に応じて運転停
止自在に構成することが好ましい。Further, the manufacturing apparatuses (110a to 110e) are installed in the clean room (104) configured as described above.
When installing the maintenance unit, it is preferable that the maintenance unit side is installed toward the low cleanliness area (104L), and at least near the ceiling of the maintenance unit (for example, the buffer space (104B) or the low cleanliness area (104L)). It is preferable to configure the fan filter units (200a, 200b) installed on the upper portions (116, 118) of the devices so that the operation can be stopped as required.
【0014】かかる構成に成るクリーンルーム(10
0)によれば、製造装置(110a〜104e)のメン
テナンス部の天井付近に設置されるファンフィルタユニ
ット(200a、200b)は、少なくとも製造装置の
メンテナンス時に駆動し、低清浄度エリア(104L)
にあるメンテナンス部にあまり清浄度が要求されないよ
うな場合、例えば通常製造時には停止することが可能な
ので、循環風量を軽減することが可能となり、省動力、
低ランニングコストの運転が可能となる。The clean room (10
According to 0), the fan filter units (200a, 200b) installed near the ceiling of the maintenance unit of the manufacturing apparatus (110a to 104e) are driven at least during maintenance of the manufacturing apparatus, and the low cleanliness area (104L)
In the case where the cleanliness is not required so much in the maintenance section in, for example, it is possible to stop during normal production, it is possible to reduce the amount of circulating air, to save power,
Operation at low running cost becomes possible.
【0015】すなわち、製造装置(110a〜110
e)のメンテナンス部の天井付近に設置されるファンフ
ィルタユニット(200a、200b)の運転を停止し
た場合、バッファ空間(108B)による緩衝作用(た
とえば、高清浄度エリア(104H)への低清浄度エリ
ア(104L)からの乱流の巻き込み防止作用)は無く
なるが、高清浄度エリア(104H)の天井面より吹き
出されるエアーの吹出方向が、風量あたりの床面の開口
面積の差によって、そして各エリアの圧力差によって、
低清浄度エリア(104L)の方向に流れるため、また
この空間は通常製造時には無人であることから、クロス
コンタミネーションを有効に防止することができる。こ
れに対して、製造装置(110a〜110e)のメンテ
ナンス時などには、製造装置(110a〜110e)の
メンテナンス部を開放する必要などから、低清浄度エリ
ア(104L)においても所定の清浄度が要求される
が、その場合にのみ、上記ファンフィルタユニット(2
00a、200b)を運転すれば、低清浄度エリア(1
04L)の清浄度を高め、製造装置の内部汚染を効果的
に防ぐことができる。That is, the manufacturing apparatuses (110a to 110a)
e) When the operation of the fan filter units (200a, 200b) installed near the ceiling of the maintenance section is stopped, the buffering action (eg, low cleanliness to the high cleanliness area (104H)) by the buffer space (108B) Although the effect of preventing the turbulent flow from the area (104L) is eliminated, the blowing direction of the air blown from the ceiling surface of the high cleanliness area (104H) depends on the difference in the opening area of the floor surface per air volume, and Depending on the pressure difference in each area,
Since it flows in the direction of the low cleanliness area (104L), and since this space is usually unmanned during manufacturing, cross contamination can be effectively prevented. On the other hand, at the time of maintenance of the manufacturing apparatuses (110a to 110e) or the like, the maintenance section of the manufacturing apparatuses (110a to 110e) needs to be opened. Required, but only then, the fan filter unit (2
00a, 200b), the low cleanliness area (1
04L) can be increased, and internal contamination of the manufacturing apparatus can be effectively prevented.
【0016】さらに、低清浄度エリア(104L)の天
井には、メンテナンス部の天井付近に設置されるファン
フィルタユニット(200a、200b)とは独立に運
転停止が可能なファンフィルタユニット(200c)を
設けることができる。このファンフィルタユニット(2
00c)は、例えば、無結露コイル(114)で冷却さ
れた冷気を低清浄度エリア(104L)内に供給するこ
とが可能なものである。例えば、通常運転時で、例えば
ファンフィルタユニット(200a、200b)が停止
している間に、製造装置の発熱を抑えるために、上記フ
ァンフィルタユニット(200c)を駆動することがで
きる。Further, on the ceiling of the low cleanliness area (104L), a fan filter unit (200c) that can be stopped independently of the fan filter units (200a, 200b) installed near the ceiling of the maintenance unit. Can be provided. This fan filter unit (2
00c) can supply, for example, cool air cooled by the non-condensing coil (114) into the low cleanliness area (104L). For example, during normal operation, for example, while the fan filter units (200a, 200b) are stopped, the fan filter unit (200c) can be driven to suppress heat generation of the manufacturing apparatus.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら本
発明に係るクリーンルームシステムの好適な実施例につ
いて説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a clean room system according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【0018】図1には、本発明に係るクリーンルームシ
ステム100の概略が示されている。このクリーンルー
ムシステム100は、天井プレナムチャンバ102とク
リーンルーム104と床下レタンチャンバ106とから
構成されている。クリーンルーム104は、要求される
清浄度が異なる複数の空間104H、104L、104
Bから構成されている。図示の例では、クリーンルーム
104は、ウェハのロードアンロードが行われて汚染を
非常に嫌うプロセスエリア(以下、高清浄度エリアと称
する。)104Hと、製造装置のメンテナンスを行った
りメンテナンス員が往来するあまり高い清浄度が要求さ
れないエリア(以下、低清浄度エリアと称する。)10
4Lから構成されている。さらに、高清浄度エリア10
4Hと低清浄度エリア104Lの間にはバッファ空間1
04B(図中、点線で示す領域)が構成されている。バ
ッファ空間Bは、低清浄度エリアからの塵埃で高清浄度
エリアが汚染されぬよう製造装置(ワーク処理装置)の
上部に設けられている。これにより、従来ワーク処理装
置のロードアンロード部と低清浄度エリアを区画してい
た垂れ壁を省略している。FIG. 1 schematically shows a clean room system 100 according to the present invention. The clean room system 100 includes a ceiling plenum chamber 102, a clean room 104, and an underfloor urethane chamber 106. The clean room 104 includes a plurality of spaces 104H, 104L , and 104 having different required degrees of cleanliness.
B. In the illustrated example, in the clean room 104, a process area (hereinafter, referred to as a high cleanliness area) 104H in which the loading and unloading of the wafer is performed and the contamination is extremely disfavored, a maintenance of the manufacturing apparatus, and a maintenance staff come and go. (Hereinafter, referred to as a low cleanliness area) 10 in which a very high cleanliness is not required.
4L. Furthermore, high cleanliness area 10
Buffer space 1 between 4H and low cleanliness area 104L
04B (a region indicated by a dotted line in the figure) is configured. The buffer space B is provided above the manufacturing apparatus (work processing apparatus) so that the high cleanliness area is not contaminated by dust from the low cleanliness area. Thereby, the hanging wall which conventionally divides the load / unload section and the low cleanliness area of the work processing apparatus is omitted.
【0019】クリーンルーム104の床面108(すな
わち、クリーンルーム104と床下レタンチャンバ10
6との境界面)は、格子板やパンチング板などから構成
されて、多数の吸込口108a、108bを備え、その
吸込口108a、108bを介してクリーンルーム10
4の還気エアを吸い込むことが可能なように構成されて
いる。なおこの吸込口108a、108bは床面108
全面に設けても良いし、必要な場所だけに設けても良
い。特に、後述するように、気流を高清浄度エリア10
4Hから低清浄度エリア104Lに向かって流したい場
合には、高清浄度エリア104Hの吸込口108aを有
する床面108の有効開口面積を低清浄度エリア104
Lの吸込口108bを有する床面108の有効開口面積
よりも吸込風量との比で小さくすることが好ましい。す
なわち、高清浄度エリアは低清浄度エリアよりも清浄空
気の供給量が圧倒的に多いので、各エリアごとの床面の
開口面積の総和に関しては、前者を後者より大きくせざ
るを得ないが、各エリアごとの吸込風量の総和と開口面
積の総和との比に関して、前者を後者よりも小さくすれ
ば、床面に抵抗を生じることになり、低清浄度エリアに
向けて清浄空気が流れるようになる。The floor 108 of the clean room 104 (that is, the clean room 104 and the under-floor
6) is composed of a lattice plate, a punching plate, or the like, and has a large number of suction ports 108a and 108b, and the clean room 10 is provided through the suction ports 108a and 108b.
4 is configured to be able to suck in the return air. The suction ports 108a and 108b are
It may be provided on the entire surface, or may be provided only at a necessary place. In particular, as will be described later, the airflow is controlled in the high cleanliness area 10.
When it is desired to flow from 4H to the low cleanliness area 104L, the effective opening area of the floor 108 having the suction port 108a of the high cleanliness area 104H is changed to the low cleanliness area 104.
It is preferable that the ratio is smaller than the effective opening area of the floor surface 108 having the L suction port 108b with respect to the suction air flow rate. That is, the high cleanliness area has an overwhelmingly larger supply of clean air than the low cleanliness area, so the total sum of the floor opening areas for each area must be larger than the latter. Regarding the ratio of the sum of the intake air volume and the sum of the opening areas for each area, if the former is smaller than the latter, resistance will occur on the floor surface, and the clean air will flow toward the low cleanliness area. become.
【0020】これらの床面108は、例えば半導体製造
装置を設置することが可能な程度の強度を備えている。
図示の一例では、高清浄度エリア104Hにウェハのロ
ードアンロード装置110aが設置されており、そのロ
ードアンロード装置110aに隣接して処理装置110
bが設置されている。この処理装置110bのメンテナ
ンス側はバッファ空間104Bを介して低清浄度エリア
104L内に配置される。また別の高清浄度エリア10
4Hにも処理装置110c、110d、110eがそれ
ぞれ設置されており、これらの処理装置110c、11
0d、110eのメンテナンス側は、同様にバッファ空
間104Bを介して低清浄度エリア104L内に配置さ
れる。These floors 108 have such a strength that a semiconductor manufacturing apparatus can be installed, for example.
In the illustrated example, a wafer load / unload device 110a is installed in the high cleanliness area 104H, and the processing device 110 is located adjacent to the load / unload device 110a.
b is installed. The maintenance side of the processing device 110b is disposed in the low cleanliness area 104L via the buffer space 104B. Another high cleanliness area 10
4H, processing devices 110c, 110d, and 110e are respectively installed.
The maintenance sides of 0d and 110e are similarly disposed in the low cleanliness area 104L via the buffer space 104B.
【0021】床下レタンプレナムチャンバ106内にお
ける、上記床面108の吸込口108a、108bから
の還気および外気処理装置112からの外気(OA)
は、無結露コイル114を介して、上方に送られ、さら
に天井プレナムチャンバ102に送られる。天井プレナ
ムチャンバ102とクリーンルーム104との境界面1
16(すなわち、天井面)には、例えば縦横に渡した梁
材や枠材によって構成されるファンフィルタユニット2
00設置用の設置枠が多数形成されており、ファンフィ
ルタユニット200は、この設置枠の開口部を覆うよう
にして、この設置枠に着脱自在に設けられる。なお、外
気処理装置としては、公知のエアハンドリングユニット
を用い、クリーンルームの潜熱負荷等を賄わせる。ま
た、無結露コイル114は、コイル出口部の循環空気を
計測するセンサと、コイル内の冷媒の流量を制御する自
動弁と、温度センサの計測値から自動弁の開度を演算す
るコントローラを備えるものである。冷媒としては、フ
ロン系冷媒と冷水が用いられるが、後者の方が好適であ
る。In the underfloor replenishment chamber 106, return air from the suction ports 108a and 108b of the floor surface 108 and outside air (OA) from the outside air processing device 112 are provided.
Is sent upward through a non-condensing coil 114 and further sent to the ceiling plenum chamber 102. Boundary surface 1 between ceiling plenum chamber 102 and clean room 104
16 (that is, the ceiling surface) is provided with a fan filter unit 2 composed of, for example, beams and frames that are extended vertically and horizontally.
A large number of installation frames for installation are formed, and the fan filter unit 200 is detachably provided on the installation frame so as to cover the opening of the installation frame. Note that a known air handling unit is used as the outside air processing device to cover the latent heat load of the clean room. The non-condensing coil 114 includes a sensor that measures the circulating air at the coil outlet, an automatic valve that controls the flow rate of the refrigerant in the coil, and a controller that calculates the opening of the automatic valve from the measurement value of the temperature sensor. Things. As the refrigerant, a CFC-based refrigerant and cold water are used, and the latter is more preferable.
【0022】次に、ファンフィルタユニット200の概
略について説明する。このファンフィルタユニット20
0は、例えば、特開平7−243682号公報に開示さ
れている。かかるファンフィルタユニット200は、例
えば略直方体のケーシング内に、上面の吸込口から下面
の吹出口に向けて、ファンユニットとULPA(または
HEPA)フィルタを順次収納したものであり、ファン
ユニットを、例えばインバータ制御することにより、所
望の風速を有する清浄空気を下面の吹出口から供給する
ことができるものである。なお、ファンフィルタユニッ
ト200には、中央監視盤に接続されるターミナルユニ
ットが設けられており、ファンユニットへの電力供給、
駆動停止指令やインバータからの運転周波数の信号を中
継することができる。従って、ファンフィルタユニット
200は、中央監視盤からの指令に応じて、ファンを発
停させ、清浄空気の供給停止、ファンの回転数制御を行
うことができる。Next, the outline of the fan filter unit 200 will be described. This fan filter unit 20
0 is disclosed, for example, in JP-A-7-243682. The fan filter unit 200 includes, for example, a fan unit and an ULPA (or HEPA) filter sequentially housed in a substantially rectangular parallelepiped casing from the suction port on the upper surface to the outlet on the lower surface. By performing inverter control, clean air having a desired wind speed can be supplied from the outlet on the lower surface. Note that the fan filter unit 200 is provided with a terminal unit connected to the central monitoring panel, and supplies power to the fan unit,
It is possible to relay a drive stop command and an operation frequency signal from the inverter. Therefore, the fan filter unit 200 can start and stop the fan, stop the supply of clean air, and control the number of revolutions of the fan in accordance with a command from the central monitoring panel.
【0023】以上のように構成されるファンフィルタユ
ニット200は、天井面に形成される設置枠に対して着
脱自在に設置することが可能である。そして、本実施例
によれば、高清浄度エリア104Hの天井面113で
は、ファンフィルタユニット200の設置割合を高める
ことにより、より清浄なエアを供給することができる。
これに対して、低清浄度エリア104Lではあまり高い
清浄度が要求されないので、その天井面116に設置さ
れるファンフィルタユニット200の設置割合を低く抑
えることが可能である。なお、清浄度要求に対しては、
上述のように、ファンフィルタユニット200の設置割
合により調整することも可能であるが、ファンフィルタ
ユニット200に内設されるフィルタの性能を変えるこ
とや、ファンの運転を停止しておくことによっても調整
することができる。すなわち、高清浄度エリア104H
に対してはより高性能のフィルタを使用し、低清浄度エ
リア104Lに対しては相対的に性能の低いフィルタを
使用しても良い。The fan filter unit 200 configured as described above can be detachably installed on an installation frame formed on the ceiling surface. Then, according to this embodiment, the ceiling surface 11 3 of the high cleanliness area 104H, by increasing the installation rate of the fan filter unit 200 may provide the cleaner air.
On the other hand, since a very high cleanliness is not required in the low cleanliness area 104L, the installation ratio of the fan filter unit 200 installed on the ceiling surface 116 can be reduced. For cleanliness requirements,
As described above, the adjustment can be performed by the installation ratio of the fan filter unit 200. However, it is also possible to change the performance of the filter provided in the fan filter unit 200 or to stop the operation of the fan. Can be adjusted. That is, the high cleanliness area 104H
, A higher performance filter may be used, and a relatively low performance filter may be used for the low cleanliness area 104L.
【0024】さらに上記実施例においては、高清浄度エ
リア104Hと低清浄度エリア104Lの間にバッファ
空間104B(図中、点線で示す領域)が構成されてい
る。そして、本発明によれば、このバッファ空間104
Bの天井面118には、バッファ空間用のファンフィル
タユニット200aが設置される。このファンフィルタ
ユニット200aは、後述するように、上記バッファ空
間104Bの単位面積あたり平均風速が、高清浄度エリ
ア104Hの単位面積あたり平均風速以下であり、かつ
低清浄度エリア104Lの単位面積あたり平均風速より
も高くなる程度の設置割合で設置される。Further, in the above embodiment, a buffer space 104B (a region shown by a dotted line in the figure) is formed between the high cleanliness area 104H and the low cleanliness area 104L. Then, according to the present invention, this buffer space 104
A fan filter unit 200a for the buffer space is installed on the ceiling surface 118 of B. As will be described later, the fan filter unit 200a has an average wind speed per unit area of the buffer space 104B equal to or less than an average wind speed per unit area of the high cleanliness area 104H, and an average wind speed per unit area of the low cleanliness area 104L. It is installed at an installation ratio that is higher than the wind speed.
【0025】なお、バッファ空間104B用のファンフ
ィルタユニット200aに使用されるフィルタとして
は、少なくとも低清浄度エリア104L用のファンフィ
ルタユニット200に使用されるフィルタの性能を有し
ていれば十分である。しかし、クロスコンタミネーショ
ンの防止がより厳格に要求される場合には、高清浄度エ
リア104H用のファンフィルタユニットに使用される
フィルタと同等またはそれ以上のものを使用することが
好ましい。It is sufficient that the filter used in the fan filter unit 200a for the buffer space 104B has at least the performance of the filter used in the fan filter unit 200 for the low cleanliness area 104L. . However, when prevention of cross contamination is more strictly required, it is preferable to use a filter equivalent to or more than a filter used in a fan filter unit for the high cleanliness area 104H.
【0026】以上のように、本実施の形態によれば、1
台ごとに自由に吹き出し風速を変えることができるの
で、各エリアに設置されるファンフィルタユニット20
0は、バッファ空間108Bの単位面積あたり平均風速
が、高清浄度エリア104Hの単位面積あたり平均風速
以下であり、かつ低清浄度エリア104Lの単位面積あ
たり平均風速よりも高くなるように平均風速が調整され
る。すなわち、上記バッファ空間104Bの単位面積あ
たり平均風速を、Vb、高清浄度エリア104Hの単位
面積あたり平均風速をVh、低清浄度エリア104Lの
単位面積あたり平均風速をVlとすると、 Vh≧Vb>Vl となるようにファンフィルタユニット200の運転能力
制御が行われる。たとえば、 Vh≧0.35(m/s)、 0.35(m/s)≧Vb≧0.2(m/s)、 0.3(m/s) ≧Vl≧0.1(m/s) となるよう設定することができる。As described above, according to the present embodiment, 1
Since the blowing air speed can be changed freely for each table, the fan filter unit 20 installed in each area
0 indicates that the average wind speed per unit area of the buffer space 108B is less than or equal to the average wind speed per unit area of the high cleanliness area 104H and is higher than the average wind speed per unit area of the low cleanliness area 104L. Adjusted. That is, if the average wind speed per unit area of the buffer space 104B is Vb, the average wind speed per unit area of the high cleanliness area 104H is Vh, and the average wind speed per unit area of the low cleanliness area 104L is Vl, Vh ≧ Vb> The operating capacity of the fan filter unit 200 is controlled so as to be Vl. For example, Vh ≧ 0.35 (m / s), 0.35 (m / s) ≧ Vb ≧ 0.2 (m / s), 0.3 (m / s) ≧ Vl ≧ 0.1 (m / s) can be set to
【0027】その結果、図示矢印で示すように、清浄空
気が高清浄度エリア104Hから低清浄度エリア104
Lに自然に流れるように気流方向を調整することが可能
であり、さらにまた、低清浄空間104Lに生じる乱流
が高清浄度エリア104Hに逆流する現象をバッファ空
間104Bにより解消できる。従って、従来のシステム
のように、垂れ壁やバックパネルなどのクロスコンタミ
ネーション防止用の壁体を設置しなくても、高清浄度エ
リア104Hと低清浄度エリア104Lとの間にバッフ
ァ空間104Bを設ければ、高清浄度エリア104Hと
低清浄度エリア104Lとの間のクロスコンタミネーシ
ョンを効果的に防止し、清浄度の異なるエリアをクリー
ンルーム104内に共存させることができる。As a result, as shown by the arrows in the figure, the clean air moves from the high cleanliness area 104H to the low cleanliness area 104H.
The direction of the air flow can be adjusted so that the air flows naturally into the air space L, and the phenomenon that the turbulence generated in the low clean space 104L flows back to the high clean area 104H can be eliminated by the buffer space 104B. Therefore, the buffer space 104B can be formed between the high cleanliness area 104H and the low cleanliness area 104L without installing a wall for preventing cross contamination such as a hanging wall or a back panel as in the conventional system. If provided, cross contamination between the high cleanliness area 104H and the low cleanliness area 104L can be effectively prevented, and areas having different cleanliness can coexist in the clean room 104.
【0028】図2は、かかる本発明の優れた効果を、垂
れ壁を使用した従来例との比較において示している。図
中、縦軸は天井から床までの高さを示し、横軸は高清浄
度エリアとバッファ空間との境界を原点としたときの、
高清浄度エリア側およびバッファ空間側の距離をそれぞ
れ示している。図の上方には清浄空気を供給するために
用いられたファンフィルタユニットが模式的に描かれて
いる。実験では、高清浄度エリアとバッファ空間の平均
風速をそれぞれ0.35(m/s)と設定し、低清浄度
エリア側に線状発塵源を設置し、各エリアの汚染度を測
定した。汚染の状況は、図中に粒子計測器による0.1
μm以上の粒子の平均カウント数が1個/CF(キュー
ビック・フィート)以上となる位置をプロットして求め
た。従って、図中、各プロット境界よりも左側の空間で
は清浄度が維持されている。また、図中、△のプロット
は、1000mmの垂れ壁を設置した場合を示し、○の
プロットは、450mmの垂れ壁を設置した場合を示
し、そして、□のプロットは、本発明に基づき垂れ壁を
使用しない場合をそれぞれ示している。なお、図中低清
浄度エリアは省略されている。その結果、本発明によれ
ば、高清浄度エリアと低清浄度エリアとの間にバッファ
空間を設ければ、垂れ壁を省略した方が、高清浄度エリ
アと低清浄度エリアとの間のクロスコンタミネーション
を効果的に防止できることが判明した。これは、垂れ壁
が短くなることにより、高清浄度エリアから低清浄度エ
リアへの偏流が始まる位置が高くなり、塵埃をより広い
範囲で排出するためであると考えられる。FIG. 2 shows the excellent effect of the present invention in comparison with a conventional example using a hanging wall. In the figure, the vertical axis shows the height from the ceiling to the floor, the horizontal axis when the origin is the boundary between the high cleanliness area and the buffer space,
The distances on the high cleanliness area side and the buffer space side are shown, respectively. A fan filter unit used for supplying clean air is schematically illustrated in the upper part of the figure. In the experiment, the average wind speed in the high cleanliness area and the buffer space was set to 0.35 (m / s), and a linear dust source was installed on the low cleanliness area side, and the pollution degree in each area was measured. . The contamination status is shown in the figure by 0.1
The position where the average count number of particles of μm or more was 1 / CF (cubic feet) or more was plotted and determined. Therefore, in the figure, the cleanliness is maintained in the space on the left side of each plot boundary. Also, in the drawing, the plot of Δ indicates the case where a hanging wall of 1000 mm was installed, the plot of ○ indicates the case where a hanging wall of 450 mm was installed, and the plot of □ indicates the case where the hanging wall was set according to the present invention. Are not used. In the figure, the low cleanliness area is omitted. As a result, according to the present invention, if a buffer space is provided between the high cleanliness area and the low cleanliness area, it is better to omit the hanging wall between the high cleanliness area and the low cleanliness area. It has been found that cross contamination can be effectively prevented. This is considered to be because the position where the drift from the high cleanliness area to the low cleanliness area starts becomes higher due to the shorter hanging wall, and the dust is discharged in a wider range.
【0029】さらに、本発明によれば、垂れ壁やバック
パネルなどの障害物が存在しないので、製造装置の入れ
替えやラインの変更などに伴うレイアウトの変更を容易
に行うことができる。またクリーンルーム内に垂れ壁や
バックパネルなどの障害物が存在しないので、作業員の
移動の自由度が増し、作業性の良好なクリーンルームを
構築することができる。さらにまた、垂れ壁やバックパ
ネルを使用しない分だけ、設備コストを下げることもで
きる。Further, according to the present invention, since there is no obstacle such as a hanging wall or a back panel, the layout can be easily changed when the manufacturing apparatus is replaced or the line is changed. Further, since there is no obstacle such as a hanging wall or a back panel in the clean room, the degree of freedom of movement of the worker is increased, and a clean room with good workability can be constructed. Furthermore, equipment costs can be reduced as much as no hanging wall or back panel is used.
【0030】なお、高清浄度エリア104Hと低清浄度
エリア104Lに設置されるバッファ空間104Bの幅
については、図3に示すように、幅を広げれば広げるほ
ど清浄領域が拡大することが分かる。なお、図3に示す
実験条件は、図2に関連して示したものと同様であり、
図中、△のプロットはバッファ空間の幅を1200mm
に設定した場合を示し、○のプロットはバッファ空間の
幅を600mmに設定した場合を示している。このよう
に、本発明によれば、バッファ空間の幅を拡大すればす
るほど効果的にクロスコンタミネーションを防止し、清
浄度の維持ができる。ただし、設備の設計にあたって
は、高清浄度エリアの確保がまず優先され、ついで、残
余の空間をバッファ空間と低清浄度エリアに区分する必
要があるが、バッファ空間の拡大は低清浄度エリアの減
少、さらにはファンフィルタユニットの設置コストの増
大につながるので、設備に要求される条件に応じて最適
なバッファ空間の幅を設定することが好ましい。As can be seen from FIG. 3, as the width of the buffer space 104B provided in the high cleanliness area 104H and the low cleanliness area 104L increases, the wider the width, the larger the clean area. The experimental conditions shown in FIG. 3 are the same as those shown in connection with FIG.
In the figure, the plot of △ indicates the width of the buffer space is 1200 mm.
, And the plot of ○ indicates the case where the width of the buffer space is set to 600 mm. As described above, according to the present invention, as the width of the buffer space is increased, cross contamination can be more effectively prevented and the cleanliness can be maintained. However, when designing equipment, securing high cleanliness area is the first priority, and then it is necessary to divide the remaining space into buffer space and low cleanliness area. It is preferable to set the optimum width of the buffer space according to the conditions required for the equipment, because it leads to a decrease and an increase in the installation cost of the fan filter unit.
【0031】また、吸込口108a、108bを有する
床面108の各空間での吸込風量比での有効開口面積を
高清浄度エリア104Hよりも低清浄度エリア104L
の方が大きくなるように調整することにより、さらに効
果的に気流の方向を高清浄度エリア104Hから低清浄
度エリア104Lの方向に調整することができることは
上述の通りである。The effective opening area of each space of the floor surface 108 having the suction ports 108a and 108b at the suction air volume ratio is set to be lower than the high cleanness area 104H and the low cleanness area 104L.
As described above, it is possible to more effectively adjust the direction of the airflow from the high cleanliness area 104H to the low cleanliness area 104L by making the adjustment to be larger.
【0032】すでに説明したように、ファンフィルタユ
ニット200は1台ごとに中央監視盤からの指令により
運転停止を自由に行うことができる。従って、例えば、
低清浄度エリア104Lあるいはバッファ空間104B
の天井面に設置したファンフィルタユニット200のう
ち、製造装置のメンテナンス部直上やその付近に設置し
てあるファンフィルタユニット200b、200cにつ
いては、例えば、メンテナンス時のみ駆動して通常製造
時には停止するなどの運転停止制御を行えば、メンテナ
ンス時の装置内部の汚染を防止するとともに、ランニン
グコストの低減を図ることができる。As described above, the operation of each fan filter unit 200 can be freely stopped by a command from the central monitoring panel. So, for example,
Low cleanness area 104L or buffer space 104B
Among the fan filter units 200 installed on the ceiling surface, fan filter units 200 b and 200 c installed immediately above or near the maintenance unit of the manufacturing apparatus are driven only during maintenance, for example, and stopped during normal manufacturing. By performing such operation stop control, it is possible to prevent the inside of the device from being contaminated during maintenance and to reduce the running cost.
【0033】あるいは、低清浄度エリア104Lの天井
に設置されたファンフィルタユニット200のうち冷気
供給用ファンフィルタユニット200cは、例えば、無
結露コイル114で冷却された冷気を低清浄度エリア1
04L内に供給することが可能なものなので、例えば、
通常運転時、すなわちファンフィルタユニット200
a、200bを停止している間に、製造装置の発熱によ
り低清浄度エリア104L内の温度が所定温度以上に上
昇した場合に、このファンフィルタユニット200cを
駆動することにより、発熱により生じた熱負荷を補償す
ることができる。Alternatively, among the fan filter units 200 installed on the ceiling of the low cleanliness area 104L, the fan filter unit 200c for supplying cool air, for example, cools the cool air cooled by the non-condensing coil 114 into the low cleanliness area 1
Since it can be supplied in 04 L , for example,
During normal operation, that is, the fan filter unit 200
When the temperature in the low-cleanliness area 104L rises to a predetermined temperature or more due to the heat generated by the manufacturing apparatus while the a and 200b are stopped, by driving the fan filter unit 200c, the heat generated by the heat is generated. Load can be compensated.
【0034】以上本発明の好適な実施例について、添付
図面を参照しながら説明したが、本発明は上記実施例に
限定されず、当業者であれば、特許請求の範囲に記載さ
れた技術的思想を逸脱せずに、様々な変更及び修正が可
能であり、それらについても本発明の技術的範囲に含ま
れることは言うまでもない。Although the preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and those skilled in the art will appreciate the technical features described in the claims. It is needless to say that various changes and modifications can be made without departing from the spirit, and these are also included in the technical scope of the present invention.
【0035】特に、本発明は、清浄度の異なる複数の空
間から構成されるクリーンルームであれば、上記実施例
に限定されずあらゆる用途に適用することが可能であ
る。例えば、上記実施例では、天井面に着脱自在のファ
ンフィルタユニットのみを設置した例を示したが、図5
に示すようなオープンベイ方式のクリーンルームに対し
て本発明を適用することも可能である。その場合には、
従来、垂れ壁やバックパネルなどが設置されていた部位
にファンフィルタユニットによりバッファ空間を形成す
ることにより、垂れ壁やバックパネルなどを使用せずに
共通のクリーンルーム内に異なる清浄度の空間を共存さ
せることが可能となる。In particular, the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be applied to any use as long as it is a clean room including a plurality of spaces having different degrees of cleanliness. For example, in the above embodiment, an example is shown in which only a removable fan filter unit is installed on the ceiling surface.
The present invention can be applied to an open bay type clean room as shown in FIG. In that case,
By forming a buffer space with a fan filter unit in the area where a hanging wall or back panel was previously installed, spaces with different cleanliness can coexist in a common clean room without using a hanging wall or back panel It is possible to do.
【0036】また本発明に適用できるファンフィルタユ
ニット200についても、個別ユニット内にフィルタ機
構、送風機構、風量可変機構、電源制御機構などを備え
たものであれば、本発明にいわゆるファンフィルタユニ
ットとして、本発明の範疇に包含されることは言うまで
もない。さらに無結露コイルについては、循環空気用の
無結露コイル114とは別に、メンテナンスエリア上方
に設置される製造装置の発熱対策用のファンフィルタユ
ニット200cの近傍の室内側に設置することも可能で
ある。Also, the fan filter unit 200 applicable to the present invention may be a so-called fan filter unit according to the present invention as long as it has a filter mechanism, a blowing mechanism, a variable air volume mechanism, a power control mechanism, etc. in an individual unit. Needless to say, this is included in the scope of the present invention. Further, the non-condensing coil can be installed separately from the non-condensing coil 114 for circulating air on the indoor side near the fan filter unit 200c for heat generation countermeasures of the manufacturing apparatus installed above the maintenance area. .
【0037】[0037]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
クリーンルーム(104)内の清浄度の異なる複数の空
間(104H、104L)をバッファ空間(104B)
により区分し、そのバッファ空間(104B)の単位面
積あたり平均風速が、高清浄度エリア(104H)の単
位面積あたり平均風速以下であり、かつ低清浄度エリア
(104L)の単位面積あたり平均風速よりも高くなる
ように設定されるので、高清浄度エリア(104H)か
ら低清浄度エリア(104L)に清浄空気の気流を方向
付けるとともに、低清浄度エリア(104L)の乱流が
高清浄度エリア(104H)に巻き込まれることを防止
できるので、高清浄度エリア(104H)と低清浄度エ
リア(104L)間のクロスコンタミネーションを効果
的に防止することが可能である。As described above, according to the present invention,
A plurality of spaces (104H, 104L) of different cleanliness in the clean room (104) are buffered (104B).
The average wind speed per unit area of the buffer space (104B) is less than or equal to the average wind speed per unit area of the high cleanliness area (104H), and the average wind speed per unit area of the low cleanliness area (104L). Is also set to be high, so that the flow of the clean air is directed from the high cleanliness area (104H) to the low cleanliness area (104L), and the turbulence of the low cleanliness area (104L) is changed to the high cleanliness area. (104H), it is possible to effectively prevent cross contamination between the high cleanliness area (104H) and the low cleanliness area (104L).
【0038】また、垂れ壁、バックパネル、アイリッ
ド、ビニールカーテンなどの壁体を一切使用せずに、共
通のクリーンルーム(104)内に清浄度の異なる空間
(104H、104L)をクロスコンタミネーションを
生じさせずに共存させることができる。ファンフィルタ
ユニット(200)はシールを用いない乾式工法で設置
可能なので移設を非常に容易に行うことが可能であり、
天井プレナムチャンバ(102)が負圧になるメリット
を活かすことで、稼働中の移設も可能になる。さらに垂
れ壁やバックパネルなどを一切使用しないので、製造装
置(110a〜110e)の入れ替えやラインの変更な
どに伴うクリーンルーム(104)内のレイアウト変更
が容易になる。また垂れ壁やバックパネルなどがないた
めに作業員の移動の自由度が増し、作業性の向上を図る
ことができる。また垂れ壁やバックパネルを使用しない
分だけ設備コストを下げることができる。Further, without using any walls such as hanging walls, back panels, eyelids, vinyl curtains, etc., cross-contamination occurs in spaces (104H, 104L) having different degrees of cleanness in the common clean room (104). They can coexist without causing them to coexist. Since the fan filter unit (200) can be installed by a dry method without using a seal, it can be relocated very easily.
By taking advantage of the negative pressure in the ceiling plenum chamber (102), relocation during operation is also possible. Further, since no hanging wall or back panel is used, it is easy to change the layout in the clean room (104) due to replacement of the manufacturing equipment (110a to 110e) or change of the line. Further, since there is no hanging wall or back panel, the degree of freedom of movement of the worker is increased, and the workability can be improved. In addition, the equipment cost can be reduced by the amount that the hanging wall and the back panel are not used.
【0039】さらにまた、本発明によれば、低清浄度エ
リア(104L)またはバッファ空間(104H)に設
置したファンフィルタユニットのうち、必要に応じて必
要なファンフィルタユニットだけを運転したり停止した
りすることにより、ランニングコストを低減することが
可能となり、製造装置のメンテナンス時に、製造装置の
内部汚染を効果的に防止することが可能である。Furthermore, according to the present invention, only the necessary fan filter units among the fan filter units installed in the low cleanliness area (104L) or the buffer space (104H) are operated or stopped as necessary. As a result, the running cost can be reduced, and the internal contamination of the manufacturing apparatus can be effectively prevented during the maintenance of the manufacturing apparatus.
【図1】本発明にかかるクリーンルームの一実施例の概
略構成を示す一部断面図である。FIG. 1 is a partial sectional view showing a schematic configuration of an embodiment of a clean room according to the present invention.
【図2】本発明にかかるクリーンルームと従来のアイリ
ッドパネルを用いたクリーンルームの清浄度の比較を示
す図表である。FIG. 2 is a table showing a comparison of cleanliness between a clean room according to the present invention and a clean room using a conventional eyelid panel.
【図3】本発明にかかるクリーンルームにおけるバッフ
ァ空間の大きさとクリーンルームの清浄度の関係を示す
図表である。FIG. 3 is a table showing the relationship between the size of a buffer space and the cleanliness of the clean room in the clean room according to the present invention.
【図4】従来の全面垂直層流方式のクリーンルームの概
略構成を示す一部断面図である。FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing a schematic configuration of a conventional clean room of a general vertical laminar flow system.
【図5】従来のオープンベイ方式のクリーンルームの概
略構成を示す一部断面図である。FIG. 5 is a partial sectional view showing a schematic configuration of a conventional open bay type clean room.
100 クリーンルームシステム 102 天井プレナムチャンバ 104 クリーンルーム 104H 高清浄度エリア 104L 低清浄度エリア 106 床下レタンチャンバ 104B バッファ空間 108 床面 108a、108b 吸込口 116 天井面 200 ファンフィルタユニット 200a バッファ空間用ファンフィルタユニット DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Clean room system 102 Ceiling plenum chamber 104 Clean room 104H High cleanliness area 104L Low cleanliness area 106 Underfloor ethane chamber 104B Buffer space 108 Floor surface 108a, 108b Suction port 116 Ceiling surface 200 Fan filter unit 200a Fan filter unit for buffer space
フロントページの続き (72)発明者 浜 昇 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工 業株式会社内 (72)発明者 青木 照明 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工 業株式会社内 (72)発明者 岩間 専司 岐阜県岐阜市高田5−6−15 (72)発明者 川畑 進 富山県富山市堀川町416 (56)参考文献 特開 昭61−291850(JP,A) 特開 平7−243682(JP,A) 特開 平3−291436(JP,A) 特開 昭61−91434(JP,A) 特開 平3−113221(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F24F 7/06 Continued on the front page (72) Noboru Hama, Inventor 1-1, Yukicho, Takatsuki-shi, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electronics Corporation (72) Inventor Illumination 1-1, Yukicho, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Corporation In-company (72) Inventor Senji Iwama 5-6-15 Takada, Gifu City, Gifu Prefecture (72) Inventor Susumu Kawabata 416, Horikawacho, Toyama City, Toyama Prefecture (56) References JP-A-61-291850 (JP, A) JP-A-7-243682 (JP, A) JP-A-3-291436 (JP, A) JP-A-61-91434 (JP, A) JP-A-3-113221 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) F24F 7/06
Claims (7)
ンバ間に構成されるクリーンルームであって、前記クリ
ーンルームは清浄度の高い高清浄度エリアと、その高清
浄度エリアの清浄度よりも相対的に低い清浄度の低清浄
度エリアから構成されるとともに、前記高清浄度エリア
と前記低清浄度エリアの間にバッファ空間を設け;少な
くとも前記高清浄度エリアと前記バッファ空間の天井プ
レナムチャンバにそれぞれにファンフィルタユニットを
設置し;その各ファンフィルタユニットにより、各空間
における単位面積あたりの平均風速が、前記バッファ空
間の平均風速は前記高清浄度エリアの平均風速以下であ
り、前記低清浄度エリアの平均風速は前記バッファ空間
の平均風速よりも小さくなるように調整されることを特
徴とする、クリーンルーム。1. A clean room configured between a ceiling plenum chamber and an underfloor retan chamber, wherein the clean room has a high cleanliness area and a cleanness relatively lower than the cleanliness of the high cleanliness area. A buffer space between the high cleanliness area and the low cleanliness area; and fan filters at least in the ceiling plenum chambers of the high cleanliness area and the buffer space, respectively. and installing the unit; more to the respective fan filter units, the average wind speed per unit area in each space, the average wind speed of the buffer space is less than the average wind speed of the high cleanliness area, the average of the low cleanliness area Wherein the wind speed is adjusted so as to be lower than the average wind speed in the buffer space. Room.
られる床面の有効開口面積は前記低清浄度エリアの床面
の有効開口面積よりも各空間の風量比において小さいこ
とを特徴とする、請求項1に記載のクリーンルーム。2. An effective opening area of a floor used as a suction port of the high cleanliness area is smaller in an air volume ratio of each space than an effective opening area of a floor of the low cleanliness area. The clean room according to claim 1.
装置は、そのメンテナンス部側が前記低清浄度エリアに
向けて設置されており、少なくともそのメンテナンス部
の天井付近に設置されるファンフィルタユニットは、必
要に応じて運転停止自在であることを特徴とする、請求
項1または2に記載のクリーンルーム。3. The manufacturing apparatus installed in the clean room has its maintenance unit side installed toward the low cleanliness area, and at least a fan filter unit installed near the ceiling of the maintenance unit is required. The clean room according to claim 1, wherein the operation of the clean room can be freely stopped according to the following conditions.
ンテナンス部の天井付近に設置されるファンフィルタユ
ニットとは独立に運転停止が可能なファンフィルタユニ
ットが設けられており、前記低清浄度エリアの温度に応
じて、前記低清浄度エリア内に冷気を供給することが可
能であることを特徴とする、請求項3に記載のクリーン
ルーム。4. A fan filter unit which can be stopped and operated independently of a fan filter unit installed near the ceiling of the maintenance section on a ceiling of the low cleanliness area, The clean room according to claim 3, wherein cool air can be supplied into the low cleanliness area according to the temperature of the area.
ムの運転方法であって、前記製造装置のメンテナンス部
の天井付近に設置される前記ファンフィルタユニット
は、少なくとも前記製造装置のメンテナンス時に駆動さ
れることを特徴とする、クリーンルームの運転方法。5. The method for operating a clean room according to claim 3, wherein the fan filter unit installed near a ceiling of a maintenance unit of the manufacturing apparatus is driven at least during maintenance of the manufacturing apparatus. A method for operating a clean room, characterized in that:
ムの運転方法であって、前記製造装置のメンテナンス部
の天井付近に設置される前記ファンフィルタユニット
は、前記低清浄度エリアにおいて所定の清浄度が要求さ
れない場合には停止されることを特徴とする、クリーン
ルームの運転方法。6. The clean room operating method according to claim 4, wherein the fan filter unit installed near a ceiling of a maintenance unit of the manufacturing apparatus has a predetermined cleanliness level in the low cleanliness area. The method for operating a clean room, characterized in that the method is stopped when no is required.
方法であって、前記製造装置のメンテナンス部の天井付
近に設置される前記ファンフィルタユニットの運転が停
止されている時に、前記低清浄度エリアの温度が所定値
以上に上昇した場合に、前記メンテナンス部の天井付近
に設置されるファンフィルタユニットとは独立に運転停
止が可能なファンフィルタユニットが駆動されることを
特徴とする、クリーンルームの運転方法。7. The method for operating a clean room according to claim 6, wherein when the operation of the fan filter unit installed near the ceiling of the maintenance unit of the manufacturing apparatus is stopped, the low cleanliness area is reduced. The operation of the clean room, characterized in that, when the temperature of the cleaning unit rises to a predetermined value or more, a fan filter unit that can be stopped independently of a fan filter unit installed near the ceiling of the maintenance unit is driven. Method.
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