JP3240522B2 - 感光材料の塗布装置 - Google Patents
感光材料の塗布装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感光材料支持体上に下引
液や乳剤等塗布液の塗布を行う感光材料の塗布装置に関
する。
液や乳剤等塗布液の塗布を行う感光材料の塗布装置に関
する。
【０００２】
【発明の背景】感光材料の塗布装置（コーター）として
は、エクストルージョン型塗布装置やスライドホッパー
型塗布装置が代表的な塗布装置として用いられる。エク
ストルージョン型塗布装置のコーター部分の断面形状を
図５に、またスライドホッパー型塗布装置のコーター部
分の断面形状を図６に示している。
は、エクストルージョン型塗布装置やスライドホッパー
型塗布装置が代表的な塗布装置として用いられる。エク
ストルージョン型塗布装置のコーター部分の断面形状を
図５に、またスライドホッパー型塗布装置のコーター部
分の断面形状を図６に示している。
【０００３】まずエクストルージョン型塗布装置のコー
ティング部分について図５によって説明する。回転する
円筒状のローラ10上には感光材料支持体であるベース
（ウェブ）Ｗが巻付けられた形で定速度で移動する。こ
の移動速度をコーティングスピード（Ｃ／Ｓ）と呼ぶ。
ベースＷに対向して僅かの間隙をもってエクストルージ
ョン型コーター20が対向するが、この間隙をコーター間
隙（ＣＧ）と呼ぶ。コーター20はほぼベース幅の長さを
もっていて、外部からコーター20内に送り込まれた塗布
液はチャンバー21でベース幅方向に広げられ、50〜300
μｍ程度の間隙をもったスリット22を通って流出しビー
ドと呼ばれる液溜りを形成しベースＷ上へ塗布が行われ
る。このスリット22の両側にあってベースＷに対向する
面をリップ面23と呼ぶ。リップ面23は上流側リップ面23
Ａと下流側リップ面23Ｂとがある。リップ23Ａ，Ｂはそ
れぞれある長さ（リップ長）をもってベースＷに対向
し、リップ23Ａ，Ｂの上流端あるいは下流端では鈍角の
傾斜面をもってベースＷから遠ざかる形状となってい
る。この傾斜面を上流面24Ａ、下流面24Ｂと呼ぶ。25は
減圧チャンバーであってコーター20の上流側を減圧する
よう設けたもので、設けないこともある。次に図６によ
ってスライドホッパー型塗布装置のコーター部分につい
て説明する。スライドホッパー型塗布装置30は主として
多層の乳剤を塗布する塗布装置として用いられるもの
で、図示したものはＩ，II，IIIの３層の乳剤塗布を行
う実施例である。ローラ10上に巻付いたベースＷに対向
したスライドホッパー型塗布装置30では、塗布液はチャ
ンバー31（Ｉ），31（II），31（III）でそれぞれベー
ス幅方向に広げられ、スリット32（Ｉ），32（II），32
（III）を通って流出し、スライド面33上で塗布液は３
層に重なった型でベースＷと僅かのギャップをもって対
向したリップ面34へと移動したのち反転した形で液溜り
を形成しベースＷへ塗布がなされる。なおリップ面34の
上流端においては鈍角の傾斜面をもってベースＷから遠
ざかる形状となっている。この面を上流面35と呼ぶ。
ティング部分について図５によって説明する。回転する
円筒状のローラ10上には感光材料支持体であるベース
（ウェブ）Ｗが巻付けられた形で定速度で移動する。こ
の移動速度をコーティングスピード（Ｃ／Ｓ）と呼ぶ。
ベースＷに対向して僅かの間隙をもってエクストルージ
ョン型コーター20が対向するが、この間隙をコーター間
隙（ＣＧ）と呼ぶ。コーター20はほぼベース幅の長さを
もっていて、外部からコーター20内に送り込まれた塗布
液はチャンバー21でベース幅方向に広げられ、50〜300
μｍ程度の間隙をもったスリット22を通って流出しビー
ドと呼ばれる液溜りを形成しベースＷ上へ塗布が行われ
る。このスリット22の両側にあってベースＷに対向する
面をリップ面23と呼ぶ。リップ面23は上流側リップ面23
Ａと下流側リップ面23Ｂとがある。リップ23Ａ，Ｂはそ
れぞれある長さ（リップ長）をもってベースＷに対向
し、リップ23Ａ，Ｂの上流端あるいは下流端では鈍角の
傾斜面をもってベースＷから遠ざかる形状となってい
る。この傾斜面を上流面24Ａ、下流面24Ｂと呼ぶ。25は
減圧チャンバーであってコーター20の上流側を減圧する
よう設けたもので、設けないこともある。次に図６によ
ってスライドホッパー型塗布装置のコーター部分につい
て説明する。スライドホッパー型塗布装置30は主として
多層の乳剤を塗布する塗布装置として用いられるもの
で、図示したものはＩ，II，IIIの３層の乳剤塗布を行
う実施例である。ローラ10上に巻付いたベースＷに対向
したスライドホッパー型塗布装置30では、塗布液はチャ
ンバー31（Ｉ），31（II），31（III）でそれぞれベー
ス幅方向に広げられ、スリット32（Ｉ），32（II），32
（III）を通って流出し、スライド面33上で塗布液は３
層に重なった型でベースＷと僅かのギャップをもって対
向したリップ面34へと移動したのち反転した形で液溜り
を形成しベースＷへ塗布がなされる。なおリップ面34の
上流端においては鈍角の傾斜面をもってベースＷから遠
ざかる形状となっている。この面を上流面35と呼ぶ。
【０００４】以上説明した塗布装置はベース面上に塗布
液を塗布する手段として用いられてきたが、長尺のウェ
ッブについて塗布を行う時に一様の塗布が行われないよ
うな事態が時に発生した。
液を塗布する手段として用いられてきたが、長尺のウェ
ッブについて塗布を行う時に一様の塗布が行われないよ
うな事態が時に発生した。
【０００５】その一つはスジ故障とも呼ばれるもので、
ローラ10に巻付いたベースＷの移動中にベースＷ表面に
極く近接して一緒に移動する形をとった同伴空気がビー
ド下部に直接当り、その当り具合が強い場合にはビード
内に空気が巻き込まれることによって発生するものであ
る。また塗布液が、低沸点低表張成分と、高沸点高表張
成分の両者を含有している場合には、エクストルージョ
ン塗布装置で塗布すると、経時でビード上下部からしみ
出しが生じ、又、スライドホッパー型塗布装置で塗布し
た場合も経時でビード下部からしみ出しが生じそれらが
成長して液滴となりビードに巻き込まれて故障が発生す
るという問題である。この現象については既にSTUDY OF
COATING DEFECTS ON SOLVENT MIXTURE COATING (92AIc
hE K.SAKATA M.YOSHIDA)によっても指摘されている。
ローラ10に巻付いたベースＷの移動中にベースＷ表面に
極く近接して一緒に移動する形をとった同伴空気がビー
ド下部に直接当り、その当り具合が強い場合にはビード
内に空気が巻き込まれることによって発生するものであ
る。また塗布液が、低沸点低表張成分と、高沸点高表張
成分の両者を含有している場合には、エクストルージョ
ン塗布装置で塗布すると、経時でビード上下部からしみ
出しが生じ、又、スライドホッパー型塗布装置で塗布し
た場合も経時でビード下部からしみ出しが生じそれらが
成長して液滴となりビードに巻き込まれて故障が発生す
るという問題である。この現象については既にSTUDY OF
COATING DEFECTS ON SOLVENT MIXTURE COATING (92AIc
hE K.SAKATA M.YOSHIDA)によっても指摘されている。
【０００６】
【発明の目的】本発明の第１の目的は、ベース搬送に伴
う同伴空気がビード下部へ突入し、スジ故障が発生する
ことがあるのをリップ下部の窪みによって防止すること
である。
う同伴空気がビード下部へ突入し、スジ故障が発生する
ことがあるのをリップ下部の窪みによって防止すること
である。
【０００７】また本発明の第２の目的は、塗布時のビー
ド下部からの液のしみ出し及びビード上部への液の登り
による液滴形成に起因する塗布故障を防止することであ
る。
ド下部からの液のしみ出し及びビード上部への液の登り
による液滴形成に起因する塗布故障を防止することであ
る。
【０００８】
【発明の構成】上記の本発明の第１の目的は、回転する
円筒状のローラに巻き付けられたベースに対向して設置
され、スリットを通して、スリットと対向するベース面
と平行にスリットの前後に設けたリップ面とベースとの
間の間隙（コーター間隙）に向けて流出する塗布液を塗
布するエクストルージョン型コーターの塗布装置におい
て、塗布液を コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、ローラの回転方向に対してスリ
ットの上流側に所定長（上流側リップ長）をもった上流
側リップ面の上流側端面からベースと遠ざかる方向に設
けた傾斜面（上流面）との間で、リップ面と上流面との
なす角度θを 105°≦θ≦170° とし、リップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面
と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５
mmの大きさの窪みを設け、上流側リップ長を0.5mm以上
５mm以下の幅手方向に同一な長さとしたことを特徴とす
る感光材料の塗布装置（請求項１の発明）。及び、 回転
する円筒状のローラに巻き付けられたベースに対向して
設置され、スライド面に設けられたスリットから流出し
た塗布液はスライド面上をベースに向けて移動し、スラ
イド面の端面でベースと僅かの間隙（コーター間隙）を
もってベースに対向したリップ面へと移動したのち反転
した形で液溜まりを形成し、ベースへの塗布液の塗布を
行うスライドホッパー型コーターの塗布装置において、
塗布液を コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、所定長（リップ長）をもったリ
ップ面の端面にベースから遠ざかる方向に傾斜面（上流
面）を設け、リップ面と上流面とのなす角度θを 105°≦θ≦170° とし、リップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面
と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５
mmの大きさの窪みを設け、リップ長を0.5mm以上５mm以
下の幅手方向に同一な長さとしたことを特徴とする感光
材料の塗布装置（請求項２の発明）。 により達成される
（第１発明）。
円筒状のローラに巻き付けられたベースに対向して設置
され、スリットを通して、スリットと対向するベース面
と平行にスリットの前後に設けたリップ面とベースとの
間の間隙（コーター間隙）に向けて流出する塗布液を塗
布するエクストルージョン型コーターの塗布装置におい
て、塗布液を コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、ローラの回転方向に対してスリ
ットの上流側に所定長（上流側リップ長）をもった上流
側リップ面の上流側端面からベースと遠ざかる方向に設
けた傾斜面（上流面）との間で、リップ面と上流面との
なす角度θを 105°≦θ≦170° とし、リップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面
と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５
mmの大きさの窪みを設け、上流側リップ長を0.5mm以上
５mm以下の幅手方向に同一な長さとしたことを特徴とす
る感光材料の塗布装置（請求項１の発明）。及び、 回転
する円筒状のローラに巻き付けられたベースに対向して
設置され、スライド面に設けられたスリットから流出し
た塗布液はスライド面上をベースに向けて移動し、スラ
イド面の端面でベースと僅かの間隙（コーター間隙）を
もってベースに対向したリップ面へと移動したのち反転
した形で液溜まりを形成し、ベースへの塗布液の塗布を
行うスライドホッパー型コーターの塗布装置において、
塗布液を コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、所定長（リップ長）をもったリ
ップ面の端面にベースから遠ざかる方向に傾斜面（上流
面）を設け、リップ面と上流面とのなす角度θを 105°≦θ≦170° とし、リップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面
と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５
mmの大きさの窪みを設け、リップ長を0.5mm以上５mm以
下の幅手方向に同一な長さとしたことを特徴とする感光
材料の塗布装置（請求項２の発明）。 により達成される
（第１発明）。
【０００９】また本発明の第２の目的は、回転する円筒
状のローラに巻き付けられたベースに対向して設置さ
れ、スリットを通して、スリットと対向するベース面と
平行にスリットの前後に設けたリップ面とベースとの間
の間隙（コーター間隙）に向けて流出する塗布液を塗布
するエクストルージョン型コーターの塗布装置におい
て、沸点90℃以下、表張30dyn/cm以下の低沸点低表張成
分と、沸点90℃以上、表張30dyn/cm以上の高沸点高表張
成分の両者を含有する液を、 コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、ローラの回転方向に対してスリ
ットの上流側に所定長（上流側リップ長）をもった上流
側リップ面の上流側端面からベースと遠ざかる方向に設
けた傾斜面（上流面）との間で、リップ面と上流面との
なす角φと、スリットの下流側に所定長（下流側リップ
長）をもった下流側リップ面の下流側端面からベースと
遠ざかる方向に設けた傾斜面（下流面）との間で、リッ
プ面と下流面とのなす角φは、何れも 105°≦φ≦170° とし、上流側リップ面と上流面とが接する位置付近にリ
ップ面と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に
0.5〜５mmの大きさの窪みを設け、下流側リップ面と下
流面とが接する位置付近にリップ面と平行方向に0.5〜
５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５mmの大きさの窪み
を設けたことを特徴とする感光材料の塗布装置（請求項
３の発明）。及び、 回転する円筒状のローラに巻き付け
られたベースに対向して設置され、スライド面に設けら
れたスリットから流出した塗布液はスライド面上をベー
スに向けて移動し、スライド面の端面でベースと僅かの
間隙（コーター間隙）をもってベースに対向したリップ
面へと移動したのち反転した形で液溜まりを形成し、ベ
ースへの塗布液の塗布を行うスライドホッパー型コータ
ーの塗布装置において、 沸点90℃以下、表張30dyn/cm以
下の低沸点低表張成分と、沸点90℃以上、表張30dyn/cm
以上の高沸点高表張成分の両者を含有する液を、 コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、リップ面の端面にベースから遠
ざかる方向に傾斜面（上流面）を設け、リップ面とリッ
プ面と上流面とのなす角φを 120°≦φ≦160° としリップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面と
平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５mm
の大きさの窪みを設けたことを特徴とする感光材料の塗
布装置（請求項６の発明） により達成される（第２発
明）。
状のローラに巻き付けられたベースに対向して設置さ
れ、スリットを通して、スリットと対向するベース面と
平行にスリットの前後に設けたリップ面とベースとの間
の間隙（コーター間隙）に向けて流出する塗布液を塗布
するエクストルージョン型コーターの塗布装置におい
て、沸点90℃以下、表張30dyn/cm以下の低沸点低表張成
分と、沸点90℃以上、表張30dyn/cm以上の高沸点高表張
成分の両者を含有する液を、 コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、ローラの回転方向に対してスリ
ットの上流側に所定長（上流側リップ長）をもった上流
側リップ面の上流側端面からベースと遠ざかる方向に設
けた傾斜面（上流面）との間で、リップ面と上流面との
なす角φと、スリットの下流側に所定長（下流側リップ
長）をもった下流側リップ面の下流側端面からベースと
遠ざかる方向に設けた傾斜面（下流面）との間で、リッ
プ面と下流面とのなす角φは、何れも 105°≦φ≦170° とし、上流側リップ面と上流面とが接する位置付近にリ
ップ面と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に
0.5〜５mmの大きさの窪みを設け、下流側リップ面と下
流面とが接する位置付近にリップ面と平行方向に0.5〜
５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５mmの大きさの窪み
を設けたことを特徴とする感光材料の塗布装置（請求項
３の発明）。及び、 回転する円筒状のローラに巻き付け
られたベースに対向して設置され、スライド面に設けら
れたスリットから流出した塗布液はスライド面上をベー
スに向けて移動し、スライド面の端面でベースと僅かの
間隙（コーター間隙）をもってベースに対向したリップ
面へと移動したのち反転した形で液溜まりを形成し、ベ
ースへの塗布液の塗布を行うスライドホッパー型コータ
ーの塗布装置において、 沸点90℃以下、表張30dyn/cm以
下の低沸点低表張成分と、沸点90℃以上、表張30dyn/cm
以上の高沸点高表張成分の両者を含有する液を、 コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、リップ面の端面にベースから遠
ざかる方向に傾斜面（上流面）を設け、リップ面とリッ
プ面と上流面とのなす角φを 120°≦φ≦160° としリップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面と
平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５mm
の大きさの窪みを設けたことを特徴とする感光材料の塗
布装置（請求項６の発明） により達成される（第２発
明）。
【００１０】なお第２発明における請求項３の発明の実
施態様として、 （１）前記エクストルージョン型コーターにおいて下流
側リップ面と下流面とが接する位置付近に設けた前記窪
みは幅手中央から両端に向けて深さが増す形状に設け、
かつ下流側リップ長Ｌを 0.5mm≦Ｌ≦５mm とし、Ｌは幅手に均一な長さとしたこと、 （２）前記エクストルージョン型コーターにおいて下流
側リップ長Ｌは、 0.5mm≦Ｌ≦５mm とし、下流側リップ面と下流面とが接する位置付近に設
けた前記窪みの上部にしみだし液吸い取り用の吸い取り
紙を設けたこと、の２態様があげられる。
施態様として、 （１）前記エクストルージョン型コーターにおいて下流
側リップ面と下流面とが接する位置付近に設けた前記窪
みは幅手中央から両端に向けて深さが増す形状に設け、
かつ下流側リップ長Ｌを 0.5mm≦Ｌ≦５mm とし、Ｌは幅手に均一な長さとしたこと、 （２）前記エクストルージョン型コーターにおいて下流
側リップ長Ｌは、 0.5mm≦Ｌ≦５mm とし、下流側リップ面と下流面とが接する位置付近に設
けた前記窪みの上部にしみだし液吸い取り用の吸い取り
紙を設けたこと、の２態様があげられる。
【００１１】
【作用】従来のエクストルージョンやスライドホッパー
型塗布装置で塗布を行うとビード下部付近のコーター表
面がベースに近接しているためベースの同伴空気の巻き
込みに伴うスジ故障が頻発してしまう。この対策として
コーター間隙を拡大する方式が考えられるが同伴空気を
逃がす程度まで間隙を拡大すると安定なビードを形成で
きなくなり液切れが生じ良好な塗膜が得られなくなる。
型塗布装置で塗布を行うとビード下部付近のコーター表
面がベースに近接しているためベースの同伴空気の巻き
込みに伴うスジ故障が頻発してしまう。この対策として
コーター間隙を拡大する方式が考えられるが同伴空気を
逃がす程度まで間隙を拡大すると安定なビードを形成で
きなくなり液切れが生じ良好な塗膜が得られなくなる。
【００１２】そこで本発明の第１発明は従来の塗布条件
を変えることなくエクストルージョン型塗布装置では上
流側のリップ面と上流面とが接する位置付近に、スライ
ドホッパー型塗布装置でもリップ面と上流面とが接する
位置付近に窪みを設けることでベース搬送に伴うビード
下部への同伴空気の逃げを設けスジ故障を防止するもの
である。
を変えることなくエクストルージョン型塗布装置では上
流側のリップ面と上流面とが接する位置付近に、スライ
ドホッパー型塗布装置でもリップ面と上流面とが接する
位置付近に窪みを設けることでベース搬送に伴うビード
下部への同伴空気の逃げを設けスジ故障を防止するもの
である。
【００１３】また、低沸点低表張成分と高沸点高表張成
分の両者が添加されている液を従来のエクストルージョ
ンやスライドホッパー型塗布装置で塗布するとエクスト
ルージョンではビード上下にスライドホッパーではビー
ド下部に液のしみだしが生じそれが成長して液滴となり
これがビードへ巻き込まれると故障発生することが判っ
ている。そこで本発明の第２発明はエクストルージョン
型塗布装置では上流側のリップ面と上流面とが接する位
置付近及び下流側のリップ面と下流面とが接する位置付
近の両方に、スライドホッパー型塗布装置ではリップ面
と上流面とが接する位置付近に窪みを設けることで窪み
部分にしみだし液を溜め液滴への成長を防止し故障を未
然に防ぐものである。
分の両者が添加されている液を従来のエクストルージョ
ンやスライドホッパー型塗布装置で塗布するとエクスト
ルージョンではビード上下にスライドホッパーではビー
ド下部に液のしみだしが生じそれが成長して液滴となり
これがビードへ巻き込まれると故障発生することが判っ
ている。そこで本発明の第２発明はエクストルージョン
型塗布装置では上流側のリップ面と上流面とが接する位
置付近及び下流側のリップ面と下流面とが接する位置付
近の両方に、スライドホッパー型塗布装置ではリップ面
と上流面とが接する位置付近に窪みを設けることで窪み
部分にしみだし液を溜め液滴への成長を防止し故障を未
然に防ぐものである。
【００１４】過去にスライドホッパー型塗布装置におい
てリップの下側に窪みを設けたものもあるが、これは、
塗布開始時に垂れ流した液が一度に多量に塗膜として形
成されることを防止すること、及びビード下部がリップ
より下に下がらないようにすることを目的としており、
本発明の目的とは相違している。又エクストルージョン
型塗布装置において、リップの下側に窪みを設けた発明
や記載等は現時点ではまだない。本発明は同伴空気を防
止し、液のしみ出しを防止することを目的として、窪み
を設けることを提案したものである。
てリップの下側に窪みを設けたものもあるが、これは、
塗布開始時に垂れ流した液が一度に多量に塗膜として形
成されることを防止すること、及びビード下部がリップ
より下に下がらないようにすることを目的としており、
本発明の目的とは相違している。又エクストルージョン
型塗布装置において、リップの下側に窪みを設けた発明
や記載等は現時点ではまだない。本発明は同伴空気を防
止し、液のしみ出しを防止することを目的として、窪み
を設けることを提案したものである。
【００１５】
【実施例】図１に示したのは、本発明のエクストルージ
ョン型塗布装置のリップ部近傍の断面形状を示したもの
で、先の図５での部番を用いて説明する。上流側リップ
面23Ａと上流面24Ａとの接する位置付近に窪み27を設
け、窪み27の大きさを、リップ面と平行方向の寸法Ｌ
（27Ｈ）を0.5〜５mm、リップ面と垂直方向の寸法Ｌ（2
7Ｄ）を0.5〜５mmとする。また下流側リップ面23Ｂと下
流面24Ｂとの接する位置付近に窪み28を設け、窪み28の
大きさをリップ面と平行方向の寸法Ｌ（28Ｈ）を0.5〜
５mm、リップ面と垂直方向の寸法Ｌ（28Ｄ）を0.5〜５m
mとしたものである。
ョン型塗布装置のリップ部近傍の断面形状を示したもの
で、先の図５での部番を用いて説明する。上流側リップ
面23Ａと上流面24Ａとの接する位置付近に窪み27を設
け、窪み27の大きさを、リップ面と平行方向の寸法Ｌ
（27Ｈ）を0.5〜５mm、リップ面と垂直方向の寸法Ｌ（2
7Ｄ）を0.5〜５mmとする。また下流側リップ面23Ｂと下
流面24Ｂとの接する位置付近に窪み28を設け、窪み28の
大きさをリップ面と平行方向の寸法Ｌ（28Ｈ）を0.5〜
５mm、リップ面と垂直方向の寸法Ｌ（28Ｄ）を0.5〜５m
mとしたものである。
【００１６】リップ長についても、上記の上流側の窪み
27に接する上流側のリップ長Ｌ（23Ａ）を0.5〜５mmと
する。また、下流側の窪み28に接する下流側のリップ長
Ｌ（23Ｂ）についても0.5〜５mmとする。
27に接する上流側のリップ長Ｌ（23Ａ）を0.5〜５mmと
する。また、下流側の窪み28に接する下流側のリップ長
Ｌ（23Ｂ）についても0.5〜５mmとする。
【００１７】また上流側リップ面23Ａと上流面24Ａとの
なす角φ（20Ａ）は120°〜160°であり、下流側リップ
面23Ｂと下流面24Ｂとのなす角φ（20Ｂ）についても12
0°〜160°である。以上の断面形状のリップ形状をした
エクストルージョン型塗布装置について、具体的には下
記の（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）形状をしたエクストルージョン
型塗布装置を用いて以下の塗布条件にて下記に示す塗布
液を塗布したことろ、液のしみだし起因の故障が無く、
又、ベースの同伴空気起因のスジ故障も無い良好な塗膜
が得られた。
なす角φ（20Ａ）は120°〜160°であり、下流側リップ
面23Ｂと下流面24Ｂとのなす角φ（20Ｂ）についても12
0°〜160°である。以上の断面形状のリップ形状をした
エクストルージョン型塗布装置について、具体的には下
記の（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）形状をしたエクストルージョン
型塗布装置を用いて以下の塗布条件にて下記に示す塗布
液を塗布したことろ、液のしみだし起因の故障が無く、
又、ベースの同伴空気起因のスジ故障も無い良好な塗膜
が得られた。
【００１８】塗布液：低沸点低表張成分はアセトン（Ｂ
Ｐ=56.2℃、表張=23.7dyn/cm) 高沸点高表張成分はＤＭＦ （ＢＰ=149.6℃、表張=36.0
dyn/cm) をアセトン：ＤＭＦ＝４：１に含有した液 実施例（20） （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） Ｌ（23Ａ）mm 3 4 5 Ｌ（23Ｂ）mm 3 4 5 Ｌ（27Ｈ）mm 2 3 4 Ｌ（27Ｄ）mm 4 3 2 Ｌ（28Ｈ）mm 4 3 4 Ｌ（28Ｄ）mm 4 3 4 φ（20Ａ）° 140 140 140 φ（20Ｂ）° 140 140 140 塗布条件 Ｃ／Ｓ（ｍ／Ｍ） 40 45 50 コーター間隙（μｍ） 70 80 90 減圧（mmＡｑ） 20 30 40 ｈｗ（μｍ） 22 25 ２８ なお上記実施例で、上流側に設けた窪み２７にはしみだ
しに基づく液が、長時間のコーター作動によって次第に
溜まることが認められたが、相当量溜ると上流面24Ａに
沿って流れ落ち、ベース面上には何等影響を及ぼさない
ことが認められた。下流側に設けた窪み28についても長
時間のコーター作動によってしみだし液が次第に溜るこ
とが認められた。しみだし量が多くない場合は１本の長
巻ウェブの塗布が終る毎に清掃することによってしみだ
し液に基づく故障は全く生じなかったが、しみだし量の
多い場合に対しては次の対応によってこの窪み28に溜っ
たしみだし液が、ベース面上に悪影響を及ぼすことを阻
止することができる。
Ｐ=56.2℃、表張=23.7dyn/cm) 高沸点高表張成分はＤＭＦ （ＢＰ=149.6℃、表張=36.0
dyn/cm) をアセトン：ＤＭＦ＝４：１に含有した液 実施例（20） （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） Ｌ（23Ａ）mm 3 4 5 Ｌ（23Ｂ）mm 3 4 5 Ｌ（27Ｈ）mm 2 3 4 Ｌ（27Ｄ）mm 4 3 2 Ｌ（28Ｈ）mm 4 3 4 Ｌ（28Ｄ）mm 4 3 4 φ（20Ａ）° 140 140 140 φ（20Ｂ）° 140 140 140 塗布条件 Ｃ／Ｓ（ｍ／Ｍ） 40 45 50 コーター間隙（μｍ） 70 80 90 減圧（mmＡｑ） 20 30 40 ｈｗ（μｍ） 22 25 ２８ なお上記実施例で、上流側に設けた窪み２７にはしみだ
しに基づく液が、長時間のコーター作動によって次第に
溜まることが認められたが、相当量溜ると上流面24Ａに
沿って流れ落ち、ベース面上には何等影響を及ぼさない
ことが認められた。下流側に設けた窪み28についても長
時間のコーター作動によってしみだし液が次第に溜るこ
とが認められた。しみだし量が多くない場合は１本の長
巻ウェブの塗布が終る毎に清掃することによってしみだ
し液に基づく故障は全く生じなかったが、しみだし量の
多い場合に対しては次の対応によってこの窪み28に溜っ
たしみだし液が、ベース面上に悪影響を及ぼすことを阻
止することができる。
【００１９】図２はその１実施例を示したもので、下流
側の窪み28を幅手中央から両端に向けて深さが増す形状
としたもので、幅手中央部での窪み28ａの深さＬ（28ａ
Ｈ）に対して両端部での窪み28ｂの深さＬ（28ｂＨ）が
増す形状として、深さ方向の傾斜を設け、窪みに溜るし
みだし液をコーター両側へ流れ出すようにしたものであ
る。図３は他の実施例を示したもので、下流側の窪み28
の上部にしみだし液吸い取り用の吸い取り紙51を設けた
もので、吸い取り紙51に窪み28に溜まったしみだし液を
吸い取らせるようにしたもので、１本又は複数本の長巻
ウェブの塗布が終了する毎に吸い取り紙51を交換するこ
とによって、しみだし液がベース面上に悪影響を及ぼす
ことを阻止することができる。
側の窪み28を幅手中央から両端に向けて深さが増す形状
としたもので、幅手中央部での窪み28ａの深さＬ（28ａ
Ｈ）に対して両端部での窪み28ｂの深さＬ（28ｂＨ）が
増す形状として、深さ方向の傾斜を設け、窪みに溜るし
みだし液をコーター両側へ流れ出すようにしたものであ
る。図３は他の実施例を示したもので、下流側の窪み28
の上部にしみだし液吸い取り用の吸い取り紙51を設けた
もので、吸い取り紙51に窪み28に溜まったしみだし液を
吸い取らせるようにしたもので、１本又は複数本の長巻
ウェブの塗布が終了する毎に吸い取り紙51を交換するこ
とによって、しみだし液がベース面上に悪影響を及ぼす
ことを阻止することができる。
【００２０】図４に示す実施例はスライドホッパー型塗
布装置30で、ベース搬送に伴う同伴空気がスジ故障の原
因となることを防止するようにしたもので、リップ面34
と上流面35とが接する位置付近に窪み37を設けることで
ベース搬送に伴うビード下部への同伴空気の逃げを設け
スジ故障を防止したものである。この窪み37はリップ面
と平行方向の寸法Ｌ（37Ｈ）を0.5〜５mm、リップ面と
垂直方向の寸法Ｌ（37Ｄ）を0.5〜５mmとする。またリ
ップ長Ｌ（34）は0.5mm以上５mm以下とし、リップ面34
と上流面35とのなす角θ（30）は105°〜170°とした。
上記範囲内の断面形状のコーター形状とするときは、塗
布条件が、コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）５〜400ｍ
／分、コーター間隙40〜300μｍ、減圧度０〜400mmＡｑ
の範囲内において、長時間の連続塗布を行ってもスジ故
障が生じることがなくなった。
布装置30で、ベース搬送に伴う同伴空気がスジ故障の原
因となることを防止するようにしたもので、リップ面34
と上流面35とが接する位置付近に窪み37を設けることで
ベース搬送に伴うビード下部への同伴空気の逃げを設け
スジ故障を防止したものである。この窪み37はリップ面
と平行方向の寸法Ｌ（37Ｈ）を0.5〜５mm、リップ面と
垂直方向の寸法Ｌ（37Ｄ）を0.5〜５mmとする。またリ
ップ長Ｌ（34）は0.5mm以上５mm以下とし、リップ面34
と上流面35とのなす角θ（30）は105°〜170°とした。
上記範囲内の断面形状のコーター形状とするときは、塗
布条件が、コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）５〜400ｍ
／分、コーター間隙40〜300μｍ、減圧度０〜400mmＡｑ
の範囲内において、長時間の連続塗布を行ってもスジ故
障が生じることがなくなった。
【００２１】
【発明の効果】本発明の第１の発明によるときは，塗布
時のベース搬送に伴う同伴空気がビード下部へ突入する
のを防止し、また第２の発明によって塗布時のビード下
部からの液のしみだし及びビード上部への液の登りによ
る液滴形成に起因する塗布故障を防止して、安定して継
続的に良好な塗布がなされる感光材料の塗布装置が提供
されることとなった。
時のベース搬送に伴う同伴空気がビード下部へ突入する
のを防止し、また第２の発明によって塗布時のビード下
部からの液のしみだし及びビード上部への液の登りによ
る液滴形成に起因する塗布故障を防止して、安定して継
続的に良好な塗布がなされる感光材料の塗布装置が提供
されることとなった。
【図１】本発明によるエクストルージョン型塗布装置の
コーター断面形状を示している。
コーター断面形状を示している。
【図２】本発明によるエクストルージョン型塗布装置の
一実施例の要部断面図である。
一実施例の要部断面図である。
【図３】本発明によるエクストルージョン型塗布装置の
他の実施例の要部断面図である。
他の実施例の要部断面図である。
【図４】本発明によるスライドホッパー型塗布装置の要
部断面図である。
部断面図である。
【図５】エクストルージョン型塗布装置の説明図であ
る。
る。
【図６】スライドホッパー型塗布装置の説明図である。
10 ローラ 20 エクストルージョン型塗布装置（コーター） 21 チャンバー 22 スリット 23Ａ 上流側リップ面 23Ｂ 下流側リップ面 24Ａ 上流面 24Ｂ 下流面 27 窪み（上流側） 28 窪み（下流側） 30 スライドホッパー型塗布装置（コーター） 31 チャンバー 32 スリット 33 スライド面 34 リップ面 35 上流面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−180268（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−50000（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−123680（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−75758（ＪＰ，Ａ) 特公 昭56−42339（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭51−39981（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B05C 5/02 G03F 7/16 501 B05D 1/26
Claims (6)
- 【請求項１】 回転する円筒状のローラに巻き付けられ
たベースに対向して設置され、スリットを通して、スリ
ットと対向するベース面と平行にスリットの前後に設け
たリップ面とベースとの間の間隙（コーター間隙）に向
けて流出する塗布液を塗布するエクストルージョン型コ
ーターの塗布装置において、 塗布液を コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、ローラの回転方向に対してスリ
ットの上流側に所定長（上流側リップ長）をもった上流
側リップ面の上流側端面からベースと遠ざかる方向に設
けた傾斜面（上流面）との間で、リップ面と上流面との
なす角度θを 105°≦θ≦170° とし、リップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面
と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５
mmの大きさの窪みを設け、 上流側リップ長を0.5mm以上５mm以下の幅手方向に同一
な長さとしたことを特徴とする感光材料の塗布装置。 - 【請求項２】 回転する円筒状のローラに巻き付けられ
たベースに対向して設置され、スライド面に設けられた
スリットから流出した塗布液はスライド面上をベースに
向けて移動し、スライド面の端面でベースと僅かの間隙
（コーター間隙）をもってベースに対向したリップ面へ
と移動したのち反転した形で液溜まりを形成し、ベース
への塗布液の塗布を行うスライドホッパー型コーターの
塗布装置において、 塗布液を コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、所定長（リップ長）をもったリ
ップ面の端面にベースから遠ざかる方向に傾斜面（上流
面）を設け、リップ面と上流面とのなす角度θを 105°≦θ≦170° とし、リップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面
と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５
mmの大きさの窪みを設け、 リップ長を0.5mm以上５mm以下の幅手方向に同一な長さ
としたことを特徴とする感光材料の塗布装置。 - 【請求項３】 回転する円筒状のローラに巻き付けられ
たベースに対向して設置され、スリットを通して、スリ
ットと対向するベース面と平行にスリットの前後に設け
たリップ面とベースとの間の間隙（コーター間隙）に向
けて流出する塗布液を塗布するエクストルージョン型コ
ーターの塗布装置において、 沸点90℃以下、表張30dyn/cm以下の低沸点低表張成分
と、沸点90℃以上、表張30dyn/cm以上の高沸点高表張成
分の両者を含有する液を、 コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、ローラの回転方向に対してスリ
ットの上流側に所定長（上流側リップ長）をもった上流
側リップ面の上流側端面からベースと遠ざかる方向に設
けた傾斜面（上流面）との間で、リップ面と上流面との
なす角φと、スリットの下流側に所定長（下流側リップ
長）をもった下流側リップ面の下流側端面からベースと
遠ざかる方向に設けた傾斜面（下流面）との間で、リッ
プ面と下流面とのなす角φは、何れも 105°≦φ≦170° とし、上流側リップ面と上流面とが接する位置付近にリ
ップ面と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に
0.5〜５mmの大きさの窪みを設け、 下流側リップ面と下流面とが接する位置付近にリップ面
と平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５
mmの大きさの窪みを設けたことを特徴とする感光材料の
塗布装置。 - 【請求項４】 前記エクストルージョン型コーターにお
いて、下流側リップ面と下流面とが接する位置付近に設
けた前記窪みは幅手中央から両端に向けて深さが増す形
状に設け、かつ下流側リップ長Ｌを 0.5mm≦Ｌ≦５mm とし、Ｌは幅手に均一な長さとしたことを特徴とする請
求項３に記載の感光材料の塗布装置。 - 【請求項５】 前記エクストルージョン型コーターにお
いて、下流側リップ長Ｌは 0.5mm≦Ｌ≦５mm とし、下流側リップ面と下流面とが接する位置付近に設
けた前記窪みの上部にしみだし液吸い取り用の吸い取り
紙を設けたことを特徴とする請求項３に記載の感光材料
の塗布装置。 - 【請求項６】 回転する円筒状のローラに巻き付けられ
たベースに対向して設置され、スライド面に設けられた
スリットから流出した塗布液はスライド面上をベースに
向けて移動し、スライド面の端面でベースと僅かの間隙
（コーター間隙）をもってベースに対向したリップ面へ
と移動したのち反転した形で液溜まりを形成し、ベース
への塗布液の塗布を行うスライドホッパー型コーターの
塗布装置において、 沸点90℃以下、表張30dyn/cm以下の低沸点低表張成分
と、沸点90℃以上、表張30dyn/cm以上の高沸点高表張成
分の両者を含有する液を、 コーティングスピード（Ｃ／Ｓ）＝５〜400ｍ／分 コーター間隙 ＝40〜300μｍ 減 圧 度 ＝０〜400mmＡｑ 塗布ウェット膜厚（ｈｗ） ＝８〜50μｍ の範囲で塗布する際に、リップ面の端面にベースから遠
ざかる方向に傾斜面（上流面）を設け、リップ面と上流
面とのなす角φを 120°≦φ≦160° としリップ面と上流面とが接する位置付近にリップ面と
平行方向に0.5〜５mm、リップ面と垂直方向に0.5〜５mm
の大きさの窪みを設けたことを特徴とする感光 材料の塗
布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15222092A JP3240522B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 感光材料の塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15222092A JP3240522B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 感光材料の塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05345161A JPH05345161A (ja) | 1993-12-27 |
| JP3240522B2 true JP3240522B2 (ja) | 2001-12-17 |
Family
ID=15535713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15222092A Expired - Fee Related JP3240522B2 (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 感光材料の塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3240522B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4877567B2 (ja) * | 2001-08-22 | 2012-02-15 | 大日本印刷株式会社 | 塗工装置 |
| JP6450618B2 (ja) * | 2015-03-19 | 2019-01-09 | 東レフィルム加工株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
| JP6880715B2 (ja) * | 2016-12-27 | 2021-06-02 | トヨタ自動車株式会社 | 塗工装置 |
-
1992
- 1992-06-11 JP JP15222092A patent/JP3240522B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05345161A (ja) | 1993-12-27 |
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