JP3232546B2 - Ｏｔｄｒ装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバの光軸方向
に沿った任意の位置での損失など、光ファイバの特性を
測定するＯＴＤＲ（ Optical Time-Domain Reflectomet
ry）装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＯＴＤＲ装置は従来より、光ファイバの
損失測定等に広く用いられている。ＯＴＤＲ装置は、光
源から出射するパルス検査光を光カプラ等を介して被測
定ファイバの一端から入射させ、光ファイバ各点でのレ
ーリ散乱により被測定ファイバから出射する後方散乱光
を検出し、得られる電気信号データを各時間ごとに収集
することによって、被測定ファイバの損失特性等を測定
するものである。

【０００３】一般に使用されているＯＴＤＲ装置の検査
光光源としては、縦モードが多モードの半導体レーザ光
源が使用されている。しかし、縦多モードの半導体レー
ザ光源は発振波長幅が２０ｎｍ以上と広いため、従来の
ＯＴＤＲ装置を用いて特定波長における光ファイバの特
性を測定するには限界があった。

【０００４】これに対し、特定波長における光ファイバ
の特性を測定するのに好適なＯＴＤＲ装置としては、特
開平６−１３６８８号公報に開示のものが知られてい
る。これは、光ファイバレーザを検査光光源として用
い、数ｎｍ以下の狭い波長幅の検査光を用いて特定波長
における光ファイバの特性を良好に測定しようとするも
のである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光ファ
イバレーザの検査光光源は、エルビウムドープファイバ
（ＥＤＦ）や光アイソレータ、偏波変調器、偏光フィル
タなど、多数の光学部品からＯＴＤＲ装置構成されるも
のである。このため、光ファイバレーザを検査光光源と
して用いるＯＴＤＲ装置は、光学系の設計や光学部品の
配置が煩雑で製造が容易でなく、また、装置の小型化を
達成することも困難である。さらに、製造コストの低減
を図ることも困難であり、製造の困難さと相まって量産
に向かないという問題点がある。

【０００６】本発明は、上記の問題点に鑑みなされたも
ので、特定波長における光ファイバの特性を測定するの
に好適なＯＴＤＲ装置であって、部品点数が少なく簡易
な構成のＯＴＤＲ装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明のＯＴＤＲ装置は、光出射面及びこの光
出射面と対向する光反射面を有する電流励起型の半導体
発光素子と、コアに回折格子が形成された光導波路とを
有する検査光光源であって、半導体発光素子からの出射
光が回折格子及び光反射面で反射されることによりレー
ザ発振を行うものを備えることを特徴としている。

【０００８】上記の検査光光源は、上記の光導波路のう
ち回折格子を含む部分にその光軸方向に沿って応力を加
える応力付加手段をさらに有していても良い。

【０００９】また、上記の検査光光源は、上記の光導波
路のうち回折格子を含む部分の周囲の温度を変化させる
温度調節手段をさらに有していても良い。

【００１０】

【作用】本発明のＯＴＤＲ装置の検査光光源が有する半
導体発光素子に動作電流を流すと自然放出光および誘導
放出光が発生し、光出射面から比較的広い波長幅を持っ
た光が出射される。この出射光が光導波路に入射し、そ
のコアに形成された回折格子に到達すると、この回折格
子の反射波長（ブラッグ波長）を中心として半導体発光
素子の出力波長幅よりも狭い波長幅の光のみが十分な反
射率で反射される。反射光は、光出射面から半導体発光
素子に入射して誘導放出を引き起こしながら光反射面に
到達し、ここで反射されて逆方向に進行する。この反射
光は誘導放出を引き起こしながら発光素子内を進行し、
光出射面から出射する。この出射光は、回折格子で再び
反射される。以上の現象が繰り返されることにより光が
増幅され、最終的にレーザ発振が行われる。従って半導
体発光素子では、往復する光の波長のみ増幅されるため
他の波長の光の発光レベルは非常に小さくなり、狭い波
長幅でのみレーザ発振する。こうして得られたレーザ光
は、光導波路から出射する。このレーザ光が、検査光光
源が出力する検査光である。

【００１１】このように、本発明のＯＴＤＲ装置の検査
光光源は、光導波路のコアに形成された回折格子と半導
体発光素子の光反射面を反射器として用いることにより
レーザ発振を行うものなので、回折格子の反射スペクト
ル幅に応じた十分に狭い波長幅のレーザ光を出力する。
本発明のＯＴＤＲ装置によれば、この狭い波長幅のレー
ザ光が検査光として用いられる結果、特定波長における
光ファイバの特性が良好に測定される。

【００１２】上記の検査光光源は、半導体発光素子と光
導波路から構成されるものであり、光ファイバレーザを
光源とする従来のＯＴＤＲ装置に比べて部品点数が格段
に少なくてすむ。従って、本発明のＯＴＤＲ装置は、光
学系の設計や光学部品の配置が容易で製造しやすく、小
型化も容易である。

【００１３】本発明のＯＴＤＲ装置のうち検査光光源が
応力付加手段を有するものでは、光導波路のうち回折格
子を含む部分に応力が加えられることで回折格子の周期
等が変化し、これに応じて回折格子の反射波長も変化す
る。応力付加手段が加える応力を調節することで回折格
子の反射波長が調節される。回折格子の反射波長に応じ
て検査光光源の出力波長も変化するので、応力付加手段
が加える応力を調節することで検査光の波長が調節され
る。

【００１４】本発明のＯＴＤＲ装置のうち検査光光源が
温度調節手段を有するものでは、光導波路のうち回折格
子を含む部分の周囲の温度を変化させることで、その部
分が膨脹あるいは収縮する。この結果、回折格子の周期
等が変化し、これに応じて回折格子の反射波長も変化す
る。温度調節手段を制御し、回折格子を含む部分の周囲
の温度を調節することで、回折格子の反射波長が調節さ
れる。回折格子の反射波長に応じて検査光光源の出力波
長も変化するので、温度調節手段を制御することにより
検査光の波長が調節される。

【００１５】

【実施例】以下、添付図面を参照しながら本発明の実施
例を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の
要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
また、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致して
いない。

【００１６】実施例１ 図１は、本実施例のＯＴＤＲ装置１００の構成を示す模
式図である。このＯＴＤＲ装置１００は、検査光光源１
１０、光カプラ４０及び測定部５０から構成されてい
る。

【００１７】検査光光源１１０は、検査光であるレーザ
光をパルス発振するものであり、ファブリペロー型半導
体レーザ１０、レンズ２０及び光ファイバ３０から構成
されている。これは、従来からＯＴＤＲ装置の検査光光
源として使用されてきたファブリペロー型半導体レーザ
１０に、光ファイバ３０をレンズ２０を介して光学的に
接続したものである。なお、この検査光光源１１０は、
Ｄ．Ｍ．Ｂｉｒｄらの論文（ Electron.Lett.,Vol,No.1
3,pp1115-1116,1994）に記載されているものと同様であ
る。

【００１８】ファブリペロー型半導体レーザ１０は、Ｉ
ｎＧａＡｓＰ／ＩｎＰのヘテロ構造体から構成される半
導体発光素子であり、動作電流が流されることにより励
起され、１５５０ｎｍ帯のパルス光を出力する。ヘテロ
構造体の両端には光反射面１１と光出射面１２が設けら
れている。これらの面は互いに対向しており、ファブリ
ペロー型のレーザ共振器を構成している。光反射面１１
は、高反射率（本実施例では、約８０％）を有してお
り、光出射面１２は、低反射率（本実施例では、約５
％）を有している。ファブリペロー型の多くがそうであ
るように、半導体レーザ１０は縦多モードレーザであ
り、各モードの波長に対応して出力が大きくなるような
発振スペクトルを示す。

【００１９】レンズ２０は、半導体レーザ１０からの出
射光を収束させて光ファイバ３０に入射させ、半導体レ
ーザ１０から光ファイバ３０への光パワーの結合を行う
ものである。レンズ２０としては、光通信で用いられて
いるような通常の光結合用レンズを用いることができ
る。

【００２０】なお、本実施例のようにレンズ２０を半導
体レーザ１０と光ファイバ３０との間に介在させる代わ
りに、先端を溶融や切削により加工してレンズ作用を持
たせた光ファイバ３０を用いることもできる。

【００２１】光ファイバ３０は、通常のシングルモード
光ファイバにおいてコアの一部に回折格子３５が形成さ
れたものである。この回折格子３５は、コアの一領域で
あって、その屈折率が光軸に沿った位置に応じて最小屈
折率と最大屈折率の間で周期的に変化するものである。
この屈折率変動の周期が、回折格子の周期である。

【００２２】この回折格子３５は、二光束干渉法により
紫外光の干渉縞を生成し、コアにＧｅＯ₂ が添加された
光ファイバにこの干渉縞を照射することで形成すること
ができることが一般に知られている。なお、この形成方
法は、特許出願公表昭６２−５０００５２に記載されて
いる。この方法によれば、干渉縞の光強度分布に応じて
コアの実効屈折率が上昇する結果、コアのもとの実効屈
折率と上昇した実効屈折率との間で屈折率が変動する領
域が形成される。これが、回折格子３５である。

【００２３】この回折格子３５は、所定の反射波長λ_R
を中心とした狭い波長幅にわたって光を反射する。この
反射波長λ_R は、 λ_R ＝２・ｎ・Λ …（１） ｎ：回折格子３５の最小屈折率 Λ：回折格子３５の周期 のように表される。

【００２４】光カプラ４０は、４端子の光方向性結合器
の一種であり、第１〜第３の端子４１〜４３及び無反射
終端４４を備えている。第１端子４１は光ファイバ３０
に接続されており、検査光光源１００からの検査光が光
カプラ４０に入射されるようになっている。第２端子４
２には、被測定光ファイバ６０が接続される。

【００２５】検査光は、光カプラ４０に入射すると２分
岐される。一方の分岐光は、被測定光ファイバ６０に入
射する。入射した検査光のうち光ファイバ各点でのレー
リ散乱により逆方向に進行するようになった後方散乱光
は、光カプラ４０に入射して２分岐される。一方の分岐
光は、測定部５０に入射する。

【００２６】なお、従来のＯＴＤＲ装置と同様、光カプ
ラ４０以外に光サーキュレータ等の光方向性結合器を用
いることが可能である。

【００２７】測定部５０は、被測定光ファイバ６０の後
方散乱光を測定するものであり、光カプラ４０の第３端
子４３に接続されている。この測定部５０は、通常のＯ
ＴＤＲ装置に用いられるものと同様のもので、後方散乱
光を検出して電気信号に変換する光検出器、光検出器の
出力電気信号を増幅するアンプ、アンプの出力信号をＡ
／Ｄ変換し、さらに平均化処理等を施す信号処理部、信
号処理部に接続されたＣＲＴ装置等を備えている。ＣＲ
Ｔ装置は、信号処理部の出力信号に基づいて、被測定光
ファイバ６０の散乱光パワーを被測定光ファイバ６０に
おける所定の基準点から測定点までの距離に対して表示
する。表示された波形を観測することにより、光ファイ
バの任意の２点間の損失を求めることができる。

【００２８】上記の検査光光源１１０は、半導体レーザ
１０の出力波長幅よりも狭い波長幅のレーザパルス光を
出力する。以下、この原理を説明する。

【００２９】ファブリペロー型半導体レーザ１０に動作
電流を流すと自然放出光が生成される。これが光反射面
１１と光出射面１２との間で誘導放出を引き起こしなが
ら繰り返し反射されることにより光が増幅され、最終的
にレーザ発振が生じる、このように、光出射面１２で反
射される光は半導体レーザ１０のレーザ発振に寄与す
る。

【００３０】しかし、光出射面１２の反射率は５％と低
いため、半導体レーザ１０で生成された自然放出光およ
び誘導放出光の大部分は光出射面１２を透過する。図２
は、光出射面１２から出射する光の波長スペクトルを示
す図である。出射光は約１５４０ｎｍ〜約１５６０ｎｍ
の波長域を有するものであり、その波長幅は約２０ｎｍ
である。

【００３１】光出射面１２を透過して出射した光は、レ
ンズ２０を透過した後、光ファイバ３０に入射し、回折
格子３５に到達する。図３は、回折格子３５の反射スペ
クトルを示す図である。この図に示されるように、回折
格子３５の反射波長λ_R は約１５５３．３ｎｍであり、
この波長を中心として狭い波長幅にわたって比較的高い
反射率を示す。なお、反射波長に対する反射率は約４７
％である。

【００３２】回折格子３５で反射された光は、レンズ２
０を介して光出射面１２から半導体レーザ１０に入射
し、誘導放出を引き起こしながら光反射面１１に到達す
る。光反射面１１で反射された光は誘導放出を引き起こ
しながら進行し、光出射面１２から出射して、再び光フ
ァイバ３０に入射する。この入射光は、回折格子３５に
到達して再び反射される。こうして、回折格子３５と光
反射面１１との間で反射が繰り返されることにより光は
増幅され、最終的にレーザ発振が生ずる。これにより、
光ファイバ３０の光カプラ４０側の端面からレーザ光が
出射する。これが、検査光光源１１０から出力される検
査レーザ光である。

【００３３】回折格子３５と光反射面１１との間でレー
ザ共振を起こす光は、回折格子３５により比較的高い反
射率で反射される波長の光に限られる。図２のように、
光出射面１２を透過して光ファイバ３０に入射する光は
約１５４０ｎｍ〜約１５６０ｎｍの波長域にわたるもの
であるが、回折格子３５は、図３のように約１５５３．
３ｎｍを中心とした約０．３ｎｍの波長幅にわたる光し
か十分な反射率で反射しないため、半導体レーザ１０の
みの場合よりも狭い波長幅の光がレーザ共振を起こすこ
とになる。回折格子３５の反射波長に対する反射率は光
反射面１１の反射率よりも十分に大きいので、回折格子
３５と光反射面１１との間のレーザ共振によるレーザ光
の出力は、半導体レーザ１０で生成されるレーザ光の出
力よりも十分に大きくなる。この結果、検査光光源１１
０から出力されるレーザ光は、半導体レーザ１０の出力
レーザ光よりも狭い波長幅を有することになる。

【００３４】図４は、検査光光源１１０の発振スペクト
ルを示す図である。この図に示されるように、検査光光
源１１０は、縦単一モードのレーザ発振を行う。発振条
件を満たすのは回折格子３５で反射される光のなかでも
比較的反射率の高いものに限られるため、発振スペクト
ルの線幅（半値幅）は０．１ｎｍ程度であり、回折格子
３５の反射スペクトルの線幅よりもさらに狭くなってい
る。

【００３５】なお、検査光光源１１０の出力波長幅が２
ｎｍ以下であれば十分に好適な特定波長における光ファ
イバの特性を十分好適に測定できる。検査光光源１１０
の出力波長幅は、回折格子３５反射スペクトルの線幅を
適切に設定することで調節することができる。

【００３６】本実施例の検査光光源１１０は、従来から
検査光光源として用いられている半導体レーザをそのま
ま利用し、これにレンズ２０と光ファイバ３０を付加し
たものであり、従って、回折格子３５と光反射面１１と
の間でレーザ共振が生ずるとともに、半導体レーザ１０
においても光反射面１１と光出射面との間でもレーザ共
振が生じている。しかし、回折格子３５と光反射面１１
との間でレーザ共振が生じていれば波長幅の狭いレーザ
光が得られるから、実際は、半導体レーザ１０における
レーザ共振は必ずしも必要ない。従って、光反射面１１
の反射率を変えずに光出射面１２の反射率を実施例より
低くすることも可能である。こうすることで光出射面１
２から出射する光のパワーが強まるから、回折格子３５
の反射率は実施例より低くても良いことになる。

【００３７】本実施例のＯＴＤＲ装置１００は、上記の
検査光光源１１０を備えており、十分に狭い波長幅のレ
ーザ光を検査光として用いるので、被測定光ファイバ６
０の特定波長における特性を好適に測定することができ
る。

【００３８】また、検査光光源１１０は、半導体レーザ
１０および光ファイバ３０、並びに両者の光結合のため
のレンズ２０から構成される簡易なものであり、光ファ
イバレーザを光源とする従来のＯＴＤＲ装置に比べて、
部品点数が格段に少ない。したがって、本実施例のＯＴ
ＤＲ装置１００は、光学系の設計や光学部品の設置が容
易で製造しやすく、小型化も容易という利点を有してい
る。部品点数が少なく製造が容易なことは、製造コスト
の削減につながるものであり、従って、本実施例のＯＴ
ＤＲ装置は量産化にも適している。

【００３９】実施例２ 本実施例のＯＴＤＲ装置は、実施例１の検査光光源１０
０の構成に加えて光ファイバ３０に応力を加える応力付
加装置７０をさらに有する検査光光源を備えることが実
施例１と異なる。

【００４０】図５は、応力付加装置７０の構成を示す図
である。この応力付加装置７０は、光ファイバ３０のう
ち回折格子３５を挟む二点において光ファイバ３０を把
持するアーム７１及び７２と、このアーム７１及び７２
が取り付けられているピエゾ素子７３とを備えている。
ピエゾ素子７３には図示しない可変電圧源が接続されて
おり、この可変電圧源から駆動電圧が印加されることに
より伸縮する。伸縮の方向は、光ファイバ３０の光軸方
向と略平行である。

【００４１】ピエゾ素子７３の伸縮をさせると、アーム
７１及び７２を介して光ファイバ３０に光軸方向の応力
（張力または圧力）が加わる。これにより、回折格子３
５の周期やコアの実効屈折率が変化する。上記（１）式
に示されるように、回折格子３５の反射波長は、回折格
子３５の周期やコアの実効屈折率に依存するので、これ
らの変化に応じて回折格子３５の反射波長も変化する。
反射波長が変化すると、検査光光源の出力波長も変化す
るから、ピエゾ素子７３の駆動電圧の大きさや正負を調
節してピエゾ素子７３の伸縮を制御すれば、検査光光源
の出力波長を任意に切り替えることができる。なお、本
実施例では、１０ｎｍ／ｋｇの出力波長変化を実現する
ことができた。

【００４２】このように、本実施例のＯＴＤＲ装置は、
波長可変の検査光光源を備えているので、所定の波長可
変領域から波長を選択し、この波長における被測定光フ
ァイバの特性を測定することができる。この検査光光源
は、実施例１の検査光光源１００における光ファイバ３
０に応力付加装置７０を取り付けたものであるが、新た
な光学部品を付加した構成ではない。したがって、本実
施例のＯＴＤＲ装置も、実施例１と同様に光学系の設計
や光学部品の設置が容易で製造しやすいという利点を有
している。また、応力付加装置７０を加えても依然とし
て部品点数は少なく、さらに応力付加装置７０はピエゾ
素子を利用した小型の装置であるから、ＯＴＤＲ装置全
体の小型化も十分に達成することができる。

【００４３】実施例３ 本実施例のＯＴＤＲ装置も、検査光光源の構成が実施例
１の検査光光源１００と異なっている。すなわち、本実
施例のＯＴＤＲ装置の検査光光源は、実施例１の検査光
光源１００の構成要素に加えて、光ファイバ３０の回折
格子３５を含む部分を収納した温度調節槽をさらに有し
ている。この温度調節槽は、槽内の温度を所定の温度範
囲において任意に変化させるものである。

【００４４】また、本実施例では、図６に示すように、
光ファイバ３０は固定板９０のＶ溝９１に埋設されてお
り、回折格子３５を含む部分には金属板（アルミ板）８
０が取り付けられている。このアルミ板８０は、回折格
子３５を挟む２箇所において接着剤８１により光ファイ
バ３０に接着されている。

【００４５】温度調節槽内の温度を変化させると、アル
ミ板８０と光ファイバ３０の熱膨張係数の差に応じて光
ファイバ３０に応力が付加される。これにより、回折格
子３５を含む部分が光軸方向に沿って伸張または収縮す
ることから、回折格子３５の周期が変化して反射波長が
変化する。したがって、温度調節槽内の温度を調節すれ
ば、検査光光源の出力波長を任意に切り替えることがで
きる。本実施例では、０．０５ｎｍ／℃の出力波長変化
を実現することができる。

【００４６】なお、温度調節槽内の温度が変化すれば、
光ファイバ３０自体が伸張あるいは収縮するのでアルミ
板８０がなくても回折格子３５の反射波長は変化する
が、アルミ板８０を取り付けることにより温度変化に対
する反射波長の変化が大きくなるので、検査光光源の出
力波長をより広い波長範囲で切り替えることができるよ
うになり好適である。また、アルミ板８０を取り付けた
場合のほうが、出力波長の制御性も良い。

【００４７】本実施例のＯＴＤＲ装置も、実施例２のＯ
ＴＤＲ装置と同様に波長可変の検査光光源を備えている
ので、所定の波長可変領域から波長を選択し、この波長
における被測定光ファイバの特性を測定することができ
る。また、この検査光光源も、実施例１の検査光光源の
構成に新たな光学部品を付加するものではなく、従っ
て、光学系の設計や光学部品の設置が容易で製造しやす
いという利点を有している。

【００４８】以上、本発明の実施例を詳細に説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、様
々な変形が可能である。例えば、実施例では光ファイバ
のコアに回折格子を形成したものを用いて検査光光源を
構成したが、薄膜導波路など、他の光導波路のコアに回
折格子を形成したものを用いることもでき、実施例と同
様の作用効果を得ることができる。

【００４９】

【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明のＯ
ＴＤＲ装置は、半導体発光素子およびコアに回折格子が
形成された光ファイバから構成され、狭い波長幅の検査
光を出力する検査光光源を備えているので、特定波長に
おける光ファイバの特性を良好に測定できるとともに、
部品点数が少なく簡易な構成を有しており、光学系の設
計や光学部品の配置が容易で製造しやすく、容易に小型
化を実現することも可能である。

【００５０】本発明のＯＴＤＲ装置のうち検査光光源が
応力付加手段を有するものは、応力付加手段が加える応
力を調節することで検査光の波長が調節できることか
ら、複数の波長における光ファイバの特性を測定でき
る。従って、このＯＴＤＲ装置は、光学系の設計や光学
部品の配置が容易で製造しやすいうえ、一層好適な測定
を行うことができる。

【００５１】本発明のＯＴＤＲ装置のうち検査光光源が
温度調節手段を有するものも同様で、温度調節手段を制
御することにより検査光の波長を調節でき、複数の波長
における光ファイバの特性を測定できるので、このＯＴ
ＤＲ装置も、光学系の設計や光学部品の配置が容易で製
造しやすいうえ、一層好適な測定を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１のＯＴＤＲ装置の構成を示す模式図で
ある。

【図２】半導体レーザ１０の出射光の波長スペクトルを
示す図である。

【図３】回折格子３５の反射スペクトルを示す図であ
る。

【図４】検査光光源１００の発振スペクトルを示す図で
ある。

【図５】応力付加装置７０の構成を示す図である。

【図６】光ファイバ３０に取り付けられたアルミ板８０
を示す図である。

【符号の説明】

１０…ファブリぺロー型半導体レーザ、１１…光反射
面、１２…光出射面、２０…レンズ、３０…光ファイ
バ、３５…回折格子、４０…光カプラ、５０…測定部、
６０…被測定光ファイバ、１００…ＯＴＤＲ装置、１１
０…検査光光源。

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G01M 11/00 - 11/02 H01S 5/00 - 5/50

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光出射面及びこの光出射面と対向する光
   反射面を有する電流励起型の半導体発光素子と、前記半
   導体発光素子の外部に配置され、コアに回折格子が形成
   された光導波路と、を有する検査光光源を備えたＯＴＤ
   Ｒ装置であって、 前記検査光光源は、前記光出射面を透過した前記半導体
   発光素子からの出射光が前記光導波路に入射して前記回
   折格子に到達し、前記回折格子で反射された光が前記光
   出射面から前記半導体発光素子に入射して前記光反射面
   に到達するようになっており、前記半導体発光素子で生
   成された光が前記回折格子及び前記光反射面で繰り返し
   反射されることによりレーザ発振を行うことを特徴とす
   るＯＴＤＲ装置。
2. 【請求項２】 前記検査光光源は、前記光導波路のうち
   前記回折格子を含む部分にその光軸方向に沿って応力を
   付加する応力付加手段をさらに有することを特徴とする
   請求項１記載のＯＴＤＲ装置。
3. 【請求項３】 前記検査光光源は、前記光導波路のうち
   前記回折格子を含む部分の周囲の温度を変化させる温度
   調節手段をさらに有することを特徴とする請求項１記載
   のＯＴＤＲ装置。
4. 【請求項４】 前記光導波路は、光ファイバであり、こ
   の光ファイバのうち前記回折格子を含む部分には金属板
   が取り付けられており、前記温度調節手段は、前記回折
   格子を含む部分の周囲の温度を変化させることにより、
   前記金属板および前記光ファイバの熱膨張係数の差に応
   じて前記光ファイバに応力を付加し、前記回折格子を含
   む部分が伸張または収縮することを特徴とする請求項３
   記載のＯＴＤＲ装置。