JP3222575B2 - 水切り洗浄剤組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、水切り洗浄剤組成物に
係るもので、更に詳しくは、電子部品、メッキ部品、ガ
ラス部品等、金属、非金属製の加工部品に付着した水を
除去し、乾燥するために用いられ水切り洗浄剤組成物に
関する。

【０００２】

【従来の技術】電子部品、メッキ部品、ガラス部品等、
金属、非金属製の加工部品の製造加工工程において汚れ
の除去等を目的とした水洗浄処理を始め種々の水処理が
行われている。ところで、水処理工程により加工部品に
付着した水は錆、シミ等の防止のため迅速且つ的確に除
去されなければならない。このため、洗浄処理された加
工部品は、付着水分を分離するための水切り剤槽内に投
入されその付着水分が除去される。また、沸騰浴洗浄
槽、冷浴洗浄槽、及び蒸気洗浄槽において、付着した水
切り剤の洗浄、及びその処理が行われる。従来、上記水
切り剤槽（水切り水分分離槽）等に使用される水切り洗
浄剤としては、塩素化炭化水素化合物に安定剤及び界面
活性剤を添加した水切り性能を有するものが提案されて
いる（特開平３−１１４５０１号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
水切り洗浄剤、例えばラウリルアミンカプロン酸塩等の
ような炭素数６〜１２の第１級アミンと炭素数６〜１０
のモノカルボン酸との塩等では、加温状態の水切りを行
った場合、或いは水切り洗浄剤が後段の沸騰浴洗浄槽、
冷浴洗浄槽、及び蒸気洗浄槽内に混入した場合（最終的
には蒸気洗浄槽に濃縮されるのが一般的システム。）に
熱分解し、ｐＨ低下等のトラブルを招いた。このため、
熱に安定な水切り洗浄剤組成物が求められている。従っ
て、本発明の目的は、水切り乾燥装置等において、高温
でも安定に使用することができる水切り洗浄剤組成物を
提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意検討した結果、特定のアミンとカルボ
ン酸の塩から熱に対して極めて安定である水切り洗浄剤
組成物が得られるという知見を得た。即ち、本発明は、
塩素化炭化水素化合物に対して、ジノルマルヘキシルア
ミンと炭素数６〜１２の脂肪族モノカルボン酸又はジカ
ルボン酸との塩が０．０１〜５．０重量％添加されてい
ることを特徴とする水切り洗浄剤組成物を提供すること
により、上記目的を達成したものである。

【０００５】本発明の水切り洗浄剤組成物は、電子部
品、メッキ部品、ガラス部品等の金属、非金属製の加工
品（又は被洗浄物）の水処理に於いて、その水処理後の
加工品の水切り工程に用いる限りは特に制限なく使用で
きる。例えば、図１に示す如く既に公知の水切り乾燥装
置等に用いることができる。図１に示す水切り乾燥装置
は、水切り水分分離槽１、沸騰浴洗浄槽２、冷浴洗浄槽
３、及び蒸気洗浄槽４からなり、水切り水分分離槽１に
は本発明の水切り洗浄剤組成物が満たされる。このよう
な乾燥装置において、水分付着の加工品等は水切り水分
分離槽１で本発明の水切り洗浄剤組成物によって水が除
去され、次に加工品等に付着した該洗浄剤組成物が、沸
騰浴洗浄槽２、冷浴洗浄槽３、及び蒸気洗浄槽４で洗浄
及び乾燥によって取り除かれ、加工品等は最終的に水が
迅速且つ的確に除去される。

【０００６】本発明の水切り洗浄剤組成物に於ける上記
塩素化炭化水素化合物としては、メチルクロロホルム、
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、塩化メチ
レン等が挙げられるが、これらに限られるものではな
い。また上記脂肪族カルボン酸は、炭素数６〜１２の範
囲のモノ或いはジカルボン酸であり、具体的にはカプロ
ン酸、イソカプロン酸、カプリル酸、デカン酸、ラウリ
ル酸、アジピン酸等が挙げられるが、これらに限られる
ものではない。上記カルボン酸とジノルマルヘキシルア
ミンとの塩は、塩素化炭化水素化合物に対して、０．０
１〜５重量％が好ましく、過少であると水切り効果が弱
くなり複雑な形状の被洗浄物を処理する場合、水切り不
十分となってシミ、錆等のトラブルの要因となる。また
過剰であると沸騰浴洗浄槽２、冷浴洗浄槽３、及び蒸気
洗浄槽４の洗浄、乾燥工程で洗浄不良の要因となり、問
題が生じる。更に過剰添加分の効果が得られないことか
らも経済的に好ましくない。

【０００７】従って、水切り水分分離槽１に於いて本発
明の水切り洗浄剤組成物によって、加工品等の水が十分
に除去され、また沸騰浴洗浄槽２、冷浴洗浄槽３、及び
蒸気洗浄槽４に於いて加工品等に付着した本発明の水切
り洗浄剤組成物が熱によって熱分解を生じず、高温でも
安定に使用することができる。

【０００８】

【実施例】以下に、実施例を比較例と比較しながら示
し、本発明の水切り洗浄剤組成物を更に具体的に説明す
る。尚、本発明は以下の実施例に限るものではない。 ・実施例及び比較例に用いる試験評価 ＜評価試験−１＞熱安定性試験 水切り洗浄剤を３００ｍｌ三角フラスコへ１５０ｍｌ入
れ、４０時間沸騰還流し、ｐＨの変化を測定する。 ＜評価試験−２＞水切り試験 ライター部品（ニッケルメッキ、地金鉄製）を５０個ス
テンレス製金網籠に入れ、水切り洗浄剤（液温度２５
℃）３０秒間浸漬し、水切り状況を目視で確認した。

【０００９】実施例１ メチルクロロホルムにカプリル酸ジノルマルヘキシルア
ミンを０．５重量％添加し、上記評価試験を試みた。そ
の結果を表１に示した。 実施例２ トリクロロエチレンを用いて実施例１と同様な調製及び
上記評価試験を試みた。その結果を表１に示した。 実施例３ テトラクロロエチレンを用いて実施例１と同様な調製及
び上記評価試験を試みた。その結果を表１に示した。 実施例４ 塩化メチレンを用いて実施例１と同様な調製及び上記評
価試験を試みた。その結果を表１に示した。 実施例５ 塩化メチレンにアジピン酸ジノルマルヘキシルアミンを
０．５重量％添加し、上記評価試験を試みた。その結果
を表１に示した。

【００１０】比較例１ メチルクロロホルムにラウリルアミノカプロン酸を０．
５重量％添加し、上記評価試験を試みた。その結果を表
１に示した。 比較例２ トリクロロエチレンを用いて比較例１と同様な調製及び
上記評価試験を試みた。その結果を表１に示した。 比較例３ テトラクロロエチレンを用いて比較例１と同様な調製及
び上記評価試験を試みた。その結果を表１に示した。 比較例４ 塩化メチレンを用いて比較例１と同様な調製及び上記評
価試験を試みた。その結果を表１に示した。

【００１１】

【表１】

【００１２】

【発明の効果】本発明の水切り洗浄剤組成物は、水切り
乾燥装置等において、高温でも安定に使用することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る水切り洗浄剤組成物等が用いられ
る加工品等の洗浄乾燥装置の説明概略図である。

【符号の説明】

１ 水切り水分分離槽 ２ 沸騰浴洗浄槽 ３ 冷浴洗浄槽 ４ 蒸気洗浄槽

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 12/00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塩素化炭化水素化合物に対して、ジノル
   マルヘキシルアミンと炭素数６〜１２の脂肪族モノカル
   ボン酸又はジカルボン酸との塩が０．０１〜５．０重量
   ％添加されていることを特徴とする水切り洗浄剤組成
   物。