JP3222301U - Processing device - Google Patents

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Abstract

【課題】工程毎に加工工具に適切に液体を供給する加工装置を提供する。【解決手段】加工装置は、被加工物を切削する切削ブレード50と、切削ブレードに液体を供給し、切削ブレードに対する位置が互いに異なる複数の供給ノズル58と、を備える。【選択図】図2A processing apparatus for supplying a liquid to a processing tool appropriately for each process is provided. A processing apparatus includes a cutting blade 50 for cutting a workpiece, and a plurality of supply nozzles 58 that supply liquid to the cutting blade and have different positions relative to the cutting blade. [Selection] Figure 2

Description

本考案は、加工装置に関する。   The present invention relates to a processing device.

液体を供給しながら半導体ウェーハやパッケージ基板、セラミックス基板、ガラス基板などを切削したり研削したりする加工装置は、切削ブレードや研削ホイール等の加工工具を備える。例えば特許文献1には、加工工具に冷却や加工のための液体を噴射するノズルを設ける旨が記載されている。このノズルは、加工工具に対する角度が固定されている。   A processing apparatus for cutting or grinding a semiconductor wafer, a package substrate, a ceramic substrate, a glass substrate or the like while supplying a liquid includes processing tools such as a cutting blade or a grinding wheel. For example, Patent Document 1 describes that a processing tool is provided with a nozzle for injecting a liquid for cooling or processing. The nozzle has a fixed angle with respect to the processing tool.

特許第5149035号公報Patent No. 5149035

ここで、ノズルから加工工具に適切に液体を供給するためには、ノズルの加工工具に対する角度を、加工工程に応じて変えることが望ましい。この場合、工程毎にノズルを換装する必要があるが、ノズルを換装するために時間を要するし、例えば熟練していない作業者によるノズルの誤換装を招くおそれもある。従って、加工装置において、工程毎に加工工具に適切に液体を供給することが求められている。   Here, in order to appropriately supply the liquid from the nozzle to the processing tool, it is desirable to change the angle of the nozzle with respect to the processing tool in accordance with the processing process. In this case, although it is necessary to replace the nozzle for each process, it takes time to replace the nozzle, and for example, there is a possibility that the non-skilled worker may cause the nozzle to be replaced incorrectly. Therefore, in the processing apparatus, it is required to appropriately supply the liquid to the processing tool for each process.

本考案は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、工程毎に加工工具に適切に液体を供給することが可能な加工装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide a processing apparatus capable of appropriately supplying a liquid to a processing tool for each process.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案の加工装置は、被加工物を切削する切削ブレードと、前記切削ブレードに液体を供給し、前記切削ブレードに対する位置が互いに異なる複数の供給ノズルと、を備える。   In order to solve the problems described above and to achieve the object, a processing device according to the present invention is provided with a cutting blade for cutting a workpiece, and a plurality of liquid supplies to the cutting blade and different positions with respect to the cutting blade. And a supply nozzle.

前記供給ノズルは、液体を噴射する噴射口が前記切削ブレードの外周に対向して、前記切削ブレードの外周に液体を供給することが好ましい。   Preferably, the supply nozzle supplies a liquid to the outer periphery of the cutting blade, with an injection port for injecting the liquid facing the outer periphery of the cutting blade.

前記切削ブレードと複数の前記供給ノズルとを備える第1加工ユニットと、前記切削ブレードと複数の前記供給ノズルとを備える第2加工ユニットと、を有することが好ましい。   It is preferable to have a first processing unit including the cutting blade and the plurality of supply nozzles, and a second processing unit including the cutting blade and the plurality of supply nozzles.

前記供給ノズルによる液体の供給を制御する制御部を更に備え、前記制御部は、複数の前記供給ノズルから、液体を供給する前記供給ノズルを選択することが好ましい。   It is preferable to further include a control unit that controls the supply of the liquid by the supply nozzle, and the control unit selects the supply nozzle that supplies the liquid from the plurality of supply nozzles.

本考案の加工装置は、工程毎に加工工具に適切に液体を供給することが可能となる。   The processing apparatus of the present invention can appropriately supply the liquid to the processing tool for each process.

図1は、本実施形態に係る加工装置の外観構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an appearance configuration of a processing apparatus according to the present embodiment. 図2は、本実施形態に係る加工ユニットの模式図である。FIG. 2 is a schematic view of a processing unit according to the present embodiment. 図3は、本実施形態に係る制御装置のブロック図である。FIG. 3 is a block diagram of a control device according to the present embodiment. 図4は、液体を供給する供給ノズルを設定する画面の一例を示す図である。FIG. 4 is a view showing an example of a screen for setting a supply nozzle for supplying a liquid.

以下、図面を参照しつつ、本考案の実施形態を詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本考案が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本考案の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。なお、以下の実施形態において、なお、以下の説明に用いられるX軸方向、Y軸方向、及びZ軸方向は、互いに垂直であるものとする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. Further, the components described below include those which can be easily conceived by those skilled in the art and those which are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. In addition, various omissions, substitutions, or modifications of the configuration can be made without departing from the scope of the present invention. In the following embodiments, the X axis direction, the Y axis direction, and the Z axis direction used in the following description are assumed to be perpendicular to each other.

図1は、本実施形態に係る加工装置の外観構成を示す斜視図である。まず、実施形態に係る加工装置2によって加工される被加工物100について説明する。被加工物100は、図1に示すように、シリコン、サファイア、ガリウムなどを基板101とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウエーハである。被加工物100は、基板101の表面102に形成された複数の分割予定ライン103によって格子状に区画された領域にデバイス104が形成されている。   FIG. 1 is a perspective view showing an appearance configuration of a processing apparatus according to the present embodiment. First, the to-be-processed object 100 processed by the processing apparatus 2 which concerns on embodiment is demonstrated. The workpiece 100 is, as shown in FIG. 1, a disk-shaped semiconductor wafer or an optical device wafer using silicon, sapphire, gallium or the like as the substrate 101. The device 104 is formed in a region of the workpiece 100 partitioned in a lattice shape by a plurality of planned dividing lines 103 formed on the surface 102 of the substrate 101.

被加工物100は、表面102の裏側の裏面105に基板101より径の大きい粘着テープであるダイシングテープ106が貼着され、ダイシングテープ106の外周に環状のフレーム107が貼着される。すなわち、被加工物100は、環状のフレーム107の開口にダイシングテープ106を介して支持されている。   In the workpiece 100, a dicing tape 106, which is an adhesive tape having a larger diameter than the substrate 101, is attached to the back surface 105 on the back side of the surface 102, and an annular frame 107 is attached to the outer periphery of the dicing tape 106. That is, the workpiece 100 is supported at the opening of the annular frame 107 via the dicing tape 106.

なお、被加工物100の基板101の材質、形状、構造、大きさ等に制限はなく、例えば、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる任意の形状の基板101を被加工物100として用いることもできる。また、デバイス104の種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はない。さらに、被加工物100の基板101の表面102に、機能層としてのLow−k層ともいう低誘電率絶縁体被膜を積層し、低誘電率絶縁体被膜がデバイス104を構成する回路を支持した構成としてもよい。   The material, shape, structure, size, and the like of the substrate 101 of the workpiece 100 are not limited, and, for example, using the substrate 101 of an arbitrary shape made of a material such as ceramic, resin, or metal as the workpiece 100 You can also. Further, the type, number, shape, structure, size, arrangement, and the like of the devices 104 are not limited. Furthermore, on the surface 102 of the substrate 101 of the workpiece 100, a low dielectric constant insulator film also referred to as a low-k layer as a functional layer is laminated, and the low dielectric constant insulator film supports the circuit constituting the device 104. It is good also as composition.

次に、実施形態に係る加工装置2について説明する。加工装置2は、図1に示すように、θテーブル10と、θテーブル10の上方に配置されるテーブル基台20と、テーブル基台20の載置面に載置されて着脱自在に固定され、上面の保持面33で被加工物100を吸引保持するチャックテーブル30と、チャックテーブル30に保持された被加工物100を切削加工する加工ユニット40と、を備える。   Next, the processing device 2 according to the embodiment will be described. As shown in FIG. 1, the processing device 2 is placed on the θ table 10, the table base 20 disposed above the θ table 10, and the mounting surface of the table base 20 and is detachably fixed. The chuck table 30 suction-holds the workpiece 100 on the holding surface 33 of the upper surface, and the processing unit 40 cutting the workpiece 100 held by the chuck table 30.

θテーブル10は、モータ等の不図示の回転駆動源を備え、上方に配置されるテーブル基台20及びチャックテーブル30を切り込み送り方向であるZ軸方向に概ね平行な回転軸の周りに回転させる。   The θ-table 10 is provided with a rotational drive source (not shown) such as a motor, and rotates the table base 20 and the chuck table 30 disposed above about a rotational axis substantially parallel to the Z-axis direction which is a cutting feed direction. .

テーブル基台20は、金属等の導体によって形成されており、チャックテーブル30を載置して支持及び固定する本体部21と、この本体部21の外周部に配置されてフレーム107を保持して固定する4つのフレーム保持部であるクランプ22とを備える。本体部21は、その上面に、チャックテーブル30を載置して支持する平坦な載置面を有している。   The table base 20 is formed of a conductor such as metal, and is disposed on an outer peripheral portion of the main body 21 for mounting, supporting and fixing the chuck table 30, and holds the frame 107. And a clamp 22 which is four frame holding parts to be fixed. The main body portion 21 has a flat mounting surface on which the chuck table 30 is mounted and supported.

クランプ22は、本体部21に対して径方向に移動可能に設けられており、被加工物100及びフレーム107の径方向の大きさに応じて交換して使い分けられるチャックテーブル30の径方向の大きさに基づいて、適宜移動して用いられる。また、チャックテーブル30に近接する位置には、被加工物100をチャックテーブル30へと搬送する不図示の搬送機構が設けられている。   The clamp 22 is provided so as to be movable in the radial direction with respect to the main body portion 21, and the size in the radial direction of the chuck table 30 can be replaced and used depending on the size of the workpiece 100 and the frame 107 in the radial direction. It moves appropriately and is used on the basis of Further, at a position close to the chuck table 30, a transport mechanism (not shown) for transporting the workpiece 100 to the chuck table 30 is provided.

チャックテーブル30は、上面に平坦な保持面33を構成する吸着部31と、平坦な裏面を構成するテーブル本体32とを備える。吸着部31は、テーブル本体32の上面に設けられる。吸着部31は、多数のポーラス孔を備えたポーラスセラミックス等から構成されて、保持面33全体で、ダイシングテープ106を介して被加工物100を吸引保持する。   The chuck table 30 includes a suction unit 31 forming a flat holding surface 33 on the upper surface, and a table main body 32 forming a flat rear surface. The suction unit 31 is provided on the upper surface of the table main body 32. The suction unit 31 is made of porous ceramics or the like provided with a large number of porous holes, and suction-holds the workpiece 100 through the dicing tape 106 across the entire holding surface 33.

チャックテーブル30は、テーブル基台20の載置面にテーブル本体32の裏面34が載置されて、テーブル基台20上に載置される。チャックテーブル30は、吸引源(図示略)からの負圧により、テーブル基台20の裏面34が載置面に密着してテーブル基台20に吸引保持されて、テーブル基台20に固定される。また、チャックテーブル30は、保持面33にダイシングテープ106を介して被加工物100を吸引保持する。   The back surface 34 of the table main body 32 is mounted on the mounting surface of the table base 20 and the chuck table 30 is mounted on the table base 20. The chuck table 30 is fixed to the table base 20 by suctioning and holding the back surface 34 of the table base 20 in close contact with the mounting surface by negative pressure from a suction source (not shown). . In addition, the chuck table 30 sucks and holds the workpiece 100 on the holding surface 33 via the dicing tape 106.

加工装置2は、加工ユニット40として、第1加工ユニット40Aと第2加工ユニット40Bとを有する。第1加工ユニット40Aと第2加工ユニット40Bとは、チャックテーブル30をY軸方向に挟むように設けられる。本実施形態では、このように加工ユニット40が2つ設けられるが、それに限られず、1つのみ設けられていてもよく、3つ以上設けられていてもよい。   The processing device 2 includes, as a processing unit 40, a first processing unit 40A and a second processing unit 40B. The first processing unit 40A and the second processing unit 40B are provided to sandwich the chuck table 30 in the Y-axis direction. In the present embodiment, two processing units 40 are provided as described above. However, the present invention is not limited thereto, and only one or three or more processing units may be provided.

加工装置2は、テーブル基台20及びチャックテーブル30が上方に配置されたθテーブル10をX軸方向に沿って移動させるX軸移動機構12を備える。X軸移動機構12は、テーブル基台20及びチャックテーブル30と加工ユニット40とを相対的に、それぞれ、加工送り方向であるX軸方向に沿って移動させる。   The processing apparatus 2 includes an X-axis moving mechanism 12 which moves the θ table 10 on which the table base 20 and the chuck table 30 are disposed upward along the X-axis direction. The X-axis moving mechanism 12 moves the table base 20 and the chuck table 30 relative to the processing unit 40 along the X-axis direction which is the processing feed direction.

加工装置2は、各加工ユニット40をそれぞれY軸方向に沿って移動させるY軸移動機構14を備える。Y軸移動機構14は、テーブル基台20及びチャックテーブル30と加工ユニット40とを相対的に、それぞれ、割り出し送り方向であるY軸方向に沿って移動させる。   The processing apparatus 2 includes a Y-axis moving mechanism 14 that moves each processing unit 40 along the Y-axis direction. The Y-axis moving mechanism 14 moves the table base 20 and the chuck table 30 relative to the processing unit 40 along the Y-axis direction which is the indexing feed direction.

加工装置2は、各加工ユニット40をそれぞれZ軸方向に沿って移動させるZ軸移動機構16を備える。Z軸移動機構16は、テーブル基台20及びチャックテーブル30と加工ユニット40とを相対的に、それぞれ、切り込み送り方向であるZ軸方向に沿って移動させる。   The processing apparatus 2 includes a Z-axis moving mechanism 16 that moves each processing unit 40 along the Z-axis direction. The Z-axis moving mechanism 16 moves the table base 20 and the chuck table 30 relative to the processing unit 40 along the Z-axis direction which is a cutting feed direction.

加工ユニット40に隣接する位置には、被加工物100を撮像するための撮像ユニットであるカメラ42が設けられている。カメラ42は、加工ユニット40とともに移動し、Y軸移動機構14によって割り出し送りされ、Z軸移動機構16によって切り込み送りされる。   At a position adjacent to the processing unit 40, a camera 42, which is an imaging unit for imaging the workpiece 100, is provided. The camera 42 moves together with the processing unit 40, is indexed and fed by the Y-axis moving mechanism 14, and is cut and fed by the Z-axis moving mechanism 16.

加工ユニット40は、図1に示すように、外周縁に環状の切れ刃を備える切削ブレード50が、チャックテーブル30の保持面33と概ね平行な回転軸のスピンドルの一端側に装着された切削ユニットであり、チャックテーブル30に保持された被加工物100を切削加工する。スピンドルの回転軸は、X軸方向及びZ軸方向に対して概ね垂直であり、Y軸方向に対して概ね平行である。スピンドルの他端側には、モータ等の不図示の回転駆動源が連結されており、切削ブレード50は、スピンドルを介して伝達される回転駆動源のトルクによって回転する。切削ブレード50の回転動作により、被加工物100には、分割予定ライン103に沿って切削溝が形成されて、各デバイス104に個片化される。   As shown in FIG. 1, the processing unit 40 has a cutting blade 50 having an annular cutting edge at its outer peripheral edge, mounted on one end side of a spindle having a rotation axis substantially parallel to the holding surface 33 of the chuck table 30. And cutting the workpiece 100 held by the chuck table 30. The rotational axis of the spindle is generally perpendicular to the X and Z axis directions and generally parallel to the Y axis direction. A rotating drive source (not shown) such as a motor is connected to the other end side of the spindle, and the cutting blade 50 is rotated by the torque of the rotating drive source transmitted through the spindle. By the rotational movement of the cutting blade 50, a cutting groove is formed on the workpiece 100 along the planned dividing line 103, and the cutting groove is singulated into each device 104.

以下、加工ユニット40についてより詳細に説明する。図2は、本実施形態に係る加工ユニットの模式図である。図2に示すように、加工ユニット40は、切削ブレード50と、スピンドル52と、ブレードカバー54と、接続パイプ55と、供給ノズル56と、複数の供給ノズル58と、を備える。なお、図2の加工ユニット40の構成は、第1加工ユニット40A及び第2加工ユニット40Bの両方に適用される。   The processing unit 40 will be described in more detail below. FIG. 2 is a schematic view of a processing unit according to the present embodiment. As shown in FIG. 2, the processing unit 40 includes a cutting blade 50, a spindle 52, a blade cover 54, a connection pipe 55, a supply nozzle 56, and a plurality of supply nozzles 58. The configuration of the processing unit 40 of FIG. 2 is applied to both the first processing unit 40A and the second processing unit 40B.

切削ブレード50は、図示しないマウントフランジと共に切削ブレード50を挟持する固定ナットなどによって、スピンドル52の先端に取り付けられる。切削ブレード50は、スピンドル52によって回転駆動され、被加工物100を切削する。切削ブレード50およびスピンドル52の軸心は、Y軸方向と平行に設定されている。   The cutting blade 50 is attached to the tip of the spindle 52 by a fixing nut that holds the cutting blade 50 together with a mounting flange (not shown). The cutting blade 50 is rotationally driven by the spindle 52 to cut the workpiece 100. The axial centers of the cutting blade 50 and the spindle 52 are set parallel to the Y-axis direction.

切削ブレード50は、いわゆるハブブレードであり、金属(例えばアルミニウム)で形成された円板状の基台の外周に固定されて、被加工物100を切削する円環状の切り刃を備える。切り刃は、ダイヤモンドやCBN(Cubic Boron Nitride)等の砥粒と、金属や樹脂等を含むボンド材(結合材)とからなり所定厚みに形成されている。なお、切削ブレードとして、切り刃のみで構成されたワッシャーブレードを用いてもよい。   The cutting blade 50 is a so-called hub blade, and is fixed to the outer periphery of a disk-shaped base formed of metal (for example, aluminum), and includes an annular cutting blade for cutting the workpiece 100. The cutting blade is made of abrasive grains such as diamond and CBN (Cubic Boron Nitride), and a bonding material (bonding material) containing metal, resin and the like, and formed to a predetermined thickness. In addition, you may use the washer blade comprised only with the cutting blade as a cutting blade.

ブレードカバー54は、切削ブレード50の外周部を覆うカバーである。接続パイプ55は、ブレードカバー54に設けられている。本実施形態では、接続パイプ55として、接続パイプ55a、55b、55c、55dの4本が設けられている。ただし、接続パイプ55の数は、4本に限られず任意である。   The blade cover 54 is a cover that covers the outer peripheral portion of the cutting blade 50. The connection pipe 55 is provided on the blade cover 54. In the present embodiment, four connection pipes 55 a, 55 b, 55 c, 55 d are provided as the connection pipe 55. However, the number of connection pipes 55 is not limited to four and is arbitrary.

Y軸方向に沿って立設された2本の接続パイプ55a、55bは、切削ブレード50を挟んで設けられ、一対の供給ノズル56(反対側の冷却ノズルは不図示)に接続されている。供給ノズル56は、切削ブレード50の側面に液体を噴射する。すなわち、供給ノズル56は、切削ブレード50の+Y軸方向側と−Y軸方向側とに設けられ、切削ブレード50の+Y軸方向側の面(側面)と−Y軸方向側の面(側面)とに、液体を噴射する。供給ノズル56が噴射する液体は、冷却液でもよいし切削液であってもよい。   The two connection pipes 55a and 55b erected along the Y-axis direction are provided on both sides of the cutting blade 50, and are connected to a pair of supply nozzles 56 (the cooling nozzles on the opposite side are not shown). The supply nozzle 56 jets the liquid to the side surface of the cutting blade 50. That is, the supply nozzle 56 is provided on the + Y axial direction side and the −Y axial direction side of the cutting blade 50, and the surface (side surface) on the + Y axial direction side of the cutting blade 50 and the surface (side surface) on the −Y axial direction side And inject the liquid. The liquid jetted by the supply nozzle 56 may be a coolant or a cutting fluid.

接続パイプ55c、55dには、複数の供給ノズル58が接続されている。供給ノズル58は、先端に、液体を噴射する開口である噴射口59が設けられている。供給ノズル58は、切削ブレード50のX軸方向側に設けられており、噴射口59が、切削ブレード50の外周50aに対向する。供給ノズル58は、噴射口59から、切削ブレード50の外周50aに向かって液体を噴射する。供給ノズル56が噴射する液体は、冷却液でもよいし切削液であってもよい。   A plurality of supply nozzles 58 are connected to the connection pipes 55c and 55d. The supply nozzle 58 is provided at its tip end with an injection port 59 which is an opening for injecting a liquid. The supply nozzle 58 is provided on the X-axis direction side of the cutting blade 50, and the injection port 59 faces the outer periphery 50 a of the cutting blade 50. The supply nozzle 58 jets the liquid from the jet port 59 toward the outer periphery 50 a of the cutting blade 50. The liquid jetted by the supply nozzle 56 may be a coolant or a cutting fluid.

それぞれの供給ノズル58は、切削ブレード50に対する位置が互いに異なるように設置されて、切削ブレード50の外周50aの異なる位置に液体を噴射する。本実施形態では、供給ノズル58として、供給ノズル58a、58b、58cが設けられている。供給ノズル58a、58b、58cは、切削ブレード50に対する位置が互いに異なるように設置されている。供給ノズル58a、58b、58cは、本実施形態ではZ軸方向に並んでいる。供給ノズル58aは、Y軸方向から見て、噴射口59が、切削ブレード50の外周50aの3時の位置に対向するように設置されている。供給ノズル58bは、Y軸方向から見て、噴射口59が、切削ブレード50の外周50aの4時の位置に対向するように設置されている。供給ノズル58cは、Y軸方向から見て、噴射口59が、切削ブレード50の外周50aの5時の位置に対向するように設置されている。   The supply nozzles 58 are disposed at different positions with respect to the cutting blade 50 to eject liquid to different positions on the outer periphery 50 a of the cutting blade 50. In the present embodiment, supply nozzles 58a, 58b and 58c are provided as the supply nozzles 58. The supply nozzles 58a, 58b, 58c are installed at different positions with respect to the cutting blade 50. The supply nozzles 58a, 58b, 58c are aligned in the Z-axis direction in the present embodiment. The supply nozzle 58 a is installed so that the injection port 59 faces the 3 o'clock position of the outer periphery 50 a of the cutting blade 50 when viewed in the Y-axis direction. The supply nozzle 58 b is installed such that the injection port 59 faces the 4 o'clock position of the outer periphery 50 a of the cutting blade 50 when viewed in the Y-axis direction. The supply nozzle 58 c is installed such that the injection port 59 faces the position of 5 o'clock of the outer periphery 50 a of the cutting blade 50 when viewed from the Y-axis direction.

また、供給ノズル58a、58b、58cは、切削ブレード50に対する角度が互いに異なっているともいえる。すなわち、供給ノズル58aの中心軸AXaと、切削ブレード50の外周50aの噴射口59が対向する箇所の接線Baと、のなす角度を、角度θaとする。また、供給ノズル58bの中心軸AXbと、切削ブレード50の外周50aの噴射口59が対向する箇所の接線Bbと、のなす角度を、角度θbとする。また、供給ノズル58bの中心軸AXcと、切削ブレード50の外周50aの噴射口59が対向する箇所の接線Bcと、のなす角度を、角度θcとする。この場合、角度θa、θb、θcは、互いに異なる。   In addition, it can be said that the supply nozzles 58a, 58b, 58c have different angles with respect to the cutting blade 50. That is, an angle between the central axis AXa of the supply nozzle 58a and a tangent Ba at a position where the injection port 59 of the outer periphery 50a of the cutting blade 50 is opposite is an angle θa. Further, an angle between the central axis AXb of the supply nozzle 58b and a tangent Bb at a position where the injection port 59 of the outer periphery 50a of the cutting blade 50 opposes is defined as an angle θb. In addition, an angle between the central axis AXc of the supply nozzle 58b and a tangent Bc of a portion where the injection port 59 of the outer periphery 50a of the cutting blade 50 faces is defined as an angle θc. In this case, the angles θa, θb, and θc are different from one another.

なお、供給ノズル58a、58b、58cは、切削ブレード50に対する位置が互いに異なるように設置されていれば、上述した位置に設けられることに限られない。また、供給ノズル58の数は3つに限られず、複数であれば任意の数であってよい。   The supply nozzles 58a, 58b, and 58c are not limited to being provided at the above-described positions as long as the positions with respect to the cutting blade 50 are set to be different from each other. Further, the number of supply nozzles 58 is not limited to three, and may be any number as long as it is plural.

被加工物100の切削加工時には、供給ノズル56、58から液体を噴射しながら、切削ブレード50を高速(例えば30000rpm)で回転させる。この状態で、チャックテーブル30を加工送りすることにより、被加工物100を切削する。   At the time of cutting of the workpiece 100, the cutting blade 50 is rotated at high speed (for example, 30000 rpm) while spraying the liquid from the supply nozzles 56 and 58. In this state, the workpiece 100 is cut by processing feed of the chuck table 30.

図1に示すように、加工装置2は、加工装置2を制御する制御装置70を備える。制御装置70は、供給ノズル58による液体の供給を制御し、複数の供給ノズル58から、液体を供給する供給ノズル58を選択する。すなわち、制御装置70は、複数の供給ノズル58のうちの一部に液体を供給させる。また、制御装置70は、複数の供給ノズル58の全てに液体を供給させてもよい。   As shown in FIG. 1, the processing device 2 includes a control device 70 that controls the processing device 2. The controller 70 controls the supply of the liquid by the supply nozzle 58, and selects the supply nozzle 58 for supplying the liquid from the plurality of supply nozzles 58. That is, the control device 70 supplies the liquid to a part of the plurality of supply nozzles 58. Further, the control device 70 may supply the liquid to all of the plurality of supply nozzles 58.

図3は、本実施形態に係る制御装置のブロック図である。本実施形態における制御装置70は、例えばコンピュータであり、図3に示すように、入力部72と、出力部74と、記憶部76と、制御部78とを有する。入力部72は、作業者の操作を受け付ける入力装置である。出力部74は、制御部78の制御内容などを表示する表示装置である。記憶部76は、制御部78の演算内容やプログラムの情報などを記憶するメモリであり、例えば、RAM(Random Access Memory)と、ROM(Read Only Memory)のような主記憶装置と、HDD(Hard Disk Drive)などの外部記憶装置とのうち、少なくとも1つ含む。制御部78は、演算装置、すなわちCPU(Central Processing Unit)である。   FIG. 3 is a block diagram of a control device according to the present embodiment. The control device 70 in the present embodiment is, for example, a computer, and as shown in FIG. 3, includes an input unit 72, an output unit 74, a storage unit 76, and a control unit 78. The input unit 72 is an input device that receives an operation of a worker. The output unit 74 is a display device that displays control content of the control unit 78 and the like. The storage unit 76 is a memory for storing operation contents of the control unit 78 and information of a program, and, for example, a RAM (Random Access Memory), a main storage device such as a ROM (Read Only Memory), and an HDD (Hard). And at least one external storage device such as a disk drive). The control unit 78 is an arithmetic device, that is, a CPU (Central Processing Unit).

制御装置70は、例えば作業者がどの供給ノズル58から液体を供給するかの情報である選択情報を、制御装置70の入力部72に入力する。入力部72が選択情報を受け付けたら、制御部78は、複数の供給ノズル58のうち、選択情報において液体を供給するとされた供給ノズル58から、液体を供給させる。これにより、加工装置2は、供給ノズル58を換装することなく、加工工程毎に液体を供給する供給ノズル58を切り替えることが可能となり、工程毎に加工ユニットに適切に液体を供給することができる。   The control device 70 inputs selection information, which is information on which supply nozzle 58 the operator uses to supply the liquid, to the input unit 72 of the control device 70, for example. When the input unit 72 receives the selection information, the control unit 78 causes the liquid to be supplied from the supply nozzle 58 of the plurality of supply nozzles 58 that is supplied with the liquid in the selection information. Thus, the processing apparatus 2 can switch the supply nozzle 58 for supplying the liquid for each processing step without replacing the supply nozzle 58, and can appropriately supply the liquid to the processing unit for each process. .

図4は、液体を供給する供給ノズルを設定する画面の一例を示す図である。図4に示すように、制御装置70は、出力部74に、設定画像Pを表示させる。設定画像Pは、液体を供給する供給ノズルを設定するための画面である。図4の例では、設定画像Pは、第1チャンネル、すなわち第1加工ユニット40Aと、第2チャンネル、すなわち第2加工ユニット40Bとのそれぞれについて、液体を供給する供給ノズル58を設定するものとなっている。図4の例では、設定画像Pは、第1チャンネルと第2チャンネルとにおいて、複数の条件である条件Z1、Z2が設定可能となっている。条件Z1、Z2のそれぞれにおいて、3時(供給ノズル58a)、4時(供給ノズル58b)、5時(供給ノズル58c)の供給ノズル58毎に、液体を供給するかを設定する画像P1が含まれている。例えば作業者が画像P1を選択することで、第1チャンネルと第2チャンネルとにおいて、条件毎に、どの供給ノズル58に液体を供給させるかが設定される。   FIG. 4 is a view showing an example of a screen for setting a supply nozzle for supplying a liquid. As shown in FIG. 4, the control device 70 causes the output unit 74 to display the setting image P. The setting image P is a screen for setting a supply nozzle for supplying a liquid. In the example of FIG. 4, the setting image P is to set the supply nozzle 58 for supplying the liquid for each of the first channel, ie, the first processing unit 40A, and the second channel, ie, the second processing unit 40B. It has become. In the example of FIG. 4, in the setting image P, conditions Z1 and Z2 which are a plurality of conditions can be set in the first channel and the second channel. In each of the conditions Z1 and Z2, the image P1 for setting whether to supply the liquid for each supply nozzle 58 at 3 o'clock (supply nozzle 58a), 4 o'clock (supply nozzle 58b) and 5 o'clock (supply nozzle 58c) is included. It is done. For example, when the operator selects the image P1, it is set which supply nozzle 58 is to supply the liquid for each condition in the first channel and the second channel.

図4の例では、第1チャンネル(第1加工ユニット40A)の条件Z1では、3時(供給ノズル58a)、4時(供給ノズル58b)の供給ノズル58から液体を供給するように設定されており、第1チャンネルの条件Z2では、4時(供給ノズル58b)の供給ノズル58から液体を供給するように設定されている。また、図4の例では、第2チャンネル(第2加工ユニット40B)の条件Z1では、4時(供給ノズル58b)の供給ノズル58から液体を供給するように設定されており、第2チャンネルの条件Z2では、4時(供給ノズル58b)、5時(供給ノズル58c)の供給ノズル58から液体を供給するように設定されている。加工装置2は、例えば加工工程毎に、条件Z1、Z2を切り替えることで、加工工程毎に液体を供給する供給ノズル58を切り替えることができる。制御装置70は、このように設定画像Pを表示することで、加工工程毎に液体を供給する供給ノズル58を、作業者に容易に設定させることが可能となる。   In the example of FIG. 4, in condition Z1 of the first channel (first processing unit 40A), the liquid is set to be supplied from the supply nozzle 58 at 3 o'clock (supply nozzle 58a) and 4 o'clock (supply nozzle 58b) In condition Z2 of the first channel, the liquid is supplied from the supply nozzle 58 at 4 o'clock (supply nozzle 58b). Further, in the example of FIG. 4, in condition Z1 of the second channel (the second processing unit 40B), the liquid is set to be supplied from the supply nozzle 58 at 4 o'clock (supply nozzle 58b). Under the condition Z2, the liquid is supplied from the supply nozzle 58 at 4 o'clock (supply nozzle 58b) and 5 o'clock (supply nozzle 58c). The processing apparatus 2 can switch the supply nozzle 58 which supplies the liquid for each processing step, for example, by switching the conditions Z1 and Z2 for each processing step. By displaying the setting image P in this manner, the control device 70 enables the operator to easily set the supply nozzle 58 that supplies the liquid for each processing step.

以上説明したように、本実施形態に係る加工装置2は、被加工物100を切削する切削ブレード50と、切削ブレード50に液体を供給し、切削ブレード50に対する位置が互いに異なる複数の供給ノズル58と、を備える。本実施形態に係る加工装置2は、加工工程毎に液体を供給する供給ノズル58を切り替えることが可能となり、加工工程毎に適切な位置に液体を供給することが可能となる。また、供給ノズル58を換装することなく、加工工程毎に液体を供給する供給ノズル58を切り替えることが可能も可能となる。従って、本実施形態に係る加工装置2は、工程毎に加工工具に適切に液体を供給することができる。   As described above, the processing apparatus 2 according to the present embodiment supplies the cutting blade 50 for cutting the workpiece 100 and a plurality of supply nozzles 58 that supply the liquid to the cutting blade 50 and the positions with respect to the cutting blade 50 are different from each other. And. The processing apparatus 2 according to the present embodiment can switch the supply nozzle 58 that supplies the liquid for each processing step, and can supply the liquid to an appropriate position for each processing step. Further, it is possible to switch the supply nozzle 58 for supplying the liquid for each processing step without replacing the supply nozzle 58. Therefore, the processing apparatus 2 according to the present embodiment can appropriately supply the liquid to the processing tool for each process.

また、供給ノズル58は、液体を噴射する噴射口59が切削ブレード50の外周50aに対向して、切削ブレード50の外周50aに液体を供給する。本実施形態に係る加工装置2によると、工程毎に加工工具に適切に液体を供給することができる。   Further, the supply nozzle 58 supplies the liquid to the outer periphery 50 a of the cutting blade 50 with the injection port 59 for ejecting the liquid facing the outer periphery 50 a of the cutting blade 50. According to the processing apparatus 2 according to the present embodiment, the liquid can be appropriately supplied to the processing tool for each process.

また、本実施形態に係る加工装置2は、切削ブレード50と複数の供給ノズル58とを備える第1加工ユニット40Aと、切削ブレード50と複数の供給ノズル58とを備える第2加工ユニット40Bと、を有する。このように複数のチャンネルの加工ユニットを備えることで、工程毎に加工工具に適切に液体を供給することができる。   The processing apparatus 2 according to the present embodiment includes a first processing unit 40A including a cutting blade 50 and a plurality of supply nozzles 58, and a second processing unit 40B including a cutting blade 50 and a plurality of supply nozzles 58. Have. By providing processing units for a plurality of channels in this manner, it is possible to appropriately supply liquid to the processing tool for each process.

また、本実施形態に係る加工装置2は、供給ノズル58による液体の供給を制御する制御部78を更に備える。制御部78は、複数の供給ノズル58から、液体を供給する供給ノズル58を選択する。本実施形態に係る加工装置2によると、工程毎に加工工具に適切に液体を供給することができる。   Further, the processing device 2 according to the present embodiment further includes a control unit 78 that controls the supply of the liquid by the supply nozzle 58. The control unit 78 selects a supply nozzle 58 for supplying liquid from the plurality of supply nozzles 58. According to the processing apparatus 2 according to the present embodiment, the liquid can be appropriately supplied to the processing tool for each process.

なお、本考案は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本考案の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。   The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

2 加工装置
40 加工ユニット
50 切削ブレード
52 スピンドル
58 供給ノズル
70 制御装置
78 制御部
100 被加工物
Reference Signs List 2 processing apparatus 40 processing unit 50 cutting blade 52 spindle 58 supply nozzle 70 control device 78 control unit 100 workpiece

Claims (4)

被加工物を切削する切削ブレードと、
前記切削ブレードに液体を供給し、前記切削ブレードに対する位置が互いに異なる複数の供給ノズルと、
を備える、加工装置。
A cutting blade for cutting a workpiece;
A plurality of supply nozzles for supplying liquid to the cutting blade and having different positions with respect to the cutting blade;
And processing equipment.
前記供給ノズルは、液体を噴射する噴射口が前記切削ブレードの外周に対向して、前記切削ブレードの外周に液体を供給する、請求項1に記載の加工装置。   2. The processing apparatus according to claim 1, wherein the supply nozzle supplies the liquid to the outer periphery of the cutting blade such that an injection port for ejecting the liquid faces the outer periphery of the cutting blade. 前記切削ブレードと複数の前記供給ノズルとを備える第1加工ユニットと、
前記切削ブレードと複数の前記供給ノズルとを備える第2加工ユニットと、を有する、請求項1又は請求項2に記載の加工装置。
A first processing unit comprising the cutting blade and a plurality of the supply nozzles;
The processing apparatus according to claim 1, further comprising: a second processing unit including the cutting blade and the plurality of supply nozzles.
前記供給ノズルによる液体の供給を制御する制御部を更に備え、
前記制御部は、複数の前記供給ノズルから、液体を供給する前記供給ノズルを選択する、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の加工装置。
It further comprises a control unit that controls the supply of liquid by the supply nozzle,
The processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the control unit selects the supply nozzle that supplies the liquid from the plurality of supply nozzles.
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