JP3221984U - 透光性太陽電池セル - Google Patents

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Abstract

【課題】シリコン太陽電池セルに貼り付けてタンデム型太陽電池セルを構成できる透光性太陽電池セルを提供する。
【解決手段】透明基板6上に第一のコンタクト層7、p−n接合半導体層8、、そして第二のコンタクト層9を有し、第二のコンタクト層とp−n接合半導体層を除去して露出した第一のコンタクト層上に第一のフィンガー電極4が形成され、第二のコンタクト層上には複数のグリッド電極10と集電用の第二のフィンガー電極2が形成されて成り、平面視において、第一のフィンガー電極はその複数本が第一のバスライン5から延伸した櫛形状電極であり、第二のフィンガー電極はその複数本が第二のバスライン3から延伸した櫛形状電極であり、第一のフィンガー電極と第二のフィンガー電極は交互に並置され、第一のバスラインと第二のバスラインは透明基板上に対抗配置されており、第二のフィンガー電極の一本当たりにはこれに直交して複数のグリッド電極が等間隔に並置される。
【選択図】図1

Description

本考案はシリコン太陽電池セルに貼り合わせてタンデム型太陽電池セルを構成する透光性太陽電池セルに関する。
QCDの観点からもっとも普及している太陽電池は単結晶シリコンヘテロ接合太陽電池セルであるが、これを置き換える太陽電池は未だ実現されていない。しかしQuality、例えばエネルギー変換効率で見るとIII−V系化合物半導体太陽電池セルはシリコンのそれを大きく上回っており、太陽電池の構造も製法も確立している。現状ではコストが著しく高く、生産性が低いので衛星やソーラーカーなどの用途に限られる。一方でIII−V系化合物半導体太陽電池の低コスト化を進めて、これを単結晶シリコン太陽電池セルに貼り合わせることで、性能とコストが見合う形で市場に供給できるよう開発が進められている(非特許文献)。ちなみにボトムセルであるシリコン太陽電池に貼り合わせてタンデム型太陽電池セルを構成するトップセルのエネルギーバンドギャップ(Eg)は、シリコンのバンドギャップエネルギーの1.1eV程度に対して1.8eV〜2.2eVが効果的である。
非特許文献にはタンデム型太陽電池セルのトップセルにGaInP単接合太陽電池セル(Eg〜1.89eV)、ボトムセルに単結晶シリコンヘテロ接合太陽電池セルの構成例があるが、III−V系化合物半導体太陽電池の低コスト化、量産技術の確立が前提であり、盛んに開発が進められている。しかしもしその技術が確立したとすれば、シリコン太陽電池との貼り合わせをしないでIII−V系化合物太陽電池だけでシリコンの置き換えを狙う方が良いかもしれない。理由はIII−V系化合物太陽電池セルであるGaAs単接合太陽電池セルでさえエネルギー変換効率は単結晶シリコンのそれを超えているからである。貼り付けを止めれば当然、貼り付けコストが削減できるのでメリットがある。
単結晶シリコン太陽電池セルのサイズは125mm角、あるいは156mm角が標準であり、太陽電池モジュールもこれらのサイズで設計・製作され、普及している。一方でIII−V系化合物半導体太陽電池セルをトップセルに使用するためには基板を剥離して薄膜セルにする必要がある。こうすることにより光透過性を確保する。基板剥離はELO技術(Epitaxial Lift Off)として知られており、高価な結晶成長基板(GaAs基板)を剥離して再活用するのでコストの面でも有効である。しかし剥離した薄膜セルは数μmの厚さであり、これを125mm角、あるいは156mm角の大口径で安価に歩留よく量産するのは困難である。つまり現状の技術を進めていっても、小口径タンデム型セルの実現に落ち着く可能性が強い。従ってシリコンに合わせた125mm角相当、あるいは156mm角相当のトップセルの実現性や、薄膜大口径セルの抱える問題点やその技術解決策は十分に提示されていない状況である。
単結晶シリコン系太陽電池に貼り合わせて大口径タンデム型太陽電池を構成するためのトップセルの技術が提示されていない。
上記課題を解決するため本考案では、透明基板を使用した透光性太陽電池セルであって、透明基板上に少なくとも第一のコンタクト層、p−n接合半導体層、あるいはp−i−n接合半導体層、そして第二のコンタクト層を有した構成であり、第二のコンタクト層とp−n接合半導体層、あるいはp−i−n接合半導体層の二層を除去して露出した第一のコンタクト層上に第一のフィンガー電極が形成され、第二のコンタクト層上には複数のグリッド電極と集電用の第二のフィンガー電極が形成されて成り、
平面視において、第一のフィンガー電極はその複数本が第一のバスラインから延伸した櫛形状電極であり、第二のフィンガー電極はその複数本が第二のバスラインから延伸した櫛形状電極であり、第一のフィンガー電極と第二のフィンガー電極は交互に並置され、第一のバスラインと第二のバスラインは透明基板上に対抗配置されており、第二のフィンガー電極の一本当たりにはこれに直交して複数のグリッド電極が等間隔に並置されたことを特徴とする。
より具体的な解決として、透明基板はガラス基板であり、順にグラフェン層、AlN層から成るバッファ層が形成され、その上の第一のコンタクト層はn型GaN層であり、さらにn型InGaN層、p型InGaN層のp−n接合層、あるいはn型InGaN層、i型InGaN層、p型InGaN層のp−i−n接合層が形成され、第二のコンタクト層がp型GaN層の上にITO膜を形成した二層であることを特徴とする。
別の具体的な解決として、透明基板はガラス基板であり、第一のコンタクト層が透明酸化物導電膜であり、その上にp型CuO層、n型酸化物半導体層のp−n接合層が形成され、その上の第二のコンタクト層が透明酸化物導電膜であることを特徴とする。
上記の解決策は、タンデム型太陽電池セルのトップセルとしてエネルギーバンドギャップがシリコンより高い太陽電池材料を選定し、その材料はガラス基板上に薄膜形成してシリコンと同じサイズが実現でき、トップセルの性能を保証するための形状、構造の詳細を提案するものである。
本考案によれば、単結晶シリコンヘテロ接合太陽電池の性能を上回り、低コストで量産可能なタンデム型太陽電池セルを提供できる。
図1(a)は本考案に係る透光性太陽電池セルの平面図、図1(b)はその断面図である。 図2は図1(a)に指示する部位の部分拡大図を示す。 図3は本考案に係る透光性太陽電池セルの一つの実施断面図である。 図4は本考案に係る透光性太陽電池セルの一つの実施断面図である。 図5は本考案に係る透光性太陽電池セルに等価回路を付図した図である。 図6は125mm角の透光性太陽電池セルの平面図である。 図7は透光性太陽電池セルとシリコン太陽電池セルを貼り合わせるタンデム型太陽電池セルの外観を示す。
以下、本考案の実施の形態を図を用いて説明する。
図1(a)は本考案の透光性太陽電池セルの一部の領域の平面を示し、図1(b)は図1(a)に示すα−α’の断面を示す。点線枠1は透光性太陽電池のユニットを示しており、ユニットが複数個並列に合成されて透光性太陽電池セルになる。図1(b)の断面は透光性太陽電池の構造を概略しており、透明基板6に第一のコンクタト層7が形成され、金属電極である第一のフィンガー電極4が形成される。この電極名の呼称は図1(a)に示すパターンの通りである。8は光吸収・励起層であるp−n接合半導体層を示し、その上に第二のコンタクト層9がある。この上には第二のフィンガー電極2が形成される。丸線枠11の拡大を図2に示すが、β−β’における断面ではグリッド電極10が第二のコンクタト層9に形成される。グリッド電極10に接してキャリアを集電する目的で第二のフィンガー電極2を形成している。第一のフィンガー電極4は第一のバスライン5からくし形状に延伸し、第二のフィンガー電極2も第二のバスライン3からくし形状に延伸し、バスライン3、5は対抗する配置になっている。二つのバスラインは透明基板上に配置され、セルの規模が決まれば外部接続用パッドを配置してこれに接続する。
呼称の異なる幾つかの電極を示したが、これらの電極の性格は異なっている。例えば第一のコンタクト層7に接する第一のフィンガー電極4はオーム性接触が得られる電極材料でなければならない。同様にグリッド電極10は第二のコンクタト層9とオーム性接触が得られる電極材料でなければならない。しかし第二のフィンガー電極2は第二のコンタクト層9に対してオーム性接触が得られる必要はない。等間隔に並置された複数のグリッド電極10に電気的に接触して集電機能が発揮されれば良い。製作方法で説明すると、グリッド電極10と第一のフィンガー電極4は下地に対して極めて密着性の良い金属であるTi、Niなどを蒸着し、高温熱処理をして界面準位密度を極力減らしてオーム性接触とする。一方で第二のフィンガー電極2とバスライン3,5は金属ペーストを使用したスクリーン印刷で形成することができる。金属配線の抵抗は低くする必要があるので、金属ペーストは導電性樹脂ペーストではなく低温焼結性銀ペーストが好ましい。第一のフィンガー電極を厚く形成できない場合には、抵抗を下げるためにこの電極上にも焼結性銀ペーストを印刷するのが良い。
図3には本考案への一つの好適な適用例を示している。ガラス基板13にバッファ層としてグラフェン膜14、AlN膜を形成する。次いで第一のコンタクト層としてn型GaN層を形成し、第一のフィンガー電極4を形成する。次いでp−n接合としてn型InGaN層、p型InGaN層を形成する。あるいはp−i−n接合としてn型InGaN層、i型InGaN層、p型InGaN層でも良い。さらに第二のコンタクト層としてp型GaN層、ITO膜の二層を形成してグリッド電極10でオーム性接触とする。第一のフィンガー電極4はTi、グリッド電極10はAgが使用できる。なおTiは密着性金属として使用し、抵抗率を下げるためにAlをその上に被覆する。この製法は公知(Jeong Woo Shon,Scientific Reports volume4,Article number:5325(2014))あるが、重要な点として非晶質ガラス基板に単結晶GaNが成長できることを示したことである。成膜はパルススパッタ法を使用するのでシリコン同様の大口径が実現でき、量産性に優れている。またスパッタ成膜法ではInGa1−XNのIn組成比を上げることが可能であり、In〜30%でEg〜2.0eVが実現できる。
上述(図3)の説明は透光性InGaN太陽電池セルであるが、ガラス基板をサファイア基板に代え、バッファ層をLT−GaN(Low Temperature)とし、他は同じ構成でも良い。但しこの場合の製法はLEDと同じにMOCVD(Metal−Organic Chemical Vapor Deposition)を使用するが、現状の技術ではIn組成比が上げられずEg〜3eVに留まっており、本考案適用へのメリットは小さい。
図4は本考案への別の好適な実施例を示す。ガラス基板13上に第一のコンタクト層として透明酸化物導電膜21を形成しp型CuO(22)を成膜する。p−n接合層を形成するためn型酸化物半導体を成膜し、透明酸化物導電膜24を形成する。金属電極4、10はTi、Niなどの密着性金属に抵抗率を下げるためAl、Agを被覆して二層金属とするのが良い。n型酸化物半導体は、ZnO、ZnGeOを使用すればヘテロ接合型となるが、n型CuOであればホモ接合型になる。透明酸化物導電膜24はITO膜が使用できる。透明酸化物導電膜21としてITOより耐熱性のあるFTO(フッ素ドープ酸化スズ)の単層、あるいはFTOの上に高濃度p型CuOを成膜した二層構造でも良い。CuOのバンドギャップエネルギー(Eg)は2.17eVと言われており、シリコン太陽電池(ボトムセル)に対するトップセルとしては好適な結晶である。
図5は本考案の透光性太陽電池ユニットの等価回路表示を行ったものである。第一のコンタクト層6はRc1という分布抵抗をもたらし、第二のコンタクト層9にはRc2という分布抵抗が介在する。タンデム型太陽電池のトップセルである透光性太陽電池セルは光透過率が低下しないようにする必要がある。第一のコンタクト層と第二のコンタクト層の厚さと透明性は反する関係にある。上述の分布抵抗(Rc1、Rc2)を下げるためには抵抗率が低く厚い層を形成すれば良いが、透明性は低下していく。本考案はできる限り性能低下を抑えるためにパターンにも工夫を織り込んだものである。Rc2低減策に限界があれば、図1に示すグリッド電極10のフィンガー電極2当たりに配置される本数を増やすことで性能低下を防ぐことが可能になる。同様にRc1低減策に限界があれば、図1に示すユニット幅Wを減少させることで対策できることになる。
図6は単結晶シリコン太陽電池セルの125mm角サイズに合わせて透光性太陽電池セルを描いたものだが、セルサイズが大きいと性能低下を抑止するパターンがとくに重要になることが一目で分かる。なおグリッド電極10の幅(L方向の長さ)は10μm以下程度のものである。ユニット幅Wは30mm程度で描いているが、第一のコンタクト層7のシート抵抗を低く設定できなければユニット幅はさらに小さく設定することになる。一般にp型コンタクト層はn型に比べて抵抗率が大きく性能低下要因になっている。実用的なp型透明導電膜は未だ見出されていなく、図3で説明した第二のコンタクト層(p型GaN)20の抵抗率はn型に比べて相当に悪いため、シート抵抗のみならずオーム性接触にも留意が必要となっている。サイズの大きい太陽電池セルにとってパターンの工夫も織り込んで性能低下を抑止することは極めて重要である。
図7は本考案の透光性太陽電池セル27を単結晶シリコンヘテロ接合バックコンタクト型太陽電池セル(125mm角)に貼り合わせる様子を示す。本考案が想定しているのは四端子タンデム型太陽電池セルになる。透明接着剤で貼り合わせて一つのセルとし、これらを並べて直列接続することで従来通りの製作の仕方でモジュール化(パネル化)できる。直列接続はトップセル同志、及びボトムセル同士で接続し、最後にセルの電圧を揃えて電力合成してモジュール電力とする。図6に示す外部接続用パッド25、26は隣接セルとの接続用である。
本考案によれば、メガソーラーなどに展開されている単結晶シリコンヘテロ接合太陽電池の置き換えが初めて可能になる。
1 透光性太陽電池ユニット
2 第二のフィンガー電極
3 第二のバスライン
4 第一のフィンガー電極
5 第一のバスライン
6 透明基板
7 第一のコンタクト層
8 p−n、あるいはp−i−n接合半導体層
9 第二のコンタクト層
10 グリッド電極
11 拡大断面指示領域
12 ガラス基板
13 グラフェン
14 AlN層
15 n型GaN層
16 n型InGaN層
17 i型InGaN層
18 p型InGaN層
19 p型GaN層
20 透明酸化物導電膜
21 p型CuO層
22 n型酸化物半導体層
23 透明酸化物導電膜
24、25 外部接続用パッド
26 125mm透光性太陽電池セル
27 単結晶Siヘテロ接合バックコンタクト型太陽電池セル

Claims (3)

  1. 透明基板を使用した透光性太陽電池セルであって、透明基板上に少なくとも第一のコンタクト層、p−n接合半導体層、あるいはp−i−n接合半導体層、そして第二のコンタクト層を有した構成であり、第二のコンタクト層とp−n接合半導体層、あるいはp−i−n接合半導体層の二層を除去して露出した第一のコンタクト層上に第一のフィンガー電極が形成され、第二のコンタクト層上には複数のグリッド電極と集電用の第二のフィンガー電極が形成されて成り、
    平面視において、第一のフィンガー電極はその複数本が第一のバスラインから延伸した櫛形状電極であり、第二のフィンガー電極はその複数本が第二のバスラインから延伸した櫛形状電極であり、第一のフィンガー電極と第二のフィンガー電極は交互に並置され、第一のバスラインと第二のバスラインは透明基板上に対抗配置されており、第二のフィンガー電極の一本当たりにはこれに直交して複数のグリッド電極が等間隔に並置されたことを特徴とする透光性太陽電池セル。
  2. 前記透明基板はガラス基板であり、順にグラフェン層、AlN層から成るバッファ層が形成され、その上の第一のコンタクト層はn型GaN層であり、さらにn型InGaN層、p型InGaN層のp−n接合層、あるいはn型InGaN層、i型InGaN層、p型InGaN層のp−i−n接合層が形成され、第二のコンタクト層がp型GaN層の上にITO膜を形成した二層であることを特徴とする請求項1に記載の透光性太陽電池セル。
  3. 前記透明基板はガラス基板であり、第一のコンタクト層が透明酸化物導電膜であり、その上にp型CuO層、n型酸化物半導体層のp−n接合層が形成され、その上の第二のコンタクト層が透明酸化物導電膜であることを特徴とする請求項1に記載の透光性太陽電池セル。
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