JP3214009B2 - Semiconductor device mounting substrate and method - Google Patents

Semiconductor device mounting substrate and method

Info

Publication number
JP3214009B2
JP3214009B2 JP35638091A JP35638091A JP3214009B2 JP 3214009 B2 JP3214009 B2 JP 3214009B2 JP 35638091 A JP35638091 A JP 35638091A JP 35638091 A JP35638091 A JP 35638091A JP 3214009 B2 JP3214009 B2 JP 3214009B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor element
semiconductor device
mounting
substrate
cream solder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP35638091A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05175694A (en
Inventor
裕司 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP35638091A priority Critical patent/JP3214009B2/en
Publication of JPH05175694A publication Critical patent/JPH05175694A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3214009B2 publication Critical patent/JP3214009B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/303Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341Surface mounted components
    • H05K3/3431Leadless components

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ICチップなどの半導
体素子をベアチップとして基板上に実装する半導体素子
の実装基板および方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor element mounting board and a method for mounting a semiconductor element such as an IC chip as a bare chip on a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のICチップなどの半導体素子をベ
アチップの状態で基板上に実装する方法としては、図1
2乃至図14に示すものが知られている。図12に示す
方法は、半導体素子1の金などで形成された突起電極
(以下、バンプと称する)2に金ワイヤ3の一端を半田
付けし、金ワイヤ3の他端を基板4上に形成された電極
パターン5に半田付けして接続する方法である。
2. Description of the Related Art A conventional method for mounting a semiconductor element such as an IC chip on a substrate in a bare chip state is shown in FIG.
2 to 14 are known. In the method shown in FIG. 12, one end of a gold wire 3 is soldered to a protruding electrode (hereinafter referred to as a bump) 2 formed of gold or the like of a semiconductor element 1 and the other end of the gold wire 3 is formed on a substrate 4. This is a method of connecting by soldering to the formed electrode pattern 5.

【0003】また図13に示す方法は、TAB法と呼ば
れるもので、ベースフィルム6上に形成された複数本の
配線パターン7の両端から突出するインナリード7a及
びアウタリード7bを、それぞれ半導体素子1に形成さ
れたバンプ2と基板4上の電極パターン5に一括して半
田付け接続する方法である。
[0003] The method shown in FIG. 13 is called a TAB method, in which an inner lead 7 a and an outer lead 7 b protruding from both ends of a plurality of wiring patterns 7 formed on a base film 6 are respectively attached to the semiconductor element 1. In this method, the formed bumps 2 and the electrode patterns 5 on the substrate 4 are collectively soldered and connected.

【0004】さらに図14に示す方法は、半導体素子1
に半田バンプ8を設け、基板4上の電極パターン5に半
田バンプ8を位置決め当接させ、加圧加熱により半田バ
ンプ8を介してICチップ1を電極パターン5に半田付
け接続する方法である。
Further, the method shown in FIG.
In this method, the solder bumps 8 are provided on the substrate 4, the solder bumps 8 are positioned and brought into contact with the electrode patterns 5 on the substrate 4, and the IC chip 1 is soldered and connected to the electrode patterns 5 via the solder bumps 8 by heating under pressure.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら図12に
示す方法によると、金ワイヤ3の両端を1本づつ半田付
けしなければならず、特に多ピンICの場合には実装に
多くの時間を要するという問題があった。
However, according to the method shown in FIG. 12, both ends of the gold wire 3 must be soldered one by one, and especially in the case of a multi-pin IC, much time is required for mounting. There was a problem.

【0006】また図13に示す方法によると、図15に
示すように半導体素子1をステージ11上に載置し、ベ
ースフィルム6を図示しない支持台上に取り付け、半導
体素子1及びベースフィルム6をCCDカメラ12で位
置認識する。そしてステージ11を必要に応じX・Y・
θ方向に移動し、ベースフィルム6から突出するインナ
リード7aと半導体素子1のバンプ2とを位置合せす
る。その後、図16に示すようにボンディングツール2
1を用いてインナリード7aをバンプ2上に加圧し、加
熱し、バンプ2上に塗布されたクリーム半田を溶融して
固定する。アウタリード7bと基板4に形成された電極
パターン5との半田固定も同様にして行なう。このため
半田固定が2工程となり、しかもCCDカメラ12など
を用いて精度のよい位置決めを行なう必要があり、実装
作業が複雑になるという問題があった。
According to the method shown in FIG. 13, the semiconductor element 1 is placed on the stage 11 as shown in FIG. 15, the base film 6 is mounted on a support (not shown), and the semiconductor element 1 and the base film 6 are attached. The position is recognized by the CCD camera 12. Then, move the stage 11 to X, Y,
In the θ direction, the inner leads 7 a protruding from the base film 6 are aligned with the bumps 2 of the semiconductor element 1. Thereafter, as shown in FIG.
1, the inner leads 7a are pressed onto the bumps 2 and heated, so that the cream solder applied on the bumps 2 is melted and fixed. The solder fixing between the outer leads 7b and the electrode patterns 5 formed on the substrate 4 is performed in the same manner. For this reason, the soldering is performed in two steps, and it is necessary to perform accurate positioning using the CCD camera 12 or the like, and there has been a problem that the mounting operation is complicated.

【0007】また図14に示すフリップチップ法による
と、半田固定は一工程ですむが、半導体素子1のバンプ
8と基板4上の電極パターン5との位置合わせはTAB
法の場合と同様に高精度で行なわれなければならず、手
間がかかるという問題があった。
According to the flip-chip method shown in FIG. 14, soldering is performed in one step, but the bump 8 of the semiconductor element 1 and the electrode pattern 5 on the substrate 4 are aligned by TAB.
As in the case of the method, it must be performed with high precision, and there is a problem that it takes time and effort.

【0008】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
もので、半導体素子をベアチップの状態で、簡単な位置
合わせを行なうだけで基板上に実装することのできる半
導体素子の実装基板および方法を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a semiconductor element mounting board and a method capable of mounting a semiconductor element on a board by simply performing simple alignment in a bare chip state. The purpose is to provide.

【0009】[0009]

【課題を解決させるための手段】請求項1に記載の半導
体素子の実装方法は、電極パターン上に半導体素子の外
周に対して所定の間隔を維持し、かつ絶縁層を介して、
相互に対向する部分が略同一サイズに形成された接続用
ランドを設ける第1の工程と、接続用ランド上にクリー
ム半田を所定量供給する第2の工程と、接続用ランドの
間に半導体素子を挿入し、半導体素子の下面に設けられ
た突起電極を電極パターンに当接させる第3の工程と、
クリーム半田を加熱して溶融し、半導体素子の側面と接
続用ランドとを半田付け固定する第4の工程とを有する
ことを特徴とする。
[Means for solving the problems] mounting method of a semiconductor device according to claim 1, the outer semiconductor element on the electrode pattern
Maintain a predetermined spacing with respect to the circumference, and via an insulating layer,
For connection where the parts facing each other are formed in approximately the same size
A first step of providing a land, and
A second step of supplying a predetermined amount of solder solder;
A semiconductor element is inserted between the two,
A third step of bringing the projected electrode into contact with the electrode pattern;
Heat the cream solder to melt it and make contact with the side of the semiconductor element.
And a fourth step of soldering and fixing the connection land .

【0010】請求項2に記載の半導体素子の実装方法
は、半導体素子に設けられた突起電極の幅が、基板上に
形成された電極パターン間の間隔より大きいことを特徴
とする。
According to a second aspect of the present invention, in the method of mounting a semiconductor device, the width of the protruding electrode provided on the semiconductor device is smaller than that of the substrate.
It is characterized in that it is larger than the interval between the formed electrode patterns .

【0011】請求項3に記載の半導体素子の実装基板
は、請求項1に記載の半導体素子の実装方法で半導体素
子が実装されたことを特徴とする。
A mounting board for a semiconductor device according to claim 3.
Is a semiconductor element mounting method according to claim 1.
The child is implemented .

【0012】[0012]

【作用】本発明の半導体素子の実装方法においては、
極パターン上に半導体素子の外周に対して所定の間隔を
維持し、かつ絶縁層を介して、相互に対向する部分が略
同一サイズに形成された接続用ランドが設けられ、接続
用ランド上にクリーム半田が所定量供給され、接続用ラ
ンドの間に半導体素子が挿入され、半導体素子の下面に
設けられた突起電極が電極パターンに当接させられ、ク
リーム半田が加熱されて溶融され、半導体素子の側面と
接続用ランドとが半田付け固定される。
In the mounting method of semiconductor element of the present invention, electrostatic
A predetermined distance from the outer periphery of the semiconductor element
Maintain, and the parts facing each other are almost
Connection lands formed in the same size are provided.
A predetermined amount of cream solder is supplied onto the connection land, and the connection
The semiconductor element is inserted between the
The provided protruding electrode is brought into contact with the electrode pattern,
The ream solder is heated and melted,
The connection lands are fixed by soldering.

【0013】半導体素子に設けられた突起電極の幅は、
基板上に形成された電極パターン間の間隔より大きくさ
せるようにすることができる。
The width of the protruding electrode provided on the semiconductor element is
Larger than the distance between electrode patterns formed on the substrate
You can make it.

【0014】本発明の半導体素子の実装基板において
は、請求項1に記載の半導体素子の実装方法で半導体素
子が実装される
In the semiconductor device mounting board of the present invention,
Is a semiconductor element mounting method according to claim 1.
The child is implemented .

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の半導体素子の実装方法の一実
施例を図面を参照して説明する。図1乃至図6に本発明
の一実施例の工程を示す。これらの図において、図12
に示す従来例の部分に対応する部分には同一の符号を付
してあり、その説明は適宜省略する。図2に示す工程1
01において、ベアチップ状の半導体素子1には外部接
続用電極としてAlパッド31が設けられている。次に
工程102において、Alパッド31に突起電極として
の高さ20μm乃至30μmのバンプ2を設ける。バン
プ2は半導体素子1がウェハ状態のときは金メッキなど
の方法で形成し、半導体素子1がチップ状態のときは転
写法またはTAB法で形成することが望ましい。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing a semiconductor device mounting method according to an embodiment of the present invention. 1 to 6 show the steps of one embodiment of the present invention. In these figures, FIG.
The same reference numerals are given to the parts corresponding to the parts of the conventional example shown in FIG. Step 1 shown in FIG.
In FIG. 1, an Al pad 31 is provided on the bare chip-shaped semiconductor element 1 as an external connection electrode. Next, in step 102, a bump 2 having a height of 20 μm to 30 μm is provided on the Al pad 31 as a protruding electrode. The bump 2 is preferably formed by a method such as gold plating when the semiconductor element 1 is in a wafer state, and is preferably formed by a transfer method or a TAB method when the semiconductor element 1 is in a chip state.

【0016】次に工程103において、半導体素子1を
実装する基板4上に形成された電極パターン5上に、絶
縁層32を介して接続用ランド33を設ける。接続用ラ
ンド33は半田との濡れ性のよい銅箔や、銅箔上にニッ
ケルメッキや金メッキを施したもので形成される。また
接続用ランド33は図3または図4にそれぞれ示すよう
に、実装される矩形状または正方形状の半導体素子1の
外周から所定の距離だけ離れて配設されている。そして
半導体素子1の対向する2辺に接して設けられた1対の
ランド33は全く同じ形状となっている。
Next, in step 103, connection lands 33 are provided via an insulating layer 32 on the electrode patterns 5 formed on the substrate 4 on which the semiconductor element 1 is mounted. The connection land 33 is formed of copper foil having good wettability with solder, or a copper foil plated with nickel or gold. As shown in FIG. 3 or FIG. 4, the connection lands 33 are disposed at a predetermined distance from the outer periphery of the rectangular or square semiconductor element 1 to be mounted. A pair of lands 33 provided in contact with two opposing sides of the semiconductor element 1 have exactly the same shape.

【0017】次に工程104において、基板4上の接続
用ランド33上に、メタルスクリーンを用いた印刷法な
どにより、クリーム半田34を所定の量だけ精度よく供
給する。このとき対向する接続用ランド33上のクリー
ム半田34は、その間に半導体素子1が0.1mm乃至0.2
mmの間隔を維持して実装できるような位置になるように
する。
Next, in step 104, a predetermined amount of cream solder 34 is precisely supplied onto the connection lands 33 on the substrate 4 by a printing method using a metal screen or the like. At this time, the cream solder 34 on the opposing connection land 33 is such that the semiconductor element 1 is between 0.1 mm and 0.2 mm.
Maintain a position that can be mounted while maintaining the distance of mm.

【0018】次に工程105において、半導体素子1を
クリーム半田34に接触しないように、チップマウンタ
などを用いて基板4上の電極パターン5上に装着する。
このとき図5及び図6に示すように、半導体素子1に設
けられたバンプ2の幅aを電極パターン5間の間隔bよ
り大きくなるようにしておく。このことにより半導体素
子1を基板4に対してラフアライメントしたとき、バン
プ2が電極パターン5の間に位置した場合にも、バンプ
2が電極パターン5間に落ち込むことを防止できる。こ
の結果、クリーム半田34のリフロー時にセルフアライ
メントにより完全なアライメントを達成することができ
る。
Next, in step 105, the semiconductor element 1 is mounted on the electrode pattern 5 on the substrate 4 using a chip mounter or the like so as not to contact the cream solder 34.
At this time, as shown in FIGS. 5 and 6, the width a of the bump 2 provided on the semiconductor element 1 is set to be larger than the interval b between the electrode patterns 5. This makes it possible to prevent the bumps 2 from dropping between the electrode patterns 5 even when the bumps 2 are located between the electrode patterns 5 when the semiconductor element 1 is roughly aligned with the substrate 4. As a result, complete alignment can be achieved by self-alignment when the cream solder 34 reflows.

【0019】次に工程106でプリヒートし、クリーム
半田34中のフラックスを活性化させる。このときクリ
ーム半田34は柔化して接続用ランド33と、半導体素
子1の側面に形成された半田付け可能な面とに接触す
る。そして接続用ランド33と半導体素子1との間の間
隙、クリーム半田34の粘度、フラックス含有率などを
調整することにより、クリーム半田34は半導体素子1
の側面に確実に接触する。リフロー後、工程107にお
いてクリーム半田34のメインヒートを行ない、半導体
素子1を接続用ランド33に半田付け固定する。なお、
上記のプリヒート及びメインヒートは工程105の状態
でリフロー炉に投入して行ない、図7に示すようなプロ
ファイルで加熱され、プリヒートa及びメインヒートb
が行なわれる。
Next, in step 106, preheating is performed to activate the flux in the cream solder 34. At this time, the cream solder 34 softens and comes into contact with the connection lands 33 and the solderable surface formed on the side surface of the semiconductor element 1. By adjusting the gap between the connection land 33 and the semiconductor element 1, the viscosity of the cream solder 34, the flux content, and the like, the cream solder 34
Make sure it contacts the side of the After the reflow, the main heat of the cream solder 34 is performed in step 107, and the semiconductor element 1 is soldered and fixed to the connection lands 33. In addition,
The above-mentioned preheat and main heat are put into a reflow furnace in the state of step 105, and are heated according to the profile shown in FIG.
Is performed.

【0020】図1に、半導体素子1が基板4に実装され
た状態を示す。工程105で半導体素子1を基板4上に
ラフアライメントした後に、工程106及び工程107
で正確にアライメントするためには、図3または図4に
示すように対向する接続用ランド33を同一サイズと
し、クリーム半田34の量をメタルスクリーンを使用す
る印刷などで高精度に調整して供給すればよい。このよ
うにすれば図1に矢印Aで示すクリーム半田34の表面
張力の水平方向の分力Bにより、図8に模式的に示すよ
うに、ラフアライメントされた部品41は電極42に作
用する張力のバランスがとれる図9に示す位置に移動
し、正確なアライメントが可能となる。従って、多ピン
の半導体素子1も図10に示すラフアライメントされた
位置から図11に示す正しい位置まで移動して、正確な
アライメントが可能となる。
FIG. 1 shows a state in which the semiconductor element 1 is mounted on a substrate 4. After rough alignment of the semiconductor element 1 on the substrate 4 in step 105, steps 106 and 107 are performed.
In order to achieve accurate alignment, as shown in FIG. 3 or FIG. 4, the connecting lands 33 facing each other have the same size, and the amount of the cream solder 34 is adjusted and supplied with high precision by printing using a metal screen or the like. do it. In this way, due to the horizontal component B of the surface tension of the cream solder 34 indicated by the arrow A in FIG. 1, the roughly aligned component 41 causes the tension acting on the electrode 42 as schematically shown in FIG. Is moved to the position shown in FIG. 9 where the balance can be obtained, and accurate alignment can be performed. Accordingly, the multi-pin semiconductor element 1 also moves from the rough-aligned position shown in FIG. 10 to the correct position shown in FIG. 11, and accurate alignment can be performed.

【0021】また、図1に矢印Aで示すクリーム半田3
4の表面張力の垂直方向の分力Cにより、半導体素子1
のバンプ2が電極パターン5に押し付けられ、電気的導
通が可能となる。
The cream solder 3 indicated by an arrow A in FIG.
The semiconductor component 1 is formed by the vertical component C of the surface tension of the semiconductor device 1.
Bump 2 is pressed against the electrode pattern 5 to enable electrical conduction.

【0022】本実施例によれば、ベアチップ状の多ピン
半導体素子1においても、CCDカメラなどの高精度の
アライメント機構を使用することなく、簡単な位置合わ
せを行なって半導体素子1を基板4上に装着するだけ
で、正確なアライメントが可能となり精度よく半導体素
子1を基板4上に実装することができる。
According to this embodiment, even in the case of the bare chip multi-pin semiconductor element 1, the semiconductor element 1 can be easily aligned on the substrate 4 without using a high-precision alignment mechanism such as a CCD camera. By simply mounting the semiconductor device, accurate alignment is possible, and the semiconductor element 1 can be mounted on the substrate 4 with high accuracy.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体素
子の実装方法によれば、電極パターン上に半導体素子の
外周に対して所定の間隔を維持し、かつ絶縁層を介し
て、相互に対向する部分が略同一サイズに形成された接
続用ランドを設け、接続用ランド上にクリーム半田を所
定量供給し、接続用ランドの間に半導体素子を挿入し、
半導体素子の下面に設けられた突起電極を電極パターン
に当接させ、クリーム半田を加熱して溶融し、半導体素
子の側面と接続用ランドとを半田付け固定するようにし
たので、クリーム半田の表面張力によりセルフアライメ
ントが可能となり、簡単な位置合わせを行なうだけで、
正確な位置に半導体素子の実装を行なうことができる。
As described above, according to the semiconductor device mounting method of the present invention , the semiconductor device is mounted on the electrode pattern.
Maintain a predetermined distance from the outer periphery and use an insulating layer
The contact parts whose opposing parts are formed to be almost the same size
A connection land is provided, and cream solder is placed on the connection land.
Quantitative supply, insert semiconductor element between connection lands,
The protruding electrode provided on the lower surface of the semiconductor element is used as an electrode pattern
And heat the cream solder to melt it,
Since the side of the child and the connection land are fixed by soldering, self-alignment is possible due to the surface tension of the cream solder.
The semiconductor element can be mounted at an accurate position.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体素子の実装方法の一実施例によ
って実装された半導体素子の実装構造を示す縦断面図で
ある。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a mounting structure of a semiconductor device mounted according to an embodiment of a semiconductor device mounting method of the present invention.

【図2】本発明の半導体素子の実装方法の一実施例の工
程を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing steps of one embodiment of a method for mounting a semiconductor device according to the present invention.

【図3】図2の半導体素子に対する接続用ランドの配置
の一例を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an example of an arrangement of connection lands with respect to the semiconductor element of FIG. 2;

【図4】図2の半導体素子に対する接続用ランドの配置
の他の一例を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing another example of the arrangement of connection lands with respect to the semiconductor element of FIG. 2;

【図5】図2のバンプと電極パターンとの寸法の関係を
示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a dimensional relationship between a bump and an electrode pattern in FIG. 2;

【図6】図5の要部拡大図である。FIG. 6 is an enlarged view of a main part of FIG. 5;

【図7】図2のクリーム半田のリフロー時の熱プロフィ
ル図である。
FIG. 7 is a thermal profile diagram during reflow of the cream solder of FIG. 2;

【図8】本実施例のセルフアライメントの原理を示すラ
フアライメント時の状態を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a state at the time of rough alignment showing the principle of self-alignment of the present embodiment.

【図9】図8のセルフアライメント時の状態を示す説明
図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a state at the time of self-alignment of FIG. 8;

【図10】図2の半導体素子のラフアライメント時の状
態を示す説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a state of the semiconductor element of FIG. 2 during rough alignment.

【図11】図10のセルフアライメント時の状態を示す
説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a state at the time of self-alignment in FIG. 10;

【図12】従来の半導体素子の実装方法の第1の例を示
す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a first example of a conventional method for mounting a semiconductor element.

【図13】従来の半導体素子の実装方法の第2の例を示
す説明図である。
FIG. 13 is an explanatory view showing a second example of a conventional method for mounting a semiconductor element.

【図14】従来の半導体素子の実装方法の第3の例を示
す説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram showing a third example of a conventional method for mounting a semiconductor element.

【図15】図13に示す実装方法における半導体素子と
ベースフィルムとのアライメント方法を示す説明図であ
る。
FIG. 15 is an explanatory view showing a method for aligning a semiconductor element and a base film in the mounting method shown in FIG. 13;

【図16】図13に示す実装方法における半導体素子と
ベースフィルムとのボンディング方法を示す説明図であ
る。
FIG. 16 is an explanatory view showing a bonding method between a semiconductor element and a base film in the mounting method shown in FIG. 13;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体素子 2 バンプ(突起電極) 4 基板 5 電極パターン 32 絶縁層 33 接続用ランド 34 クリーム半田 Reference Signs List 1 semiconductor element 2 bump (protruding electrode) 4 substrate 5 electrode pattern 32 insulating layer 33 connection land 34 cream solder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/34 507 H05K 1/18 H01L 21/60 311 H01L 23/50 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/34 507 H05K 1/18 H01L 21/60 311 H01L 23/50

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半田付け可能な側面を有する半導体素子
を、基板上に形成された電極パターン上に実装する半導
体素子の実装方法であって、 前記電極パターン上に前記半導体素子の外周に対して所
定の間隔を維持し、かつ絶縁層を介して、相互に対向す
る部分が略同一サイズに形成された接続用ランドを設け
る第1の工程と、 前記接続用ランド上にクリーム半田を所定量供給する第
2の工程と、 前記接続用ランドの間に前記半導体素子を挿入し、前記
半導体素子の下面に設けられた突起電極を前記電極パタ
ーンに当接させる第3の工程と、 前記クリーム半田を加熱して溶融し、前記半導体素子の
側面と前記接続用ランドとを半田付け固定する第4の工
程とを有することを特徴とする半導体素子の実装方法。
1. A method of mounting a semiconductor element having a solderable side surface on an electrode pattern formed on a substrate, the method comprising the steps of: Maintain predetermined spacing and face each other via an insulating layer
A first step of providing connection lands having portions having substantially the same size, a second step of supplying a predetermined amount of cream solder on the connection lands, and the semiconductor element between the connection lands. A third step of inserting a protruding electrode provided on the lower surface of the semiconductor element into contact with the electrode pattern; heating and melting the cream solder to form a side surface of the semiconductor element and the connection land. And a fourth step of soldering and fixing the semiconductor device.
【請求項2】 半導体素子に設けられた突起電極の幅
は、基板上に形成された電極パターン間の間隔より大き
いことを特徴とする請求項1記載の半導体素子の実装方
法。
The width of 2. A protruding electrodes provided on the semiconductor device mounting method of a semiconductor device according to claim 1, wherein a greater than the spacing between the electrode patterns formed on the substrate.
【請求項3】 請求項1に記載の半導体素子の実装方法3. A method for mounting a semiconductor device according to claim 1.
で前記半導体素子が実装されたことを特徴とする半導体Wherein the semiconductor element is mounted in the semiconductor
素子の実装基板。Device mounting board.
JP35638091A 1991-12-24 1991-12-24 Semiconductor device mounting substrate and method Expired - Fee Related JP3214009B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35638091A JP3214009B2 (en) 1991-12-24 1991-12-24 Semiconductor device mounting substrate and method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35638091A JP3214009B2 (en) 1991-12-24 1991-12-24 Semiconductor device mounting substrate and method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05175694A JPH05175694A (en) 1993-07-13
JP3214009B2 true JP3214009B2 (en) 2001-10-02

Family

ID=18448728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35638091A Expired - Fee Related JP3214009B2 (en) 1991-12-24 1991-12-24 Semiconductor device mounting substrate and method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3214009B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7054428B2 (en) 2018-03-19 2022-04-14 株式会社東京精密 Surface shape measuring device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7054428B2 (en) 2018-03-19 2022-04-14 株式会社東京精密 Surface shape measuring device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05175694A (en) 1993-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4928945B2 (en) Bump-on-lead flip chip interconnect
JP3202903B2 (en) Method of forming solder balls on a substrate
KR970012964A (en) A system interconnected by bond material bumps
WO1993007657A1 (en) Plated compliant lead
JPS6398186A (en) Method of forming solder terminal
JPH0810716B2 (en) Electronic package
JPH05175275A (en) Method of mounting semiconductor chip and mounting structure
US5663529A (en) Anti-skew mounting pads and processing method for electronic surface mount components
JP3214009B2 (en) Semiconductor device mounting substrate and method
JPH11163044A (en) Printed wiring board and method for mounting electronic parts
JP2555720B2 (en) Solder bump component mounting method
JPH09246324A (en) Method for forming electronic component and bump thereof
JP3410199B2 (en) Device for preventing bridging of connection member, semiconductor integrated circuit having the same, and mounting substrate
JP2001267368A (en) Flip-chip packaging structure
JP3013682B2 (en) Solder bump and connection structure and method for electronic component using the same
JPH09326412A (en) Mounting solder ball
JP4381657B2 (en) Circuit board and electronic component mounting method
JP2004056065A (en) Manufacturing method for electronic substrate
JP2005142442A (en) Printed circuit board and mounting method of surface mounted component
JP3161648B2 (en) Electronic component soldering method
JP3132713B2 (en) Semiconductor device
JPH05283587A (en) Soldering method of multiple-lead element
JP2001251044A (en) Structure and method for mounting surface-mounting component
JPH04370995A (en) Surface mounting method for pga type electronic component
JP2006012883A (en) Electronic component solder bonding method, area array electronic component, electronic circuit board and electronic component unit

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20010626

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080727

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090727

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees