JP3208221B2 - １，５−イミノ糖類の２−および３−アミノおよびアジド誘導体類 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】発明の背景 本発明は、Ｃ−２および／またはＣ−３にアミノまたは
アジド置換基を有する新規な１，５−ジデオキシ−１，
５−イミノ−Ｄ−グルシトール誘導体類に関し、特にこ
れらの誘導体類の化学合成およびそのための中間体類、
ならびにレンチウイルス類等のウイルス類の阻害方法に
関するものである。

【０００２】１，５−ジデオキシ−１，５−イミノ−Ｄ
−グルシトール（デオキシノジリマイシンまたはＤＮ
Ｊ）ならびにそのＮ−アルキルおよびＯ−アシル化誘導
体は、ヒト免疫不全症ウイルス（ＨＩＶ）等のウイルス
の既知の阻害剤である。例えば、米国特許第４，８４
９，４３０号；５，００３，０７２号；５，０３０，６
３８号；およびＰＣＴ国際出願ＷＯ８７／０３９０３を
参照。これらの誘導体のいくつかは、米国特許第４，９
５７，９２６号に開示されているようにＨＳＶおよびＣ
ＭＶ等の他のウイルスに対しても有効である。ある場合
には、米国特許第５，０１１，８２９号に記述されてい
るように、抗ウイルス活性はＤＮＪ誘導体とＡＺＴ等の
他の抗ウイルス剤との組合せによって増強される。これ
らのＤＮＪ誘導体の多くは、それらのグリコシダーゼ阻
害剤としての活性に基づく抗高脂血症剤である。例え
ば、米国特許第４，１８２，７６３号、４，５３３，６
６８号および４，６３９，４３６号参照。ＤＮＪの２−
アセタミド誘導体は、Ｆｌｅｅｔら、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔ
ｔ．７，１０５１−１０５４（１９８６）；およびＫｉ
ｓｏら、Ｊ．Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｃｈｅｍ．１０、２
５−４５（１９９１）により報告されているように有力
なグリコシダーゼ阻害剤である。

【０００３】上述の事にかかわらず、新規かつ改良され
た抗ウイルス剤の発見および新規合成法について研究が
続けられている。

【０００４】発明の簡単な記述 本発明に従って、Ｃ−２および／またはＣ−３にアミノ
またはアジド置換基を有する１，５−ジデオキシ−１，
５−イミノ−Ｄ−グルシトールの新規誘導体が提供され
る。本発明の別の実施態様に従って、これらのＤＮＪ誘
導体の新規化学合成法、およびそれらの中間体が提供さ
れる。新規ＤＮＪ誘導体およびそれらの種々の中間体
は、レンチウイルス類に対して例示されるように有用な
抗ウイルス活性を有する。

【０００５】新規な１，５−ジデオキシ−１，５−イミ
ノ−Ｄ−グルシトールのＣ−２および／またはＣ−３ア
ミノまたはアジド置換誘導体は、以下の一般構造式Ｉに
より表される：

【０００６】

【化１２】

【０００７】式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、アラルキル、又
は（ＣＨ ₂ ） ₃ ＣＦ ₃ ； Ｘ₁＝ＯＨ、Ｎ₃、ＮＨ₂、ＮＨＲ ₁ およびＮＨＣＯＲ₃； Ｘ₂＝ＯＨ、Ｎ₃およびＮＨ₂、但し、Ｘ₂がＮ₃またはＮ
Ｈ₂の場合はＸ₁はＯＨまたはＮＨ₂であり、更にＸ₁およ
びＸ₂の少なくとも１つはＯＨではない； Ｒ₁、Ｒ₂＝アルキル；ならびに Ｒ₃＝Ｈ、アルキル。

【０００８】式Ｉにおいて、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３
置換基のアルキル残基は、好ましくは直鎖または分枝ア
ルキル基あるいはシクロアルキル基であって、好ましく
はＲ_１、Ｒ_２およびＲ_３においては１〜約８個の炭素原
子を有する、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、
ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、２−エチルブチル、２−メチルペンチル、シク
ロペンチルおよびシクロヘキシル等のアルキルであり、
ならびにＲにおいては１〜約１８個の炭素原子を有す
る、例えばドデシル、オクタデシルまたは上記基のいず
れか等のアルキルである。

【０００９】式Ｉにおいて、Ｒ置換基中のアリール残基
は、好ましくはベンジル、４−フルオロフェニルまたは
３−メトキシフェニル等のフェニルおよび置換フェニル
である。

【００１０】式Ｉの好ましい化合物は、以下のものであ
る：ＤＮＪの２−アジド誘導体 ２−アジド−１，２，５−トリデオキシ−１，５−イミ
ノ−Ｄ−グルシトール、 ２−アジド−１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−Ｄ−グルシトール、 ２−アジド−１，５−〔（２−エチルブチル）イミノ〕
−１，２，５−トリデオキシ−Ｄ−グルシトール、 ２−アジド−１，５−〔（４，４，４−トリフルオロブ
チル）イミノ〕−１，３，５−トリデオキシ−Ｄ−グル
シトール、ＤＮＪの２−アミノ誘導体 ２−アミノ−１，２，５−トリデオキシ−１，５−イミ
ノ−Ｄ−グルシトール、 ２−アミノ−１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−Ｄ−グルシトール、 ２−アミノ−１，５−〔（２−エチルブチル）イミノ〕
−１，２，５−トリデオキシ−Ｄ−グルシトール、 ２−アミノ−１，５−〔（４，４，４−トリフルオロブ
チル）イミノ〕−１，２，５−トリデオキシ−Ｄ−グル
シトール、 １，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−トリデオキシ
−２−（ジメチルイミノ）−Ｄ−グルシトール、 １，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−トリデオキシ
−２−（メチルアミノ）−Ｄ−グルシトール、 １，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−トリデオキシ
−２−〔（１−オキソブチル）アミノ〕−Ｄ−グルシト
ール、 １，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−トリデオキシ
−２−〔（１−オキソブチル）アミノ〕−Ｄ−グルシト
ールトリブタノエート、ＤＮＪの３−アミノ誘導体 ３−アミノ−１，３，５−トリデオキシ，１，５−イミ
ノ−Ｄ−グルシトール、 ２，３−ジアミノ−１，５−（ブチルイミノ）−１，
２，３，５−テトラデオキシ−Ｄ−グルシトール、

【００１１】式Ｉの化合物の新規合成法は、ＤＮＪのＣ
２およびＣ３における構造的修飾の形成、ならびにＮ−
カルボアルコキシ−２，３−アンヒドロ−ＤＮＪの親核
性開環を含む。

【００１２】本発明の好ましい実施態様に従えば、式Ｉ
の化合物は、以下の一般的反応スキームＡ、ＤおよびＦ
に示される一連の反応によって化学的に合成され得、こ
こにおいて括弧内のローマ数字は、この数で示される一
般式で定義される化合物を指す。Ｒ_１は、後に記述され
る反応剤および生成物によって例示されるいずれかのア
ルキルまたはアリール基であり得る。

【００１３】スキームＡ：２−アジドおよび２−アミノ
１，５−イミノ糖の一般的合成

【００１４】

【化１３】

【００１５】スキームＡ（続き）：２−アジドおよび２
−アミノ １，５−イミノ糖の一般的合成

【００１６】

【化１４】

【００１７】前記反応スキームＡは、以下の一般的反応
工程を含む： （ａ）出発材料ＤＮＪ（Ｉ）がアシル化剤によりＮ−ア
シル化され、ＤＮＪのカルバメート誘導体（ＩＩ）を形
成する； （ｂ）Ｃ−４およびＣ−６のヒドロキシルを、ヒドロキ
シル保護剤を用いてアセタール化またはケタール化によ
り保護し、アセタールまたはケタール（ＩＩＩ）を形成
する； （ｃ）Ｃ−２のヒドロキシルをＣ−２においてスルホン
化試薬を用いて位置選択的に保護し、２−スルホン化中
間体（ＩＶ）を与える； （ｄ）Ｃ−２およびＣ−３のエポキシ化によって２，３
−アンヒドロ誘導体を形成してエポキシド中間体（Ｖ）
を与える；

【００１８】エポキシド中間体（Ｖ）は、反応スキーム
Ａの引続く工程においてＤＮＪの２−アジドおよび２−
アミノ誘導体合成のために使用されるか、あるいは反応
スキームＨにおける１，５−イミノ−Ｄ−アルトリオー
ルの３−アミノ誘導体合成のために保持される。 （ｅ）該エポキシド中間体（Ｖ）を、アジド等を用いた
Ｃ−２およびＣ−３の親核性攻撃によって開環し、アジ
ド誘導体（ＶＩ）および（ＶＩＩ）の混合物を与える。

【００１９】アジド誘導体（ＶＩＩ）は、反応スキーム
ＤにおけるＤＮＪの３−アジドおよび３−アミノ誘導体
合成のために保持される。アジド誘導体（ＶＩ）は、反
応スキームＡの引続く工程においてＤＮＪの２−アジド
および２−アミノ誘導体合成のために使用されるか、あ
るいは反応スキームＦにおけるＤＮＪの２，３−ジアミ
ノ誘導体合成のために保持される。

【００２０】（ｆ）アジド誘導体（ＶＩ）のＮ−カルバ
メート基を除去し、中間体（ＶＩＩＩ）を与える。 （ｇ）中間体（ＶＩＩＩ）をＮ−アルキル化して異なる
中間体（ＩＸ）を与え、これはＤＮＪの最終的２−アジ
ドまたは２−アミノ誘導体調製のために使用され得る。 （ｈ）中間体（ＩＸ）のＣ−４およびＣ−６のヒドロキ
シル保護基を、アセタールまたはケタール開裂によって
除去し、ＤＮＪの所望の新規抗ウイルス性２−アジド誘
導体（Ｘ）を与える。 （ｉ）中間体（ＩＸ）の２−アジド基を２−アミノ基に
還元して中間体（ＸＩ）を与える。 （ｊ）中間体（ＩＸ）のＣ−４およびＣ−６のヒドロキ
シル保護基を、アセタールまたはケタール開裂によって
除去し、ＤＮＪの所望の新規抗ウイルス性２−アミノ誘
導体（ＸＩＩ）を与える。

【００２１】工程（ａ）におけるＤＮＪ（Ｉ）のＮ−ア
シル化は、当業者に周知の慣用のＮ−アシル化法により
行なわれ得る。アミン類のアシル化のための好適な一般
的方法は、米国特許第５，００３，０７２号；Ｍａｒｃ
ｈ，Ｊ．，ＡｄｖａｎｃｅｄＯｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍ
ｉｓｔｒｙ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８
５；Ｐａｔａｉ，Ｓ．（編）、Ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ ｏｆ Ａｍｉｄｅｓ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏ
ｒｋ，１９７０に記述されている。例えば、クロロホル
メート類（例えばメチルクロロホルメート、エチルクロ
ロホルメート、ビニルクロロホルメート、ベンジルクロ
ロホルメート）またはジカルボネート類（例えば−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジカルボネート）等の種々の試薬を使用し
て、ＤＮＪをＮ−アシル化し、カルバメートまたはチオ
カルバメートを形成する。ＤＮＪ（Ｉ）の無水物、クロ
ロホルメート類またはジカルボネート類との反応は、１
種以上の極性、プロトン性溶媒（水、メタノール、エタ
ノール等）中に溶解し、塩基（例えば、炭酸カリウム、
炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、トリエ
チルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、
ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ
〔５，４，０〕ウンデク−７−エン）の存在下で優先的
に行なわれる。Ｎ−アシル化は、ＤＮＪ（Ｉ）をアルキ
ルまたはアリールクロロホルメートと、ＤＭＦまたは重
炭酸ナトリウム水溶液等の溶媒中で、２０−５０℃にて
反応させることにより優先的に行なわれ、生成物（Ｉ
Ｉ）を与らる。

【００２２】アセタールまたはケタール誘導体（ＩＩ
Ｉ）を与えるための工程（ｂ）におけるＣ−４およびＣ
−６ヒドロキシル基の保護は、例えば米国特許第５，０
０３，０７２号およびＧｒｅｅｎ，Ｔ．Ｗ．のＰｒｏｔ
ｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１
９８１に記述されているような慣用のヒドロキシル保護
方法によって行なわれ得る。環状アセタールおよびケタ
ールは、酸触媒の存在下における４，６−ジヒドロキシ
化合物（ＩＩ）とアルデヒドまたはケトンとの反応によ
り形成される。この反応において有用なカルボニル（ま
たはジメチルアセタールもしくはジメチルケタール等の
カルボニル均等物）化合物は、例示的にはアセトン、ア
セトアルデヒド、メチルフェニルケトン、ベンズアルデ
ヒド、４−メトキシベンズアルデヒド、２，４−ジメト
キシベンズアルデヒド、４−ジメチルアミノベンズアル
デヒド、２−ニトロベンズアルデヒド、２，２，２−ト
リクロロアセトアルデヒド（クロラール）、およびアセ
トフェノンである。この反応に好適な酸触媒は、例えば
パラートルエンスルホン酸、触媒量ＨＣｌ、触媒量硫
酸、ＦｅＣｌ_３、ＺｎＣｌ_２、ＳｎＣｌ_２およびＢＦ_３
−エーテルであり、また反応は、メチレンクロライド、
１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、ジメチルホル
ミムアミド、ジメチルアセタミドまたはジメチルスルホ
キシド等の非プロトン性溶媒の存在下で行なわれる。従
って、パラートルエンスルホン酸が、ジメチルホルムア
ミド等の有機媒体中のベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールの溶液に添加され、Ｎ−アシル−ＤＮＪ（ＩＩ）と
２０−６５℃にて反応に付され、生成物（ＩＩＩ）が与
えられる。

【００２３】工程（Ｃ）における化合物（ＩＩＩ）のＣ
−２のヒドロキシル基の選択的保護は、位置選択的トシ
ル化によって実施され得、トシレート（ＩＶ）を与え
る。例えば、化合物（ＩＩＩ）を、溶媒（ベンゼン、ト
ルエン、メタノール、エタノール等）中でジブチルチノ
キシドと共に都合良く還流させて、均質な溶液を形成す
る。次いで、スタニレン中間体をｐ−トルエンスルホニ
ルクロライドと共に反応させてトシレート（ＩＶ）を与
える。この反応において、ベンゼンスルホニルクロライ
ド、４−ブロモベンゼンスルホニルクロライド、４−ニ
トロベンゼンスルホニルクロライドおよびメタンスルホ
ニルクロライド等の他のスルホニルクロライドも使用さ
れ得る。

【００２４】エポキシド中間体（Ｖ）は、工程（ｄ）に
おいてスルホネート（ＩＶ）をジメチルホルムアミド、
ジメチルアセタミド、ジメチルスルホキシド、ジメトキ
シエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチル
エーテル、ジブチルエーテルおよびｔｅｒｔ−ブチルメ
チルエーテル等の溶媒を用いて、水素化ナトリウム、水
素化カリウム、水素化リチウム、炭酸セシウム、炭酸カ
リウムおよびカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の塩基と
共に処理することにより容易に調製される。

【００２５】工程（ｅ）におけるエポキシド中間体
（Ｖ）の親核的開環は、好ましくは、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセタミド、２−メトキシエタノール、
ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジブチルエーテルおよびｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテ
ル等の溶媒中の（Ｖ）の溶液を、ナトリウムアジトと共
に加熱（５０℃−還流）することにより行なわれ、生成
物（ＶＩ）および（ＶＩＩ）のジアステレオマー混合物
を与える。

【００２６】化合物（ＶＩ）の窒素保護カルバメート基
は、工程（ｆ）において４０〜１００℃の温度での塩基
加水分解により容易に除去され、中間体（ＶＩＩＩ）を
与える。この反応のために好適な例示的塩基は、メタノ
ール、エタノール、エチレングリコールおよびジオキサ
ン等の有機溶媒の存在を伴うか、または伴わない、水性
の水酸化ナトリウム、水酸化リチウムまたは水酸化カリ
ウムである。カルバメートは、硫黄親核性化合物（例え
ばナトリウムチオメトキシドおよびリチウムチオプロポ
キシド）またはヨウ化トリメチルシラン等、他の試薬に
よっても切断され得る。

【００２７】中間体（ＶＩＩＩ）のＮ−アルキル化は、
工程（ｇ）においてＮａＣＮＢＨ_３、ＮａＢＨ_４または
アルキルアルデヒドを使用する還元的アルキル化法によ
って行なわれ得る。対応するＮ−アルキル誘導体化合物
（ＩＸ）を調製するための適当なアルキルアルデヒド
は、例えばｎ−プロパナール、ｎ−ブタナール、ｎ−ペ
ンタナール、ｎ−ヘキサナール、ｎ−ヘプタナールおよ
びｎ−オクタナールである。この反応のために好ましい
アルデヒドは、例えばブチルアルデヒド、３−フェニル
プロピオンアルデヒドおよび２−エチルブチルアルデヒ
ドである。

【００２８】別法として、Ｎ−アルキル化は、中間体
（ＶＩＩＩ）をベンジルブロマイド、ブロモブタン、ブ
ロモヘキサン、ヨードメタン等のハロゲン化アルキル
と、トリエチルアミン、ピリジンおよびジイソプロピル
エチルアミン等の塩基の存在下で反応させることにより
達成され得る。この反応に好適な溶媒は、例えばＤＭ
Ｆ、ジメチルアセタミド、ジメチルスルホキシドおよび
ピリジンである。Ｎ−アルキル化のための好ましいハロ
ゲン化アルキルは、１−ブロモ−４，４，４−トリフル
オロブタンである。

【００２９】中間体（ＩＸ）由来のアセタールまたはケ
タール基は、工程（ｈ）において酸触媒加水分解により
除去され得、ＤＮＪの新規２−アジド誘導体（Ｘ）を与
える。酸は、例えばトリフルオロ酢酸（水と共に、また
は無しで）、塩酸水溶液、三塩化ホウ素、１Ｎ硫酸、８
０％酢酸、酸性樹脂（Ｄｏｗｅｘ５０−Ｗ、Ｈ^＋等）、
メタノールまたはエタノール中の触媒量のｐ−トルエン
スルホン酸等が、２５−８０℃にて使用され得る。ベン
ジリデンアセタールも、四塩化炭素中でＮ−ブロモスク
シンイミドおよびＢａＣＯ_３（またはＣａＣＯ_３）を使
用するか、または電気化学的還元反応によって切断され
得る。

【００３０】工程（ｉ）において２−アミノ中間体（Ｘ
Ｉ）を与える中間体（ＩＸ）の２−アジド基の還元は、
炭素上のパラジウムを用いる水素添加により都合良く行
なわれ得る。次いで、アセタールまたはケタール基は、
中間体（ＸＩ）から工程（ｊ）において工程（ｈ）で詳
述したものと同様な条件を使用して除去され、ＤＮＪの
新規な２−アミノ中間体（ＸＩＩ）を与える。（ＸＩ）
の４，６−ヒドロキシ保護基がベンジリデンアセタール
である場合には、遷移水素添加条件（例えば、（ＸＩ）
のエタノール溶液を、Ｐｄ（ＯＨ）_２、およびシクロヘ
キサンまたは１，４−シクロヘキサジエン等の水素供与
体と共に加熱）によって、該基の除去を行なってもよ
い。（ＸＩ）のベンジリデン基を、金属（Ｌｉ、Ｎａま
たはＫ等）および液体アンモニアを使用して、−７０〜
−３３℃にて同様に除去し、（ＸＩＩ）を与えることが
できる。ベンジリデンアセタールは、Ｎ−ブロモスクア
セタールは、四塩化炭素中のＮ−ブロモスクシンイミド
およびＢａＣＯ_３（またはＣａＣＯ_３）を使用するか、
または電気化学的還元反応によって切断され得る。２，
２，２−トリクロロエチリデンアセタールは、水酸化ナ
トリウム水溶液およびエタノールを使用して接触還元
（Ｈ_２、ラネーＮｉ）により切断され得る。

【００３１】以下の反応スキームＢおよびＣは、ＤＮＪ
の２−アジドおよび２−アミノ誘導体（スキームＢ）な
らびにＤＮＪの２−アルキルアミノおよび２−アシルア
ミノ誘導体（スキームＣ）の好ましい合成をそれぞれ示
すもので、括弧内のアラビア数字は、下記の詳細な例に
おいて調製される化合物を示すものである。

【００３２】スキームＢ：２−アジドおよび２−アミノ
１，５−イミノ糖類の合成

【００３３】

【化１５】

【００３４】スキームＢ（続き）：２−アジドおよび２
−アミノ １，５−イミノ糖類の合成

【００３５】

【化１６】

【００３６】スキームＣ：２−アルキルアミノおよび２
−アシルアミド １，５−イミノ糖類の合成

【００３７】

【化１７】

【００３８】スキームＤ：３−アジドおよび３−アミノ
−１，５−イミノ糖の一般的合成

【００３９】

【化１８】

【００４０】式Ｉの３−アジド−および３−アミノ−Ｄ
ＮＪ誘導体類の一般的合成を示す前述の反応スキームＤ
は、反応スキームＡの工程（ｅ）において調製されたア
ジド誘導体（ＶＩＩ）から出発する以下の一般的反応工
程を含む：

【００４１】（ａ）出発材料であるアジド誘導体（ＶＩ
Ｉ）におけるＣ−２の遊離水酸基を酸化して、ケトン
（ＸＩＩＩ）を与える； （ｂ）ケトン（ＸＩＩＩ）を、ジイソブチルアルミニウ
ムハイドライド、ナトリウムボロハイドライド等の還元
剤を用いて還元し、エピマーアルコール（ＸＩＶ）およ
び（ＸＶ）の混合物を与える； （ｃ）アルコール（ＸＩＶ）のＮ−カルバメートを加水
分解的に切断して、中間体（ＸＶＩ）を与える； （ｄ）中間体（ＸＶＩ）をＮ−アルキル化し、ＤＮＪの
最終的３−アジドまたは３−アミノ誘導体の調製に使用
され得る異る中間体（ＸＶＩＩ）を与える； （ｅ）中間体（ＸＶＩＩ）のＣ−４およびＣ−６のヒド
ロキシル保護基を、アセタールまたはケタールの切断に
より除去し、所望のＤＮＪの３−アジド誘導体（ＸＶＩ
ＩＩ）を与える； （ｆ）中間体（ＸＶＩＩ） の３−アジド基を３−アミ
ノ基に還元して、中間体（ＸＩＸ）を与える； （ｇ）中間体（ＸＩＸ）のＣ−４およびＣ−６のヒドロ
キシル保護基を、アセタールまたはケタールの切断によ
り除去し、所望のＤＮＪの３−アミノ誘導体（ＸＸ）を
与える。

【００４２】前述の反応スキームＤにおいて、ＤＮＪの
３−アジドおよび３−アミノ誘導体合成のための工程
（ｃ）から（ｇ）までは、反応スキームＡにおけるＤＮ
Ｊの２−アジドおよび２−アミノ誘導体合成のための工
程（ｆ）から（ｊ）までと同様な試薬および条件を用
い、同様な方法で実施され得る。工程（ａ）において
は、残る分子が完全に保護されているため、（ＶＩＩ）
における第２アルコールの酸化は、種々の酸化剤を用い
て効果的に実施され得る。（例えば、Ｍａｒｃｈ，Ｊ．
ｉｎ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８５；
Ｈｏｕｓｅ，Ｈ．Ｏ．ｉｎ Ｍｏｄｅｒｎ Ｓｙｎｔｈ
ｅｔｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，Ｂｅｎｚａｍｉｎ Ｐ
ｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔ
ｔｓ，１９７２；Ａｕｇｕｓｔｉｎｇ，Ｒ．Ｌ，ｉｎ
Ｏｘｉｄａｔｉｏｎｓ−Ｔｅｃｈｎｉｇｕｅｓ ａｎｄ
Ａｐｐ ｌｉｃａｔｉｏｎｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｄｅｋｋｅｒ，Ｎｅｗ Ｙｏｒ
ｋ，１９６９；Ｗ．Ｐ．Ｇｒｉｆｆｉｔｈ ａｎｄ
Ｓ．Ｍ．Ｌｅｖｙ，Ａｌｄｒｉｃｈｃｈｉｍｉｃａ Ａ
ｃｔａ ２３，１３（１９９０）；Ｒ．Ｍ．Ｍｏｒｉａ
ｒｔｙ ａｎｄ Ｏ．Ｐｒａｋａｓｈ Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃ
ｈｅｍ．５０，１５１，１９８５；Ａ．Ｍａｎｃｕｓ
ｏ，Ｄ．Ｓｗｅｒｎ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１６５（１
９８１）；Ｓ．Ｃｚｅｒｎｅｃｋｉ，Ｃ．Ｇｅｏｒｇｏ
ｕｌｕｓ，Ｃ．Ｌ．Ｓｔｅｖｅｎｓ ａｎｄ Ｋ．Ｖｉ
ｊａｙａｋａｎｔａｍ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔ．２６，１６９９（１９８５）；Ｊ．Ｈｅｒｓｏｖ
ｉｃｉ，Ｍ．Ｊ．Ｅｇｒａ ａｎｄ Ｋ．Ａｎｔｏｎａ
ｋｉｓ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａ
ｎｓ．Ｉ，１９６７（１９８２）；Ｅ．Ｊ．Ｃｏｒｅ
ｙ，Ｅ．Ｂａｒｒｅｔｔｅ ａｎｄ Ｐ．Ｍａｒｇｒｉ
ｏｔｉｓ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．２６，
５８５５（１９８５）；Ｈ．Ｔｏｍｉｏｋａ，Ｋ．Ｏｓ
ｈｉｍａ ａｎｄ Ｈ．Ｎｏｚａｋｉ，Ｔｅｔｒａｈｅ
ｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．２３，５３９（１９８２）参照）

【００４３】化合物ＶＩＩのＣ−２ヒドロキシルの酸化
に好適な数種の試薬は、ピリジニウムクロロクロメート
（酢酸ナトリウム、セライト、アルミナ、分子ふるい等
の添加剤と共に、または無しに）、ピリジニウムジクロ
メート、三酸化クロム／ピリジン、２，２′−ビピリジ
ニウムクロロアクロメート、環状クロメートエステル
（Ｅ．Ｊ．Ｃｏｒｅｙ，Ｅ．Ｂａｒｒｅｔｔｅ ａｎｄ
Ｐ．Ｍａｒｇｒｉｏｔｉｓ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．２６，５８５５（１９８５））、ＲｕＣｌ
_２（ＰＰｈ_３）_３−ｔｅｒｔ−ＢｕＯＯＨ、セライト上
の炭酸銀、硝酸セリウム（ＩＶ）アンモニウム（臭素酸
ナトリウムと共に、または無しで）、テトラ−ｎ−プロ
ピルアンモニウム、パールテネート、活性化ジメチルス
ルホキシド試薬（ＤＭＳＯおよび無水酢酸、無水トリフ
ルオロ酢酸、オキサリルクロライド、無水トリフルオロ
スルホン酸、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の親電
子性試薬の１種を使用して）等である。新規カルボニル
化合物（ＸＩＩＩ）の形成は、（ＶＩＩ）のＣ−２水酸
基を、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）中の無水トリ
フルオロ酢酸を用い、メチレンクロライドを溶媒として
使用して、−７０°〜０゜にて酸化し、引続いてトリエ
チルアミンまたはジイソプロピルエチルアミン等の塩基
により−７０°〜２５℃にて処理することによって、優
先的に行なわれる。

【００４４】以下の反応スキームＥは、ＤＮＪの３−ア
ミノ誘導体の好ましい合成を示すもので、括弧内のアラ
ビア数字は、下記の詳細な例において調製される化合物
を示す。下記の表１は、種々の還元条件下におけるケト
ン（３２）の還元によるアルコール（３３）および（３
４）の比率について得られた結果を示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】スキームＥ：３−アミノ−１，５−イミノ
糖類の合成

【００４７】

【化１９】

【００４８】スキームＦ：２，３−ジアミノ−１，５−
イミノ糖類の一般的合成

【００４９】

【化２０】

【００５０】式Ｉの２，３−ジアミノ−ＤＮＪ誘導体の
一般的合成を示す前述の反応スキームＦは、反応スキー
ムＡの工程（ｅ）で調製されたアジド誘導体（ＶＩ）か
ら出発する以下の一般的反応工程を含む：

【００５１】（ａ）アジド誘導体（ＶＩ）をＣ−３の配
置反転に付し、ｔａｌｏ中間体（ＸＸＩ）を与える； （ｂ）中間体（ＸＸＩ）のＣ−３の遊離水酸基をスルホ
ン化して、スルホン酸エステル（ＸＸＩＩ）を与える； （ｃ）スルホン酸エステル（ＸＸＩＩ）を、Ｃ−３のグ
ルコ配置への反転を伴うアジド置換に付し、ジアジド中
間体（ＸＸＩＩＩ）を与える； （ｄ）ジアジド中間体（ＸＸＩＩＩ）のＮ−カルバメー
トを加水分解的に切断し、中間体（ＸＸＩＶ）を与え
る； （ｅ）中間体（ＸＸＩＶ）をＮ−アルキル化して異なる
中間体（ＸＸＶ）を与え、これは、ＤＮＪの最終的２，
３−ジアミノまたは２，３−ジアジド誘導体の調製に使
用され得る； （ｆ）中間体（ＸＸＶ）のＣ−４およびＣ−６のヒドロ
キシル保護基をアセタールまたはケタールの切断により
除去し、ＤＮＪの２，３−ジアジド誘導体（ＸＸＶＩ）
を与える。 （ｇ）中間体（ＸＸＶ）の２，３−ジアジド基を２，３
−ジアミノ基に還元して、中間体（ＸＸＶＩＩ）与え
る； （ｈ）中間体（ＸＸＶＩＩ）のＣ−４およびＣ−６ヒド
ロキシル保護基をアセタールまたはケタールの切断によ
り除去し、ＤＮＪの所望の２，３−ジアミノ誘導体（Ｘ
ＸＶＩＩＩ）を与える。

【００５２】前述の反応スキームＦにおいて、ＤＮＪの
２，３−ジアジドおよび２，３−ジアミノ誘導体合成の
ための工程（ｄ）から（ｈ）までは、反応スキームＡに
おいてＤＮＪの２−アジドおよび２−アミノ誘導体合成
のための工程（ｆ）から（ｊ）までと同様な試薬および
条件を用い、類似の方法で行なわれ得る。反応工程
（ａ）から（ｃ）までは、配置の正身が保持されるＣ−
３ヒドロキシルのアジド基による置換を含む。

【００５３】以下の反応スキームＧは、ＤＮＪの２，３
−ジアミノ誘導体の好ましい合成を示し、ここで括弧内
のアラビア数字は、下記の詳細な例において合成される
化合物をさす。

【００５４】スキームＧ：２，３−ジアミノ−１，５−
イミノ糖の合成

【００５５】

【化２１】

【００５６】以下の反応スキームＨは、反応スキームＡ
のエポキシド中間体（Ｖ）、および好ましくは反応スキ
ームＢのエポキシド中間体（５）からの１，５−イミノ
−Ｄ−アルトリトールの３−アミノ誘導体の合成を示
す。反応スキームＨは、以下の反応工程を含み、ここで
括弧内のアラビア数字は、下記の詳細な例において調製
される化合物をさす。

【００５７】（ａ）エポキシド中間体（５）を、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノエチルアミンまたはブチルアミン等の
アルキルアミン中で還流させることにより開環させ、
１，５−イミノ−アルトリトールのＣ−４およびＣ−６
ヒドロキシル保護３−アミノ誘導体（４７）および（４
８）をそれぞれ与える； （ｂ）３−アミノ誘導体（４７）上のベンジルカルバメ
ート（Ｚ）を、塩基加水分解、または触媒的水素添加法
（Ｈ_２およびＰｄ／Ｃ、またはＨ_２白金黒）によって除
去し、中間体（４９）を与える；ならびに （ｃ）中間体（４９）のＣ−４およびＣ−６ヒドロキシ
ル保護基を、アセタールまたはケタールの切断により除
去し、１，５−イミノ−Ｄ−アルトリトールの所望の新
規抗ウイルス性３−アミノ誘導体（５０）を与える。こ
の工程は、反応スキームＡの工程（ｈ）における、中間
体（ＩＸ）からアセタールまたはケタール基を除去する
ための酸触媒加水分解と同様な方法により行なわれ得
る。

【００５８】スキームＨ：３−アミノ−１，５−イミノ
糖類の合成

【００５９】

【化２２】

【００６０】標準的インビトロ試験において、本発明の
新規化合物は、慣用のプラーク減数アッセイにてビスナ
ウイルスに対する阻害活性を示した。遺伝子的にＡＩＤ
Ｓウイルスに極めて類似するレンチウイルス類であるビ
スナウイルスは、ヒツジおよびヤギに対して病原性であ
る。Ｓｏｎｉｇｏらの、Ｃｅｌｌ ４２，３６９−３８
２（１９８５）；Ｈａａｓｅ，Ｎａｔｕｒｅ ３２２，
１３０−１３６（１９８６）参照。ヒト免疫不全ウイル
ス（ＨＩＶ）の有用なモデルとしてのインビトロにおけ
るビスナウイルス複製の阻害、および試験化合物による
その阻害は、Ｆｒａｎｋら、Ａｎｔｉｍｉｃｒｏｂｉａ
ｌ Ａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃｈｅｍｏｔｈｅｒａｐｙ
３１（９）、１３６９−１３７４（１９８７）に記述
されている。

【００６１】ＨＩＶ−１の阻害は、シンシチウム−感受
性の感受性ヒト宿主細胞を微量培養プレート中でウイル
スと共におよび無しに平板培養し、種々の濃度の試験化
合物を添加し、該プレートを９日間培養し（この間に、
感染された非薬剤処理対照細胞は、ウイルスによりかな
り、または完全に破壊される）、ならびに、次いで色測
定的終点を使用して残存する生存細胞数を測定すること
を含む試験によって示され得る。

【実施例】

【００６２】発明の詳細な記述 以下の例は、本発明を更に例示するものであるが、本発
明がこれらの特定の例またはそれらに開示される詳細に
限定されるものではないことが理解されるであろう。

【００６３】例１

【００６４】１，５−ジデオキシ−１，５−〔｛（フェ
ニルメトキシ）カルボニル｝イミノ〕−Ｄ−グルシトー
ル（２）の調製： 飽和重炭酸ナトリウム水溶液（１０００ｍｌ）中の１−
デオキシノジリマイシン（１００ｇ、０．６１ｍｏｌ）
の撹拌溶液に、ベンジルクロロホルメート（９５％、１
２１ｇ、０．６７ｍｏｌ）を室温にて滴々加えた。室温
にて１８時間撹拌後、該溶液をメチレンクロライド（３
００ｍｌ）を用いて１回抽出し、未反応のベンジルクロ
ロホルメートを除去した。次いで、水性層を酢酸エチル
にて数回抽出し、全量で２．５−３リットルの抽出物を
得た。次いで、有機層を乾燥させ（Ｎａ_２ＳＯ_４）、濾
過し、濃縮して（２）を白色固体（９８．５７ｇ、５４
％）、ｍｐ１０１−２℃として得た。Ｃ_１４Ｈ_１９ＮＯ
_６として理論値、Ｃ，５６．５６，Ｈ，６．４４，Ｎ，
４．７１、実験値、Ｃ，５６．３３，Ｈ，６．３８，
Ｎ，４．５８．，^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）７．２−
７．４（ｍ，５Ｈ），５．１５（ｓ，２Ｈ），４．２３
（ｂｒ ｍ，１Ｈ），４．０５（ｂｒ ｄ．，Ｊ＝１Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．８７（ｄｄ，Ｊ＝６，４Ｈｚ，１
Ｈ），３．７８−３．８５（ｍ，２Ｈ），３．７０−
３．７８（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ，１Ｈ）。

【００６５】例２

【００６６】１，５−ジデオキシ−１，５−〔｛（フェ
ニルメトキシ）カルボニル｝イミノ〕−４，６−Ｏ−
（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシトール（３）の
調製： 丸底フラスコ中の（２）（９８．５ｇ、０．３３ｍｏ
ｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール（６５．５
ｇ、０．４３ｍｏｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸
（１ｇ）の混合物を、ジメチルホルムアミド（４００ｍ
ｌ）に溶解させた。該フラスコを水流アスピレータに接
続し、該反応物を６０−６５℃にて４時間加熱した。該
反応混合物を室温まで冷却し、重炭酸ナトリウム（１４
ｇ）を含む撹拌されている氷水（１２００ｍｌ）に注入
した。形成された白色固体を濾過し、冷水で洗浄し、乾
燥させた。ヘキサン／酢酸エチルを用いて再結晶して３
（９６．２ｇ、５４％）を純粋な白色固体、ｍｐ１４７
−４８℃として得た。Ｃ_２１Ｈ_２３ＮＯ_６として理論
値、Ｃ，６５．４４，Ｈ，６．０２，Ｎ，３．６３、実
験値、Ｃ，６５．１５，Ｈ，５．９３，Ｎ，３．４９。
ＩＲ（ＫＢｒ）３４２０，１７１５，１４５０，１４２
５，１３９５，１３８０，１３６５，１０９０^−１；^１
Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）７．２８−７．５３（ｍ，１
０Ｈ），５．６１（ｓ，１Ｈ），５．１４（ｓ，２
Ｈ），４．７７（ｄｄ，Ｊ＝１１，４．６Ｈｚ，１
Ｈ），４．３８（ｔ，Ｊ＝１１Ｈｚ，１Ｈ），４．１６
（ｄｄ，Ｊ＝１３．４，４．２Ｈｚ，１Ｈ），３．５−
３．７（複合ｍ，３Ｈ），３．３５（ｔｄ，Ｊ＝１１，
４．６Ｈｚ），２．９７（ｄｄ，Ｊ＝１３．４，９．３
Ｈｚ，１Ｈ）；^１３ＣＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）１５６．
７，１３９．４，１３８．０，１２９．９，１２９．
７，１２９．３，１２９．２，１２９．１，１２７．
６，１０２．８，８１．９，７７．５，７１．５，７
０．６，６８．６，５５．９および５０．５；ＭＳ（Ｃ
Ｉ，ＮＨ_３，ｍ／ｅ）３８６（Ｍ＋１）。

【００６７】例３

【００６８】１，５−ジデオキシ−１，５−〔｛（フェ
ニルメトキシ）カルボニル｝イミノ〕−４，６−Ｏ−
（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシトール、２−
（４−メチルベンゼンスルホネート）（４）の調製： メタノール（３００ｍｌ）中のジオール３（４６．３
ｇ、０．１２ｍｏｌ）およびジ−ｎ−ブチルチンオキシ
ド（３１．１ｇ，０．１２５ｍｏｌ）の混合物を、２時
間還流させた。メタノールを除去し、トルエンを添加
し、そして減圧下で除去した。残渣を、メチレンクロラ
イド（３００ｍｌ）およびトリエチルアミン（２０ｍ
ｌ、０．１４４ｍｍｏｌ）に溶解させた。０℃に冷却
後、Ｐ−トルエンスルホニルクロライド（２５．２ｇ、
０．１３２ｍｍｏｌ）を添加した。該反応物を、０℃に
て３０分間撹拌し、次いで２０℃に加温した。３時間撹
拌後、反応を飽和重炭酸ナトリウム水溶液の添加により
停止させた。有機層を分離し、水、０．５Ｍ ＫＨＳＯ
_４および水を順次用いて洗浄した。有機層を乾燥させ
（Ｎａ_２ＳＯ_４）、濾過し、濃縮した。残渣をクロマト
グラフィにかけ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル
７／３）、純粋な４（５０．２７ｇ、７７％）を、白色
固体、ｍｐ１１５−１７℃として得た。Ｃ_２８Ｈ_２９Ｎ
Ｏ_８Ｓとして理論値：Ｃ，６２．３２，Ｈ，５．４２，
Ｎ，２．６６、実験値、Ｃ，６２．６５，Ｈ，５．４
０，Ｎ，２．６２。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）７．８
２（ｄ，Ｊ＝７．８ＨＺ，２Ｈ），７．３５−７．５０
（ｍ，１０Ｈ），７．３１（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２
Ｈ），５．５１（ｓ，１Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ），
４．７６（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，４．５Ｈｚ，１Ｈ），
４．３８（ｄｄｄ，Ｊ＝９．３，７．６，４．８Ｈｚ，
１Ｈ），４．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，９．５Ｈｚ，
１Ｈ），４．３１（ｄｄ，Ｊ＝１３．６，４，８Ｈｚ，
１Ｈ），３．７８（ｄｔ，Ｊ＝２．６，９．４Ｈｚ，１
Ｈ），３．５９（ｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，１Ｈ），３．２
６（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．４，９．４，４．５Ｈｚ，１
Ｈ），３．０４（ｄｄ，Ｊ＝１３．６，９．３Ｈｚ，１
Ｈ），２，６３（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），２．４
１（ｓ，３Ｈ）；^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）１５
４．８，１４５．２，１３７．０，１３５．８，１３
３．２，１２９．８，１２９．３，１２８．７，１２
８．４，１２８．３，１２８，１，１２６．２，１０
１．８，７９．９，７８．１，７３，９，６９．２，６
７．８，５４．２，４７．１および２１．７；ＭＳ（ｍ
／ｅ）５４６（Ｍ＋Ｌｉ）。

【００６９】例４

【００７０】２，３−アンハイドロ−１，５−ジデオキ
シ−１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニル｝イ
ミノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−
マンニトール（５）の調製： 水素化ナトリウム（２．７９ｇ、鉱油中の６０％懸濁
物、６９．６６ｍｏｌ）をアルゴン下でフラスコに入
れ、乾燥ヘキサンにて３回洗浄した。残渣を乾燥ＴＨＦ
（３００ｍｌ）に懸濁し、これにＴＨＦ（１００ｍｌ）
中の４（３７．６ｇ、６９．６６ｍｍｏｌ）の溶液を徐
々に加えた。１８時間撹拌後、該反応を水の添加により
停止させた。有機層を、酢酸エチルにより抽出し、飽和
重炭酸ナトリウム水溶液および食塩水により洗浄した。
乾燥（硫酸ナトリウム）および濾過後、有機層を濃縮
し、シクロヘキサンを用いて再結晶化し、純粋な５（１
９．２ｇ、７５％）を、白色固体、ｍｐ１０４−５℃と
して得た。Ｃ_２１Ｈ_２１ＮＯ_５として理論値：Ｃ，６
８．６４，Ｈ，５．７７，Ｎ，３．８１、実験値、Ｃ，
６８．２１，Ｈ，５．８４，Ｎ，３．６７。^１Ｈ ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ_３）７．５３−７．６７（ｍ，１０Ｈ），
５．６７（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｓ，２Ｈ），４．７
６（ブロードｓ，１Ｈ），４．５９（ｄ，Ｊ＝１５Ｈ
ｚ，１Ｈ），４．０８（ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ），
４．０２（ｄｄ，Ｊ＝１１．４，４Ｈｚ，１Ｈ），３．
４６（ｄｄ，Ｊ＝１５，０．９Ｈｚ，１Ｈ），３．４０
（ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ，１Ｈ），３．２５（ｄ，Ｊ＝３Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．１０（ｄｔ，Ｊ＝４，１０Ｈｚ，１
Ｈ）；^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）１５６．２，１３
７．８，１３６．６，１２９．７，１２９．１，１２
８．９，１２８．８，１２８．５，１２６．６，１０
２．８，７３．０，７０．４，６８．０，５６．０，５
４．７，５０．４および４６．６；ＭＳ（ＣＩ，Ｎ
Ｈ_３，ｍ／ｅ）３６８（Ｍ＋Ｈ）。

【００７１】例５

【００７２】２−アジド−１，２，５−トリデオシキ−
１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニル｝イミ
ノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グ
ルシトール（７）および３−アジド−１，３−５−トリ
デオキシ−１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニ
ル｝イミノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）
−Ｄ−アルトリトール（６）の合成： ２−メトキシエタノール（８０ｍｌ）中のエポキシド５
（４ｇ、１０．９ｍｍｏｌ）の溶液に、アジ化ナトリウ
ム（３．５ｇ、５４．５ｍｍｏｌ）および塩化アンモニ
ウム（２．３３ｇ、４３．６ｍｍｏｌ）を添加した。該
反応混合物を３６時間還流した。溶媒の一部を減圧下で
除去した。該反応混合物を酢酸エチルにより希釈し、１
Ｎ ＨＣｌ、水および食塩水により洗浄した。有機層を
乾燥させ（ＭｇＳＯ_４）、濾過し、濃縮した。該粗製混
合物を、クロマトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢
酸エチル ８／２）にかけて、純粋な７（１．９５ｇ、
４４％）および６（１．８１ｇ、４１％）を得た。６．
（ＤＳＣ（ｍｐ）２５３℃；Ｃ_２１Ｈ_２２Ｎ_４０５とし
て理論値、Ｃ，６１．４６，Ｈ，５．４０，Ｎ，１３．
６５、実験値、Ｃ，６１．２３，Ｈ，５．４６，Ｎ，１
３．３９７。Ｃ_２１Ｈ_２２Ｎ_４０５として理論値、Ｃ，
６１．４６，Ｈ，５．４０，Ｎ，１３．６５、実験値、
Ｃ，６１．３１，Ｈ，５．５６，Ｎ，１３．２６。

【００７３】例６

【００７４】２−アジド−１，２，５−トリデオシキ−
１，５−イミノ−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレ
ン）−Ｄ−グルシトール（８）の合成： 化合物７（３．３ｇ、８．０５ｍｏｌ）を、あらかじめ
調製したエタノール／水（１／１、１２０ｍｌ）中の水
酸化ナトリウム（４ｇ）の溶液に添加した。該混合物を
７０℃にて２０時間加熱後、反応物を冷却し、溶媒の一
部を減圧下で除去した。該混合物を１Ｎ ＨＣｌにて中
和し、メチレンクロライド中に抽出した。有機層を水お
よび食塩水により洗浄した。乾燥（ＭｇＳＯ_４）後、濾
液を濃縮し、粗生成物（３．０１ｇ）をクロマトグラフ
ィ（シリカゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール ９８
／２）にかけ、純粋な８（２．０７ｇ、９３％）を得
た。Ｃ_１３Ｈ_１６Ｎ_４Ｏ_３として理論値、Ｃ，５６．５
１，Ｈ，５．８４，Ｎ，２０．２８、実験値、Ｃ，５
６．５６，Ｈ，５．９３，Ｎ，２０．１５。

【００７５】例７

【００７６】２−アジド−１，５−（ブチルイミノ）−
１，２，５−トリデオキシ−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニ
ルメチレン）−Ｄ−グルシトール（９）の合成： メタノール（１２０ｍｌ）中の８（３．１ｇ、１１．２
３ｍｍｏｌ）の溶液に、モレキュラシーブ（４Ａ゜、
３．５ｇ）を加えた。５分間撹拌後、ブチルアルデヒド
（１．８６ｍｌ、２０．８ｍｏｌ）、酢酸（１．３ｍ
ｌ）およびナトリウムシアノボロハイドライド（９５
％、１．０２ｇ、１５．４ｍｍｏｌ）を加えた。該反応
物を２２℃にて１８時間撹拌し、濾過し、残渣をより多
量の酢酸エチルで洗浄した。合せた有機画分を濃縮し
た。残渣を酢酸エチルに溶解させ、炭酸カリウム水溶
液、水および食塩水により洗浄した。乾燥（ＭｇＳ
Ｏ_４）および濃縮後、粗生成物（４．０８ｇ）をクロマ
トグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル ６／
４）にかけ、９（３．２８ｇ、８８％）を白色固体とし
て得た。ＤＳＣ（ｍｐ）１１５℃（分解）；Ｃ_１７Ｈ
_２４Ｎ_４Ｏ_３として理論値、Ｃ，６１．４３，Ｈ，７．
２８，Ｎ，１６．８５、実験値、Ｃ，６１．４０，Ｈ，
７．３４，Ｎ，１６．８４。

【００７７】例８

【００７８】２−アジド−１，５−｛（２−エチルブチ
ル）イミノ｝−１，２，５−トリデオシキ−４，６−Ｏ
−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシトール（１
０）の合成： メタノール（３５ｍｌ）中の８（１．０７ｇ、３．８７
ｍｍｏｌ）の溶液に、モレキュラシーブ（４Ａ゜、２．
１ｇ）を添加した。５分間撹拌し、２−エチルブチルア
ルデヒド（１．０４ｍｌ、７．７４ｍｏｌ）、酢酸
（０．３５ｍｌ）およびナトリウムシアノボロハイドラ
イド（９５％、３９０ｍｇ、５．８ｍｍｏｌ）を加え
た。該反応物を２２℃にて２０時間撹拌し、濾過し、残
渣をより多量の酢酸エチルにて洗浄した。合せた有機画
分を濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解させ、炭酸カリ
ウム水溶液、水および食塩水により洗浄した。乾燥（Ｍ
ｇＳＯ_４）および濃縮後、粗生成物（１．４７ｇ）をク
ロマトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル
８／２）にかけ、純粋な１０（６５０ｍｇ、４７％）を
得た。Ｃ_１９Ｈ_２８Ｎ_４Ｏ_３として理論値、Ｃ，６２．
６８，Ｈ，７．８６，Ｎ，１５．３９、実験値、Ｃ，６
２．７２，Ｈ，７．９４，Ｎ，１５．１６。

【００７９】例９

【００８０】２−アジド−１，５−｛（４，４，４−ト
リフルオロブチル）イミノ｝−１，２，５−トリデオキ
シ−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グル
シトール（１１）の合成： ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）中の８（５００ｍ
ｇ、１．８１ｍｍｏｌ）の溶液に、１−ブロモ−４，
４，４−トリフルオロブタン（３７５ｍｇ、１．９６ｍ
ｍｏｌ）および炭酸カリウム（１５０ｍｇ、１．０８ｍ
ｍｏｌ）を加えた。該反応物を６０℃の油浴に浸漬し、
６０時間撹拌した。更に１−ブロモ−４，４，４−トリ
フルオロブタン（３７５ｍｇ、１．９６ｍｍｏｌ）を加
え、該反応物を６０℃にて２４時間加熱した。溶媒を減
圧下で除去し、反応混合物を１Ｎ ＨＣｌを用いて中和
した。該混合物をメチレンクロライドにて抽出し、抽出
物を炭酸カリウムおよび食塩水で洗浄した。乾燥（Ｍｇ
ＳＯ_４）および濃縮後、該粗生成物（６１０ｍｇ）をク
ロマトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル６
／４）に付して純粋な１１（５１０ｍｇ、７３％）を濃
厚な液状物として得た。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）
７．４９（ｍ，２Ｈ），７．３９（ｍ，３Ｈ），５．４
９（ｓ，１Ｈ），４．３４（ｄｄ，Ｊ＝１１，４Ｈｚ，
１Ｈ），３．６３（ｄｄ，Ｊ＝１１，１０Ｈｚ，１
Ｈ），３．４５−３．６０（複合バンド，２Ｈ），３．
４８（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ），３．１０（ｄ，Ｊ＝２
Ｈｚ，１Ｈ），２．９７（ｄｄ，Ｊ＝１２，５Ｈｚ，１
Ｈ），２．５５（ｄｔ，Ｊ＝１３，５Ｈｚ，１Ｈ），
２．３６（ｄｔ，Ｊ＝１０，４Ｈｚ，１Ｈ），２．３０
（ｄｔ，Ｊ＝１３，７Ｈｚ，１Ｈ），１．９０−２．２
２（複合バンド，３Ｈ），１．６８（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ，１Ｈ）。

【００８１】例１０

【００８２】２−アジド−１，２，５−トリデオシキ−
１，５−イミノ−Ｄ−グルシトール（１２）の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１５ｍｌ）中の８（１
ｇ、３．６１ｍｍｏｌ）の溶液を、２２℃にて１８時間
撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、濃厚な黄色液状物と
しての残渣を、蒸留水にて中性となるまで前洗浄したイ
オン交換カラム〔Ａｍｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００
（ＯＨ）〕に通した。塩基性画分を、引続いて同様にＴ
ＬＣ（シリカゲル、酢酸エチル／メタノール／水酸化ア
ンモニウム ５０／５０／２．５）にかけて貯留し、そ
して濃縮した。該画分中の水を、トルエンを用いて共沸
的に除去し、メタノール／ヘキサンからの結晶化後、１
２（３９４ｍｇ、７４％）を白色固体として単離した。
ｍｐ１４２℃（分解）、Ｃ_６Ｈ_１２Ｎ_４Ｏ_３・２５Ｈ_２
Ｏとして理論値、Ｃ，３９．８６，Ｈ，６ ６４，Ｎ，
２７．７５、実験値、Ｃ，３９．９１，Ｈ，６．７９，
Ｎ，２７．５９。

【００８３】例１１

【００８４】２−アジド−１，５−（ブチルイミノ）−
１，２，５−トリデオキシ−Ｄ−グルシトール（１３）
の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１２ｍｌ）中の９（６
５０ｍｇ、１．９６ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて８時
間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留水にて
中性となるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａｍｂｅ
ｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通した。塩基
性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲル、酢酸エ
チル／ｉ−プロパノール／水／水酸化アンモニウム ７
０／２５／５／２）にかけて貯留し、そして濃縮した。
該画分中の水を、トルエンを用いて共沸的に除去して１
３（３３０ｍｇ）を得、これを再クロマトグラフィ（シ
リカゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水／水酸化
アンモニウム ７０／２５／５／２）にかけて純粋な１
３（２６０ｍｇ、６１％）を濃厚な液状物として得た。
Ｃ_１０Ｈ_２０Ｎ_４Ｏ_３・２Ｈ_２Ｏとして理論値、Ｃ，４
８．４５，Ｈ，８．２９，Ｎ，２２．６０、実験値、
Ｃ，４８．４９，Ｈ，８．３１，Ｎ，２２．４１。

【００８５】例１２

【００８６】２−アジド−１，５−｛（２−エチルブチ
ル）イミノ｝−１，２，５−トリデオキシ−Ｄ−グルシ
トール（１４）の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、７ｍｌ）中の１０（２
５０ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて１８
時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留水に
て中性となるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａｍｂ
ｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通した。塩
基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲル、酢酸
エチル／ｉ−プロパノール／水／水酸化アンモニウム
７０／２５／５／２）にかけて貯留し、そして濃縮し
た。該画分中の水をトルエンを用いて共沸的に除去して
１４（１５１ｍｇ）を得、これを再クロマトグラフィ
（シリカゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水／水
酸化アンモニウム ７０／２５／５／２）にかけて純粋
な１４（５２ｍｇ、２７％）を白色固体として得た。Ｄ
ＳＣ（ｍｐ）１２７℃（分解）、Ｃ_１２Ｈ_２４Ｎ_４Ｏ_３
として理論値、Ｃ，５２．９２，Ｈ，８．８８，Ｎ，２
０．５７、実験値、Ｃ，５２．６７，Ｈ，８．９１，
Ｎ，２０．４８。

【００８７】例１３

【００８８】２−アジド−１，５−｛（４，４，４−ト
リフルオロブチル）イミノ−１，２，５−トリデオキシ
−Ｄ−グルシトール（１５）の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、２５ｍｌ）中の１１
（５００ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて
２４時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留
水にて中性となるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａ
ｍｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ＝４００（ＯＨ）〕に通し
た。塩基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲ
ル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水／水酸化アンモ
ニウム ７０／２５／５／２）にかけて貯留し、そして
濃縮した。該画分中の水をトルエンを用いて共沸的に除
去して粗製の１５（３２０ｍｇ）を得、これを再クロマ
トグラフィ（シリカゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノー
ル／水／水酸化アンモニウム ７０／２５／５／２）に
かけて純粋な１５（２７２ｍｇ、７０％）を白色固体と
して得た。ＤＳＣ（ｍｐ）１０７℃（分解）、Ｃ_１０Ｈ
_１７Ｎ_４Ｏ_３Ｆ_３として理論値、Ｃ，４０．２７，Ｈ，
５．７５，Ｎ，１８．７８、実験値、Ｃ，４０．１２，
Ｈ，５．７１，Ｎ，１８．６０。

【００８９】例１４

【００９０】２−アミノ−１，５−（ブチルイミノ）−
１，２，５−トリデオキシ−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニ
ルメチレン）−Ｄ−グルシトール（１７）の合成： メタノール（７０ｍｌ）中の９（７００ｍｇ、２．１１
ｍｍｏｌ）の溶液にＰａｒｒ水素添加フラスコ中で、１
０％のＰｄ／Ｃ（７０ｍｇ）を添加した。該系を封じ、
窒素（５回）および水素（５回）を用いて掃流し、次い
で５ｐｓｉ水素に加圧した。振とう機上で３．５時間反
応させた後、系を換気し、窒素にて掃流し、濾過した。
濾液を濃縮し、粗生成物（６３０ｍｇ）をクロマトグラ
フィ（シリカゲル、メチレンクロライド／メタノール／
水酸化アンモニウム ９０／１０／１）にかけて純粋な
１７（６００ｍｇ、９３％）を得た。ＤＳＣ（ｍｐ）１
２５℃、Ｃ_１７Ｈ_２６Ｎ_４Ｏ_３として理論値、Ｃ，６
６．６４，Ｈ，８．５５，Ｎ，９．１４、実験値、Ｃ，
６６．１４，Ｈ，８．５６，Ｎ，９．０８。

【００９１】例１５

【００９２】２−アミノ−１，５−｛（２−エチルブチ
ル）イミノ｝−１，２，５−トリデオキシ−４，６−Ｏ
−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシトール（１
８）の合成： メタノール（５０ｍｌ）中の１０（３５０ｍｇ、０．９
７ｍｍｏｌ）の溶液にＰａｒｒ水素添加フラスコ中で、
１０％のＰｄ／Ｃ（３５ｍｇ）を添加した。該系を封
じ、窒素（５回）および水素（５回）を用いて掃流し、
次いで５ｐｓｉ水素に加圧した。振とう機上で３時間反
応させた後、系を換気し、窒素にて掃流し、濾過した。
濾液を濃縮し、粗生成物（３２０ｍｇ）をクロマトグラ
フィ（シリカゲル、メチレンクロライド／メタノール／
水酸化アンモニウム ９０／１０／１）にかけて純粋な
１８（２４０ｍｇ、７８％）を得た。Ｃ_１９Ｈ_３０Ｎ_２
Ｏ_３として理論値、Ｃ，６８．２３，Ｈ，９．０４，
Ｎ，８．３８、実験値、Ｃ，６８．８７，Ｈ，９．０
１，Ｎ，７．４８。

【００９３】例１６

【００９４】２−アミノ−１，５−｛（４，４，４−ト
リフルオロブチル）イミノ｝−１，２，５−トリデオキ
シ−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グル
シトール（１９）の合成： メタノール（２５ｍｌ）中の１１（１．４ｇ、３．６３
ｍｍｏｌ）の溶液にＰａｒｒ水素添加フラスコ中で、１
０％のＰｄ／Ｃ（１４０ｍｇ）を添加した。該系を封
じ、窒素（５回）および水素（５回）を用いて掃流し、
次いで５ｐｓｉ水素に加圧した。振とう機上で２１時間
反応させた後、系を換気し、窒素にて掃流し、濾過し
た。濾液を濃縮し、粗生成物（１．３ｇ）をクロマトグ
ラフィ（シリカゲル、メチレンクロライド／メタノール
／水酸化アンモニウム ９０／１０／１）にかけて純粋
な１９（１．１５ｇ、８８％）を得た。Ｃ_１７Ｈ_２３Ｎ
_２Ｏ_３Ｆ_３０．４Ｈ_２Ｏとして理論値、Ｃ，５５．５
５，Ｈ，６．５３，Ｎ，７．６２、実験値、Ｃ，５５．
５５，Ｈ，６．３６，Ｎ，７．５９。

【００９５】例１７

【００９６】２−アミノ−１，２，５−トリデオキシ−
１，５−イミノ−Ｄ−グルシトール（２０）の合成： メタノール（５０ｍｌ）中の１２（４６５ｍｇ、３．１
４ｍｍｏｌ）の溶液にＰａｒｒ水素添加フラスコ中で、
１０％のＰｄ／Ｃ（５０ｍｇ）を添加した。該系を封
じ、窒素（５回）および水素（５回）を用いて掃流し、
次いで５ｐｓｉ水素に加圧した。振とう機上で３．５時
間反応させた後、系を換気し、窒素により掃流し、濾過
した。濾液を濃縮して純粋な２０（３６５ｍｇ、９１
％）を得た。ＤＳＣ（ｍｐ）１８４℃、Ｃ_６Ｈ_１４Ｎ_２
Ｏ_３０．２５Ｈ_２Ｏとして理論値、Ｃ，４３．２３，
Ｈ，８．７７，Ｎ，１６．８１、実験値、Ｃ，４３．４
２，Ｈ，８．４３，Ｎ，１６．４７。

【００９７】例１８

【００９８】２−アミノ−１，５−（ブチルイミノ）−
１，２，５−トリデオキシ−Ｄ−グルシトール（２１）
の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１５ｍｌ）中の１７
（５８０ｍｇ、１．８９ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて
２４時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留
水にて中性となるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａ
ｍｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通し
た。塩基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲ
ル、酢酸エチル／メタノール／水／水酸化アンモニウム
５０／５０／２．５）にかけて貯留し、濃縮した。該
画分中の水を、トルエンを用いて共沸的に除去して粗製
の２１（４１０ｍｇ）を得、これを再クロマトグラフィ
（シリカゲル、酢酸エチル／メタノール／水酸化アンモ
ニウム ５０／５０／２．５）にかけて純粋な２１（３
０２ｍｇ、７３％）を得た。ＤＳＣ（ｍｐ）１０８℃、
Ｃ_１０Ｈ_２２Ｎ_２Ｏ_３・０．３Ｈ_２Ｏとして理論値、
Ｃ，５３．６９，Ｈ，１０．１８，Ｎ，１２．５２、実
験値、Ｃ，５３．６３，Ｈ，１０．０２，Ｎ，１２．３
４。

【００９９】例１９

【０１００】２−アミノ−１，５−｛（２−エチルブチ
ル）イミノ｝−１，２，５−トリデオキシ−Ｄ−グルシ
トール（２２）の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１０ｍｌ）中の１８
（１４０ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて
８時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留水
にて中性になるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａｍ
ｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通した。
塩基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲル、酢
酸エチル／ｉ−プロパノール／水酸化アンモニウム ５
０／５０／２．５）にかけて貯留し、濃縮した。該画分
中の水を、トルエンを用いて共沸的に除去して粗製の２
２（１２０ｍｇ）を得、これを再クロマトグラフィ（シ
リカゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水酸化アン
モニウム ５０／５０／２．５）にかけて純粋な２２
（７２ｍｇ、７０％）を得た。ＤＳＣ（ｍｐ）１３０
℃、Ｃ_１２Ｈ_２６Ｎ_２Ｏ_３０．７５Ｈ_２Ｏとして理論
値、Ｃ，５５．４６，Ｈ，１０．６７，Ｎ，１０．７
８、実験値、Ｃ，５５．３３，Ｈ，１０．０５，Ｎ，１
０．５４。

【０１０１】例２０

【０１０２】２−アミノ−１，５−｛（４，４，４−ト
リフルオロブチル）イミノ｝−１，２，５−トリデオキ
シ−Ｄ−グルシトール（２３）の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１０ｍｌ）中の１９
（４００ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて８
時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留水に
て中性になるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａｍｂ
ｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通した。塩
基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲル、酢酸
エチル／ｉ−プロパノール／水酸化アンモニウム ５０
／５０／２．５）にかけて貯留し、濃縮した。該画分中
の水を、トルエンを用いて共沸的に除去して粗製の２３
（２８０ｍｇ）を得、これを再クロマトグラフィ（シリ
カゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水酸化アンモ
ニウム ５０／５０／２．５）にかけて純粋な２３（２
６５ｍｇ、８７％）を得た。Ｃ_１０Ｈ_１９Ｎ_２Ｏ_３Ｆ_３
０．３Ｈ_２Ｏとして理諭値、Ｃ，４３．２６，Ｈ，７．
１１，Ｎ，１０．０９、実験値、Ｃ，４３．２３，Ｈ，
６．８６，Ｎ，９．５９。

【０１０３】例２１

【０１０４】１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−２−（ジメチルアミノ）−４，６−Ｏ−
（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシトール（２４）
および１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−トリデ
オキシ−２−（メチルアミノ）−４，６−Ｏ−（Ｒ−フ
ェニルメチレン）−Ｄ−グルシトール（２５）の合成：
メタノール（７５ｍｌ）中の１７（７９２ｍｇ、２．５
９ｍｍｏｌ）の溶液にＰａｒｒ水素添加フラスコ中で、
４％のＰｄ／Ｃ（１００ｍｇ）およびホルムアルデヒド
（０．２３ｍｌ）を添加した。該系を封じ、窒素（５
回）および水素（５回）を用いて掃流し、５ｐｓｉ水素
まで加圧した。振とう機上で２１時間反応させた後、系
を換気し、窒素により掃流し、濾過した。濾液を濃縮
し、粗生成物（５６０ｍｇ）をクロマトグラフィ（シリ
カゲル、メチレンクロライド／メタノール／水酸化アン
モニウム ９０／１０／１）にかけて２４（３１０ｍ
ｇ、３６％）および２５（３７２ｍｇ、４５％）を得
た。 ２４．^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）７．５２（ｍ，２
Ｈ），７．３４（ｍ，３Ｈ），５．５２（ｓ，１Ｈ），
４．３７（ｄｄ，Ｊ＝１１，５Ｈｚ，１Ｈ），３．８３
（ｂｒｓ，１Ｈ），３．６５（ｄｄ，Ｊ＝１１，１０Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．６０（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ），３．
５４（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ），２．９３（ｄｄ，Ｊ＝
１１，４Ｈｚ，１Ｈ），２．６３（ｄｄｄ，Ｊ＝１１，
９，４Ｈｚ，１Ｈ），２．５３（ｄｔ，Ｊ＝１３，８Ｈ
ｚ，１Ｈ），２．３５（ｓ，６Ｈ），２．２２−２．３
７（複合バンド，２Ｈ），２．１４（ｔ，Ｊ＝１１Ｈ
ｚ，１Ｈ），１．４２（ｍ，２Ｈ），１．２７（ｍ，２
Ｈ），０．９２（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，３Ｈ）。２５．^１Ｈ
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）７．４９（ｍ，２Ｈ），７．３
４（ｍ，３Ｈ），５．４９（ｓ，１Ｈ），４．３６（ｄ
ｄ，Ｊ＝１１，４Ｈｚ，１Ｈ），３．６５（ｄｄ，Ｊ＝
１１，１０Ｈｚ，１Ｈ），３．４８（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，
１Ｈ），３．３６（ｄｄ，Ｊ＝１０，９Ｈｚ，１Ｈ），
３．２５（ブロードｓ，１Ｈ），３．０５（ｄｄ，Ｊ＝
１１，５Ｈｚ，１Ｈ），２．５７（ｔｄ，Ｊ＝１０，５
Ｈｚ，１Ｈ），２．５１（ｄｔ，Ｊ＝１３，８Ｈｚ，１
Ｈ），２．３９（ｄｄｄ，Ｊ＝１０，９，４Ｈｚ，１
Ｈ），２．３７（ｓ，３Ｈ），２，３０（ｄｄｄ，Ｊ＝
１３，８，６Ｈｚ，１Ｈ），２．００（ｔ，Ｊ＝１１Ｈ
ｚ，１Ｈ），１．４２（ｍ，２Ｈ），１．２６（ｍ，２
Ｈ），０．９２（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，３Ｈ）。

【０１０５】例２２

【０１０６】１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−２−｛（１−オキソブチル）アミノ｝−
４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシト
ール、３−ブタノエート（２６）： ピリジン（８ｍｌ）中の１７（６５０ｍｇ、２．１２ｍ
ｍｏｌ）の溶液に無水酪酸（２ｍｌ）を添加し、該反応
混合物を室温にて撹拌した。１８時間撹拌後、該反応混
合物を氷に注ぎ、メチレンクロライドにより抽出した。
有機層を水および食塩水により洗浄した。ＭｇＳＯ_４に
より乾燥させた後、抽出液を濾過し、溶媒を減圧下で除
去した。粗生成物２６（１．０１ｇ）を、更に精製する
ことなく次工程で使用した。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ_３）７．５５（ｍ，２Ｈ），７．３６（ｍ，３Ｈ），
５．８６（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），５．５３
（ｓ，１Ｈ），４，９２（ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ），
４．４３（ｄｄ，Ｊ＝１１，５Ｈｚ，１Ｈ），４．１６
（ｔｄｄ，Ｊ＝１０，７．５，５Ｈｚ，１Ｈ），３．７
４（ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１Ｈ），３．７３（ｄｄ，Ｊ＝
１１，１０Ｈｚ，１Ｈ），３．２５（ｄｄ，Ｊ＝１２，
５Ｈｚ，１Ｈ），２．５５（ｄｔ，Ｊ＝１３，８Ｈｚ，
１Ｈ），２．４６（ｔｄ，Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１Ｈ），
２．３５（ｄｔ，Ｊ＝１５，７．５Ｈｚ，１Ｈ），２．
２９（ｄｔ，Ｊ＝１５，７．５Ｈｚ，１Ｈ），２．２７
（ｄｔ，Ｊ＝１３，７Ｈｚ，１Ｈ），２．１０（ｔ，Ｊ
＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），２．０６（ｄｄ，Ｊ＝１２，１
０Ｈｚ，１Ｈ），１．６２（ｍ，４Ｈ），１．４１
（ｍ，２Ｈ），１．２７（ｍ，２Ｈ），０．９３（ｔ，
Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），０．９０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ，１Ｈ）。

【０１０７】例２３

【０１０８】１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−２−｛（１−オキソブチル）アミノ｝−
４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシト
ール（２７）： メタノール（５０ｍｌ）中の２６（９００ｍｇ、２．０
１ｍｍｏｌ）の溶液に飽和炭酸カリウム水溶液（３０ｍ
ｌ）を添加し、室温にて４時間撹拌させた。濃ＨＣｌに
よりｐＨ７に中和した後、減圧下でメタノールを除去
し、そして該反応混合物を酢酸エチルにて抽出した。有
機層を水および食塩水により洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳ
Ｏ_４）、濾過した。抽出物の濃縮により２７（７２０ｍ
ｇ、９０％）を得た。ｍｐ１７２℃（分解）、Ｃ_２１Ｈ
_３２Ｎ_２Ｏ_４として理論値、Ｃ，６６．９９，Ｈ，８．
５７，Ｎ，７．４４、実験値、Ｃ，６６．８２，Ｈ，
８．６８，Ｎ，７．３６。

【０１０９】例２４

【０１１０】１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−２−（ジメチルアミノ）−Ｄ−グルシト
ール（２８）の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１０ｍｌ）中の２４
（５８０ｍｇ、１．７４ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて
２４時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留
水により中性となるまで前洗浄したイオン交換カラム
〔Ａｍｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通
した。塩基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲ
ル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水酸化アンモニウ
ム ５０／５０／２．５）にかけて貯留し、濃縮した。
該画分中の水を、トルエンを用いて共沸的に除去して粗
製の２８（３００ｍｇ）を得、これを再クロマトグラフ
ィ（シリカゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水酸
化アンモニウム ５０／５０／２．５）にかけて純粋な
２８（２６０ｍｇ、６１％）を得た。ＤＳＣ（ｍｐ）１
１１℃、Ｃ_１２Ｈ_２６Ｎ_２Ｏ_３０．２Ｈ_２Ｏとして理論
値、Ｃ，５７．６６，Ｈ，１０．６５，Ｎ，１１．２
１、実験値、Ｃ，５７．８８，Ｈ，１０．６３，Ｎ，１
１．２３。

【０１１１】例２５

【０１１２】１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−２−（メチルアミノ）−Ｄ−グルシトー
ル（２９）の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１０ｍｌ）中の２５
（６１０ｍｇ、１．９１ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて
２４時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留
水により中性になるまで前洗浄したイオン交換カラム
〔Ａｍｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通
した。塩基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲ
ル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水酸化アンモニウ
ム ５０／５０／２．５）にかけて貯留し、濃縮した。
該画分中の水を、トルエンを用いて共沸的に除去して粗
製の２９（４８０ｍｇ）を得、これを再クロマトグラフ
ィ（シリカゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水酸
化アンモニウム ５０／５０／２．５）にかけて純粋な
２９（３１０ｍｇ、７０％）を得た。Ｃ_１１Ｈ_２４Ｎ_２
Ｏ_３０．４Ｈ_２Ｏとして理論値、Ｃ，５５．１６，Ｈ，
１０．４４，Ｎ，１１．７０、実験値、Ｃ，５５．２
４，Ｈ，１０，５７，Ｎ，１１．７４。

【００１３】例２６

【００１４】１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−２−｛（１−オキソブチル）アミノ｝−
Ｄ−グルシトール（３０）： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１０ｍｌ）中の２７
（２５０ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて
２４時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留
水にて中性になるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａ
ｍｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通し
た。塩基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲ
ル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／水／水酸化アンモ
ニウム ７０／２５／５／２）にかけて貯留し、濃縮し
た。該画分中の水を、トルエンを用いて共沸的に除去し
て粗製の３０（１８０ｍｇ）を得、これを再クロマトグ
ラフィ（シリカゲル、酢酸エチル／ｉ−プロパノール／
水／水酸化アンモニウム ７０／２５／５／２）にかけ
て純粋な３０（１６５ｍｇ、８６％）を得た。ＤＳＣ
（ｍｐ）２０３℃、Ｃ_１４Ｈ_２８Ｎ_２Ｏ_４０．５Ｈ_２Ｏ
として理論値、Ｃ，５６．５４，Ｈ，９．８３，Ｎ，
９．４２、実験値、Ｃ，５６．３２，Ｈ，９．５０，
Ｎ，９．２６。

【０１１５】例２７

【０１１６】１，５−（ブチルイミノ）−１，２，５−
トリデオキシ−２−｛（１−オキソブチル）アミノ｝−
Ｄ−グルシトール トリブタノエート（３１）： ピリジン（８ｍｌ）中の３０（１００ｍｇ、０．３４ｍ
ｍｏｌ）の溶液に無水酪酸（２ｍｌ）を添加し、該反応
混合物を室温で撹拌した。４０時間撹拌後、該反応混合
物を氷に注ぎ、メチレンクロライドにより抽出した。有
機層を水および食塩水により洗浄した。ＭｇＳＯ_４によ
り乾燥後、抽出物を濾過し、溶媒を減圧下で除去した。
粗生成物（２８０ｍｇ）をクロマトグラフィ（シリカゲ
ル、ヘキサン／酢酸エチル ６／４）にかけ、純粋な３
１（９８ｍｇ、５７％）を得た。ＤＳＣ（ｍｐ）８４℃
（分解）、Ｃ_２６Ｈ_４６Ｎ_２Ｏ_７として理論値、Ｃ，６
２．６３，Ｈ，９．３０，Ｎ，５．６２、実験値、Ｃ，
６２．１７，Ｈ，９．３０，Ｎ，５．３２。

【０１１７】例２８

【０１１８】フェニルメチル ８β−アジドヘキサヒド
ロ−７−オキソ−２Ｒ−２α−フェニル−５Ｈ−４ａ
α、８ａβ−１，３−ジオキシノ〔５，４−ｂ〕ピリジ
ン−５−カルボキシレート（３２）の合成： メチレンクロライド（５０ｍｌ）中のジメチルスルホキ
シド（５．６ｍｌ、７８ｍｍｏｌ）の冷溶液に、−７０
℃においてメチレンクロライド（５０ｍｌ）中の無水ト
リフルオロ酢酸（８．３２ｍｌ、５９ｍｍｏｌ）を２０
分間かけて添加した。１５分間撹拌後、メチレンクロラ
イド（１５０ｍｌ）中の６（１６ｇ、３９ｍｍｏｌ）の
溶液を、−７０℃にて３０分間かけて添加した。反応混
合物の温度を、４時間かけて−３０℃まで上昇させ、次
いで該反応物を、−３０℃にて１時間撹拌した。−７０
℃まで冷却後、トリエチルアミン（１５ｍｌ、１０７ｍ
ｍｏｌ）を加え、該反応物を１時間で２２℃まで加温
し、２２℃にて８時間撹拌した。反応物をメチレンクロ
ライドにより希釈し、水および食塩水で洗浄した。乾燥
（ＭｇＳＯ_４）、濾過および濃縮後、粗生成物（１７．
８ｇ）をクロマトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢
酸エチル １／１）にかけて純粋な３２（１３．９ｇ、
８６％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）７．３０
−７．４９（複合バンド，１０Ｈ），５．７１（ｓ，１
Ｈ），５．１３（ｓ，２Ｈ），４．８５（ｄ，Ｊ＝１１
Ｈｚ，１Ｈ），４．６１（ｄｄ，Ｊ＝１１，４Ｈｚ，１
Ｈ），４．３３（ｄｄ，Ｊ＝１１，１０Ｈｚ，１Ｈ），
４．３０（ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，１Ｈ），４．２０（ｄ，
Ｊ＝１８Ｈｚ，１Ｈ），４．１１（ｄｄ，Ｊ＝１１，１
０，１Ｈ），３．８５（ｄｔ，Ｊ＝１０，４Ｈｚ，１
Ｈ）。

【０１１９】例２９

【０１２０】３−アジド−１，３，５−トリデオキシ−
１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニル｝イミ
ノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グ
ルシトール（３３）および３−アジド−１，３，５−ト
リデオキシ−１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボ
ニル｝イミノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレ
ン）−Ｄ−マンニトール（３４）： ＴＨＦ（１００ｍｌ）中の３２（２．５ｇ、６．１２ｍ
ｍｏｌ）の冷溶液に、−７８℃にてジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド（９．２５ｍｌ、トルエン中の１Ｍ
溶液、９．２５ｍｍｏｌ）を１０分間で加えた。−７８
℃にて４時間撹拌後、メタノール（２．５ｍｌ）を加え
た。該反応物を１０分間撹拌し、冷却浴を除いて反応物
を２２℃まで昇温させ、３０分間撹拌した。０．５Ｎ
ＨＣｌ（１０ｍｌ）でクエンチングした後、反応物を酢
酸エチルで希釈し、水および食塩水で洗浄した。有機抽
出物を乾燥（ＭｇＳＯ_４）させ、濾過し、濃縮して粗製
混合物（２．２３ｇ）を濃厚な橙色液体として得た。ク
ロマトグラフィ精製（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチ
ル １／１）は、３３（１．５７ｇ、６３％）および３
４（２３１ｍｇ、９％）を与えた。３３：Ｃ_２１Ｈ_２２
Ｎ_４Ｏ_５として理論値、Ｃ，６１．４６，Ｈ，５．４
０，Ｎ，１３．６５、実験値、Ｃ，６１．６２，Ｈ，
５．５３，Ｎ，１２．４８。３４：Ｃ_２１Ｈ_２２Ｎ_４Ｏ
_５として理論値、Ｃ，６１．４６，Ｈ，５．４０，Ｎ，
１３．６５、実験値、Ｃ，６１，３７，Ｈ，５．４３，
Ｎ，１３．３９。

【０１２１】例３０

【０１２２】３−アジド−１，３，５−トリデオキシ−
１，５−イミノ−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレ
ン）−Ｄ−グルシトール（３５）： 化合物３３（１．８ｇ、４．３９ｍｍｏｌ）をあらかじ
め調製した水酸化ナトリウム（２ｇ）のエタノール／水
（１／１、６０ｍｌ）中の溶液に加えた。該混合物を７
５−８０℃にて２０時間加熱後、反応物を冷却し、溶媒
の一部を減圧下で除去した。該反応物を１Ｎ ＨＣｌに
て中和し、メチレンクロライドで抽出した。有機層を水
および食塩水で洗浄した。乾燥（ＭｇＳＯ_４）および濾
液の濃縮後、粗生成物（３．０１ｇ）をクロマトグラフ
ィ（シリカゲル、メチレンクロライド／メタノール／水
酸化アンモニウム ９０／１０／１）にかけて純粋な３
５（１．１ｇ、９１％）を得た。ＤＳＣ（ｍｐ）１９２
℃、Ｃ_１３Ｈ_１６Ｎ_４Ｏ_３として理論値、Ｃ，５６．５
１，Ｈ，５．８４，Ｎ，２０．２８、実験値、Ｃ，５
６．２６，Ｈ，５．９０，Ｎ，２０．０８。

【０１２３】例３１

【０１２４】３−アミノ−１，３，５−トリデオキシ−
１，５−イミノ−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレ
ン）−Ｄ−グルシトール（３６）： メタノール（５０ｍｌ）中の３５（７００ｍｇ、２．５
４ｍｍｏｌ）の溶液にＰａｒｒ水素添加フラスコ中で、
４％のＰｄ／Ｃ（１５０ｍｇ）を添加した。該系を封
じ、窒素（５回）および水素（５回）を用いて掃流し、
次いで５ｐｓｉ水素まで加圧した。振とう機上で１０時
間反応させた後、系を換気し、窒素により掃流し、濾過
した。濾液を濃縮し、粗生成物（７００ｍｇ）をクロマ
トグラフィ（シリカゲル、メチレンクロライド／メタノ
ール／水酸化アンモニウム ９０／１０／１）にかけて
純粋な３６（５９０ｍｇ、９３％）を得た。Ｃ_１３Ｈ
_１８Ｎ_２Ｏ_３０．２５Ｈ_２Ｏとして理論値、Ｃ，６１．
２８，Ｈ，７．３２，Ｎ，１０．９９、実験値、Ｃ，６
１．２７，Ｈ，７．２９，Ｎ，１０．７２。

【０１２５】例３２

【０１２６】３−アミノ−１，３，５−トリデオキシ−
１，５−イミノ−Ｄ−グルシトール（３７）： トリフルオロ酢酸／水（４／１、８ｍｌ）中の３６（４
８０ｍｇ、１．９２ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて２４
時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、該残渣を蒸留水
にて中性になるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａｍ
ｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通した。
塩基性画分を、引続き同様にしてＴＬＣ（シリカゲル、
酢酸エチル／メタノール／水酸化アンモニウム ２５／
７５／３）にかけて貯留し、濃縮した。該画分中の水
を、トルエンを用いて共沸的に除去して粗製の３７を
得、これを再クロマトグラフィ（シリカゲル、酢酸エチ
ル／メタノール／水酸化アンモニウム ２５／７５／
３）にかけて純粋な３７（１３５ｍｇ、３２％）を得
た。ＤＳＣ（ｍｐ）１９１℃、Ｃ_６Ｈ_１４Ｎ_２Ｏ_３０．
２５Ｈ_２Ｏとして理論値、Ｃ，４３．２３，Ｈ，８．７
７，Ｎ，１６．８１、実験値、Ｃ，４３．６６，Ｈ，
８．６１，Ｎ，１６．１９。

【０１２７】例３３

【０１２８】２−アジド−１，２，５−トリデオキシ−
１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニル｝イミ
ノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グ
ルシトール メタンスルフォネート（３８）の合成： ピリジン（４０ｍｌ）中の７（３．８ｇ、９．２７ｍｍ
ｏｌ）の溶液に、メタンスルフォニル クロライド（８
６０μｌ、１１．１１ｍｍｏｌ）を１０分間で注入し
た。２２℃にて２０時間撹拌後、反応内容物を氷上に注
ぎ、酢酸エチル（２×７００）により抽出した。合せた
有機抽出物を飽和炭酸カリウム溶液、水および食塩水に
より洗浄した。乾燥（ＭｇＳＯ_４）、濾過および濃縮
後、粗生成物（６．４５ｇ）をクロマトグラフィ（シリ
カゲル、ヘキサン／酢酸エチル ６／４）にかけて純粋
な３８（４．３ｇ、９５％）を白色固体として得た。Ｄ
ＳＣ（ｍｐ）２２２℃、Ｃ_２２Ｈ_２４Ｎ_４Ｏ_７Ｓ １Ｈ
_２Ｏとして理論値、Ｃ，５２．１７，Ｈ，５．１７，
Ｎ，１１．０６、実験値、Ｃ，５２．２９，Ｈ，４．８
１，Ｎ，１０．８７。

【０１２９】例３４

【０１３０】２−アジド−１，２，５−トリデオキシ−
１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニル｝イミ
ノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−ア
リトールアセテート（３９）の合成： トルエン（５０ｍｌ）中の３８（２．３ｇ、４．７ｍｍ
ｏｌ）、酢酸セシウム（９ｇ、４７ｍｍｏｌ）、１８−
クラウン−６（１．１６ｇ、４．７ｍｍｏｌ）の混合物
を７２時間還流させた。該反応物を冷却し、濾過し、残
渣をより多量のトルエンで洗浄した。合せた有機画分を
濃縮し、粗生成物（３．３６ｇ）をクロマトグラフィ
（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル７／３）にかけて
純粋な３９（１．１ｇ、５２％）を白色固体として、出
発原料３８（０．３１ｇ、１４％）に加えて得た。３
９．^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）７．３１−７．４５
（複合バンド，１０Ｈ），５．７４（ｔｄ，Ｊ＝３，１
Ｈｚ，１Ｈ），５．５６（ｓ，１Ｈ），５．１５（ｄ，
Ｊ＝１２Ｈｚ，１Ｈ），５．１１（ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，
１Ｈ），４．８４（ｄｄ，Ｊ＝１２，５Ｈｚ，１Ｈ），
４．４８（ｄｄ，Ｊ＝１２，１０Ｈｚ，１Ｈ），４．３
２（ｄｄｄ，Ｊ＝１３，５，１Ｈｚ，１Ｈ），３．７９
（ｄｄ，Ｊ＝１０，３Ｈｚ，１Ｈ），３．６１（ｔｄ，
Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１Ｈ），３．５２（ｄｄｄ，Ｊ＝１
１，５，３Ｈｚ，１Ｈ），３．１６（ｄｄ，Ｊ＝１３，
１１Ｈｚ，１Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ）。

【０１３１】例３５

【０１３２】２−アジド−１，２，５−トリデオキシ−
１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニル｝イミ
ノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−ア
リトール（４０Ａ）および２−アジド−１，２，５−ト
リデオキシ−１，５−｛（メトキシカルボニル）イミ
ノ｝−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−ア
リトール（４０Ｂ）の合成： メタノール（５０ｍｌ）中の３９（９７０ｇ、２．１５
ｍｍｏｌ）およびナトリウムメトキシド（４００ｍｇ、
７．４ｍｍｏｌ）の混合物を１８時間還流させた。反応
物を冷却し、１Ｎ ＨＣｌを用いて中和し、溶媒を減圧
下で除去した。残渣を酢酸エチルに懸濁し、飽和炭酸カ
リウム水溶液、水および食塩水により洗浄した。合せた
有機抽出物を濃縮し、該粗生成物（１．０２ｇ）をクロ
マトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル ７
／３）にかけて４０Ａ（５５０ｍｇ、５７％）および４
０Ｂ（２７０ｍｇ、３５％）を得た。 ４０Ａ．^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）７．４５（ｍ，２
Ｈ），７．３４（ｍ，８Ｈ），５．５５（ｓ，１Ｈ），
５．１０（ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，１Ｈ），５．０７（ｄ，
Ｊ＝１２Ｈｚ，１Ｈ），４．７９（ｄｄ，Ｊ＝１２，５
Ｈｚ，１Ｈ），４．４５（ｄｄ，Ｊ＝１２，１０Ｈｚ，
１Ｈ），４．２２（ブロードｓ，１Ｈ），４．１７
（ｍ，１Ｈ），３．６２（ｔｄ，Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１
Ｈ），３．５４（ｄｔ，Ｊ＝１０，２Ｈｚ，１Ｈ），
３．２４（ｍ，１Ｈ），３．２１（ｍ，１Ｈ），２．８
７（ｓ，１Ｈ）。４０Ｂ．^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）
７．４７（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｍ，３Ｈ），５．５
９（ｓ，１Ｈ），４．８１（ｄｄ，Ｊ＝１２，４Ｈｚ，
１Ｈ），４．４８（ｄｄ，Ｊ＝１２，９Ｈｚ，１Ｈ），
４．２７（ブロードｓ，１Ｈ），４．１２（ｄｄ，Ｊ＝
１２，２Ｈｚ，１Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），３．６
５（ｍ，１Ｈ），３．６０（ｍ，１Ｈ），３，３０
（ｍ，１Ｈ），３．２３（ｍ，１Ｈ），２．８２（ブロ
ードｓ，１Ｈ）。

【０１３３】例３６

【０１３４】２−アジド−１，２，５−トリデオキシ−
１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニル｝イミ
ノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−ア
リトールメタンスルフォネート（４１Ａ）の合成： ピリジン（１０ｍｌ）中の４０Ａ（５５０ｍｇ、１．３
４ｍｍｏｌ）の溶液に、メタンスルフォニルクロライド
（１４０μｌ、１．７４ｍｍｏｌ）を１０分間で注入し
た。２２℃にて６０時間撹拌後、反応内容物を氷上に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。合せた有機抽出物を、飽和
炭酸カリウム水溶液、水および食塩水により洗浄した。
乾燥（ＭｇＳＯ_４）、濾過および濃縮後、得られた生成
物４１Ａ（６０３ｍｇ、９２％）を更に精製することな
く次工程で使用した。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）７．
４４（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｍ，８Ｈ），５．５８
（ｓ，１Ｈ），５．１５（ブロードｔ，Ｊ＝２．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．１１（ｓ，２Ｈ），４．８７（ｄｄ，
Ｊ＝１２，５Ｈｚ，１Ｈ），４．４５（ｄｄ，Ｊ＝１
２，１０Ｈｚ，１Ｈ），４．３１（ｄｄ，Ｊ＝１３，５
Ｈｚ，１Ｈ），３．８０（ｄｄ，Ｊ＝１０，２Ｈｚ，１
Ｈ），３．６０（ｄｄｄ，Ｊ＝１２，５，３Ｈｚ，１
Ｈ），３．５６（ｔｄ，Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１Ｈ），
３．１０（ｄｄ，Ｊ＝１３，１２Ｈｚ，１Ｈ），２．９
２（ｓ，３Ｈ）。

【０１３５】例３７

【０１３６】２−アジド−１，２，５−トリデオキシ−
１，５−｛（メトキシカルボニル）イミノ｝−４，６−
Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−アリトール メタ
ンスルホネート（４１Ｂ）の合成： ピリジン（５ｍｌ）中の４０Ｂ（２１７ｍｇ、０．６５
ｍｍｏｌ）の溶液に、メタンスルフォニルクロライド
（６５μｌ、０．８４ｍｍｏｌ）を１０分間で注入し
た。２２℃にて３０時間撹拌後、反応内容物を氷上に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。合せた有機抽出物を、飽和
炭酸カリウム水溶液で、水および食塩水により洗浄し
た。乾燥（ＭｇＳＯ_４）、濾過および濃縮後、得られた
生成物４１Ｂ（３２０ｍｇ、９２％）を更に精製するこ
となく次工程で使用した。^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）
７．４６（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｍ，３Ｈ），５．６
１（ｓ，１Ｈ），５．１８（ブロードｔ，Ｊ＝２．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），４．８８（ｄｄ，Ｊ＝１２，５Ｈｚ，１
Ｈ），４．４８（ｄｄ，Ｊ＝１２，１０Ｈｚ，１Ｈ），
４．２８（ｄｄ，Ｊ＝１３，５Ｈｚ，１Ｈ），３．８３
（ｄｄ，Ｊ＝１０，２Ｈｚ，１Ｈ），３．７０（ｓ，３
Ｈ），３．６６（ｄｄｄ，Ｊ＝１２，５，３Ｈｚ，１
Ｈ），３．５８（ｔｄ，Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１Ｈ），
３．１２（ｄｄ，Ｊ＝１３，１２Ｈｚ，１Ｈ），２．９
５（ｓ，３Ｈ）。

【０１３７】例３８

【０１３８】２，３−ジアジド−１，２，３，５−テト
ラデオキシ−１，５−｛（メトキシカルボニル）イミ
ノ｝−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グ
ルシトール（４２Ｂ）の合成： ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）中の４１Ｂ（３２０
ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ）の溶液に、アジ化ナトリウム
（２５２ｍｇ、３．８８ｍｍｏｌ）を添加した。該反応
混合物を１００−１０℃にて３０分間加熱した。溶媒の
一部を減圧下で除去した。該反応混合物を酢酸エチルで
希釈し、炭酸カリウム水溶液、水および食塩水にて洗浄
した。有機層を乾燥させ（ＭｇＳＯ_４）、濾過し、そし
て濃縮した。粗製の４２Ｂ（１９０ｍｇ、６９％）を更
に精製することなく次工程で使用した。^１Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ_３）７．５０（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｍ，
３Ｈ），５．６２（ｓ，１Ｈ），４．７９（ｄｄ，Ｊ＝
１２，５Ｈｚ，１Ｈ），４．４５（ｄｄ，Ｊ＝１２，１
０Ｈｚ，１Ｈ），４．２８（ｄｄ，Ｊ＝１４，５Ｈｚ，
１Ｈ），３．６８（ｓ，３Ｈ），３．６７（ｔ，Ｊ＝１
０Ｈｚ，１Ｈ），３．５０（ｔ，Ｊ＝１０Ｈｚ，１
Ｈ），３．３０（ｄｄｄ，Ｊ＝１１，１０，５Ｈｚ，１
Ｈ），３．２０（ｔｄ，Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１Ｈ），
２．６４（ｄｄ，Ｊ＝１４，１１Ｈｚ，１Ｈ）。

【０１３９】例３９

【０１４０】２，３−ジアジド−１，２，３，５−テト
ラデオキシ−１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボ
ニル｝イミノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレ
ン）−Ｄ−グルシトール（４２Ａ）の合成： ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）中の４１Ａ（６００
ｍｇ、１．２３ｍｍｏｌ）の溶液に、アジ化ナトリウム
（４００ｍｇ，６．１５ｍｍｏｌ）を添加した。該反応
混合物を１００−１０℃にて７２時間加熱した。溶媒の
一部を減圧下で除去した。該反応混合物を酢酸エチルで
希釈し、炭酸カリウム、水および食塩水で洗浄した。有
機層を、乾燥させ（ＭｇＳＯ_４）、濾過し、そして濃縮
した。４２Ａおよび４３を含んでなる粗製の混合物（７
６０ｍｇ）を精製することなく４３に加水分解した。

【０１４１】例４０

【０１４２】２，３−ジアジド−１，２，３，５−テト
ラデオキシ−１，５−イミノ−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェ
ニルメチレン）−Ｄ−グルシトール（４３）の合成： 上記工程で得た４２Ａ、４２Ｂおよび４３の混合物を、
あらかじめ調製したエタノール／水（１／１、６０ｍ
ｌ）中の水酸化ナトリウム溶液（２ｇ）に加えた。混合
物を２０時間還流した後反応物を冷却し、溶媒の一部を
減圧下で除去した。混合物を１Ｎ ＨＣｌにより中和
し、酢酸エチル中に抽出した。有機層を水および食塩水
で洗浄した。乾燥（ＭｇＳＯ_４）および濾液の濃縮後、
粗生成物（２８０ｍｇ）をクロマトグラフィ（シリカゲ
ル、メチレンクロライド／エタノール９８／２）にかけ
て純粋な４３（３６０ｍｇ、２工程で６８％）を得た。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）７．５６（ｍ，２Ｈ），７．
４３（ｍ，３Ｈ），５．６１（ｓ，１Ｈ），４．２３
（ｄｄ，Ｊ＝１１，５Ｈｚ，１Ｈ），３．５８（ｄｄ，
Ｊ＝１１，１０Ｈｚ，１Ｈ），３．５３（ｄｄ，Ｊ＝１
０，９Ｈｚ，１Ｈ），３．４２（ｄｄ，Ｊ＝１０，９Ｈ
ｚ，１Ｈ），３．２９（ｔｄ，Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１
Ｈ），３．２１（ｄｄ，Ｊ＝１２，５Ｈｚ，１Ｈ），
２．７１（ｔｄ，Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１Ｈ），２．５４
（ｄｄ，Ｊ＝１２，１０Ｈｚ，１Ｈ），１．１５（ブロ
ードｓ，１Ｈ）。

【０１４３】例４１

【０１４４】２，３−ジアジド−１，５−（ブチルイミ
ノ）−１，２，３，５−テトラデオキシ−４，６−Ｏ−
（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシトール（４
４）： メタノール（１０ｍｌ）中の４３（３６０ｍｇ、１．１
９ｍｍｏｌ）の溶液にモレキュラシーブ（４Å、０．７
ｇ）を添加した。５分間撹拌後、ブチルアルデヒド
（０．２２ｍｌ、２．４ｍｏｌ）、酢酸（０．２ｍｌ）
およびナトリウムシアノボロハイドライド（９５％、１
１１ｍｇ、１．７８ｍｍｏｌ）を加えた。該反応物を２
２℃にて１８時間撹拌し、濾過し、残渣をより多量のメ
タノールで洗浄した。合せた有機画分を濃縮した。残渣
を酢酸エチルに再度溶解させ、炭酸カリウム水溶液、水
および食塩水で洗浄した。乾燥（ＭｇＳＯ_４）および濃
縮後、粗生成物（０．４７ｇ）をクロマトグラフィ（シ
リカゲル、ヘキサン／酢酸エチル ８／２）にかけて純
粋な４４（４１０ｍｇ、９４％）を得た。^１Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ_３）７．５０（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｍ，
３Ｈ），５．５８（ｓ，１Ｈ），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝
１１，５Ｈｚ，１Ｈ），３．６８（ｄｄ，Ｊ＝１１，１
０Ｈｚ，１Ｈ），３．５９（ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ，１Ｈ），
３．４５（ｄｄ，Ｊ＝１０，９Ｈｚ，１Ｈ），３．３８
（ｔｄ，Ｊ＝１０，５Ｈｚ，１Ｈ），３．０７（ｄｄ，
Ｊ＝１２，５Ｈｚ，１Ｈ），２．５３（ｄｔ，Ｊ＝１
３，８Ｈｚ，１Ｈ），２．４１（ｄｄｄ，Ｊ＝１０，
９，５Ｈｚ，１Ｈ），２．３０（ｄｔ，Ｊ＝１３，７Ｈ
ｚ，１Ｈ），２．１７（ｄｄ，Ｊ＝１２，１０Ｈｚ，１
Ｈ），１．３９（ｍ，２Ｈ），１．２８（ｍ，２Ｈ），
０．９２（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，３Ｈ）。

【０１４５】例４２

【０１４６】２，３−ジアミノ−１，５−（ブチルイミ
ノ）−１，２，３，５−テトラデオキシ−４，６−Ｏ−
（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−グルシトール（４
５）： メタノール（２５ｍｌ）中の４４（３８５ｍｇ、１．０
８ｍｍｏｌ）の溶液にＰａｒｒ水素添加フラスコ中で、
１０％のｐｄ／Ｃ（６０ｍｇ）を添加した。該系を封
じ、窒素（５回）および水素（５回）を用いて掃流し、
次いで５ｐｓｉ水素まで加圧した。振とう機上で３．５
時間反応させ、該系を換気し、窒素により掃流し濾過し
た。濾液を濃縮し、粗生成物（３２０ｍｇ）をクロマト
グラフィ（シリカゲル、酢酸エチル／メタノール／水酸
化アンモニウム ５０／５０／２．５）にかけて４５
（２４０ｍｇ、７３％）を得た。Ｃ_１７Ｈ_２７Ｎ_３Ｏ_２
０．２５Ｈ_２Ｏとして理論値、Ｃ，６５．８８，Ｈ，
８．９４，Ｎ，１３．５６，実験値、Ｃ，６５．５３、
Ｈ，８．９９，Ｎ，１３．２８。

【０１４７】例４３

【０１４８】２，３−ジアミノ−１，５−（ブチルイミ
ノ）−１，２，３，５−テトラデオキシ−Ｄ−グルシト
ール（４６）： トリフルオロ酢酸／水（４／１、１０ｍｌ）中の４５
（２３５ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ）の溶液を２２℃にて
１８時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留
水にて中性になるまで洗浄したイオン交換カラム〔Ａｍ
ｂｅｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通した。
塩基性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲル、酢
酸エチル／メタノール／水酸化アンモニウム ２５／７
５／３）にかけて貯留し、濃縮した。該画分中の水を、
トルエンを用いて共沸的に除去して粗製の４６（１５２
ｍｇ）を得、これをクロマトグラフィ（シリカゲル、酢
酸エチル／メタノール／水酸化アンモニウム ２５／７
５／３）にかけて純粋な４６（７２ｍｇ、４３％）を得
た。Ｃ_１０Ｈ_２３Ｎ_３Ｏ_２として理論値、Ｃ，５５．２
７，Ｈ，１０．６７，Ｎ，１９．３４、実験値、Ｃ，５
４．８６，Ｈ，１０．７８，Ｎ，１９．００。

【０１４９】例４４

【０１５０】１，３，５−トリデオキシ−３−〔｛２−
（ジメチルアミノ）エチル｝アミノ〕−１，５−
〔｛（フェニルメトキシ）カルボニル｝イミノ〕−４，
６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−アルトリトー
ル（４７）の合成： Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアミン（７ｍｌ）中のエ
ポキシド５（７３４ｍｇ、２ｍｍｏｌ）の溶液を、１０
０℃にて２４時間加熱した。溶媒の一部を減圧下で除去
し、粗製の残渣をクロマトグラフィ（シリカゲル、メチ
レンクロライド／メタノール／水酸化アンモニウム ９
０／１０／１）にかけて純粋な４７（７００ｍｇ、７６
％）を油状物として得た。Ｃ_２５Ｈ_３３Ｎ_３Ｏ_５として
理論値、Ｃ，６５．９１，Ｈ，７．３０，Ｎ，９，２
２、実験値、Ｃ，６５．６５，Ｈ，７．４５，Ｎ，９．
０２。

【０１５１】例４５

【０１５２】３−（ブチルアミノ）−１，３，５−トリ
デオキシ−１，５−〔｛（フェニルメトキシ）カルボニ
ル｝イミノ〕−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）
−Ｄ−アルトリトール（４８）の合成： ブチルアミン（４ｍｌ）中のエポキシド５（２００ｍ
ｇ、０．５５ｍｍｏｌ）の溶液を２４時間還流した。溶
媒の一部を減圧下で除去し、粗製の残渣をクロマトグラ
フィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル ７０／３
０）にかけて純粋な４８（１１７ｍｇ、７０％）を得
た。ｍｐ１０４−６℃、Ｃ_２５Ｈ_３２Ｎ_２Ｏ_５として理
論値、Ｃ，６８．１６，Ｈ，７．３２，Ｎ，６．３６、
実験値、Ｃ，６８．０４，Ｈ，７．３９，Ｎ，６．３
４。

【０１５３】例４６

【０１５４】１，３，５−トリデオキシ−３−〔｛２−
（ジメチルアミノ）エチル｝アミノ〕−１，５−イミノ
−４，６−Ｏ−（Ｒ−フェニルメチレン）−Ｄ−アルト
リトール（４９）の合成： エタノール（３５ｍｌ）中の４７（１．７８ｇ、３．９
ｍｍｏｌ）の溶液にＰａｒｒ水素添加フラスコ中で、４
％のＰｄ／Ｃ（２５０ｍｇ）を添加した。該系を封じ、
窒素（５回）および水素（５回）を用いて掃流し、次い
で５ｐｓｉ水素まで加圧した。振とう機上で５時間反応
させた後、該系を換気し、窒素により掃流し、濾過し
た。濾液を濃縮し、粗生成物をシクロヘキサンから結晶
化して４９（１．１４ｇ、９１％）を得た。ｍｐ１００
−２℃、Ｃ_１７Ｈ_２７Ｎ_３Ｏ_３として理論値、Ｃ，６
３．５３．Ｈ，８．４７，Ｎ，１３．０７、実験値、
Ｃ，６３．２８，Ｈ，８．５９，Ｎ，１２．８５。

【０１５５】例４７

【０１５６】３−〔｛２−（ジメチルアミノ）エチル｝
アミノ〕−１，３，５−トリデオキシ−１，５−イミノ
−Ｄ−アルトリトール（５０）の合成： トリフルオロ酢酸／水（４／１、６ｍｌ）中の４９（６
００ｍｇ、１．８ｍｍｏｌ）の溶液を２５℃にて２５時
間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣を蒸留水にて
中性になるまで前洗浄したイオン交換カラム〔Ａｍｂｅ
ｒｌｉｔｅ、ＩＲＡ−４００（ＯＨ）〕に通した。塩基
性画分を、引続いて同様にＴＬＣ（シリカゲル、酢酸エ
チル／メタノール／水酸化アンモニウム ２５／７５／
３）にかけて貯留し、濃縮した。該画分中の水をトルエ
ンを用いて共沸的に除去し、メタノールから再結晶して
５０（２５０ｍｇ、７２％）を得た。ｍｐ１２０−２２
℃、Ｃ_１０Ｈ_２３Ｎ_３Ｏ_３として理論値、Ｃ，５１．４
７，Ｈ，９．９３，Ｎ，１８．００、実験値、Ｃ，５
１．６１，Ｈ，９．７２，Ｎ，１７．８１。

【０１５７】例４８

【０１５８】上記で合成された種々の例示的化合物を、
プラーク減少アッセイにおいてインビトロでのビスナウ
イルスの阻害（方法Ａ）、および細胞培養物中で生育す
るウイルス−感染、シンクチウム−感受性Ｌｅｕ−３ａ
−正ＣＥＭ細胞における細胞病原効果の低減を測定する
試験でのＨＩＶ−１の阻害（方法Ｂ）について、以下の
ように試験した：

【０１５９】方法Ａ 細胞およびウイルスの増殖 ヒツジ脈絡叢（ＳＣＰ）細胞をＡｍｅｒｉｃａｎ Ｔｙ
ｐｅ ＣｕｌｔｕｒｅＣｏｌｌｅｃｔｉｏｎ（ＡＴＣ
Ｃ）カタログ番号ＣＲＬ１７００から入手し、２０％の
ウシ胎仔血清（ＦＢＳ）を補充したＤｕｌｂｅｃｃｏの
修飾Ｅａｇｌｅ（ＤＭＥ）培地中でインビトロにて常法
どおり継代培養した。ＳＰＣ細胞を、１：２または１：
３の分離比率にて周に１度継代した。ビスナを、６−ウ
エルプレートにてプラークアッセイにより力価決定し
た。ウイルスを−７０℃で保存した。

【０１６０】プラーク減少アッセイ ＳＰＣ細胞を６−穴プレート中で密集するまで培養し
た。ウエルを血清非含有最少必須培地（ＭＥＭ）により
２回洗浄してＦＢＳを除去した。４ｍＭグルタミンおよ
びゲンタマイシンを補充したＭＥＭ中のウイルス０．２
ｍｌを１ウエルあたりに加えた。１時間の吸着後、ウイ
ルスを各ウエルから吸引した。２％子ヒツジ血清を補充
した培地１９９（Ｍ−１９９）５ｍｌ中の適当な濃度の
各化合物、４ｍＭグルタミン、０．５％アガロースおよ
びゲンタマイシンを、各ウエルに添加した。培養物を３
７℃にて加湿した５％ＣＯ_２インキュベータ内で３−４
週間培養した。試験を終了すべく、培養物を１０％ホル
マリン中で固定化し、寒天を除去し、単層を１％クリス
タルバイオレットで染色し、プラークを計数した。各化
合物濃度は、３個の同一物について操作した。対照ウエ
ル（ウイルスを含まない）を、各試験終了時に化合物の
毒性について観察し、形態学的に０〜４に等級付けし
た。０は、毒性が認められない場合であり、一方４は細
胞単層が完全に溶解した場合を示す。

【０１６１】９６穴プレートアッセイ ９６穴プレートアッセイを、修飾を伴って上記プラーク
アッセイと同様に行なった。ＳＰＣ細胞を、０．１ｍｌ
ＤＭＥ培地中に、各ウエルあたり１×１０^４個の細胞を
もってまいた。密集した後、ウエルを血清非含有ＭＥＭ
で洗浄し、２％子ヒツジ血清を補充したＭ−１９９中に
おけるウイルス２５μｌを添加した。１時間後、試験化
合物を含む７５μＬの培地を、ウイルスを含む各ウエル
に加えた。２−３週間の培養後、ウイルスの細胞変性効
果を生体染色剤により染色して測定した。細胞生存率
を、９６穴プレート読取装置を用いて染色密度を測定す
ることにより決定した。ウイルスを含まない対照ウエル
については、化合物の毒性測定をするために完了させ
た。

【０１６２】方法Ｂ 組織培養プレートを、加湿した５％ＣＯ_２雰囲気下で３
７℃にてインキュベートし、毒性および／または細胞病
原性効果（ＣＰＥ）について顕微鏡的に観察した。感染
させる１時間前に、各試験試料を凍結保存物から調製
し、２０μｌの体積の各希釈物（１０×濃度として調
製）を感染および非感染細胞の両者の適切なウエルに加
えた。

【００６３】感染後９日目に、各ウエル中の細胞を再懸
濁し、各細胞懸濁物の１００μｌの試料を、ＭＴＴアッ
セイで使用するために取出した。３−（４，５−ジメチ
ルチアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラ
ゾリウムブロマイド（ＭＴＴ）の５ｍｇ／ｍｌ溶液の２
０μｌを各１００μｌ細胞懸濁物に加え、該細胞を５％
ＣＯ_２、３７℃にて４時間インキュベートした。このイ
ンキュベーションの間に、ＭＴＴが生細胞により代謝的
に還元され、有色のホルマザン生成物を生じる。０．０
１Ｎ塩酸中の１０％ドデシル硫酸ナトリウム溶液の体積
１００μｌを各試料に加え、該試料を一夜インキュベー
トした。各試料について、Ｍｏｌｅｃｕｌａ Ｄｅｖｉ
ｃｅ Ｖｍａｘマイクロプレート読取装置を使用して、
５９０ｎｍにおける吸光度を測定した。このアッセイ
は、生細胞によるＭＴＴ−ホルマザン生成の測定によ
り、薬剤の細胞毒性に加えて、ウイルス性ＣＰＥの薬剤
誘導抑制を検出する。

【０１６４】アッセイは、９６穴組織培養プレートにて
行なわれた。ＣＥＭ細胞を２μｇ／ｍｌの濃度のポリブ
レンにより処理し、８０μｌの細胞（１×１０^４個細
胞）を各ウエルに分配した。１００μｌの各試験試料希
釈物（２×濃度として調製）を細胞の５個のウエルに加
え、該細胞を３７℃にて１時間インキュベートした。Ｈ
ＩＶ−１、ＨＴＶＬ−ＩＩＩ_Ｂ株の凍結培養物を培地中
にｍｌあたり５×１０^４ＴＣＩＤ_５０の濃度まで希釈
し、体積２０μｌ（ウイルス１０^３ＴＣＩＤ_５０を含
む）、各試験試料濃度についてウエルの３個に加えた。
このことは、ＨＩＶ−１感染試料について、０．１の感
染多重度を生じた。２０μｌの正常培養培地を残るウエ
ルに加え、細胞毒性の評価を可能とした。各プレート
は、６個のウエルの未処理、非感染の細胞対照試料およ
び６個のウエルの未処理、感染ウイルス対照試料を含ん
でいた。

【０１６５】下記の表２−６は、方法Ａにおける前述の
例で調製された例示的化合物についてのアッセイ結果を
示す：これらの結果は、％プラーク減少（ｍＭ濃度）で
表わされている。

【０１６６】

【表２】

【０１６７】

【表３】

【０１６８】

【表４】

【０１６９】

【表５】

【０１７０】

【表６】

【０１７１】化合物（５０）は、米国特許第４，９７
３，６０２号に記述されているα−およびβ−グルコシ
ダーゼについての慣用のアッセイ法で測定されるよう
に、１ｍＭの濃度で両酵素を２２％有効に阻害した。

【０１７２】ここに記述された抗ウイルス剤は、慣用の
方法、好ましくは製薬学的に許容される希釈剤および担
体を伴う剤型において、例えばビスナウイルス等のウイ
ルスに感染した哺乳動物宿主に投与するため、あるいは
インビトロでヒト免疫不全ウイルスに投与するために使
用され得る。これらの薬剤は、遊離アミンの形態または
それらの塩形態で使用され得る。医薬的に許容される塩
誘導体類は、例えば、ＨＣｌ塩で例示される。投与され
るべき活性薬剤の量は、有効量、すなわち医学的に有益
であるがその使用に伴う優位性を圧迫するような毒性効
果を示さない量でなければならない。成人の投与量は、
通常、活性化合物約１ミリグラムより多い範囲にあると
期待される。好ましい投与経路は、カプセル、錠剤、シ
ロップ、液剤等の形態の経口的なものであるが、非経口
投与も可能である。治療的投与形態であって製薬学的に
許容される希釈剤および担体中の活性化合物の好適な剤
型は、例えばＲｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ Ｐｈａｒｍａｃ
ｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｅｄ．Ａｒｔｈｕ
ｒ Ｏｓｏｌ、１６版、１９８０、Ｍａｃｋ Ｐｕｂｌ
ｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｅａｓｔｏｎ，ＰＡ等のこの分
野の一般的教科書を参照して調製され得る。

【０１７３】他の種々の例は、本願の開示を読んだ後に
は、発明の精神および範囲を離れることなく当業者には
明らかであろう。そのような他のすべての例は、添付す
る特許請求の範囲に含まれることを意図するものであ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 491/056 Ｃ０７Ｄ 491/056 (72)発明者 リチャード マシアス ウェイアー アメリカ合衆国イリノイ州レイク ブラ フ，ヒッコリイ コート 240 (56)参考文献 特開 昭62−155291（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−61459（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−31764（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−79192（ＪＰ，Ａ) ＦＥＢＳ ＬＥＴＴＥＲＳ，Ｖｏｌ. 237，Ｎｏ．１，２（1988）ｐ．128− 132 (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07D 211/56,211/58 A61K 31/445,31/4468 C07D 491/056 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (25)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式、 【化１】 （式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、アラルキル、又は（Ｃ
   Ｈ ₂ ） ₃ ＣＦ ₃ ； Ｘ₁ ＝Ｎ ₃ ；および Ｘ₂＝ＯＨ）によって表される、１−デオキシノジリマ
   イシンの誘導体類からなる群から選択される化合物。
2. 【請求項２】 ＲがＨである請求項１に記載の化合物。
3. 【請求項３】 Ｒがｎ−ブチルである請求項１に記載の
   化合物。
4. 【請求項４】 ＲがＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）₂である請求項
   １に記載の化合物。
5. 【請求項５】 Ｒが（ＣＨ₂）₃ＣＦ₃である請求項１に
   記載の化合物。
6. 【請求項６】 式、 【化２３】 （式中、Ｒ＝Ｈ、アルキル、アラルキル、又は（Ｃ
   Ｈ ₂ ） ₃ ＣＦ ₃ ； Ｘ ₁ ＝ＮＨ ₂ ；および Ｘ ₂ ＝ＯＨ）によって表される、１−デオキシノジリマ
   イシンの誘導体類からなる群から選択される化合物。
7. 【請求項７】 ＲがＨである請求項６に記載の化合物。
8. 【請求項８】 Ｒがｎ−ブチルである請求項６に記載の
   化合物。
9. 【請求項９】 ＲがＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）₂である請求項
   ６に記載の化合物。
10. 【請求項１０】 Ｒが（ＣＨ₂）₃ＣＦ₃である請求項６
    に記載の化合物。
11. 【請求項１１】 式、 【化２４】 （式中、Ｒがｎ−ブチルであり、Ｘ₁がＮ（ＣＨ₃）₂で
    あり、およびＸ₂がＯＨである）によって表される化合
    物。
12. 【請求項１２】 式、 【化２５】 （式中、Ｒがｎ−ブチルであり、Ｘ₁がＮＨＣＨ₃であ
    り、およびＸ₂がＯＨである）によって表される化合
    物。
13. 【請求項１３】 式、 【化２６】 （式中、Ｒがｎ−ブチルであり、Ｘ₁がＮＨＣＯ（Ｃ₃Ｈ
    ₇）であり、およびＸ₂がＯＨである）によって表される
    化合物。
14. 【請求項１４】 式、 【化２７】 （式中、Ｒがｎ−ブチルであり、Ｘ ₁ がＮＨＣＯ（Ｃ ₃ Ｈ
    ₇ ）であり、およびＸ ₂ がＯＨである）によって表される
    化合物において、Ｃ−３、Ｃ−４およびＣ−５において
    Ｃ₃Ｈ₇ＣＯ基によりＯ−アシル化されている、上記化合
    物。
15. 【請求項１５】 式、 【化２８】 （式中、ＲがＨであり、Ｘ ₁ がＯＨであり、およびＸ₂が
    ＮＨ₂である）によって表される化合物。
16. 【請求項１６】 式、 【化２９】 （式中、Ｘ₁およびＸ₂がＮＨ₂であり、ならびにＲがｎ
    −ブチルである）によって表される化合物。
17. 【請求項１７】 式、 【化３】 （式中、Ｒ＝Ｈ、ｎ−Ｃ₄Ｈ₉、ＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）₂ま
    たは（ＣＨ₂）₃ＣＦ₃）を有する化合物。
18. 【請求項１８】 式、 【化４】 （式中、Ｒ＝Ｈ、ｎ−Ｃ₄Ｈ₉、ＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）₂ま
    たは（ＣＨ₂）₃ＣＦ₃）を有する化合物。
19. 【請求項１９】 式、 【化５】 （式中、Ｚ＝ＣＯＯＣＨ₂Ｐｈ）を有する化合物。
20. 【請求項２０】 式、 【化７】 を有する化合物。
21. 【請求項２１】 式、 【化８】 （式中、ｗ＝ＯＣＨ₂ＰｈまたはＯＭｅ）を有する化合
    物。
22. 【請求項２２】 式、 【化９】 を有する化合物。
23. 【請求項２３】 式、 【化１０】 を有する化合物。
24. 【請求項２４】 工程： （ａ）デオキシノジリマイシンを、アシル化剤によりＮ
    −アシル化して、そのカルバメート誘導体を形成し、 （ｂ）ヒドロキシル保護剤を用いてアセタール化または
    ケタール化によりＣ−４およびＣ−６のヒドロキシル基
    を選択的に保護して、工程（ａ）の生成物のアセタール
    またはケタール誘導体を形成し、 （ｃ）スルホニル化剤を用い、Ｃ−２での位置選択的ス
    ルホニル化によりＣ−２のヒドロキシルを保護して工程
    （ｂ）のスルホニル化中間体誘導体を得、 （ｄ）Ｃ−２およびＣ−３のエポキシ化により２，３−
    アンヒドロ中間体を形成して工程（ｃ）の生成物のエポ
    キシド中間体誘導体を得、ならびに、 （ｅ）工程（ｄ）の生成物において、アジド−含有化合
    物を用いたＣ−２およびＣ−３の親核的攻撃によりエポ
    キシドを開環させ、アジド誘導体ジアステレオマーの混
    合物を得る、 工程を含んでなる、式、 【化１１】 （式中、Ｒ₁＝Ｈ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはフェニル、 Ｗ＝ベンジルオキシ、および Ｘ＝Ｈ） を有する化合物の化学合成方法。
25. 【請求項２５】 請求項１〜１６に記載の化合物を少な
    くとも一種含有する、レンチウイルス類の阻害のための
    医薬組成物。