JP3204284B2 - Centrifugal dryer - Google Patents

Centrifugal dryer

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JP3204284B2
JP3204284B2 JP30727093A JP30727093A JP3204284B2 JP 3204284 B2 JP3204284 B2 JP 3204284B2 JP 30727093 A JP30727093 A JP 30727093A JP 30727093 A JP30727093 A JP 30727093A JP 3204284 B2 JP3204284 B2 JP 3204284B2
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cassette
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、遠心乾燥装置、詳しく
は洗浄後のシリコンウエハー等基板の表面に付着してい
る水分を遠心力により飛散させ、又、空気を基板の表面
に流すことにより基板を乾燥する遠心乾燥装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a centrifugal drying apparatus, more specifically, a method in which moisture adhering to the surface of a substrate such as a silicon wafer after washing is scattered by centrifugal force, and air is caused to flow on the surface of the substrate. The present invention relates to a centrifugal dryer for drying a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の遠心乾燥装置として、図
13に示すものが知られている。
2. Description of the Related Art A centrifugal dryer of this type is conventionally known as shown in FIG.

【0003】この従来の遠心乾燥装置は、水平面に沿っ
て回転駆動される回転体としてのターンテーブル1と、
該ターンテーブル1の回転中心から偏倚した外周部適宜
位置に取り付けられた複数個のクレードル2すなわちカ
セット保持部材とを備えている。そして、洗浄後のシリ
コンウエハー等の基板3がその主面同士が平行となるよ
うに等ピッチにて整列して複数枚収納された基板保持カ
セット4を各クレードル2に上方から装填し、各クレー
ドル2をこれを枢支した支軸5を中心として鉛直面に沿
って90°下方へ回動して各基板3の主面を水平状態
に、すなわちターンテーブル1の回転中心1aに対して
直交する状態に保ち、その後ターンテーブル1を回転さ
せるように構成されている。なお、ターンテーブル1に
はスピンドル6の上端部が結合され、該スピンドル6の
他端部にはプーリ7が嵌着されている。そして、モータ
8の出力軸に嵌着された他のプーリ9とこのプーリ7と
にベルト10が掛け回され、モータ8のトルクがターン
テーブル1に付与されて回転駆動される。
[0003] This conventional centrifugal drying apparatus includes a turntable 1 as a rotating body that is driven to rotate along a horizontal plane;
The cradle includes a plurality of cradle's 2, i.e., cassette holding members, which are attached at appropriate positions on the outer peripheral portion deviated from the rotation center of the turntable. Then, a plurality of substrate holding cassettes 4 in which a plurality of substrates 3 such as silicon wafers after cleaning are stored at equal pitches such that their main surfaces are parallel to each other are loaded into each cradle 2 from above. 2 is rotated 90 ° downward along a vertical plane about a support shaft 5 that pivotally supports the base 2 so that the main surface of each substrate 3 is in a horizontal state, that is, orthogonal to the rotation center 1 a of the turntable 1. The state is maintained, and then the turntable 1 is rotated. An upper end of a spindle 6 is connected to the turntable 1, and a pulley 7 is fitted to the other end of the spindle 6. Then, a belt 10 is wound around another pulley 9 fitted to the output shaft of the motor 8 and this pulley 7, and the torque of the motor 8 is applied to the turntable 1 to be driven to rotate.

【0004】図14及び図15は上記基板保持カセット
4の詳細を示すものであるが、該図から明らかなよう
に、基板3はその全体が該基板保持カセット4内に収容
される。また、図示のように、この基板保持カセット4
は全体として箱状に形成されており、その内側には収容
すべき基板3の枚数分の受け溝4aが並設されており、
各基板3はその外周部にてこれら受け溝4aの各々に係
合し、隣接する基板3同士が互いに接触しないようにな
されている。また、基板保持カセット4には、これを支
え持つための取手4bが両側に形成されている。
FIGS. 14 and 15 show the details of the substrate holding cassette 4. As is clear from the drawings, the entire substrate 3 is accommodated in the substrate holding cassette 4. Further, as shown in FIG.
Are formed in a box shape as a whole, and receiving grooves 4a for the number of the substrates 3 to be accommodated are arranged in parallel inside thereof.
Each of the substrates 3 is engaged with each of the receiving grooves 4a at its outer peripheral portion so that adjacent substrates 3 do not contact each other. Further, handles 4b for supporting the substrate holding cassette 4 are formed on both sides.

【0005】図16は上述した遠心乾燥装置に供される
他の基板保持カセット12の縦断面を示すものである。
図示のように、この基板保持カセット12においては、
基板3がその略下半分だけ収容される。なお、該図にお
いて、参照符号12aは各基板3の外周部が係合すべく
該基板保持カセット12に並設された受け溝を示し、
又、参照符号12bは取手を示している。
FIG. 16 shows a vertical section of another substrate holding cassette 12 provided for the above-mentioned centrifugal drying apparatus.
As shown, in the substrate holding cassette 12,
Substrate 3 is accommodated only in a substantially lower half thereof. In the figure, reference numeral 12a indicates a receiving groove arranged in parallel with the substrate holding cassette 12 so that an outer peripheral portion of each substrate 3 is engaged with the receiving groove.
Reference numeral 12b indicates a handle.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記した従来の遠心乾
燥装置においては、使用する基板保持カセット4、12
が比較的大型で占有スペースが大きく、しかもこれらを
ターンテーブル1上にて分散して配置しているため、大
径化してきたシリコンウエハー、例えば8インチサイズ
のシリコンウエハーの乾燥用として使用するためには装
置全体を大型化しなければならないという欠点がある。
In the above-mentioned conventional centrifugal drying apparatus, the substrate holding cassettes 4 and 12 to be used are used.
Is relatively large and occupies a large space, and since these are dispersed on the turntable 1, they are used for drying large-diameter silicon wafers, for example, 8-inch silicon wafers. Has the disadvantage that the entire apparatus must be made larger.

【0007】また、上記のように大きな基板保持カセッ
ト4、12においては、これに付着する液体が多量とな
ってターンテーブル1を長時間回転させなければ乾燥が
完了せず、また、空気との接触面積が大であることから
ターンテーブル1の回転に伴う空気との摩擦により発生
する静電気の量が多く、基板3にダメージを与える等の
問題がある。
Further, in the large substrate holding cassettes 4 and 12 as described above, a large amount of liquid adheres to the cassettes, and the drying is not completed unless the turntable 1 is rotated for a long time. Since the contact area is large, the amount of static electricity generated by friction with air accompanying rotation of the turntable 1 is large, and there is a problem that the substrate 3 is damaged.

【0008】本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みてな
されたものであって、大径の基板の乾燥用としても十分
に小型であると共に、乾燥時間の短縮、静電気による基
板への影響低減を達成した遠心乾燥装置を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and is sufficiently small for drying a large-diameter substrate, shortening the drying time, and reducing the influence of static electricity on the substrate. It is an object of the present invention to provide a centrifugal dryer that has achieved the above.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、長手方向に沿
って基板の外周部が係合する複数の受け溝を有し前記基
板の外周に沿って互いに平行に、かつ離間して配置され
複数の基板支持部材と、前記基板支持部材各々の端部
同士を相互結合する平板状の側部材とを有する基板保持
カセットの前記受け溝に係合して保持された前記基板の
主面を回転体の回転中心に対して直交するように装填し
て該回転体を回転駆動することにより前記基板を乾燥さ
せる遠心乾燥装置であって、前記基板支持部材は、前記
側部材の下方に位置して前記側部材に取り付けられた第
1の基板支持部材と、前記第1の基板支持部材よりも上
方に位置して前記側部材に取り付けられた第2の基板支
持部材とからなり、前記回転体上に設けられて前記基板
保持カセットを着脱自在に収容保持するカセット保持部
材と、前記カセット保持部材の上部に矩形板状で基板の
整列方向に延在して設けられて長手方向に前記基板の外
周部が係合する複数の受け溝を有して前記基板の脱落を
防止する複数の基板受け部材と、前記カセット保持部材
の底部に離間して設けられ、前記基板保持カセットを支
承する複数のカセット支承部材とを有し、前記カセット
支承部材は、前記第1の基板支持部材を支承する第1の
支承面と、前記第2の基板支持部材を支承する第2の支
承面とを有し、前記基板保持カセットを前記基板の外形
寸法より内側の位置で支承するものである。また、前記
カセット保持部材は、前記回転体の回転中心から偏倚し
た位置となるものである。また、前記カセット保持部材
は、前記基板の主面が前記回転体の回転中心に対して略
直交する状態になる位置と略平行になる位置との間で移
動可能であるものである。また、前記基板受け部材は、
前記基板を該基板の主面に平行な方向において挟むよう
に設けられ、遠心力作用方向に対して略垂直であって
記基板の中心を通る仮想直線上若しくはその近傍に配置
されているものである。また、前記側部材は前記基板の
主面に平行な方向における上端部の幅が前記基板の外形
寸法より小であるものである。また、前記カセット支承
部材は、前記基板の外周部が係合する複数の受け溝を有
する基板受部を有し、前記基板は、前記基板保持カセッ
トが前記カセット支承部材により支承された状態におい
て前記基板受部の前記受け溝に係合して前記基板保持カ
セットから離脱するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has a plurality of receiving grooves with which a peripheral portion of a substrate is engaged along a longitudinal direction, and is arranged parallel to and separated from each other along the peripheral portion of the substrate. The main surface of the substrate held by being engaged with the receiving groove of the substrate holding cassette having a plurality of substrate supporting members and a flat plate-shaped side member interconnecting the ends of the substrate supporting members. A centrifugal drying apparatus for drying the substrate by loading the rotating body and rotating the rotating body so as to be orthogonal to the rotation center of the rotating body, wherein the substrate supporting member is
A third member located below the side member and attached to the side member.
A first substrate supporting member and a position above the first substrate supporting member.
And a second substrate support attached to the side member
It consists of a support member, a cassette holding member for detachably accommodating hold the substrate holding cassette is provided on the rotating body, extending in the direction of alignment of the substrate in a rectangular plate shape at the top of the cassette holding member A plurality of substrate receiving members that are provided and have a plurality of receiving grooves with which the outer peripheral portion of the substrate is engaged in the longitudinal direction to prevent the substrate from falling off, and are provided separately from the bottom of the cassette holding member, and a plurality of cassettes bearing member for supporting the substrate holding cassette, the cassette supporting member, supporting a first bearing surface for supporting the first substrate supporting member, a front Stories second substrate supporting member And a second support surface for supporting the substrate holding cassette at a position inside the outer dimensions of the substrate. The cassette holding member is located at a position deviated from the rotation center of the rotating body. Further, the cassette holding member is movable between a position where the main surface of the substrate is substantially perpendicular to a rotation center of the rotating body and a position where the main surface is substantially parallel to the rotation center of the rotating body. Further, the substrate receiving member includes:
So as to sandwich the substrate in a direction parallel to the main surface of the substrate
And is disposed on or near a virtual straight line substantially perpendicular to the direction of the centrifugal force and passing through the center of the substrate. The side member has a width of an upper end portion in a direction parallel to the main surface of the substrate smaller than an outer dimension of the substrate. Further, the cassette supporting member has a substrate receiving portion having a plurality of receiving grooves with which an outer peripheral portion of the substrate is engaged, and the substrate is in a state where the substrate holding cassette is supported by the cassette supporting member. It engages with the receiving groove of the substrate receiving portion and separates from the substrate holding cassette.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例としての遠心乾燥装置
について、添付図面を参照しつつ説明する。なお、本発
明に係る遠心乾燥装置は、以下に説明する部分以外は図
13に示した従来の装置と同様に構成されているので、
装置全体としての説明は省略し要部の説明に留める。ま
た、以下の説明において、該従来の遠心乾燥装置の構成
部材と同一または対応する構成部材並びに取り扱う基板
については同じ参照符号を用いている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A centrifugal drying apparatus as an embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The centrifugal drying apparatus according to the present invention is configured similarly to the conventional apparatus shown in FIG. 13 except for the parts described below.
The description of the entire apparatus will be omitted and only the main part will be described. Further, in the following description, the same reference numerals are used for the same or corresponding components as those of the conventional centrifugal drying apparatus and for the substrates to be handled.

【0011】図1は本発明の実施例としての遠心乾燥装
置の縦断面を示すものであるが、該図において、参照符
号20は当該遠心乾燥装置において使用される小型の基
板保持カセットを示している。まず、この基板保持カセ
ット20について詳述する。
FIG. 1 shows a longitudinal section of a centrifugal drying apparatus as an embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 20 denotes a small substrate holding cassette used in the centrifugal drying apparatus. I have. First, the substrate holding cassette 20 will be described in detail.

【0012】図2及び図3に示すように、この基板保持
カセット20は、その左右方向及び前後方向の夫々にお
いて対称の形状にて形成されており、互いに平行に前後
に伸長して設けられた例えば4本の長手基板支持部材2
1と、該各基板支持部材21の端部間に介装されて該端
部同士を相互結合させる前後一対の平板の側部材22
とからなる。なお、当該基板保持カセット20は、複数
枚、この場合例えば25枚の基板3をその主面同士が平
行となるように等ピッチにて整列して保持するのである
が、これら各基板3の主面に平行な方向を左右方向、整
列方向を前後方向と称している。図2及び図3から明ら
かなように、これら基板支持部材21及び側部材22は
小ねじ23により締結され、互いに一体化されている。
図3及び図4において、参照符号21aは、該小ねじ2
3が螺合すべく基板支持部材21に形成されたねじ孔を
示すものである。
As shown in FIGS. 2 and 3, the substrate holding cassette 20 is formed in a symmetrical shape in each of the left-right direction and the front-back direction, and is provided to extend in the front-back direction in parallel with each other. For example, four longitudinal substrate support members 2
1 and a pair of front and rear plate- shaped side members 22 interposed between the ends of the respective substrate support members 21 to mutually connect the ends.
Consists of Note that the substrate holding cassette 20 holds a plurality of, in this case, for example, 25 substrates 3 aligned at equal pitches so that their main surfaces are parallel to each other. The direction parallel to the plane is called the left-right direction, and the alignment direction is called the front-back direction. As is clear from FIGS. 2 and 3, the substrate support member 21 and the side member 22 are fastened by small screws 23 and are integrated with each other.
3 and 4, reference numeral 21a denotes the small screw 2
3 shows a screw hole formed in the substrate supporting member 21 to be screwed.

【0013】ここで、上記各基板支持部材21について
詳述する。
Here, each of the substrate support members 21 will be described in detail.

【0014】4本の基板支持部材21は夫々同形状、同
寸法にて形成されており、図3に示すように、その保持
する基板3の外周に沿うように互いに離間して配置され
ている。そして、その断面形状が、一部が突出した円形
となっている。図4から明らかなように、この突出した
部分に、保持すべき基板3の枚数分の受け溝21bが長
手方向に沿って並設されており、各基板3はその外周部
にてこれら受け溝21bの各々に係合し、隣接する基板
3同士が互いに接触しないようになされている。なお、
これら基板支持部材21については、かかる形状に限ら
ず、種々の構成を採用し得る。また、側部材22の下方
に位置する基板支持部材21を第1の基板支持部材、前
記第1の基板支持部材よりも上方(側部材22の上方)
に位置する基板支持部材21を第2の基板支持部材とも
称する。
The four substrate supporting members 21 are formed in the same shape and the same size, and are spaced apart from each other along the outer periphery of the substrate 3 to be held as shown in FIG. . And the cross-sectional shape is a circular shape with a part protruding. As is apparent from FIG. 4, receiving grooves 21b for the number of the substrates 3 to be held are arranged in the protruding portion along the longitudinal direction. 21b so that the adjacent substrates 3 do not contact each other. In addition,
The substrate support member 21 is not limited to such a shape, and may employ various configurations. Also, below the side member 22
The substrate support member 21 located at the first substrate support member,
Above the first substrate support member (above the side member 22)
The substrate support member 21 located at
Name.

【0015】また、上記各基板支持部材21及び側部材
22は、例えばペルフルオロアルコキシふっ素樹脂(P
FA)ポリ四ふっ化エチレン(PTFE)またはポリエ
ーテルエーテルケトン(PEEK)等を素材として形成
される。
Each of the substrate support members 21 and the side members 22 is made of, for example, a perfluoroalkoxy fluororesin (P
FA) It is formed using polytetrafluoroethylene (PTFE) or polyetheretherketone (PEEK) as a raw material.

【0016】上記した構成の基板保持カセット20にお
いては、その保持する基板3の主面に平行な方向、すな
わち左右方向における最大寸法は、前後両端に具備した
側部材22の最大幅寸法B1 (図3参照)がそれであ
り、この最大寸法B1 は、同じ方向における基板3の外
形寸法、すなわち直径Dよりも小さく設定されている。
なお、図3に示すように、この最大寸法B1 は側部材2
2の上半部分の幅寸法であり、下半部分の幅寸法B2
該上半部分よりも更に小さく設定されている。また、図
3において、符号Hは基板保持カセット20の高さを示
すものであるが、この高さHに関しては、基板2の直径
Dの約1/4以下に設定されている。
In the substrate holding cassette 20 having the above-described structure, the maximum dimension in the direction parallel to the main surface of the substrate 3 to be held, that is, in the left-right direction, is the maximum width dimension B 1 of the side members 22 provided at both front and rear ends. see FIG. 3) is it, the maximum dimension B 1 represents, is set smaller than the outer dimensions of the substrate 3 in the same direction, i.e. the diameter D.
As shown in FIG. 3, the maximum dimension B 1 represents a side member 2
2 is the width of the upper half, and the width B 2 of the lower half is set smaller than the upper half. Further, in FIG. 3, reference numeral H indicates the height of the substrate holding cassette 20, and the height H is set to be about 1 / or less of the diameter D of the substrate 2.

【0017】上記のように小型の基板保持カセット20
を使用することによって、当該遠心乾燥装置に関し、大
径の基板の乾燥用としても十分に小型化できる。また、
小型の基板保持カセット20は、これに付着してくる液
体の量が少ないことから、乾燥が迅速に行われると共
に、空気との接触面積が小さい故に、基板3に対して悪
影響を及ぼす静電気の発生を抑えることが出来るもので
ある。
As described above, the small substrate holding cassette 20
By using, the centrifugal drying apparatus can be sufficiently reduced in size for drying a large-diameter substrate. Also,
The small substrate holding cassette 20 has a small amount of liquid adhering thereto, so that it is quickly dried and generates a static electricity which adversely affects the substrate 3 due to a small contact area with air. Can be suppressed.

【0018】ところで、図2及び図3に示すように、上
記基板保持カセット20には、取手25が設けられてい
る。詳しくは、この取手25は、基板3の整列方向すな
わち前後方向における端部をなす両側部材22の外側面
上に夫々2つずつ配置されており、且つ、小ねじ26に
よって該側部材22に締結されている。このように、取
手25を、基板3の主面に平行な方向すなわち左右方向
において突設することをせず、基板3の整列方向である
前後方向において突出するように設けたので、基板保持
カセット20の該左右方向における最大寸法が前述した
寸法B1 以上となることがない。
As shown in FIGS. 2 and 3, the substrate holding cassette 20 is provided with a handle 25. Specifically, two handles 25 are arranged on each of the outer surfaces of both side members 22 forming ends in the alignment direction of the substrate 3, that is, in the front-rear direction, and are fastened to the side members 22 by machine screws 26. Have been. As described above, the handle 25 is provided so as not to protrude in the direction parallel to the main surface of the substrate 3, that is, in the left-right direction, but to protrude in the front-rear direction which is the alignment direction of the substrate 3. maximum dimension does not become a dimension B 1 or more as described above in the left and right direction of 20.

【0019】なお、上記取手25は、作業者自身が上記
基板保持カセット20を持つ際にここを把持するほか、
当該基板保持カセット20を遠心乾燥装置等に対して自
動的に搬入、搬出する装置によって支え持つ際に利用さ
れる。
The handle 25 holds the substrate holding cassette 20 when the operator holds the substrate holding cassette 20.
It is used when the substrate holding cassette 20 is supported by a device that automatically loads and unloads the substrate holding cassette 20 with respect to a centrifugal dryer or the like.

【0020】すなわち、この搬入、搬出を行う装置は本
発明に係る遠心乾燥装置と併設され、上記基板保持カセ
ット20をその取手25にて吊支するハンガー部材29
(図2に図示)を具備して該基板保持カセット20を保
持する保持手段(ハンガー部材29以外は図示せず)
と、この保持手段を所定経路に沿って移動させることに
よって基板保持カセット20を遠心乾燥装置に対して出
し入れすべく搬送する搬送手段(図示せず)とを備えて
いる。なお、図2に示すように、ハンガー部材29はそ
の爪部29aにて取手25に係合する。
That is, the loading / unloading device is provided in parallel with the centrifugal drying device according to the present invention, and a hanger member 29 for suspending and supporting the substrate holding cassette 20 with its handle 25.
Holding means (shown in FIG. 2) for holding the substrate holding cassette 20 (not shown except for the hanger member 29)
And transport means (not shown) for transporting the substrate holding cassette 20 to and from the centrifugal dryer by moving the holding means along a predetermined path. As shown in FIG. 2, the hanger member 29 is engaged with the handle 25 at its claw portion 29a.

【0021】なお、本実施例においては、上記基板保持
カセット20が、基板支持部材21、側部材22及び取
手25の各部材を小ねじ等を用いて互いに組み付けてな
るが、この他、該基板保持カセット20を全体的に一体
成型することも可能である。このように一体成型品とす
ることにより、該基板保持カセットからの塵埃(パーテ
ィクル)の発生が少なくなる。
In this embodiment, the substrate holding cassette 20 is formed by assembling the substrate supporting member 21, the side member 22, and the handle 25 with each other using small screws. It is also possible to integrally mold the holding cassette 20 as a whole. By thus forming an integrally molded product, generation of dust (particles) from the substrate holding cassette is reduced.

【0022】次に、本発明に係る遠心乾燥装置に装備さ
れて上記した基板保持カセット20が着脱自在に装填さ
れるカセット保持部材としてのクレードル31について
説明する。
Next, a cradle 31 as a cassette holding member which is mounted on the centrifugal drying apparatus according to the present invention and in which the above-described substrate holding cassette 20 is removably mounted will be described.

【0023】図1に示すように、クレードル31は複数
設けられ、回転体としてのターンテーブル1上であって
その回転中心1aから偏倚した位置に設けられている。
また、これらクレードル31は、ターンテーブル1の回
転中心1aに関して対称に振り分けて配置されている。
As shown in FIG. 1, a plurality of cradles 31 are provided, and are provided on a turntable 1 as a rotating body at a position deviated from a rotation center 1a.
These cradles 31 are arranged symmetrically with respect to the rotation center 1 a of the turntable 1.

【0024】なお、図1に示すように、ターンテーブル
1は、上部にて開口した円筒状のケーシング34により
囲僥されており、該開口部を開閉する蓋体35が設けら
れている。また、この蓋体35は当該遠心乾燥装置の本
体部分を構成するフレーム36にヒンジ37により回動
自在(矢印Lにて示している)に取り付けられており、
図示せぬシリンダーによって駆動力を付与されて開閉運
動を行う。
As shown in FIG. 1, the turntable 1 is enclosed by a cylindrical casing 34 which is open at the top, and is provided with a lid 35 which opens and closes the opening. The lid 35 is rotatably (indicated by an arrow L) attached to a frame 36 constituting a main body of the centrifugal drying apparatus by a hinge 37.
A driving force is applied by a cylinder (not shown) to open and close.

【0025】図1において実線及び二点鎖線にて示すよ
うに、各クレードル31は、その保持する基板3の主面
がターンテーブル1の回転中心1aに対して略直交する
状態になる位置と略平行となる他の位置との間で回動可
能(図1において矢印Mにて示している)となってい
る。詳しくは、クレードル31はその端部にてシャフト
39に嵌着されており、該シャフト39はターンテーブ
ル1に対して回転自在に取り付けられている。そして、
該シャフト39を回転駆動することによってクレードル
31を上記2つの位置の間において回動させ且つ位置決
めする位置決め手段としてのシリンダ(図示せず)が設
けられている。
As shown by a solid line and a two-dot chain line in FIG. 1, each cradle 31 is located at a position where the main surface of the substrate 3 held by the cradle 31 is substantially perpendicular to the rotation center 1a of the turntable 1. It is rotatable between other parallel positions (indicated by an arrow M in FIG. 1). Specifically, the cradle 31 is fitted to a shaft 39 at an end thereof, and the shaft 39 is rotatably attached to the turntable 1. And
A cylinder (not shown) is provided as positioning means for rotating and positioning the cradle 31 between the two positions by rotating the shaft 39.

【0026】ここで、クレードル31の構成について詳
述する。
Here, the configuration of the cradle 31 will be described in detail.

【0027】図5及び図6に示すように、クレードル3
1は、略直方体状に形成されて上部にて開口したケース
41を有している。なお、該両図に示すように、ケース
41の下面には断面形状がL字状の補強部材42が固着
されている。図5に示すように、このケース41の一端
には張出部41aが設けられており、該張出部41aに
はボス41b(図6にも示す)が固設され、該ボス41
bが前述したシャフト39に嵌合し、且つ、キー等によ
って該シャフト39に固定されている。
As shown in FIGS. 5 and 6, the cradle 3
1 has a case 41 formed in a substantially rectangular parallelepiped shape and opened at an upper portion. As shown in both figures, a reinforcing member 42 having an L-shaped cross section is fixed to the lower surface of the case 41. As shown in FIG. 5, an overhang portion 41a is provided at one end of the case 41, and a boss 41b (also shown in FIG. 6) is fixed to the overhang portion 41a.
b is fitted to the shaft 39 described above, and is fixed to the shaft 39 by a key or the like.

【0028】図6から明らかなように、上記ケース41
の底部であって左右両側には、当該クレードル31内に
収容される前述の基板保持カセット20を遠心力作用方
向側、すなわち遠心力が指向する方向側において支承す
る一対のカセット支承部材45が固設されている。該両
カセット支承部材45は互いに同形状、同寸法にて形成
されており、その材質として例えば、前述した基板保持
カセット20と同様のもの(PFA、PTFE、PEE
K等)が選定される。図7はこのカセット支承部材45
の斜視図であるが、該図から特に明らかなように、該カ
セット支承部材45は比較的長く形成されており、図5
に示すようにケース41の略全長にわたって延在するよ
うに設けられている。なお、図6及び図7に示すよう
に、カセット支承部材45の両端部であって背面側に
は、その平坦な底面45aに対して垂直な平面45bが
形成されており、該平面45bがケース41の左右両内
側面に当接している。また、該両平面45bにより挟ま
れる背面側は凹部45cとなっている。
As is apparent from FIG.
A pair of cassette support members 45 for supporting the substrate holding cassette 20 housed in the cradle 31 on the side where the centrifugal force acts, that is, on the side where the centrifugal force is directed, are fixed to the bottom and both left and right sides of the cradle 31. Has been established. The two cassette supporting members 45 are formed in the same shape and the same size as each other, and are made of the same material as that of the substrate holding cassette 20 (PFA, PTFE, PEE, for example).
K etc.) are selected. FIG. 7 shows this cassette support member 45.
FIG. 5 is a perspective view of the cassette supporting member 45, which is particularly apparent from FIG.
As shown in FIG. 5, the case 41 is provided so as to extend over substantially the entire length of the case 41. As shown in FIGS. 6 and 7, a flat surface 45b perpendicular to a flat bottom surface 45a is formed at both ends of the cassette support member 45 and on the back side thereof. 41 are in contact with both left and right inner side surfaces. The back side sandwiched between the two flat surfaces 45b is a concave portion 45c.

【0029】図6及び図7に示すように、上記カセット
支承部材45の内側部には上下2段の平坦な支承面45
e及び45fが形成されており、基板保持カセット20
は、その具備した4本の基板支持部材21がこの支承面
45e、45fによって略全長にわたって支承されてい
る。この構成により、基板保持カセット20はカセット
支承部材45によってその底面側略全域にわたって均等
に支承され、該カセット支承部材45により補強される
状態となる。なお、支承面45fを第1の支承面、支承
面45eを第2の支承面とも称する。
As shown in FIGS. 6 and 7, the cassette supporting member 45 has two flat upper and lower flat bearing surfaces 45 on its inner side.
e and 45f are formed, and the substrate holding cassette 20
The four substrate support members 21 provided are supported over substantially the entire length by the support surfaces 45e and 45f. With this configuration, the substrate holding cassette 20 is evenly supported by the cassette supporting member 45 over substantially the entire bottom surface thereof, and is reinforced by the cassette supporting member 45. Note that the bearing surface 45f is the first bearing surface, the bearing
The surface 45e is also referred to as a second bearing surface.

【0030】図5及び図6に示すように、クレードル3
1のケース41には、その上部に、左右一対の基板受け
部材48が取り付けられている。なお、該両基板受け部
材48は互いに同形状、同寸法にて形成されており、そ
の材質として例えば、上記カセット支承部材45及び基
板保持カセット20と同様のもの(PFA、PTFE、
PEEK等)が使用される。図8はこの基板受け部材4
8の斜視図であるが、該図から特に明らかなように、該
基板受け部材48は全体として略矩形板状に形成されて
いる。そして、図5から明らかなように、各基板3の整
列方向において延在して設けられている。図6及び図8
に示すように、上記基板受け部材48には、各基板3の
外周部が係合する受け溝48aがその長手方向に沿って
並設されている。
As shown in FIGS. 5 and 6, the cradle 3
A pair of left and right board receiving members 48 is attached to the upper part of the one case 41. The two substrate receiving members 48 are formed in the same shape and the same size as each other, and are made of, for example, the same material as the cassette supporting member 45 and the substrate holding cassette 20 (PFA, PTFE,
PEEK etc.) are used. FIG. 8 shows this substrate receiving member 4.
Although it is a perspective view of FIG. 8, as is particularly clear from the figure, the substrate receiving member 48 is formed in a substantially rectangular plate shape as a whole. Then, as is apparent from FIG. 5, they are provided to extend in the direction in which the substrates 3 are arranged. 6 and 8
As shown in FIG. 7, the substrate receiving member 48 has receiving grooves 48a with which the outer peripheral portions of the respective substrates 3 are engaged, which are arranged side by side in the longitudinal direction.

【0031】クレードル31が図1において二点鎖線に
て示すように下方に回動した際に、上記の基板受け部材
48は、基板保持カセット20から各基板3が脱落する
のを防止する脱落防止手段として作用する。このような
脱落防止手段を設け、しかも、前述したカセット支承部
材45により基板保持カセット20の補強作用をなして
いることから、該基板保持カセット20を前記のように
小型なものとすることが可能となっている。
When the cradle 31 rotates downward as shown by the two-dot chain line in FIG. 1, the above-mentioned substrate receiving member 48 prevents the substrates 3 from falling off from the substrate holding cassette 20. Act as a means. Since such a drop-off preventing means is provided, and the above-mentioned cassette supporting member 45 serves to reinforce the substrate holding cassette 20, the substrate holding cassette 20 can be made small as described above. It has become.

【0032】なお、前述したように、上記基板受け部材
48は、基板3を該基板3の主面に平行な方向において
挟むように複数、この場合一対設けられている。このよ
うに、複数の基板受け部材48を以て基板3を挟むよう
に受けているので、基板3が安定し、脱落を確実に防止
することが出来る。また、図6から明らかなように、該
基板受け部材48は、遠心力作用方向に対して略垂直に
して基板3の中心を通る仮想直線50上若しくはその近
傍に配置される。かかる構成の故、基板3の脱落を防止
すべく、最も有効に受ける状態となっている。
As described above, a plurality of, in this case, a pair of, the substrate receiving members 48 are provided so as to sandwich the substrate 3 in a direction parallel to the main surface of the substrate 3. As described above, since the substrate 3 is sandwiched between the plurality of substrate receiving members 48, the substrate 3 is stabilized, and the falling off can be reliably prevented. As is clear from FIG. 6, the substrate receiving member 48 is disposed on or near an imaginary straight line 50 passing through the center of the substrate 3 substantially perpendicularly to the direction of the centrifugal force. Due to such a configuration, the substrate 3 is most effectively received in order to prevent the substrate 3 from falling off.

【0033】ここで、クレードル31に対する上記基板
受け部材48の取付け構造について詳述する。
Here, the mounting structure of the board receiving member 48 to the cradle 31 will be described in detail.

【0034】図8に示すように、基板受け部材48の背
面側に段差部48bが形成されており、図6にも示すよ
うにこの段差部48bを以てクレードル31のケース4
1の上縁に載置するように配設している。なお、図5に
も示すように、ケース41の上縁部には外方に向って伸
びる拡径部41dが形成されているが、基板受け部材4
8が設けられ部分については範囲R(図5参照)に亘っ
て該拡径部41dは除かれている。
As shown in FIG. 8, a step portion 48b is formed on the back side of the substrate receiving member 48. As shown in FIG. 6, the case 4 of the cradle 31 is provided with the step portion 48b.
1 to be placed on the upper edge. As shown in FIG. 5, an enlarged diameter portion 41d extending outward is formed at the upper edge of the case 41.
8, the enlarged diameter portion 41d is removed over a range R (see FIG. 5).

【0035】図5及び図6に示すように、基板受け部材
48との間にケース41の上部を挟むように矩形状の取
付プレート52が設けられており、該取付プレート52
はその下部において基板受け部材48と共にケース41
に対して小ねじ53により締結されている。また、取付
プレート52の上部は基板受け部材48に対して小ねじ
53により締結されている。なお、図8から明らかなよ
うに、基板受け部材48には、これら小ねじ53が挿通
される挿通孔48dが形成されている。
As shown in FIGS. 5 and 6, a rectangular mounting plate 52 is provided so as to sandwich the upper portion of the case 41 between the mounting plate 52 and the substrate receiving member 48.
At the bottom thereof together with the substrate receiving member 48, the case 41
Are tightened with small screws 53. The upper portion of the mounting plate 52 is fastened to the board receiving member 48 by a small screw 53. As is apparent from FIG. 8, the substrate receiving member 48 has an insertion hole 48d through which the small screw 53 is inserted.

【0036】続いて、上記した構成の遠心乾燥装置の動
作を簡単に説明する。
Next, the operation of the centrifugal drying apparatus having the above-described configuration will be briefly described.

【0037】まず、図1において、チャンバー34上に
設けられた蓋体35をこれを作動させるシリンダ(図示
せず)により開かせる。そして、他のシリンダ(図示せ
ず)の作動を以て各クレードル31を上方に回動させて
待機させる。
First, in FIG. 1, the lid 35 provided on the chamber 34 is opened by a cylinder (not shown) for operating the lid 35. Then, each cradle 31 is rotated upward by the operation of another cylinder (not shown) to stand by.

【0038】この状態において、乾燥すべき基板3を収
容した基板保持カセット20を該クレードル31内に入
れ、該クレードル31の底部に設けられたカセット支承
部材45上に載置する。この時、クレードル31に設け
られた基板受け部材48の各受け溝48aに各基板3を
係合させる。
In this state, the substrate holding cassette 20 accommodating the substrate 3 to be dried is put in the cradle 31, and is placed on the cassette supporting member 45 provided at the bottom of the cradle 31. At this time, each substrate 3 is engaged with each receiving groove 48a of the substrate receiving member 48 provided in the cradle 31.

【0039】次に、上記の各シリンダを逆作動させ、各
クレードル31を下方に回動させると共に、チャンバー
34上の蓋体35を閉じる。このようにクレードル31
が下方に回動することによって各基板3はその主面がタ
ーンテーブル1の回転中心1a(図1参照)に対して略
垂直となる。この状態でターンテーブル1を回転駆動す
る。これによって各基板3に遠心力が作用し、基板3の
表面に付着している液体が飛散する。
Next, the above-mentioned cylinders are operated in reverse, each cradle 31 is rotated downward, and the lid 35 on the chamber 34 is closed. Thus, cradle 31
Is rotated downward, so that the main surface of each substrate 3 is substantially perpendicular to the rotation center 1a of the turntable 1 (see FIG. 1). In this state, the turntable 1 is driven to rotate. As a result, a centrifugal force acts on each substrate 3 and the liquid adhering to the surface of the substrate 3 is scattered.

【0040】各基板3の表面から液体が取り除かれて乾
燥が完了したら、ターンテーブル1を停止する。そし
て、クレードル31を上方に回動させると共に、蓋体3
5を開く。この状態で基板3をこれを保持した基板保持
カセット20と共に回収する。
When the liquid is removed from the surface of each substrate 3 and drying is completed, the turntable 1 is stopped. Then, while rotating the cradle 31 upward, the lid 3
Open 5. In this state, the substrate 3 is collected together with the substrate holding cassette 20 holding the substrate.

【0041】なお、クレードル31に対する基板保持カ
セット20の搬入及び搬出は従来の基板保持カセットと
同様に単時間に簡単にこれを行うことができる。
The loading and unloading of the substrate holding cassette 20 with respect to the cradle 31 can be easily performed in a single time, similarly to the conventional substrate holding cassette.

【0042】ところで、本実施例においては、基板保持
カセット20からの基板3の脱落を防止する手段として
基板受け部材48を設けているが、この他の脱落防止手
段として例えば、クレードル31自体に専用の蓋体(図
示せず)を開閉自在に設けることが考えられる。しかし
ながら、このように蓋体を設けると、構成が比較的複雑
になると共に、基板保持カセット20の出し入れの都度
この蓋体を操作しなければならず、時間的ロスの増大を
招来する。
In the present embodiment, the substrate receiving member 48 is provided as means for preventing the substrate 3 from falling off from the substrate holding cassette 20. However, as another means for preventing the substrate 3 from falling off, for example, the cradle 31 itself is dedicated. It is conceivable to provide a lid (not shown) that can be freely opened and closed. However, when the lid is provided in this manner, the configuration becomes relatively complicated, and this lid must be operated each time the substrate holding cassette 20 is taken in and out, resulting in an increase in time loss.

【0043】なお、本実施例においては、取り扱われる
基板3が、例えばその直径が8インチ(約200mm)
のシリコンウエハーであるが、これより大径あるいは小
径のシリコンウエハーを扱う場合には基盤保持カセット
20の諸寸法を適宜増減させることは勿論のこと、本実
施例におけるような円形ではない基板を扱う場合にはそ
れに応じて各部寸法等を変化させることは言及するまで
もない。
In this embodiment, the substrate 3 to be handled has a diameter of, for example, 8 inches (about 200 mm).
When handling a silicon wafer having a larger diameter or a smaller diameter, not only the various dimensions of the substrate holding cassette 20 are appropriately increased or decreased, but also a substrate which is not circular as in the present embodiment is handled. In this case, it is needless to mention that the dimensions of each part are changed in accordance with the case.

【0044】 また、本実施例の遠心乾燥装
置は、ターンテーブル1の回転中心1aが重力方向と略
一致する状態にて設置されるが、この他、回転中心が水
平となる遠心乾燥装置に関しても本発明を適用すること
が可能である。
The centrifugal drying apparatus of the present embodiment is installed with the rotation center 1a of the turntable 1 substantially coincident with the direction of gravity. In addition, the centrifugal drying apparatus in which the rotation center is horizontal is also used. The present invention can be applied.

【0045】図9は、図1に示した遠心乾燥装置にカセ
ット部材として装備されるべき他のクレードル61を示
すものである。なお、当該クレードル61は、以下に説
明する部分以外は図5乃至図8に基づいて説明したクレ
ードル31と同様に構成されているので、クレードル全
体としての説明は省略し要部の説明に留める。また、以
下の説明において、該クレードル31の構成部分と同一
の構成部分については同じ参照符号を用いている。
FIG. 9 shows another cradle 61 to be provided as a cassette member in the centrifugal drying apparatus shown in FIG. Note that the cradle 61 has the same configuration as the cradle 31 described with reference to FIGS. 5 to 8 except for the parts described below, so that the description of the cradle as a whole will be omitted and only the main part will be described. In the following description, the same components as those of the cradle 31 are denoted by the same reference numerals.

【0046】図9に示すように、当該クレードル61に
おいては、基板保持カセット20を遠心力作用方向側に
おいて支承すべく一対設けられたカセット支承部材62
が、上記クレードル31が具備するカセット支承部材4
5とは異なっている。なお、これら一対のカセット支承
部材62は互いに同形状、同寸法にて形成されており、
上記クレードル31と同様の材質にて成形されている。
As shown in FIG. 9, in the cradle 61, a pair of cassette supporting members 62 provided to support the substrate holding cassette 20 on the side of the centrifugal force acting direction.
The cassette support member 4 provided in the cradle 31
5 is different. The pair of cassette support members 62 are formed in the same shape and the same size as each other.
The cradle 31 is formed of the same material.

【0047】図10乃至図12に当該カセット支承部材
62の詳細を示す。該各図から明らかなように、該カセ
ット支承部材62には上下2段の平坦な支承面62a及
び62bが形成されており、図9に示すように、基板保
持カセット20は、その具備した4本の基板支持部材2
1がこれら支承面62a、62bによって略全長に亘っ
て支承される。
FIGS. 10 to 12 show the details of the cassette support member 62. FIG. As is apparent from the drawings, the cassette support member 62 has upper and lower flat support surfaces 62a and 62b formed thereon, and as shown in FIG. Book substrate support member 2
1 is supported by these bearing surfaces 62a and 62b over substantially the entire length.

【0048】カセット支承部材62には、上記支承面6
2bの近傍に、その底面62cに対して垂直に伸長する
基板受部62dが形成されており、該基板受部62dの
頂部には、各基板3の外周部が係合する多数の受け溝6
2eが並設されている。そして、図9から明らかなよう
に、基板保持カセット20が該カセット支承部材62に
より支承された状態において、各基板3は該受け溝62
eに係合して保持され、基板保持カセット20(の基板
支持部材21に形成された受け溝21b)から離脱する
ようになされている。なお、このとき、各基板3は、上
方に配設された基板受け部材48の受け溝48aにも係
合する。このように、基板3をクレードル61内に装填
したときに各受け溝によりしっかりと支える構成の故、
基板3が安定し、高速回転による良好な乾燥状態が得ら
れる。また、各基板3が基板保持カセット20からカセ
ット支承部材62に受け渡された状態で遠心乾燥が行わ
れるから、該基板保持カセット20の摩耗が抑えられ
る。
The cassette bearing member 62 has the bearing surface 6
2b, a substrate receiving portion 62d extending perpendicular to the bottom surface 62c is formed, and a plurality of receiving grooves 6 with which the outer peripheral portion of each substrate 3 engages are formed on the top of the substrate receiving portion 62d.
2e are juxtaposed. As is apparent from FIG. 9, when the substrate holding cassette 20 is supported by the cassette supporting member 62, each substrate 3 is inserted into the receiving groove 62.
e, and is detached from the substrate holding cassette 20 (the receiving groove 21b formed in the substrate supporting member 21). At this time, each substrate 3 also engages with the receiving groove 48a of the substrate receiving member 48 disposed above. As described above, when the substrate 3 is loaded into the cradle 61, it is firmly supported by each receiving groove.
The substrate 3 is stable, and a good dry state by high-speed rotation can be obtained. Further, since the centrifugal drying is performed in a state where each substrate 3 is transferred from the substrate holding cassette 20 to the cassette supporting member 62, the wear of the substrate holding cassette 20 is suppressed.

【0049】なお、図10及び図11に示すように、カ
セット支承部材62には、該カセット支承部材62をク
レードル本体としてのケース41に対して締結するため
のボルト(図示せず)が挿通される挿通孔62fが形成
されている。また、上記した各支承面62a、62bよ
りも低い位置に底面が位置する凹部62gが形成され、
該凹部62gの底面には貫通孔62hが形成されてい
る。これら凹部62g及び貫通孔62hは、基板保持カ
セット20がその保持した基板3と共に該カセット支承
部材62上に載置されたときに、該基板保持カセット2
0及び基板3から滴下する液体を集めてクレードル61
の下方に落とすためのものである。
As shown in FIGS. 10 and 11, a bolt (not shown) for fastening the cassette support member 62 to the case 41 as a cradle body is inserted through the cassette support member 62. Insertion hole 62f is formed. In addition, a concave portion 62g whose bottom surface is located at a position lower than the above-described bearing surfaces 62a and 62b is formed,
A through hole 62h is formed in the bottom surface of the concave portion 62g. When the substrate holding cassette 20 is placed on the cassette supporting member 62 together with the substrate 3 held by the substrate holding cassette 20, the concave portion 62g and the through hole 62h
0 and the liquid dropped from the substrate 3 are collected into a cradle 61.
It is for dropping below.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による遠心
乾燥装置においては、基板保持カセットを遠心力作用方
向側にて支承して該基板保持カセットに対する補強作用
をなすカセット支承部材と、該基板保持カセットからの
基板の脱落を防止する脱落防止手段を有し、以て、該基
板保持カセットの小型化を可能としている。具体的に
は、保持する基板の主面に平行な方向における該基板保
持カセットの最大寸法を該方向における基板の外形寸法
よりも小としている。このように小型の基板保持カセッ
トの使用を可能としたため、大径の基板の乾燥用として
も十分に小型化できるという効果がある。また、小型の
基板保持カセットは、これに付着する液体の量が少ない
ことから乾燥が迅速に行われると共に、空気との接触面
積が小さい故に、基板に悪影響を及ぼす静電気の発生を
抑えることができるという効果が得られる。
As described above, in the centrifugal drying apparatus according to the present invention, a cassette supporting member for supporting the substrate holding cassette on the side of the centrifugal force acting to perform a reinforcing action on the substrate holding cassette, It has a drop-off preventing means for preventing the substrate from dropping out of the holding cassette, thereby making it possible to reduce the size of the substrate holding cassette. Specifically, the maximum dimension of the substrate holding cassette in a direction parallel to the main surface of the substrate to be held is smaller than the outer dimension of the substrate in the direction. Since a small substrate holding cassette can be used in this way, there is an effect that the substrate can be sufficiently reduced in size for drying a large-diameter substrate. In addition, a small substrate holding cassette can be dried quickly due to a small amount of liquid adhering thereto, and can suppress generation of static electricity which adversely affects the substrate due to a small contact area with air. The effect is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の実施例としての遠心乾燥装置
の縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a centrifugal drying apparatus as an embodiment of the present invention.

【図2】図2は、図1に示した遠心乾燥装置に装填され
るべき基板保持カセット及び該カセットに保持された基
板を示す一部断面を含む側面図である。
FIG. 2 is a side view including a partial cross section showing a substrate holding cassette to be loaded into the centrifugal drying apparatus shown in FIG. 1 and substrates held in the cassette.

【図3】図3は、図2に示した基板保持カセット及び基
板の、半断面を含む正面図である。
FIG. 3 is a front view including a half section of the substrate holding cassette and the substrate shown in FIG. 2;

【図4】図4は、図2及び図3に示した基板保持カセッ
トが具備する基板支持部材とこれにより保持される基板
の一部を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a substrate supporting member included in the substrate holding cassette shown in FIGS. 2 and 3, and a part of a substrate held by the substrate supporting member.

【図5】図5は、図1に示した遠心乾燥装置が具備した
カセット保持部材としてのクレードルと該クレードルに
収容された基板保持カセットを示す縦断面図である。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a cradle as a cassette holding member provided in the centrifugal drying device shown in FIG. 1 and a substrate holding cassette housed in the cradle.

【図6】図6は、図5に関するA−A矢視図である。FIG. 6 is a view on arrow AA of FIG. 5;

【図7】図7は、図5及び図6に示したクレードルに設
けられたカセット支承部材を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a cassette support member provided in the cradle shown in FIGS. 5 and 6;

【図8】図8は、図5及び図6に示したクレードルに設
けられた脱落防止手段としての基板受け部材の斜視図で
ある。
FIG. 8 is a perspective view of a board receiving member as a drop-off preventing means provided on the cradle shown in FIGS. 5 and 6.

【図9】図9は、図1に示した遠心乾燥装置にカセット
保持部材として装備されるべき他のクレードルと該クレ
ードルに収容された基板保持カセットを示す縦断面図で
ある。
FIG. 9 is a longitudinal sectional view showing another cradle to be provided as a cassette holding member in the centrifugal drying apparatus shown in FIG. 1 and a substrate holding cassette housed in the cradle.

【図10】図10は、図9に示したクレードルが具備す
るカセット支承部材の側面図である。
FIG. 10 is a side view of a cassette support member provided in the cradle shown in FIG. 9;

【図11】図11は、図10に関するE−E矢視図であ
る。
FIG. 11 is a view taken in the direction of arrows EE in FIG. 10;

【図12】図12は、図10に関するF−F矢視図であ
る。
FIG. 12 is a view on arrow FF in FIG. 10;

【図13】図13は、従来の遠心乾燥装置の縦断面図で
ある。
FIG. 13 is a longitudinal sectional view of a conventional centrifugal dryer.

【図14】図14は、図13に示した遠心乾燥装置に装
填されるべき基板保持カセットの縦断面図である。
FIG. 14 is a longitudinal sectional view of a substrate holding cassette to be loaded into the centrifugal drying device shown in FIG.

【図15】図15は、図14に関するC−C断面図であ
る。
FIG. 15 is a sectional view taken along the line CC of FIG. 14;

【図16】図16は、図13に示した遠心乾燥装置に装
填されるべき他の基板保持カセットの縦断面図である。
FIG. 16 is a longitudinal sectional view of another substrate holding cassette to be loaded in the centrifugal drying device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ターンテーブル(回転体) 1a 回転中心 3 基板 8 モータ 20 基板保持カセット 21 基板支持部材 22 側部材 25 取手 29 ハンガー部材 31、61 クレードル(カセット保持部
材) 41 ケース 45、62 カセット支承部材 48 基板受け部材(脱落防止手段)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Turntable (rotary body) 1a Rotation center 3 Substrate 8 Motor 20 Substrate holding cassette 21 Substrate support member 22 Side member 25 Handle 29 Hanger member 31, 61 Cradle (cassette holding member) 41 Case 45, 62 Cassette support member 48 Substrate receiver Members (means for preventing falling off)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/304 651 F26B 5/08 F26B 11/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/304 651 F26B 5/08 F26B 11/08

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 長手方向に沿って基板の外周部が係合す
る複数の受け溝を有し前記基板の外周に沿って互いに平
行に、かつ離間して配置された複数の基板支持部材と、
前記基板支持部材各々の端部同士を相互結合する平板状
の側部材とを有する基板保持カセットの前記受け溝に係
合して保持された前記基板の主面を回転体の回転中心に
対して直交するように装填して該回転体を回転駆動する
ことにより前記基板を乾燥させる遠心乾燥装置であっ
て、前記基板支持部材は、前記側部材の下方に位置して前記
側部材に取り付けられた第1の基板支持部材と、前記第
1の基板支持部材よりも上方に位置して前記側部材に取
り付けられた第2の基板支持部材とからなり、 前記回転体上に設けられて前記基板保持カセットを着脱
自在に収容保持するカセット保持部材と、前記カセット
保持部材の上部に矩形板状で基板の整列方向に延在して
設けられて長手方向に前記基板の外周部が係合する複数
の受け溝を有して前記基板の脱落を防止する複数の基板
受け部材と、前記カセット保持部材の底部に離間して設
けられ、前記基板保持カセットを支承する複数のカセッ
ト支承部材とを有し、 前記カセット支承部材は、前記第1の基板支持部材を支
承する第1の支承面と、前記第2の基板支持部材を支承
する第2の支承面とを有し、前記基板保持カセットを前
記基板の外形寸法より内側の位置で支承することを特徴
とする遠心乾燥装置。
A plurality of substrate supporting members having a plurality of receiving grooves with which an outer peripheral portion of the substrate is engaged along a longitudinal direction, the plurality of substrate supporting members being arranged parallel to and separated from each other along the outer periphery of the substrate ;
A main surface of the substrate held and engaged with the receiving groove of the substrate holding cassette having a flat plate-shaped side member interconnecting the ends of the substrate supporting members with respect to a rotation center of a rotating body; A centrifugal drying device that dries the substrate by being loaded so as to be orthogonal and rotating the rotating body, wherein the substrate support member is located below the side member and
A first substrate supporting member attached to a side member;
1 and is located above the substrate supporting member.
Ri Tagged consists of a second substrate supporting member, the substrate wherein provided on the rotating body and the cassette holding member for detachably accommodating hold the substrate holding cassette, in a rectangular plate shape at the top of the cassette holding member A plurality of substrate receiving members which are provided extending in the alignment direction and have a plurality of receiving grooves with which the outer peripheral portion of the substrate is engaged in the longitudinal direction to prevent the substrate from falling off; and provided apart from the bottom, and a plurality of cassettes bearing member for supporting the substrate holding cassette, the cassette supporting member includes a first bearing surface for supporting the first substrate supporting member, pre-Symbol A second support surface for supporting a second substrate support member, wherein the substrate holding cassette is supported at a position inside the outer dimensions of the substrate.
【請求項2】 前記カセット保持部材は、前記回転体の
回転中心から偏倚した位置となることを特徴とする請求
項1記載の遠心乾燥装置。
2. The centrifugal drying apparatus according to claim 1, wherein the cassette holding member is located at a position deviated from a rotation center of the rotating body.
【請求項3】 前記カセット保持部材は、前記基板の主
面が前記回転体の回転中心に対して略直交する状態にな
る位置と略平行になる位置との間で移動可能であること
を特徴とする請求項1又は請求項2記載の遠心乾燥装
置。
3. The cassette holding member is movable between a position at which a main surface of the substrate is substantially perpendicular to a rotation center of the rotator and a position at which the main surface is substantially parallel to the rotation center of the rotator. The centrifugal drying device according to claim 1 or 2, wherein
【請求項4】 前記基板受け部材は、前記基板を該基板
の主面に平行な方向において挟むように設けられ、遠心
力作用方向に対して略垂直であって前記基板の中心を通
る仮想直線上若しくはその近傍に配置されていることを
特徴とする請求項1乃至請求項3のうちいずれか1記載
の遠心乾燥装置。
4. The substrate receiving member, wherein the substrate receives the substrate
Provided in a direction parallel to the main surface of the
The centrifugal drying apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the centrifugal drying apparatus is disposed on or near a virtual straight line that is substantially perpendicular to the direction of the force and passes through the center of the substrate. .
【請求項5】 前記側部材は前記基板の主面に平行な方
向における上端部の幅が前記基板の外形寸法より小であ
ることを特徴とする請求項1乃至請求項4のうちいずれ
か1記載の遠心乾燥装置。
5. The side member according to claim 1, wherein a width of an upper end in a direction parallel to a main surface of the substrate is smaller than an outer dimension of the substrate. The centrifugal drying device according to the above.
【請求項6】 前記カセット支承部材は、前記基板の外
周部が係合する複数の受け溝を有する基板受部を有し、
前記基板は、前記基板保持カセットが前記カセット支承
部材により支承された状態において前記基板受部の前記
受け溝に係合して前記基板保持カセットから離脱するこ
とを特徴とする請求項1乃至請求項5のうちいずれか1
記載の遠心乾燥装置。
6. The cassette supporting member has a substrate receiving portion having a plurality of receiving grooves with which an outer peripheral portion of the substrate is engaged,
2. The substrate according to claim 1, wherein the substrate is detached from the substrate holding cassette by engaging with the receiving groove of the substrate receiving portion when the substrate holding cassette is supported by the cassette supporting member. Any one of 5
The centrifugal drying device according to the above.
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