JP3199887B2 - 印刷プレートにおけるまたはそれに関する改良 - Google Patents
印刷プレートにおけるまたはそれに関する改良Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放射線感受性組成物に
関し、特に、タンニング現像が可能であり、印刷プレー
トの調製に有用な、ハロゲン化銀光感受性物質をベース
とした組成物に関する。
関し、特に、タンニング現像が可能であり、印刷プレー
トの調製に有用な、ハロゲン化銀光感受性物質をベース
とした組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】タンニング現像されてレリーフ像を形成
し得るハロゲン化銀光感受性物質は、公知であり、例え
ば、T H Jamesにより「The Theory of the Photographi
c Process」、第4版、326-327頁 (1977)に記載されてい
る。ハロゲン化銀光感受性物質をベースとした放射線感
受性プレートのタンニング現像はまた、印刷プレートの
製造に使用されてきたそのような印刷プレートは、例え
ば、英国特許第726,543号、第978,744号、第1,084,512
号、第1,112,393号、第1,318,213号、第1,547,040号、
第1,547,350号、第1,567,844号、第1,571,155号、第1,5
90,058号および第2,040,060号、ならびに米国特許第3,6
20,737号、第3,669,018号および第4,115,118号に記載さ
れている。
し得るハロゲン化銀光感受性物質は、公知であり、例え
ば、T H Jamesにより「The Theory of the Photographi
c Process」、第4版、326-327頁 (1977)に記載されてい
る。ハロゲン化銀光感受性物質をベースとした放射線感
受性プレートのタンニング現像はまた、印刷プレートの
製造に使用されてきたそのような印刷プレートは、例え
ば、英国特許第726,543号、第978,744号、第1,084,512
号、第1,112,393号、第1,318,213号、第1,547,040号、
第1,547,350号、第1,567,844号、第1,571,155号、第1,5
90,058号および第2,040,060号、ならびに米国特許第3,6
20,737号、第3,669,018号および第4,115,118号に記載さ
れている。
【０００３】上記特許に記載の方法によって製造された
印刷プレートには、多数の欠点がある。これらの欠点
は、架橋可能（タンニング可能）な物質としてゼラチン
を用いることに起因し、以下の通りである： １．像のインク受容性が不十分であること； ２．像の水に対する感受性が過剰であること；および ３．像の耐摩耗性が不十分であること。
印刷プレートには、多数の欠点がある。これらの欠点
は、架橋可能（タンニング可能）な物質としてゼラチン
を用いることに起因し、以下の通りである： １．像のインク受容性が不十分であること； ２．像の水に対する感受性が過剰であること；および ３．像の耐摩耗性が不十分であること。
【０００４】欠点（１）は、英国特許第1,567,844号、
第1,571,155号および第1,590,058号に記載されるよう
に、親油性物質をハロゲン化銀に加えること、または親
油性オーバーコートを塗布することによって克服され得
る。しかし、欠点（２）および（３）は、これらの特許
の教示に従っても克服されず、印刷可能な枚数が少ない
という問題点となって現れる。
第1,571,155号および第1,590,058号に記載されるよう
に、親油性物質をハロゲン化銀に加えること、または親
油性オーバーコートを塗布することによって克服され得
る。しかし、欠点（２）および（３）は、これらの特許
の教示に従っても克服されず、印刷可能な枚数が少ない
という問題点となって現れる。
【０００５】
【発明の要旨】本発明の目的は、これらの欠点を克服
し、印刷寿命の長い印刷プレートの製造に用い得る、放
射線感受性の高い、放射線感受性プレートを提供するこ
とである。
し、印刷寿命の長い印刷プレートの製造に用い得る、放
射線感受性の高い、放射線感受性プレートを提供するこ
とである。
【０００６】本発明の１つの局面によると、ハロゲン化
銀光感受性物質を、複数の第一アミノ基を含む水性また
は半水性アルカリ溶液に溶解可能な疎水性合成樹脂との
混合物として含む、放射線感受性組成物が提供される。
銀光感受性物質を、複数の第一アミノ基を含む水性また
は半水性アルカリ溶液に溶解可能な疎水性合成樹脂との
混合物として含む、放射線感受性組成物が提供される。
【０００７】本発明の放射線感受性組成物は、親水性表
面を有する基板にコーティングされ、放射線感受性プレ
ートを形成し得る。このようなプレートは、印刷プレー
トを製造するのに使用され得る。
面を有する基板にコーティングされ、放射線感受性プレ
ートを形成し得る。このようなプレートは、印刷プレー
トを製造するのに使用され得る。
【０００８】本発明の他の局面によると、リトグラフ印
刷プレートを調製する方法が提供される。この方法は、
以下の工程を包含する： （ｉ）ハロゲン化銀光感受性物質を、複数の第一アミノ
基を含む水性または半水性アルカリ溶液に溶解可能な疎
水性合成樹脂との混合物として含む、放射線感受性組成
物の層でコーティングされた親水性表面を有する基板を
含む、放射線感受性プレートを提供する工程； （ｉｉ）該組成物を、印刷すべき像に対応したパターン
の化学線の照射にさらす工程： （ｉｉｉ）タンニング現像剤の存在下で、露光された該
組成物をタンニング現像し、これにより該組成物の被照
射領域をタンニングさせる工程；および （ｉｖ）該組成物のタンニングしていない領域を洗浄除
去し、該組成物のタンニングした領域をレリーフ像とし
て残しながら、該基板の親水性表面を露出させる工程。
刷プレートを調製する方法が提供される。この方法は、
以下の工程を包含する： （ｉ）ハロゲン化銀光感受性物質を、複数の第一アミノ
基を含む水性または半水性アルカリ溶液に溶解可能な疎
水性合成樹脂との混合物として含む、放射線感受性組成
物の層でコーティングされた親水性表面を有する基板を
含む、放射線感受性プレートを提供する工程； （ｉｉ）該組成物を、印刷すべき像に対応したパターン
の化学線の照射にさらす工程： （ｉｉｉ）タンニング現像剤の存在下で、露光された該
組成物をタンニング現像し、これにより該組成物の被照
射領域をタンニングさせる工程；および （ｉｖ）該組成物のタンニングしていない領域を洗浄除
去し、該組成物のタンニングした領域をレリーフ像とし
て残しながら、該基板の親水性表面を露出させる工程。
【０００９】
【発明の構成】本発明に従って使用される疎水性合成樹
脂は、親油性、タンニング性および水性媒体への溶解性
という特性を組み合わせて有しており、そして以下の特
徴を有している： １．複数のアミノ基； ２．水性または半水性アルカリ溶液への溶解性；および ３．アミノ基を介して架橋（タンニング）された際の、
水に対する低感受性。 特に好ましい実施態様において、合成樹脂は、第一アミ
ノ基および疎水性基に加えて酸性基を含む。
脂は、親油性、タンニング性および水性媒体への溶解性
という特性を組み合わせて有しており、そして以下の特
徴を有している： １．複数のアミノ基； ２．水性または半水性アルカリ溶液への溶解性；および ３．アミノ基を介して架橋（タンニング）された際の、
水に対する低感受性。 特に好ましい実施態様において、合成樹脂は、第一アミ
ノ基および疎水性基に加えて酸性基を含む。
【００１０】このタイプの適切な樹脂は、繰り返し単位
（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を含む付加ポリマーであ
り、ここで、単位（ａ）は、１つまたはそれ以上の第一
アミノ基を含むエチレン性不飽和モノマーから誘導さ
れ、単位（ｂ）は、カルボン酸基、スルホン酸基、ホス
ホン酸基、スルフィン酸基、ホスフィン酸基などの酸
基、およびスルホンアミド基のような酸性基を１つまた
はそれ以上含む、エチレン性不飽和モノマーから誘導さ
れ、単位（ｃ）は、アルキル基およびアリール基のよう
な疎水性基を１つまたはそれ以上含む、エチレン性不飽
和モノマーから誘導される。
（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を含む付加ポリマーであ
り、ここで、単位（ａ）は、１つまたはそれ以上の第一
アミノ基を含むエチレン性不飽和モノマーから誘導さ
れ、単位（ｂ）は、カルボン酸基、スルホン酸基、ホス
ホン酸基、スルフィン酸基、ホスフィン酸基などの酸
基、およびスルホンアミド基のような酸性基を１つまた
はそれ以上含む、エチレン性不飽和モノマーから誘導さ
れ、単位（ｃ）は、アルキル基およびアリール基のよう
な疎水性基を１つまたはそれ以上含む、エチレン性不飽
和モノマーから誘導される。
【００１１】一般に、これらの両性付加ポリマーは、等
電点が４から８、好ましくは５から７であり、ゲル浸透
クロマトグラフィーによって決定される数平均分子量が
５，０００から２００，０００の範囲にあり得る。この
ポリマーは、単位（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の各々に
つき１つのタイプを必要とするが、１つより多くのタイ
プの単位（ａ）、１つより多くのタイプの単位（ｂ）お
よび／または１つより多くのタイプの単位（ｃ）を有し
得る。このようなポリマーは、１から２０モル％の第一
アミノ単位、５から４０モル％の酸性単位、および１０
から８５モル％の疎水性単位を含むのが好ましい。
電点が４から８、好ましくは５から７であり、ゲル浸透
クロマトグラフィーによって決定される数平均分子量が
５，０００から２００，０００の範囲にあり得る。この
ポリマーは、単位（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の各々に
つき１つのタイプを必要とするが、１つより多くのタイ
プの単位（ａ）、１つより多くのタイプの単位（ｂ）お
よび／または１つより多くのタイプの単位（ｃ）を有し
得る。このようなポリマーは、１から２０モル％の第一
アミノ単位、５から４０モル％の酸性単位、および１０
から８５モル％の疎水性単位を含むのが好ましい。
【００１２】適切な付加ポリマーの例としては、以下の
ものが挙げられる： １．それぞれ重量比で３：５：１：１のメタクリル酸、
メチルメタクリレート、ラウリルメタクリレートおよび
Ｎ−（３−アミノプロピル）メタクリルアミド塩酸塩か
ら誘導されるポリマー； ２．それぞれ重量比で２：７：１のメタクリル酸、メチ
ルメタクリレートおよびＮ−（３−アミノプロピル）メ
タクリルアミド塩酸塩から誘導されるポリマー；および ３．それぞれ重量比で３：５：１：１のメタクリル酸、
メチルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、およ
び２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩から誘導され
るポリマー。
ものが挙げられる： １．それぞれ重量比で３：５：１：１のメタクリル酸、
メチルメタクリレート、ラウリルメタクリレートおよび
Ｎ−（３−アミノプロピル）メタクリルアミド塩酸塩か
ら誘導されるポリマー； ２．それぞれ重量比で２：７：１のメタクリル酸、メチ
ルメタクリレートおよびＮ−（３−アミノプロピル）メ
タクリルアミド塩酸塩から誘導されるポリマー；および ３．それぞれ重量比で３：５：１：１のメタクリル酸、
メチルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、およ
び２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩から誘導され
るポリマー。
【００１３】前記付加ポリマーの調製に使用される、第
一アミノ基を含む適切なモノマーは、Ｎ−（３−アミノ
プロピル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）メタクリルアミド、２−アミノエチルメタクリレー
ト、２−アミノエチルアクリレート、３−アミノプロピ
ルアクリレート、３ーアミノ−２−ヒドロキシ−プロピ
ルメタクリレート、およびアリルアミンを含む。
一アミノ基を含む適切なモノマーは、Ｎ−（３−アミノ
プロピル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）メタクリルアミド、２−アミノエチルメタクリレー
ト、２−アミノエチルアクリレート、３−アミノプロピ
ルアクリレート、３ーアミノ−２−ヒドロキシ−プロピ
ルメタクリレート、およびアリルアミンを含む。
【００１４】前記付加ポリマーの調製に使用される、カ
ルボン酸を含む適切なモノマーは、メタクリル酸、アク
リル酸、イタコン酸、マレイン酸、およびマレイン酸モ
ノブチルを含む。
ルボン酸を含む適切なモノマーは、メタクリル酸、アク
リル酸、イタコン酸、マレイン酸、およびマレイン酸モ
ノブチルを含む。
【００１５】前記付加ポリマーの調製に使用される、疎
水性基を含む適切なモノマーは、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ラウリ
ルメタクリレート、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミ
ド、Ｎ−ｔｅｒｔ−オクチルメタクリルアミド、および
スチレンを含む。
水性基を含む適切なモノマーは、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ラウリ
ルメタクリレート、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミ
ド、Ｎ−ｔｅｒｔ−オクチルメタクリルアミド、および
スチレンを含む。
【００１６】前記付加ポリマーはまた、その存在によっ
てポリマーの特性、例えば、硬度、柔軟性、接着性、焼
成時の架橋等の特性が改変され得る、他のモノマーから
誘導され得る。しかし、このような他のモノマーは、ポ
リマーの前記特性、すなわち親油性、タンニング性およ
び水性媒体への溶解性を損なうような量で存在していて
はいけない。適切な他のモノマーの例としては、アクリ
ロニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、アクリルアミド、２ーヒドロキシエチルメタクリ
レート、および２−アクリルアミド−２−メチルプロパ
ン硫酸が挙げられる。
てポリマーの特性、例えば、硬度、柔軟性、接着性、焼
成時の架橋等の特性が改変され得る、他のモノマーから
誘導され得る。しかし、このような他のモノマーは、ポ
リマーの前記特性、すなわち親油性、タンニング性およ
び水性媒体への溶解性を損なうような量で存在していて
はいけない。適切な他のモノマーの例としては、アクリ
ロニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、アクリルアミド、２ーヒドロキシエチルメタクリ
レート、および２−アクリルアミド−２−メチルプロパ
ン硫酸が挙げられる。
【００１７】これらのモノマーは、フリーラジカル反応
によって、重合され、付加ポリマーを形成する。重合
は、エマルジョン法または溶液法によって行われ得る。
様々な開始剤が、重合において使用され得、どの開始剤
を選ぶかは、選択された重合条件および使用されるモノ
マーによって決定される。適切な開始剤の例としては、
アゾイソブチロニトリル；４,４1−アゾ−ビス（４シア
ノ−吉草酸）；過酸化ジ−ｔｅｒｔ−ブチル；過酸化水
素；２，２1−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジ
ン）ジヒドロクロリド；および過硫酸カリウムが挙げら
れる。水性イソプロパノール中での溶液重合が好まし
い。重合は、バッチまたは連続プロセスによって行われ
る。バッチプロセスでは、モノマーおよび開始剤が制御
されて付加され得る。
によって、重合され、付加ポリマーを形成する。重合
は、エマルジョン法または溶液法によって行われ得る。
様々な開始剤が、重合において使用され得、どの開始剤
を選ぶかは、選択された重合条件および使用されるモノ
マーによって決定される。適切な開始剤の例としては、
アゾイソブチロニトリル；４,４1−アゾ−ビス（４シア
ノ−吉草酸）；過酸化ジ−ｔｅｒｔ−ブチル；過酸化水
素；２，２1−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジ
ン）ジヒドロクロリド；および過硫酸カリウムが挙げら
れる。水性イソプロパノール中での溶液重合が好まし
い。重合は、バッチまたは連続プロセスによって行われ
る。バッチプロセスでは、モノマーおよび開始剤が制御
されて付加され得る。
【００１８】以上の方法の代わりに、適切な合成樹脂
は、既存のポリマーの改変によって入手し得る。
は、既存のポリマーの改変によって入手し得る。
【００１９】その例としては、以下のものが挙げられ
る： １．エタノールアミン塩酸塩との反応により第一アミノ
基およびカルボン酸基を含むポリマーを提供するように
改変された、スチレン−無水マレイン酸樹脂； ２．加水分解により遊離のアミノ基を生成するように改
変された、酸性基および疎水性基を有するポリビニルホ
ルムアミドコポリマー； ３．酸無水物または酸塩化物との反応により酸性基およ
び疎水性基を導入するように改変された、ポリアリルア
ミンポリマーまたはコポリマー；および ４．メチルアジリジンとの反応によりアミノ基を導入す
るように改変された、カルボキシルを含む疎水性ポリマ
ー。
る： １．エタノールアミン塩酸塩との反応により第一アミノ
基およびカルボン酸基を含むポリマーを提供するように
改変された、スチレン−無水マレイン酸樹脂； ２．加水分解により遊離のアミノ基を生成するように改
変された、酸性基および疎水性基を有するポリビニルホ
ルムアミドコポリマー； ３．酸無水物または酸塩化物との反応により酸性基およ
び疎水性基を導入するように改変された、ポリアリルア
ミンポリマーまたはコポリマー；および ４．メチルアジリジンとの反応によりアミノ基を導入す
るように改変された、カルボキシルを含む疎水性ポリマ
ー。
【００２０】本発明に従って使用される合成樹脂は、疎
水性および親油性であり、ハロゲン化銀のバインダーと
して通常使用されるゼラチンまたは他の親水性コロイド
を、部分的にまたは完全に置換する。一般に、これらの
合成樹脂は、Sherman Treaters Ltd（Thame, Oxon, OX9
3UW, 英国）によって提供される表面エネルギーペンを
用いて測定される表面自由エネルギーが、１センチ当り
７１ダイン未満であるこれらの合成樹脂が親油性である
ことは、リトグラフインクでこのポリマーの湿った膜を
こすることによって示し得る。この膜は、従来技術によ
るタンニング可能な親水性コロイドとは異なって、イン
クを受容する。
水性および親油性であり、ハロゲン化銀のバインダーと
して通常使用されるゼラチンまたは他の親水性コロイド
を、部分的にまたは完全に置換する。一般に、これらの
合成樹脂は、Sherman Treaters Ltd（Thame, Oxon, OX9
3UW, 英国）によって提供される表面エネルギーペンを
用いて測定される表面自由エネルギーが、１センチ当り
７１ダイン未満であるこれらの合成樹脂が親油性である
ことは、リトグラフインクでこのポリマーの湿った膜を
こすることによって示し得る。この膜は、従来技術によ
るタンニング可能な親水性コロイドとは異なって、イン
クを受容する。
【００２１】組成物に使用され得るハロゲン化銀の例と
しては、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀およびその混合物が
挙げられる。ハロゲン化銀の調製は、ゼラチンまたは他
の親水性コロイド中で、従来の方法を用いて行われ得
る。またはハロゲン化銀は、合成樹脂の溶液中で直接形
成され得る。所望されるなら、ハロゲン化銀は、ゼラチ
ンまたは他の親水性コロイド中で形成され、次いでその
ゼラチンまたは他の親水性コロイドが除去された後に、
ハロゲン化物がポリマーの溶液中に再分散され得る。好
ましくは、ハロゲン化銀は、少量のゼラチンまたは他の
親水性コロイド中で形成され、次いで、得られたハロゲ
ン化銀エマルジョンは凝集され、洗浄により溶解した塩
は除去され、コロイドが好ましくは合成樹脂の２０％未
満となるように、合成樹脂のアンモニア含有溶液中で再
分散される。ハロゲン化銀の適切な平均粒径は、約０．
０３から約２ミクロン、好ましくは、０．０３から０．
５ミクロンの範囲である。ハロゲン化銀は、Ｓ、Ａｕ、
Ｒｈ、Ｓｅ等の化合物により化学的に増感され得る。ハ
ロゲン化銀はまた、様々な増感染料によりスペクトル的
に増感され得る。湿潤剤、顔料、かぶり防止剤、安定
剤、殺菌剤等の他の添加剤もまた、ハロゲン化銀と共に
存在し得る。
しては、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀およびその混合物が
挙げられる。ハロゲン化銀の調製は、ゼラチンまたは他
の親水性コロイド中で、従来の方法を用いて行われ得
る。またはハロゲン化銀は、合成樹脂の溶液中で直接形
成され得る。所望されるなら、ハロゲン化銀は、ゼラチ
ンまたは他の親水性コロイド中で形成され、次いでその
ゼラチンまたは他の親水性コロイドが除去された後に、
ハロゲン化物がポリマーの溶液中に再分散され得る。好
ましくは、ハロゲン化銀は、少量のゼラチンまたは他の
親水性コロイド中で形成され、次いで、得られたハロゲ
ン化銀エマルジョンは凝集され、洗浄により溶解した塩
は除去され、コロイドが好ましくは合成樹脂の２０％未
満となるように、合成樹脂のアンモニア含有溶液中で再
分散される。ハロゲン化銀の適切な平均粒径は、約０．
０３から約２ミクロン、好ましくは、０．０３から０．
５ミクロンの範囲である。ハロゲン化銀は、Ｓ、Ａｕ、
Ｒｈ、Ｓｅ等の化合物により化学的に増感され得る。ハ
ロゲン化銀はまた、様々な増感染料によりスペクトル的
に増感され得る。湿潤剤、顔料、かぶり防止剤、安定
剤、殺菌剤等の他の添加剤もまた、ハロゲン化銀と共に
存在し得る。
【００２２】本発明の放射線感受性組成物が放射線感受
性プレートに形成されるとき、基板上の組成物のコーテ
ィング重量は、０．２から５ｇｍ-2、好ましくは０．４
から２．５ｇｍ-2の範囲で変化し得る。典型的な組成物
は、例えば、０．５ｇｍ-2のクロロ臭化銀、０．４５ｇ
ｍ-2の合成樹脂、および０．０５ｇｍ-2のゼラチンを含
有し得る。
性プレートに形成されるとき、基板上の組成物のコーテ
ィング重量は、０．２から５ｇｍ-2、好ましくは０．４
から２．５ｇｍ-2の範囲で変化し得る。典型的な組成物
は、例えば、０．５ｇｍ-2のクロロ臭化銀、０．４５ｇ
ｍ-2の合成樹脂、および０．０５ｇｍ-2のゼラチンを含
有し得る。
【００２３】放射線感受性層は、英国特許第1,571,155
号に記載されているように、アルカリ浸透性親油性樹脂
のオーバーコートを有し得る。このオーバーコートは、
系の親油性をさらに増加させる。典型的なオーバーコー
トは、スチレン−無水マレイン酸樹脂、フタロイル化ポ
リビニルブチラール、カルボキシル含有アクリル樹脂お
よびセルロースアセテートフタレートである。タンニン
グ現像剤は、オーバーコート中に存在するのが好まし
く、このオーバーコートは染料、顔料および少量の非ア
ルカリ浸透性樹脂を含み得る。
号に記載されているように、アルカリ浸透性親油性樹脂
のオーバーコートを有し得る。このオーバーコートは、
系の親油性をさらに増加させる。典型的なオーバーコー
トは、スチレン−無水マレイン酸樹脂、フタロイル化ポ
リビニルブチラール、カルボキシル含有アクリル樹脂お
よびセルロースアセテートフタレートである。タンニン
グ現像剤は、オーバーコート中に存在するのが好まし
く、このオーバーコートは染料、顔料および少量の非ア
ルカリ浸透性樹脂を含み得る。
【００２４】本願で使用される用語「タンニング現像」
とは、硬化反応が、印刷すべき像に対応したパターンの
露光後、コロイド層において引き起こされる、現像工程
を指す。タンニング現像剤は、それぞれが少なくとも１
つのヒドロキシル基を有するベンゼンまたはその誘導体
であり、好ましくは、１つまたはそれ以上のハロゲン原
子、アリール基、アミノ基、アルキル基、置換アルキル
基およびアルコキシ基で置換されたポリヒドロキシベン
ゼンである。タンニング現像剤は、現像液、放射線感受
性層、下層、またはオーバーコート中に存在し得る。適
切なタンニング現像剤の特定の例としては、ヒドロキノ
ン、ｔ−ブチルヒドロキノン、カテコール、フェニルカ
テコール、ピロガロール、ノルジヒドログアイアレチン
酸、および３，３，３1，３1，−テトラメチル−５，
６，５1，６1テトラヒドロキシスピロ−ビス−インダン
が挙げられる。
とは、硬化反応が、印刷すべき像に対応したパターンの
露光後、コロイド層において引き起こされる、現像工程
を指す。タンニング現像剤は、それぞれが少なくとも１
つのヒドロキシル基を有するベンゼンまたはその誘導体
であり、好ましくは、１つまたはそれ以上のハロゲン原
子、アリール基、アミノ基、アルキル基、置換アルキル
基およびアルコキシ基で置換されたポリヒドロキシベン
ゼンである。タンニング現像剤は、現像液、放射線感受
性層、下層、またはオーバーコート中に存在し得る。適
切なタンニング現像剤の特定の例としては、ヒドロキノ
ン、ｔ−ブチルヒドロキノン、カテコール、フェニルカ
テコール、ピロガロール、ノルジヒドログアイアレチン
酸、および３，３，３1，３1，−テトラメチル−５，
６，５1，６1テトラヒドロキシスピロ−ビス−インダン
が挙げられる。
【００２５】印刷すべき像に対応して露光された組成物
を現像する際に使用される現像液は、従来より現像液に
使用されてきた物質を含み得る。例えば、ＮａＯＨ、Ｋ
2ＣＯ3、ＫＨＣＯ3、Ｎａ3ＰＯ4、およびケイ酸ナトリ
ウムなどは、アルカリ剤として有用である。慣用的な付
加物、例えば、１−フェニル−３−ピラゾリドンが存在
し得る。付加物は、現像液に直接加えられるか、または
放射線感受性プレート中に存在し得る。膨張抑制剤とし
ての硫酸ナトリウムまたは他の不活性塩、酸化防止剤と
してのヒドロキシルアミン塩、かぶり防止剤としての６
−ニトロベンズイミダゾール塩およびアルカリ金属ハロ
ゲン化物、および可溶化剤としての２−メトキシプロパ
ノールのような他の付加物が使用され得る。硬水軟化
剤、湿潤剤、染料およびｐＨ緩衝剤等もまた存在し得
る。現像液のｐＨは、好ましくは約９から１４、最も好
ましくは約１０から１３．５である。現像液のｐＨおよ
び塩含量は、放射線感受性層が、現像工程中に膨張する
が、溶解しないように調整される。
を現像する際に使用される現像液は、従来より現像液に
使用されてきた物質を含み得る。例えば、ＮａＯＨ、Ｋ
2ＣＯ3、ＫＨＣＯ3、Ｎａ3ＰＯ4、およびケイ酸ナトリ
ウムなどは、アルカリ剤として有用である。慣用的な付
加物、例えば、１−フェニル−３−ピラゾリドンが存在
し得る。付加物は、現像液に直接加えられるか、または
放射線感受性プレート中に存在し得る。膨張抑制剤とし
ての硫酸ナトリウムまたは他の不活性塩、酸化防止剤と
してのヒドロキシルアミン塩、かぶり防止剤としての６
−ニトロベンズイミダゾール塩およびアルカリ金属ハロ
ゲン化物、および可溶化剤としての２−メトキシプロパ
ノールのような他の付加物が使用され得る。硬水軟化
剤、湿潤剤、染料およびｐＨ緩衝剤等もまた存在し得
る。現像液のｐＨは、好ましくは約９から１４、最も好
ましくは約１０から１３．５である。現像液のｐＨおよ
び塩含量は、放射線感受性層が、現像工程中に膨張する
が、溶解しないように調整される。
【００２６】タンニング現像後、露光されていない領域
は、簡単に洗浄除去されて、タンニングされた領域から
なるレリーフ像が生成される。この脱コーティングは、
水またはアルカリ溶液を用いて行われる。５０容量％ま
での水混和性溶剤が、脱コーティング溶液中に存在し得
る。仕上げ工程として、例えば、酸処理、多価イオンに
よる硬化、焼成等が含まれ得る。
は、簡単に洗浄除去されて、タンニングされた領域から
なるレリーフ像が生成される。この脱コーティングは、
水またはアルカリ溶液を用いて行われる。５０容量％ま
での水混和性溶剤が、脱コーティング溶液中に存在し得
る。仕上げ工程として、例えば、酸処理、多価イオンに
よる硬化、焼成等が含まれ得る。
【００２７】使用され得る親水性表面を有する基板の例
としては、ゼラチンをコーティングしたポリエチレンテ
レフタレート、合成紙、合成樹脂膜でラミネートした
紙、アルミニウムまたは亜鉛などの金属シート、および
このような金属フォイルでラミネートした紙または膜が
挙げられる。これらのうち、アルミニウムシートは、印
刷用に好ましく、特に、粗面仕上げをし、および陽極酸
化処理した表面を有するシートが好ましい。陽極酸化処
理したアルミニウムにはまた、陽極酸化の処理を、例え
ば、ケイ酸ナトリウム、アラビアゴム、ポリアクリル
酸、ポリビニルホスホン酸、ビニルホスホン酸／アクリ
ル酸コポリマー、リン酸ナトリウム、フルオロジルコニ
ウム酸カリウム、タンニン酸、またはカルボキシメチル
セルロースナトリウムで行い得る。
としては、ゼラチンをコーティングしたポリエチレンテ
レフタレート、合成紙、合成樹脂膜でラミネートした
紙、アルミニウムまたは亜鉛などの金属シート、および
このような金属フォイルでラミネートした紙または膜が
挙げられる。これらのうち、アルミニウムシートは、印
刷用に好ましく、特に、粗面仕上げをし、および陽極酸
化処理した表面を有するシートが好ましい。陽極酸化処
理したアルミニウムにはまた、陽極酸化の処理を、例え
ば、ケイ酸ナトリウム、アラビアゴム、ポリアクリル
酸、ポリビニルホスホン酸、ビニルホスホン酸／アクリ
ル酸コポリマー、リン酸ナトリウム、フルオロジルコニ
ウム酸カリウム、タンニン酸、またはカルボキシメチル
セルロースナトリウムで行い得る。
【００２８】所望されるなら、親水性の下塗り層が、基
板と放射線感受性層との間に使用され得る。下塗り層の
適切な例としては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよびカルボキ
シメチルセルロースナトリウムのような親水性ポリマー
の層が挙げられる。第一アミノ基を含む親水性ポリマー
が好ましい。
板と放射線感受性層との間に使用され得る。下塗り層の
適切な例としては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよびカルボキ
シメチルセルロースナトリウムのような親水性ポリマー
の層が挙げられる。第一アミノ基を含む親水性ポリマー
が好ましい。
【００２９】
【実施例】本発明を、以下の実施例により説明する。
【００３０】（実施例１）様々なポリマーを薄膜に成形
し、上記の表面エネルギーペンを用いてテストした。さ
らに、リトグラフインクを用いて、膜のインクの受容性
もテストした。
し、上記の表面エネルギーペンを用いてテストした。さ
らに、リトグラフインクを用いて、膜のインクの受容性
もテストした。
【００３１】使用したポリマー（重量％）および得られ
た結果を以下の表に示す。
た結果を以下の表に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】表中、△は、表面流体によって２秒間ぬれ
ていた膜表面であり、ポリマーの表面エネルギーが流体
の表面エネルギーよりも大きいことを示した。
ていた膜表面であり、ポリマーの表面エネルギーが流体
の表面エネルギーよりも大きいことを示した。
【００３４】Ｘは、表面エネルギー流体をはじいた膜表
面であり、ポリマーの表面エネルギーが流体の表面エネ
ルギーよりも小さいことを示した。
面であり、ポリマーの表面エネルギーが流体の表面エネ
ルギーよりも小さいことを示した。
【００３５】（実施例２）攪拌器、凝縮器および窒素引
入口／引出口を備えた５００ｍｌの丸底フラスコに、
４．０ｇの２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩の水
（１０５ｍｌ）溶液を入れた。この溶液に、１７．６ｇ
のメチルメタクリレート、４．７ｇのメタクリル酸、５
０ｍｇのアゾイソブチロニトリル、および２００ｍｌの
イソプロパノールからなる溶液を加えた。
入口／引出口を備えた５００ｍｌの丸底フラスコに、
４．０ｇの２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩の水
（１０５ｍｌ）溶液を入れた。この溶液に、１７．６ｇ
のメチルメタクリレート、４．７ｇのメタクリル酸、５
０ｍｇのアゾイソブチロニトリル、および２００ｍｌの
イソプロパノールからなる溶液を加えた。
【００３６】この溶液を窒素雰囲気下で、８５ー９０℃
で１８時間攪拌した。６および１２時間間隔をおいた
後、さらにアゾイソブチロニトリルを５０ｍｇずつ加え
た。１８時間後、この溶液の固形分は８．５％であり、
モノマーの含量は無視できる程度であった。
で１８時間攪拌した。６および１２時間間隔をおいた
後、さらにアゾイソブチロニトリルを５０ｍｇずつ加え
た。１８時間後、この溶液の固形分は８．５％であり、
モノマーの含量は無視できる程度であった。
【００３７】上記のポリマー溶液５０ｍｌに、０．８８
０のアンモニア溶液を加えた。沈澱物が生成し、さらに
アンモニアを加えると再溶解した。ちょうど透明な溶液
とするのに十分なアンモニアを加えた。この溶液を、１
５０ｇｌ-1ＡｇＢｒ0.98Ｉ0. 02および１４ｇｌ-1ゼラチ
ンを含む増感させたヨード臭化銀エマルジョン６０ｍｌ
に加えた。得られたエマルジョンを濾過し、粗面仕上げ
および陽極酸化処理したアルミニウムにコーティングし
て、放射線感受性プレートを得た。このプレートを１０
０℃で乾燥し、乾燥コート重量１、２ｇｍ-2を得た。
０のアンモニア溶液を加えた。沈澱物が生成し、さらに
アンモニアを加えると再溶解した。ちょうど透明な溶液
とするのに十分なアンモニアを加えた。この溶液を、１
５０ｇｌ-1ＡｇＢｒ0.98Ｉ0. 02および１４ｇｌ-1ゼラチ
ンを含む増感させたヨード臭化銀エマルジョン６０ｍｌ
に加えた。得られたエマルジョンを濾過し、粗面仕上げ
および陽極酸化処理したアルミニウムにコーティングし
て、放射線感受性プレートを得た。このプレートを１０
０℃で乾燥し、乾燥コート重量１、２ｇｍ-2を得た。
【００３８】プレートを、印刷すべき像に対応したパタ
ーンの光に露光し、同一部の溶液ＡおよびＢからなる現
像液中で、２５℃で３０秒間現像した。
ーンの光に露光し、同一部の溶液ＡおよびＢからなる現
像液中で、２５℃で３０秒間現像した。
【００３９】溶液Ａ ピロガロール ３．０ｇ メトール １．０ｇ クエン酸 １．０ｇ 水 ５００ｍｌ 溶液Ｂ Ｋ2ＣＯ3 ２００ｇ ＫＢｒ １．０ｇ 水 ５００ｍｌ プレートを水で洗浄し、露光されなかった領域を、軽く
こすることによって除去した。プレートを希釈酸に浸漬
し、洗浄し、乾燥した。プレートを水で湿らし、リトグ
ラフインクをすり付けると、像領域はインクを受け入れ
た。
こすることによって除去した。プレートを希釈酸に浸漬
し、洗浄し、乾燥した。プレートを水で湿らし、リトグ
ラフインクをすり付けると、像領域はインクを受け入れ
た。
【００４０】ポリマーの代わりにゼラチンを用いたコン
トロールプレートは、同様の像を有するプレートを提供
したが、像領域はインクを受け入れなかった。
トロールプレートは、同様の像を有するプレートを提供
したが、像領域はインクを受け入れなかった。
【００４１】（実施例３）攪拌器、凝縮器および窒素引
入口／引出口を備えた５００ｍｌの丸底フラスコに、
６．０ｇのＮ−（３−アミノプロピル）メタクリルアミ
ド塩酸塩の蒸留水（６０ｍｌ）溶液を入れた。この溶液
に、１８ｇのメチルメタクリレート、８ｇのメタクリル
酸、８ｇのラウリルメタクリレート、５０ｍｇのアゾイ
ソブチロニトリルおよび２６０ｍｌのイソプロパノール
からなる溶液を加えた。
入口／引出口を備えた５００ｍｌの丸底フラスコに、
６．０ｇのＮ−（３−アミノプロピル）メタクリルアミ
ド塩酸塩の蒸留水（６０ｍｌ）溶液を入れた。この溶液
に、１８ｇのメチルメタクリレート、８ｇのメタクリル
酸、８ｇのラウリルメタクリレート、５０ｍｇのアゾイ
ソブチロニトリルおよび２６０ｍｌのイソプロパノール
からなる溶液を加えた。
【００４２】この溶液を、窒素雰囲気下で、８５ー９０
℃で、１８時間攪拌した。６および１２時間間隔をおい
た後、さらにアゾイソブチロニトリルを５０ｍｇずつ加
えた。このポリマー溶液の最終固体含量は、１３％ｗ／
ｗであり、残留モノマーの含有量は少なかった。
℃で、１８時間攪拌した。６および１２時間間隔をおい
た後、さらにアゾイソブチロニトリルを５０ｍｇずつ加
えた。このポリマー溶液の最終固体含量は、１３％ｗ／
ｗであり、残留モノマーの含有量は少なかった。
【００４３】上記ポリマー３０ｍｌを、１１０ｍｌの水
および０．９ｍｌの０．８８０アンモニアに溶解させ
た。２５ｍｌの増感させたクロロ臭化銀エマルジョン
（１２．８ｇｌ-1のゼラチンおよび１７５ｇｌ-1のＡｇ
Ｃｌ0.3Ｂｒ0.7を含む）を加えた。この混合物を濾過
し、粗面仕上げおよび陽極酸化処理したアルミニウムに
コーティングし、１００℃で乾燥して、放射線感受性プ
レートを形成した。乾燥コート重量は、０．６ｇｍ-2で
あった。以下の成分からなるオーバーコート溶液をコー
ティングした：１．５ｇのフタロイル化ポリビニルブチ
ラール；１．０ｇの４−フェニルカテコール；０．２ｇ
のMicrolith Blue 4GK-P（Ciba Geigyから入手した、予
め分散させた銅−フタロシアニン顔料）；および１００
ｍｌのメチルエチルケトン。
および０．９ｍｌの０．８８０アンモニアに溶解させ
た。２５ｍｌの増感させたクロロ臭化銀エマルジョン
（１２．８ｇｌ-1のゼラチンおよび１７５ｇｌ-1のＡｇ
Ｃｌ0.3Ｂｒ0.7を含む）を加えた。この混合物を濾過
し、粗面仕上げおよび陽極酸化処理したアルミニウムに
コーティングし、１００℃で乾燥して、放射線感受性プ
レートを形成した。乾燥コート重量は、０．６ｇｍ-2で
あった。以下の成分からなるオーバーコート溶液をコー
ティングした：１．５ｇのフタロイル化ポリビニルブチ
ラール；１．０ｇの４−フェニルカテコール；０．２ｇ
のMicrolith Blue 4GK-P（Ciba Geigyから入手した、予
め分散させた銅−フタロシアニン顔料）；および１００
ｍｌのメチルエチルケトン。
【００４４】オーバーコートを、１００℃で乾燥する
と、乾燥オーバーコート重量は１．０ｇｍ-2であった。
プレートを、ネガを通して露光し、１５％の水性Ｋ2Ｃ
Ｏ3水溶液中で、３０℃で３０秒間現像し、水で洗浄し
た。露光されなかった領域を、わずかにこすることによ
り、水中で脱コーティングした。プレートを２％の酢酸
に浸漬し、水で洗浄し、アラビアゴム溶液をすり付け
て、乾燥した。プレートは、白い背景に暗青色の像を有
していた。プレートをDidde Glaser巻取り紙オフセット
（web offset）印刷機に置いた。５０、０００枚の満足
できる印刷が得られた。
と、乾燥オーバーコート重量は１．０ｇｍ-2であった。
プレートを、ネガを通して露光し、１５％の水性Ｋ2Ｃ
Ｏ3水溶液中で、３０℃で３０秒間現像し、水で洗浄し
た。露光されなかった領域を、わずかにこすることによ
り、水中で脱コーティングした。プレートを２％の酢酸
に浸漬し、水で洗浄し、アラビアゴム溶液をすり付け
て、乾燥した。プレートは、白い背景に暗青色の像を有
していた。プレートをDidde Glaser巻取り紙オフセット
（web offset）印刷機に置いた。５０、０００枚の満足
できる印刷が得られた。
【００４５】ポリマーの代わりにゼラチンを用いたコン
トロールプレートを同様に形成した。満足できる印刷
は、わずか１０、０００枚しか得られなかった。
トロールプレートを同様に形成した。満足できる印刷
は、わずか１０、０００枚しか得られなかった。
【００４６】以上のように、本発明においては、疎水性
合成樹脂が、ハロゲン化銀エマルジョンに従来より使用
されている親水性コロイドを部分的または完全に置換し
て、放射線感受性組成物を与え得る。この組成物は、露
光、タンニング現像、および洗浄による印刷プレートの
製造に使用される、放射線感受性プレートの製造に有用
である。疎水性合成樹脂は、複数の第一アミノ基および
必要に応じて酸性基を有し、水性または半水性アルカリ
溶液に溶解可能である。本発明の組成物を用いることに
より、印刷寿命の長い印刷プレートが得られる。
合成樹脂が、ハロゲン化銀エマルジョンに従来より使用
されている親水性コロイドを部分的または完全に置換し
て、放射線感受性組成物を与え得る。この組成物は、露
光、タンニング現像、および洗浄による印刷プレートの
製造に使用される、放射線感受性プレートの製造に有用
である。疎水性合成樹脂は、複数の第一アミノ基および
必要に応じて酸性基を有し、水性または半水性アルカリ
溶液に溶解可能である。本発明の組成物を用いることに
より、印刷寿命の長い印刷プレートが得られる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/033 7/033 (72)発明者 フィリップ ジョン ワトキス イギリス国 リーズ エルエス16 ５エ ヌディー，ホーリン クレセント ５ (56)参考文献 特開 昭47−4168（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−211146（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−148602（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−166645（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 7/06 G03F 7/00 503 G03F 7/033 B41C 1/10 G03C 1/04 G03C 1/053 G03C 1/42
Claims (10)
- 【請求項１】 ハロゲン化銀感光性物質を合成樹脂との
混合物として含んでなる放射線感受性組成物でコーティ
ングされた親水性表面を有する基板を含んでなる平版印
刷版前駆体であって、該合成樹脂が繰り返し単位
（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を含んでなる付加ポリマー
であり、ここで、単位（ａ）が１つもしくはそれ以上の
第一アミノ基を含むエチレン性不飽和モノマーから誘導
され、単位（ｂ）が１つもしくはそれ以上の酸性基を含
むエチレン性不飽和モノマーから誘導され、そして単位
（ｃ）が１つもしくはそれ以上の疎水性基を含むエチレ
ン性不飽和モノマーから誘導されることを特徴とする平
版印刷版前駆体。 - 【請求項２】 付加ポリマーが、１〜２０モル％の第一
アミノ単位（ａ）、５〜４０モル％の酸性単位（ｂ）、
および１０〜８５モル％の疎水性単位（ｃ）を含んでな
る請求項１に記載の平版印刷版前駆体。 - 【請求項３】 第一アミノ基を含むモノマーが、Ｎ−
（３−アミノプロピル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−
アミノエチル）メタクリルアミド、２−アミノエチルメ
タクリレート、２−アミノエチルアクリレート、３−ア
ミノプロピルアクリレート、３−アミノ−２−ヒドロキ
シプロピルメタクリレート、またはアリルアミンである
請求項１または２に記載の平版印刷版前駆体。 - 【請求項４】 疎水性基を含むモノマーが、メチルメタ
クリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、ラウリルメタクリレート、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルア
クリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−オクチルメタクリルアミ
ド、またはスチレンである請求項１、２または３に記載
の平版印刷版前駆体。 - 【請求項５】 酸性基を含むモノマーが、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、またはマレ
イン酸モノブチルである請求項１〜４のいずれか１項に
記載の平版印刷版前駆体。 - 【請求項６】 付加ポリマーがまた、アクリロニトリ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ア
クリルアミド、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
または２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホ
ン酸を含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の平版印
刷版前駆体。 - 【請求項７】 ハロゲン化銀感光性物質を合成樹脂との
混合物として含んでなる放射線感受性組成物でコーティ
ングされた親水性表面を有する基板を含んでなる平版印
刷版前駆体であって、該合成樹脂が、エタノールアミン
塩酸塩との反応により第一アミノ基およびカルボン酸基
を提供するように改変されたスチレン−無水マレイン酸
樹脂；加水分解により遊離のアミノ基を生成するように
改変された酸性基および疎水性基を有するポリビニルホ
ルムアミドコポリマー；酸無水物または酸塩化物との反
応により酸性基および疎水性基を提供するように改変さ
れたポリアリルアミンポリマーもしくはコポリマー；ま
たはメチルアジリジンとの反応によりアミノ基を提供す
るように改変されたカルボキシルを含む疎水性ポリマー
であることを特徴とする平版印刷版前駆体。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれか１項に記載され
且つさらに親水性コロイドを含む平版印刷版前駆体。 - 【請求項９】 （ｉ） 請求項１〜８のいずれか１項に
記載の放射線感受性平版印刷版前駆体を準備し； （ｉｉ） 放射線感受性組成物に化学線を像通りに露光
し； （ｉｉｉ） タンニング現像剤の存在下に像通りに露光
された組成物をタンニング現像し、それにより該組成物
の被照射領域をタンニングさせ；そして （ｉｖ） 該組成物のタンニングされていない領域を洗
浄除去し、該組成物のタンニングされた領域をレリーフ
像として残しながら、基板の親水性表面を露呈させるこ
とを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 【請求項１０】 タンニング現像を、アルカリ剤の存在
下に、ヒドロキシル基を含むベンゼンまたはその誘導体
をタンニング現像剤として用いて実施する請求項９に記
載の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9202985A GB2264180B (en) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | Improvements in or relating to printing plates |
| GB9202985.9 | 1992-02-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05289228A JPH05289228A (ja) | 1993-11-05 |
| JP3199887B2 true JP3199887B2 (ja) | 2001-08-20 |
Family
ID=10710278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02453993A Expired - Fee Related JP3199887B2 (ja) | 1992-02-13 | 1993-02-12 | 印刷プレートにおけるまたはそれに関する改良 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5609987A (ja) |
| EP (1) | EP0556001B1 (ja) |
| JP (1) | JP3199887B2 (ja) |
| DE (1) | DE69326787T2 (ja) |
| GB (1) | GB2264180B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6479198B2 (en) | 2000-02-01 | 2002-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide light-sensitive material containing tanning developing agent |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2949442A (en) * | 1955-05-04 | 1960-08-16 | Eastman Kodak Co | Process for preparing amphoteric copolymers and the resulting products |
| US3146104A (en) * | 1959-12-21 | 1964-08-25 | Eastman Kodak Co | Silver halide sensitized lithographic printing plate |
| NL290893A (ja) * | 1962-03-29 | |||
| US3702249A (en) * | 1970-08-03 | 1972-11-07 | Eastman Kodak Co | Photographic element comprising amine-containing polymers |
| GB1316541A (en) * | 1971-03-18 | 1973-05-09 | Ilford Ltd | Photographic emulsions |
| JPS52154627A (en) * | 1976-06-18 | 1977-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide light sensitive material |
| JPS52154626A (en) * | 1976-06-18 | 1977-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide light sensitive material |
| US4315071A (en) * | 1981-03-30 | 1982-02-09 | Polaroid Corporation | Polystyryl amine polymeric binders for photographic emulsions |
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| GB8803282D0 (en) * | 1988-02-12 | 1988-03-09 | Ciba Geigy Ag | Photographic coating solutions |
| US5118583A (en) * | 1988-10-12 | 1992-06-02 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Processing composition for printing plate |
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