JP3192771B2 - 光素子の実装方法 - Google Patents
光素子の実装方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光素子の実装方法にお
いて、光ファイバ心線の端末を、その裸光ファイバ表面
に損傷を与えることなく処理することができる、信頼度
の高い光素子の実装方法に関するものである。
いて、光ファイバ心線の端末を、その裸光ファイバ表面
に損傷を与えることなく処理することができる、信頼度
の高い光素子の実装方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光通信は、公衆通信としてその重要性が
急速に高まっており、これに関連したデバイス、例えば
光スイッチ、光変調器のような導波路型光素子の研究・
開発が盛んである。これらの光素子を実用化するには、
光素子単体の特性の向上・高信頼化以外に、実装技術、
特に実装素子に信号光を入出力するための光ファイバと
光素子との信頼度の高い接合方法が重要な開発課題であ
る。
急速に高まっており、これに関連したデバイス、例えば
光スイッチ、光変調器のような導波路型光素子の研究・
開発が盛んである。これらの光素子を実用化するには、
光素子単体の特性の向上・高信頼化以外に、実装技術、
特に実装素子に信号光を入出力するための光ファイバと
光素子との信頼度の高い接合方法が重要な開発課題であ
る。
【0003】一般に光素子はLiNbO3 等の電気光学
結晶、あるいは化合物半導体等の材料を基盤としている
ため、SiO2 (石英ガラス)を基本とする光ファイバ
の端面を、例えば高温で融着するなどの方法で接合する
ことが非常に困難である。したがって、レンズを介して
光素子と光ファイバ間で信号光を空間的に結合させる
(例えば「光集積回路」、西原、春名ら、コロナ社(1
985))などの手法がとられるが、温度・振動等の影
響を強く受けるため素子として実用化するのは困難であ
り、実際には、素子と光ファイバを軸合わせした後に、
接着剤を用いて接着固定する方法が一般的に用いられて
いる。接着剤としては、紫外線硬化型接着剤が一般に使
用される。これは、信号光に対して透明であり、軸合わ
せを含めた工程が容易であり、熱硬化型接着剤に比べ初
期硬化が速く、硬化時の変形が少ないなどの理由による
(例えばNorland Optical Adhesive 61 カタログ、Norl
andProd.Inc.,N.J.,USA、あるいは、“紫外線硬化型高
信頼性接着剤”、村田、J.Techlology Transfer 、15 N
o.6 (1992) pp.11-12(NTTアドバンステクノロジ
(株))。
結晶、あるいは化合物半導体等の材料を基盤としている
ため、SiO2 (石英ガラス)を基本とする光ファイバ
の端面を、例えば高温で融着するなどの方法で接合する
ことが非常に困難である。したがって、レンズを介して
光素子と光ファイバ間で信号光を空間的に結合させる
(例えば「光集積回路」、西原、春名ら、コロナ社(1
985))などの手法がとられるが、温度・振動等の影
響を強く受けるため素子として実用化するのは困難であ
り、実際には、素子と光ファイバを軸合わせした後に、
接着剤を用いて接着固定する方法が一般的に用いられて
いる。接着剤としては、紫外線硬化型接着剤が一般に使
用される。これは、信号光に対して透明であり、軸合わ
せを含めた工程が容易であり、熱硬化型接着剤に比べ初
期硬化が速く、硬化時の変形が少ないなどの理由による
(例えばNorland Optical Adhesive 61 カタログ、Norl
andProd.Inc.,N.J.,USA、あるいは、“紫外線硬化型高
信頼性接着剤”、村田、J.Techlology Transfer 、15 N
o.6 (1992) pp.11-12(NTTアドバンステクノロジ
(株))。
【0004】上記のような接着法により光素子と光ファ
イバの接合を行なう場合、直径125μmの非常に細い
裸光ファイバの端面と素子端面を接着する必要があり、
通常、裸光ファイバの接着部に、ガラスキャピラリー、
金属フェルール等を通して(例えば“LiNbO3 光デ
バイスの実装法”、柳橋、宮沢、小藪、村田、電子通信
学会技術研究報告、OQE91-70 (1991) pp.7-11 、“LN
光導波路デバイスの実装構造”、豊原、川島、中村、伊
関、電子通信学会技術研究報告、OQE91-70 (1991) pp.1
3-18) 、あるいはSi基板上にエッチング法により形成
された溝、いわゆるファイバアレイ上に裸光ファイバを
並べ固定する(“低ストローク偏光無依存1.55μm
1x8Ti:LiNbO3 光導波路スイッチ”、中
屋、船木、豊原、川島、伊関、電子通信学会技術研究報
告、OQE92-41 (1992) pp.69-74) などの手法により接着
強度を補強している。このような手法をとる場合、補強
治具による固定の精度および接着強度を高めるために、
光ファイバの先端部を裸光ファイバが露出している状態
に加工する必要がある。
イバの接合を行なう場合、直径125μmの非常に細い
裸光ファイバの端面と素子端面を接着する必要があり、
通常、裸光ファイバの接着部に、ガラスキャピラリー、
金属フェルール等を通して(例えば“LiNbO3 光デ
バイスの実装法”、柳橋、宮沢、小藪、村田、電子通信
学会技術研究報告、OQE91-70 (1991) pp.7-11 、“LN
光導波路デバイスの実装構造”、豊原、川島、中村、伊
関、電子通信学会技術研究報告、OQE91-70 (1991) pp.1
3-18) 、あるいはSi基板上にエッチング法により形成
された溝、いわゆるファイバアレイ上に裸光ファイバを
並べ固定する(“低ストローク偏光無依存1.55μm
1x8Ti:LiNbO3 光導波路スイッチ”、中
屋、船木、豊原、川島、伊関、電子通信学会技術研究報
告、OQE92-41 (1992) pp.69-74) などの手法により接着
強度を補強している。このような手法をとる場合、補強
治具による固定の精度および接着強度を高めるために、
光ファイバの先端部を裸光ファイバが露出している状態
に加工する必要がある。
【0005】光ファイバの構造は、光導波部であるコ
ア、およびこのコアを被覆するクラッド(いずれも一般
に石英ガラス)からなる裸光ファイバ、裸光ファイバ表
面の損傷・強度劣化を防ぐための一次被覆層、および一
次被覆された光ファイバ素線の物理化学的耐性を増強す
るための二次被覆層とからなる(JIS C 68 20-1989の用
語規定あり)。さらに、使用時の引っ張り応力、不均一
な側圧から光ファイバを保護するために、一次被覆層
は、二次被覆層に接する側圧緩衝層(緩衝層)が設けら
れていてもよい(例えば「光ファイバ通信入門」、中
原、音居、啓学出版(1986))。一般に、一次被覆
層(緩衝層を含む)は、例えばシリコン樹脂により形成
される。二次被覆層の形成には、ナイロン、フッ素樹脂
等が用いられている。一般に、前記文献で定義されてい
る一次被覆層および緩衝層は、互いに分離が困難なた
め、両者を一次被覆層に包含させて扱うことが多い。本
文においても、一次被覆層は緩衝層を包含するものとす
る。そして、緩衝層を含む一次被覆層により覆われた裸
光ファイバを、光ファイバ素線、と呼ぶことにする。
ア、およびこのコアを被覆するクラッド(いずれも一般
に石英ガラス)からなる裸光ファイバ、裸光ファイバ表
面の損傷・強度劣化を防ぐための一次被覆層、および一
次被覆された光ファイバ素線の物理化学的耐性を増強す
るための二次被覆層とからなる(JIS C 68 20-1989の用
語規定あり)。さらに、使用時の引っ張り応力、不均一
な側圧から光ファイバを保護するために、一次被覆層
は、二次被覆層に接する側圧緩衝層(緩衝層)が設けら
れていてもよい(例えば「光ファイバ通信入門」、中
原、音居、啓学出版(1986))。一般に、一次被覆
層(緩衝層を含む)は、例えばシリコン樹脂により形成
される。二次被覆層の形成には、ナイロン、フッ素樹脂
等が用いられている。一般に、前記文献で定義されてい
る一次被覆層および緩衝層は、互いに分離が困難なた
め、両者を一次被覆層に包含させて扱うことが多い。本
文においても、一次被覆層は緩衝層を包含するものとす
る。そして、緩衝層を含む一次被覆層により覆われた裸
光ファイバを、光ファイバ素線、と呼ぶことにする。
【0006】さらに、光素子の実装方法において、光素
子体(LiNbO3 等)と、裸光ファイバ(SiO2)
と、筐体(アルミ、真鍮等)との間の熱膨張率の違いを
緩和するために、最も熱膨張率の小さい裸光ファイバを
たるませて実装する方法、つまり光素子と筐体壁の間
で、裸光ファイバをわずかに屈曲させた状態で固定する
という方法が提案されている(例えば“Instabilities
and Their Characterization in Mach-Zehnder Ti:LiNb
O3 Optical Modulator", H.Jumonji & T.Nozawa, IEICE
Trans., J-75-C-1 (1992) pp.17-26)。
子体(LiNbO3 等)と、裸光ファイバ(SiO2)
と、筐体(アルミ、真鍮等)との間の熱膨張率の違いを
緩和するために、最も熱膨張率の小さい裸光ファイバを
たるませて実装する方法、つまり光素子と筐体壁の間
で、裸光ファイバをわずかに屈曲させた状態で固定する
という方法が提案されている(例えば“Instabilities
and Their Characterization in Mach-Zehnder Ti:LiNb
O3 Optical Modulator", H.Jumonji & T.Nozawa, IEICE
Trans., J-75-C-1 (1992) pp.17-26)。
【0007】上記のような従来法では、実装工程中、裸
光ファイバが露出した状態で取り扱われ、実装後も、例
えば熱膨張による応力緩和のためのファイバ屈曲構造を
とった部分(4mm以上:“LiNbO3 光デバイスの実
装法”、柳橋、宮沢、小藪、村田、電子通信学会技術研
究報告、OQE91-70 (1991) pp.7-11)にわたって、裸光フ
ァイバが露出された状態にある。ガラス製の裸光ファイ
バ表面を露出させると、表面傷の発生を防御することが
できず、光素子に接合された光ファイバの機械的強度の
信頼性を著しく阻害する。
光ファイバが露出した状態で取り扱われ、実装後も、例
えば熱膨張による応力緩和のためのファイバ屈曲構造を
とった部分(4mm以上:“LiNbO3 光デバイスの実
装法”、柳橋、宮沢、小藪、村田、電子通信学会技術研
究報告、OQE91-70 (1991) pp.7-11)にわたって、裸光フ
ァイバが露出された状態にある。ガラス製の裸光ファイ
バ表面を露出させると、表面傷の発生を防御することが
できず、光素子に接合された光ファイバの機械的強度の
信頼性を著しく阻害する。
【0008】また、光ファイバの被覆を除去する方法
も、一般に、二次被覆層、および緩衝層を含む一次被覆
層を切断し、これを裸光ファイバ端部から引き抜くとい
う方法がとられ、さらに裸光ファイバ表面に付着した一
次被覆層の残査を、アルコール等を浸漬させたレンズク
リーニングペーパーで拭き取るという操作が加わるた
め、工程中に裸光ファイバ表面に傷をつけることにな
り、このため実装後に裸光ファイバ表面を樹脂被覆する
という方法は、根本的な改善方法とはならない。
も、一般に、二次被覆層、および緩衝層を含む一次被覆
層を切断し、これを裸光ファイバ端部から引き抜くとい
う方法がとられ、さらに裸光ファイバ表面に付着した一
次被覆層の残査を、アルコール等を浸漬させたレンズク
リーニングペーパーで拭き取るという操作が加わるた
め、工程中に裸光ファイバ表面に傷をつけることにな
り、このため実装後に裸光ファイバ表面を樹脂被覆する
という方法は、根本的な改善方法とはならない。
【0009】上記の光ファイバ端処理過程で表面につく
傷は、非常に小さく、顕微鏡等によっても検出が困難で
ある。しかし、後に詳述するように、上記の扱いを経た
裸光ファイバの20〜40%が、曲げ試験において破断
するという事態が生じ、実装後、ファイバ断線による信
号光の断絶という破局故障をまねくことになるため、光
通信部品としての信頼度保証の上で好ましくない。
傷は、非常に小さく、顕微鏡等によっても検出が困難で
ある。しかし、後に詳述するように、上記の扱いを経た
裸光ファイバの20〜40%が、曲げ試験において破断
するという事態が生じ、実装後、ファイバ断線による信
号光の断絶という破局故障をまねくことになるため、光
通信部品としての信頼度保証の上で好ましくない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】光通信は、公衆通信と
して重要性が急速に高まっているが、その性格上、光部
品の信頼性は非常に高いものが要求されるため、光素子
および光ファイバの実装方法、特に光素子に接合するた
めに裸光ファイバを露出させるという特別な処理が施さ
れる光ファイバの処理手順、においても原理的に高度の
信頼度を実現できる構造・手法が要求される。
して重要性が急速に高まっているが、その性格上、光部
品の信頼性は非常に高いものが要求されるため、光素子
および光ファイバの実装方法、特に光素子に接合するた
めに裸光ファイバを露出させるという特別な処理が施さ
れる光ファイバの処理手順、においても原理的に高度の
信頼度を実現できる構造・手法が要求される。
【0011】したがって、光ファイバの破損の最大原因
となる、裸光ファイバ表面の傷発生を最小限に抑えるこ
とのできる、ファイバ端処理方法およびそれを用いた実
装構造を実現する必要がある。
となる、裸光ファイバ表面の傷発生を最小限に抑えるこ
とのできる、ファイバ端処理方法およびそれを用いた実
装構造を実現する必要がある。
【0012】実装工程における光ファイバの取扱いを、
高い信頼度で行なうため、二次被覆層および一次被覆層
の除去を、裸光ファイバ表面をできる限り傷付けずに処
置するための光ファイバ用ストリッパーの治具構造、光
ファイバについた曲がり癖を、実装工程に先だって熱的
に除去し、治具・筐体へのファイバの固定を確実に行な
う方法等をすでに提案しているが、これらの技術は、裸
光ファイバ表面に形成される傷に対する改善方法を与え
るものではない。
高い信頼度で行なうため、二次被覆層および一次被覆層
の除去を、裸光ファイバ表面をできる限り傷付けずに処
置するための光ファイバ用ストリッパーの治具構造、光
ファイバについた曲がり癖を、実装工程に先だって熱的
に除去し、治具・筐体へのファイバの固定を確実に行な
う方法等をすでに提案しているが、これらの技術は、裸
光ファイバ表面に形成される傷に対する改善方法を与え
るものではない。
【0013】本発明の課題は、光素子の実装工程におい
て、裸光ファイバの露出部を著しく短くし、残部を、裸
光ファイバに予め装着されている一次被覆層(緩衝層を
含む) により被覆されたままの状態に保っておくことに
より、また裸光ファイバの露出処理を固体物質と非接触
で行なうことにより、実装工程中および実装後に裸光フ
ァイバ表面に損傷が生ずることを大幅に防ぎ、それによ
って光ファイバの破断を大幅に予防する光素子の実装方
法を提供することにある。
て、裸光ファイバの露出部を著しく短くし、残部を、裸
光ファイバに予め装着されている一次被覆層(緩衝層を
含む) により被覆されたままの状態に保っておくことに
より、また裸光ファイバの露出処理を固体物質と非接触
で行なうことにより、実装工程中および実装後に裸光フ
ァイバ表面に損傷が生ずることを大幅に防ぎ、それによ
って光ファイバの破断を大幅に予防する光素子の実装方
法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光素子の実
装方法は、裸光ファイバと、その上に形成された1層以
上の一次被覆層と、更にその上に形成された二次被覆層
とを有する光ファイバ心線を、光素子に接合し、この光
ファイバ心線に接合された光素子を筐体内に収容する実
装方法において、前記光ファイバ心線の、前記筐体内に
収容される先端部分の、前記光素子との接合に供すべき
部分のみにおいて、前記裸光ファイバを露出させる工程
と、前記裸光ファイバの露出先端部分を、前記光素子に
接合する工程と、および、前記光素子と、それに接合さ
れた前記光ファイバ心線の、前記裸光ファイバ露出部分
を含む先端部分とを、前記筐体内に収容する工程と、を
含み、前記裸光ファイバの露出先端部分の長さを、前記
接合に必要であって、かつ、その接合の後に、前記光素
子とともに前記筐体内に収容するのに適合した長さに規
定し、前記光ファイバ心線の前記筐体に収容される先端
部分の、前記裸光ファイバ露出先端部分に隣接する残余
の部分においては、前記裸光ファイバ上に少なくとも前
記一次被覆層を保持し、前記裸光ファイバの露出先端部
分を、前記光素子に連結されているキャピラリに差し込
み、その先端において前記光素子に接合し、前記裸光フ
ァイバの露出先端部分の、前記キャピラリの外にある部
分を接着剤層により被覆し、かつ、前記キャピラリの入
口部に接着し、前記光ファイバ心線の前記筐体に収容さ
れる先端部分に隣接し、前記一次及び二次被覆層により
被覆されている部分を、前記筐体の壁体を通してこれに
封止する、ことを特徴とするものである。
装方法は、裸光ファイバと、その上に形成された1層以
上の一次被覆層と、更にその上に形成された二次被覆層
とを有する光ファイバ心線を、光素子に接合し、この光
ファイバ心線に接合された光素子を筐体内に収容する実
装方法において、前記光ファイバ心線の、前記筐体内に
収容される先端部分の、前記光素子との接合に供すべき
部分のみにおいて、前記裸光ファイバを露出させる工程
と、前記裸光ファイバの露出先端部分を、前記光素子に
接合する工程と、および、前記光素子と、それに接合さ
れた前記光ファイバ心線の、前記裸光ファイバ露出部分
を含む先端部分とを、前記筐体内に収容する工程と、を
含み、前記裸光ファイバの露出先端部分の長さを、前記
接合に必要であって、かつ、その接合の後に、前記光素
子とともに前記筐体内に収容するのに適合した長さに規
定し、前記光ファイバ心線の前記筐体に収容される先端
部分の、前記裸光ファイバ露出先端部分に隣接する残余
の部分においては、前記裸光ファイバ上に少なくとも前
記一次被覆層を保持し、前記裸光ファイバの露出先端部
分を、前記光素子に連結されているキャピラリに差し込
み、その先端において前記光素子に接合し、前記裸光フ
ァイバの露出先端部分の、前記キャピラリの外にある部
分を接着剤層により被覆し、かつ、前記キャピラリの入
口部に接着し、前記光ファイバ心線の前記筐体に収容さ
れる先端部分に隣接し、前記一次及び二次被覆層により
被覆されている部分を、前記筐体の壁体を通してこれに
封止する、ことを特徴とするものである。
【0015】本発明方法において、前記光ファイバ心線
の、前記裸光ファイバの露出先端部分に隣接し、かつ前
記筐体内に収容される部分から前記二次被覆層を除去し
て前記一次被覆層を露出させ、前記光ファイバ心線の、
前記筐体に接触している部分および前記筐体外にある部
分においては、前記二次被覆層を保持することが好まし
い。
の、前記裸光ファイバの露出先端部分に隣接し、かつ前
記筐体内に収容される部分から前記二次被覆層を除去し
て前記一次被覆層を露出させ、前記光ファイバ心線の、
前記筐体に接触している部分および前記筐体外にある部
分においては、前記二次被覆層を保持することが好まし
い。
【0016】また、本発明方法において、前記光ファイ
バ心線の前記裸光ファイバ露出先端部分、および前記一
次被覆層の露出部分を形成するために、前記光ファイバ
心線の、前記接合先端から内側に向って、少なくとも前
記裸光ファイバ露出先端部分および前記一次被覆層露出
部分の合計長さだけ離間した点において、前記二次被覆
層に、その円周方向に沿って、前記一次被覆層の表面を
破断損傷しないように切り込みを入れ、前記二次被覆層
の前記切り込みから先端までの部分を引き抜き除去し
て、この部分の前記一次被覆層を露出させ、前記一次被
覆層露出部分の、前記裸光ファイバ露出先端部分に対応
する長さの部分を、薬液により溶解除去して、前記裸光
ファイバ先端部分を露出させることが好ましい。
バ心線の前記裸光ファイバ露出先端部分、および前記一
次被覆層の露出部分を形成するために、前記光ファイバ
心線の、前記接合先端から内側に向って、少なくとも前
記裸光ファイバ露出先端部分および前記一次被覆層露出
部分の合計長さだけ離間した点において、前記二次被覆
層に、その円周方向に沿って、前記一次被覆層の表面を
破断損傷しないように切り込みを入れ、前記二次被覆層
の前記切り込みから先端までの部分を引き抜き除去し
て、この部分の前記一次被覆層を露出させ、前記一次被
覆層露出部分の、前記裸光ファイバ露出先端部分に対応
する長さの部分を、薬液により溶解除去して、前記裸光
ファイバ先端部分を露出させることが好ましい。
【0017】本発明方法において、前記一次被覆層除去
用薬液として硫酸を用いることが好ましい。
用薬液として硫酸を用いることが好ましい。
【0018】本発明方法において、前記光素子が、電気
光学結晶基板と、その上に形成された光導波路と、前記
基板上に配置され、前記光導波路中を伝播する光波を外
部電界により制御するための電極とを有する導波路型光
素子であり、前記導波路型光素子の光導波路の光入出力
端面に、前記光ファイバ心線の裸光ファイバの先端を接
合するものであってもよい。
光学結晶基板と、その上に形成された光導波路と、前記
基板上に配置され、前記光導波路中を伝播する光波を外
部電界により制御するための電極とを有する導波路型光
素子であり、前記導波路型光素子の光導波路の光入出力
端面に、前記光ファイバ心線の裸光ファイバの先端を接
合するものであってもよい。
【0019】
【作用】裸光ファイバを光素子に接続するには、ファイ
バ端面を研磨あるいはへき開により鏡面仕上げしておく
必要があり、また光素子との接着部にガラスキャピラリ
等を通して、接着面積を増大させ、接着強度を補強して
おく必要がある。したがって、鏡面仕上げした裸光ファ
イバは、その端面から接着強度補強用治具の長さ(特に
規定はないが1mm程度)にわたって、被覆層が除去され
た状態であるのが望ましい。これ以外の部分は、裸光フ
ァイバを露出させずに、一次被覆層(緩衝層(一般に同
種材料であるため分離困難)を含む)、および二次被覆
層によって保護されている状態のままであることが望ま
しい。
バ端面を研磨あるいはへき開により鏡面仕上げしておく
必要があり、また光素子との接着部にガラスキャピラリ
等を通して、接着面積を増大させ、接着強度を補強して
おく必要がある。したがって、鏡面仕上げした裸光ファ
イバは、その端面から接着強度補強用治具の長さ(特に
規定はないが1mm程度)にわたって、被覆層が除去され
た状態であるのが望ましい。これ以外の部分は、裸光フ
ァイバを露出させずに、一次被覆層(緩衝層(一般に同
種材料であるため分離困難)を含む)、および二次被覆
層によって保護されている状態のままであることが望ま
しい。
【0020】さらに、前述したような応力緩和のための
屈曲構造をもたせて光ファイバを筐体に実装するには、
屈曲され筐体内に収納される部分は、一般に非常に柔軟
な材料で構成される一次被覆層(緩衝層を含む)のみを
残して、硬い二次被覆層を除去した状態であることが望
ましい。例えば、直径900μmの光ファイバ心線の場
合、緩衝層を含む一次被覆層により被覆された光ファイ
バ素線の直径は380μm(藤倉電線(株)製単芯ファ
イバについて実測)程度であり、二次被覆層を除去した
状態においても充分安定に保持できる肉厚(約120μ
m)である。
屈曲構造をもたせて光ファイバを筐体に実装するには、
屈曲され筐体内に収納される部分は、一般に非常に柔軟
な材料で構成される一次被覆層(緩衝層を含む)のみを
残して、硬い二次被覆層を除去した状態であることが望
ましい。例えば、直径900μmの光ファイバ心線の場
合、緩衝層を含む一次被覆層により被覆された光ファイ
バ素線の直径は380μm(藤倉電線(株)製単芯ファ
イバについて実測)程度であり、二次被覆層を除去した
状態においても充分安定に保持できる肉厚(約120μ
m)である。
【0021】上記の光ファイバ端処理で重要な点は、
(1)一次被覆層(緩衝層を含む)を残して、二次被覆
層のみを光ファイバ端より除去すること、および(2)
さらに先端部の必要長さのみ一次被覆層(緩衝層を含
む)を固体物質と非接触な方法により裸光ファイバに傷
つけることなく除去することである。
(1)一次被覆層(緩衝層を含む)を残して、二次被覆
層のみを光ファイバ端より除去すること、および(2)
さらに先端部の必要長さのみ一次被覆層(緩衝層を含
む)を固体物質と非接触な方法により裸光ファイバに傷
つけることなく除去することである。
【0022】図1に本発明で用いられる光ファイバ端の
処理手順を示す。図1−(A)に示されているように、
光ファイバ心線は、裸光ファイバ1と、その上に形成さ
れた1層以上の一次被覆層2(緩衝層を含む)と、更に
その上に形成された二次被覆層からなるものである。こ
の光ファイバ心線の先端から所定距離にある点におい
て、その円周に沿って、内側12(矢印aの方向)に切
り込みを入れる。このとき、一次被覆層の表面を損傷し
ないように十分注意する。次に、この先端部分4の二次
被覆層3に対して、矢印bの方向の引き抜き力を作用さ
せてこれを引き抜き、図1−(B)に示されているよう
にこの部分の一次被覆層を露出させる。一次被覆層を損
傷しない程度の小さな引張り力で再現性よく引き抜くた
めには、一回の処理で引き抜かれる二次被覆層先端除去
部分4の長さは30mm以下であることが好ましく、必要
に応じてこの操作を数回繰り返し、それによって所望の
長さにわたって一次被覆層を露出させる。
処理手順を示す。図1−(A)に示されているように、
光ファイバ心線は、裸光ファイバ1と、その上に形成さ
れた1層以上の一次被覆層2(緩衝層を含む)と、更に
その上に形成された二次被覆層からなるものである。こ
の光ファイバ心線の先端から所定距離にある点におい
て、その円周に沿って、内側12(矢印aの方向)に切
り込みを入れる。このとき、一次被覆層の表面を損傷し
ないように十分注意する。次に、この先端部分4の二次
被覆層3に対して、矢印bの方向の引き抜き力を作用さ
せてこれを引き抜き、図1−(B)に示されているよう
にこの部分の一次被覆層を露出させる。一次被覆層を損
傷しない程度の小さな引張り力で再現性よく引き抜くた
めには、一回の処理で引き抜かれる二次被覆層先端除去
部分4の長さは30mm以下であることが好ましく、必要
に応じてこの操作を数回繰り返し、それによって所望の
長さにわたって一次被覆層を露出させる。
【0023】次に、図1−(C)に示されているよう
に、一次被覆層の露出部分の、所定長さの先端部分5
を、一次被覆層除去用薬液、例えば濃硫酸に浸漬し、裸
光ファイバが固体物質に接触損傷しないようにして、一
次被覆層の先端部分5を溶解除去し、図1−(D)に示
されているように、この部分の裸光ファイバ1を露出さ
せる。上記濃硫酸による溶解除去処理は、一般に室温に
おいて、20〜30分間で完了する。
に、一次被覆層の露出部分の、所定長さの先端部分5
を、一次被覆層除去用薬液、例えば濃硫酸に浸漬し、裸
光ファイバが固体物質に接触損傷しないようにして、一
次被覆層の先端部分5を溶解除去し、図1−(D)に示
されているように、この部分の裸光ファイバ1を露出さ
せる。上記濃硫酸による溶解除去処理は、一般に室温に
おいて、20〜30分間で完了する。
【0024】図1−(E)に示されているように、裸光
ファイバ1の露出先端部分に、研磨、又はヘキ開などの
鏡面仕上を施し、かつ、所定長の露出先端部分6を残す
ように、点7において矢印Cにより示されている端面処
理を施して、裸光ファイバの先端に接合端面を形成す
る。このようにして形成された裸光ファイバ1の露出先
端部分の長さは、一般に2〜3mmである。
ファイバ1の露出先端部分に、研磨、又はヘキ開などの
鏡面仕上を施し、かつ、所定長の露出先端部分6を残す
ように、点7において矢印Cにより示されている端面処
理を施して、裸光ファイバの先端に接合端面を形成す
る。このようにして形成された裸光ファイバ1の露出先
端部分の長さは、一般に2〜3mmである。
【0025】図1−(F)に示されているように準備さ
れた光ファイバ心線は、その所定長さの先端部分におい
て裸光ファイバ1が露出しており、この部分に隣接する
所定長さの部分において、一次被覆層2が露出してお
り、その他の部分においては、一次および二次被覆層が
保持されている。この光ファイバ心線の裸光ファイバの
露出先端部分は、光素子との接合に供される。
れた光ファイバ心線は、その所定長さの先端部分におい
て裸光ファイバ1が露出しており、この部分に隣接する
所定長さの部分において、一次被覆層2が露出してお
り、その他の部分においては、一次および二次被覆層が
保持されている。この光ファイバ心線の裸光ファイバの
露出先端部分は、光素子との接合に供される。
【0026】図2には、図1に示された方法により調製
された光ファイバ心線の端末と光素子との筐体内におけ
る接合状態の一実施態様が示されている。図2におい
て、光ファイバ心線10の、例えば、直径125μmの
裸光ファイバ1の露出先端部分は、光素子11の石英ガ
ラス製キャピラリ12(内径128μm、外径1mm、長
さ2mm)に差し込まれ、両者は紫外線硬化型接着剤層に
より接着される。裸光ファイバ1の端面13は光素子1
1の素子体14の端面に接合される。裸光ファイバ1
の、キャピラリ12の外に露出している部分は、例え
ば、接合前に光素子と光ファイバ心線との軸合わせを行
うために必要なクリアランスであって、この部分は必要
により接着剤層15により被覆しておいてもよい。
された光ファイバ心線の端末と光素子との筐体内におけ
る接合状態の一実施態様が示されている。図2におい
て、光ファイバ心線10の、例えば、直径125μmの
裸光ファイバ1の露出先端部分は、光素子11の石英ガ
ラス製キャピラリ12(内径128μm、外径1mm、長
さ2mm)に差し込まれ、両者は紫外線硬化型接着剤層に
より接着される。裸光ファイバ1の端面13は光素子1
1の素子体14の端面に接合される。裸光ファイバ1
の、キャピラリ12の外に露出している部分は、例え
ば、接合前に光素子と光ファイバ心線との軸合わせを行
うために必要なクリアランスであって、この部分は必要
により接着剤層15により被覆しておいてもよい。
【0027】図2において、光ファイバ心線10の、一
次被覆層2の露出部分は、筐体内に収容され、また、そ
れに隣り合い、二次被覆層3により被覆されている部分
が、筐体16の壁体を通り、これに封止されている。図
2に示されているように、光ファイバ心線10の、筐体
16内に収容されている部分において、裸光ファイバ露
出先端部分は、キャピラリ12および、接着剤層15に
より被覆されており、その他の部分は、少なくとも一次
被覆層2によって被覆されているから、例えば素子体1
4の接合面から、筐体16の壁体面迄の空間において
は、裸光ファイバが露出することはなく、従って、その
表面を損傷することなく、光ファイバ素線(裸光ファイ
バと、その上に形成された一次被覆層(緩衝層を含む)
とにより構成される)に、任意の長さおよび屈曲構造を
とらせることができる。
次被覆層2の露出部分は、筐体内に収容され、また、そ
れに隣り合い、二次被覆層3により被覆されている部分
が、筐体16の壁体を通り、これに封止されている。図
2に示されているように、光ファイバ心線10の、筐体
16内に収容されている部分において、裸光ファイバ露
出先端部分は、キャピラリ12および、接着剤層15に
より被覆されており、その他の部分は、少なくとも一次
被覆層2によって被覆されているから、例えば素子体1
4の接合面から、筐体16の壁体面迄の空間において
は、裸光ファイバが露出することはなく、従って、その
表面を損傷することなく、光ファイバ素線(裸光ファイ
バと、その上に形成された一次被覆層(緩衝層を含む)
とにより構成される)に、任意の長さおよび屈曲構造を
とらせることができる。
【0028】従来法では、光ファイバは、二次被覆層
と、および緩衝層を含む一次被覆層とが全て同時に除去
されており、つまり図2において光素子と光ファイバの
接着個所(キャピラリ端)から、裸光ファイバが露出し
た状態で、筐体側壁の光ファイバ心線固定個所までの空
間に保持された状態である。また、従来法では各被覆の
除去処理工程において、裸光ファイバ表面がしばしば損
傷することがあり、従って信頼性向上に好ましくない状
況にあった。
と、および緩衝層を含む一次被覆層とが全て同時に除去
されており、つまり図2において光素子と光ファイバの
接着個所(キャピラリ端)から、裸光ファイバが露出し
た状態で、筐体側壁の光ファイバ心線固定個所までの空
間に保持された状態である。また、従来法では各被覆の
除去処理工程において、裸光ファイバ表面がしばしば損
傷することがあり、従って信頼性向上に好ましくない状
況にあった。
【0029】従来法で処理した光ファイバ心線の裸光フ
ァイバの機械的強度の信頼度を試験した結果を図3〜6
に示す。この試験方法は下記の通りであった。70℃で
光ファイバ心線(藤倉電線(株)製 0.9mm径 単芯
ファイバ)を熱的に直線化した後、市販光ファイバ心線
ストリッパ(昭和機械工具(株)製:仕様05589
号)を用いて、長さ15mmにわたって被覆層を除去し、
裸光ファイバの露出部分を、プラスチック板に5回ラン
ダムに押しつけることにより、曲げ試験し、破断の有無
を調べた。前記市販工具で二次被覆層を除去した場合、
同時に、緩衝層を含む一次被覆層が引きちぎられるよう
に破断・除去された。また裸光ファイバ表面に付着し
た、一次被覆層の大量の残査は、アセトンを浸漬させた
レンズクリーニングペーパーで拭き取った(10回)。
ァイバの機械的強度の信頼度を試験した結果を図3〜6
に示す。この試験方法は下記の通りであった。70℃で
光ファイバ心線(藤倉電線(株)製 0.9mm径 単芯
ファイバ)を熱的に直線化した後、市販光ファイバ心線
ストリッパ(昭和機械工具(株)製:仕様05589
号)を用いて、長さ15mmにわたって被覆層を除去し、
裸光ファイバの露出部分を、プラスチック板に5回ラン
ダムに押しつけることにより、曲げ試験し、破断の有無
を調べた。前記市販工具で二次被覆層を除去した場合、
同時に、緩衝層を含む一次被覆層が引きちぎられるよう
に破断・除去された。また裸光ファイバ表面に付着し
た、一次被覆層の大量の残査は、アセトンを浸漬させた
レンズクリーニングペーパーで拭き取った(10回)。
【0030】図3の白バー部は、被覆層を除去した直後
に施した曲げ試験により破損した裸光ファイバの数を示
す。100本のファイバを10本づつランダムに10グ
ループに分け、各グループでの破損率を調べ、それらの
分布を評価した。図3より約20%のファイバが、曲げ
試験により破損することがわかる。また、破断は、図4
にみられるように、ほとんど、裸光ファイバを露出させ
た部分、つまり前記工具の刃体により二次被覆層および
下層が切断された部分で生じていた。これは工具の構造
が、二次被覆層の除去と同時に緩衝層を含む一次被覆層
を引きちぎってしまう程度の、非常に低い精度であるこ
とによる。
に施した曲げ試験により破損した裸光ファイバの数を示
す。100本のファイバを10本づつランダムに10グ
ループに分け、各グループでの破損率を調べ、それらの
分布を評価した。図3より約20%のファイバが、曲げ
試験により破損することがわかる。また、破断は、図4
にみられるように、ほとんど、裸光ファイバを露出させ
た部分、つまり前記工具の刃体により二次被覆層および
下層が切断された部分で生じていた。これは工具の構造
が、二次被覆層の除去と同時に緩衝層を含む一次被覆層
を引きちぎってしまう程度の、非常に低い精度であるこ
とによる。
【0031】次に、前記試験で破損しなかったファイバ
について、裸光ファイバ表面に付着した残査を拭き取っ
た後の、曲げ試験による破損率を、図3斜線バー部で示
す。裸光ファイバ表面を擦る、という操作により破損率
が著しく増大し、約40%のファイバ部が破断した。こ
の破断は、図5に示すように、全てファイバの途中で生
じており、拭き取り時に裸光ファイバ表面を傷つけてい
ることが明かである。
について、裸光ファイバ表面に付着した残査を拭き取っ
た後の、曲げ試験による破損率を、図3斜線バー部で示
す。裸光ファイバ表面を擦る、という操作により破損率
が著しく増大し、約40%のファイバ部が破断した。こ
の破断は、図5に示すように、全てファイバの途中で生
じており、拭き取り時に裸光ファイバ表面を傷つけてい
ることが明かである。
【0032】被覆層除去後、直ちに裸光ファイバ表面に
付着した残査を拭き取ったファイバ100本についても
再度同様に試験を行なった結果、図6に示すように図3
と同じく約40%の裸光ファイバが破断した(うち、約
10%が裸光ファイバを露出させた部分で破断)。つま
り、従来法においては、処理中に約40%のファイバ
が、実装中あるいは実装後に、ファイバ処理中に発生し
た表面傷をもとに、突然破断の可能性をもっている。
付着した残査を拭き取ったファイバ100本についても
再度同様に試験を行なった結果、図6に示すように図3
と同じく約40%の裸光ファイバが破断した(うち、約
10%が裸光ファイバを露出させた部分で破断)。つま
り、従来法においては、処理中に約40%のファイバ
が、実装中あるいは実装後に、ファイバ処理中に発生し
た表面傷をもとに、突然破断の可能性をもっている。
【0033】一方、本発明方法により図1に示された処
理により調製された光ファイバ素線(一次被覆層で被覆
されている)においては、前記の曲げ試験で破断したフ
ァイバはゼロであった。したがって、実装される光ファ
イバについて、本発明の処理手順および実装構造をとる
ことにより、その信頼度を著しく向上させることができ
る。
理により調製された光ファイバ素線(一次被覆層で被覆
されている)においては、前記の曲げ試験で破断したフ
ァイバはゼロであった。したがって、実装される光ファ
イバについて、本発明の処理手順および実装構造をとる
ことにより、その信頼度を著しく向上させることができ
る。
【0034】
【実施例】以下に、本発明にしたがって実際に処理した
光ファイバ心線(藤倉電線(株)製、0.9mm径、単芯
ファイバ)の例を示す。この光ファイバは、125μm
の裸光ファイバ、それを被覆する一次被覆層(緩衝層
(メーカー社内規格:400±40μm)を含む)、お
よび二次被覆層よりなる。
光ファイバ心線(藤倉電線(株)製、0.9mm径、単芯
ファイバ)の例を示す。この光ファイバは、125μm
の裸光ファイバ、それを被覆する一次被覆層(緩衝層
(メーカー社内規格:400±40μm)を含む)、お
よび二次被覆層よりなる。
【0035】実施例1 処理に先立ち、光ファイバ心線を、内径1mmのアルミナ
管中で70℃で2分間加熱し、熱的に直線化した。次
に、光ファイバ心線の最表面を覆う二次被覆層を、二次
被覆層の下層である緩衝層の表面に、前記緩衝層が、引
き続き行なう処理工程において破断・損傷を受けること
のないようにしながら、前記二次被覆層を切断し、この
二次被覆層のみを前記光ファイバ心線端部から引き抜い
て除去した。
管中で70℃で2分間加熱し、熱的に直線化した。次
に、光ファイバ心線の最表面を覆う二次被覆層を、二次
被覆層の下層である緩衝層の表面に、前記緩衝層が、引
き続き行なう処理工程において破断・損傷を受けること
のないようにしながら、前記二次被覆層を切断し、この
二次被覆層のみを前記光ファイバ心線端部から引き抜い
て除去した。
【0036】一次被覆層(直径400±40μm、本実
験に使用したファイバでの実測値は380μm)に対
し、直径900±10μmの二次被覆層を切断した際
に、緩衝層表面にも深さ約50μmの切れ込みが形成さ
れていた。次いで、ファイバ端より、切断した二次被覆
を引き抜いた。図7は、二次被覆層の引き抜きに必要な
力と、一度に引き抜いた長さとの関係を示すものであ
る。図7において白丸は、再現性よく二次被覆層のみを
一度に除去できたケースを示し、黒丸は、二次被覆層引
き抜き時に、下層の緩衝層・一次被覆層も同時にひきち
ぎられてしまったケースを示している。つまり、本法に
より最長30mm程度までは、二次被覆層のみを再現性よ
く引き抜くことが可能である。
験に使用したファイバでの実測値は380μm)に対
し、直径900±10μmの二次被覆層を切断した際
に、緩衝層表面にも深さ約50μmの切れ込みが形成さ
れていた。次いで、ファイバ端より、切断した二次被覆
を引き抜いた。図7は、二次被覆層の引き抜きに必要な
力と、一度に引き抜いた長さとの関係を示すものであ
る。図7において白丸は、再現性よく二次被覆層のみを
一度に除去できたケースを示し、黒丸は、二次被覆層引
き抜き時に、下層の緩衝層・一次被覆層も同時にひきち
ぎられてしまったケースを示している。つまり、本法に
より最長30mm程度までは、二次被覆層のみを再現性よ
く引き抜くことが可能である。
【0037】引き抜き長さ40mm以上では、引き抜き力
が、緩衝層(本実験例では、わずかに切込みが入った状
態)の引っ張り強度(図7より約1.5kgf)を上回り、
また、引き抜き長さ70mm以上では、二次被覆(ナイロ
ン)が塑性変形してしまい、良好な二次被覆の除去がで
きなかった。30mm以上の二次被覆除去が必要な場合
は、上記切り込み、および引き抜き処理を2回以上繰り
返せばよい。
が、緩衝層(本実験例では、わずかに切込みが入った状
態)の引っ張り強度(図7より約1.5kgf)を上回り、
また、引き抜き長さ70mm以上では、二次被覆(ナイロ
ン)が塑性変形してしまい、良好な二次被覆の除去がで
きなかった。30mm以上の二次被覆除去が必要な場合
は、上記切り込み、および引き抜き処理を2回以上繰り
返せばよい。
【0038】本実験により種々の長さに二次被覆を除去
したファイバ100本について、除去部分をプラスチッ
ク板に、5回ランダムに押しつけることにより、曲げ試
験し、ファイバの破断の有無を調べた結果、破断数はゼ
ロであった。
したファイバ100本について、除去部分をプラスチッ
ク板に、5回ランダムに押しつけることにより、曲げ試
験し、ファイバの破断の有無を調べた結果、破断数はゼ
ロであった。
【0039】実施例2 実施例2において、二次被覆層のみを除去して得られた
光ファイバ素線露出部分を用いて、その先端部の一次被
覆層(緩衝層を含む)を薬液で溶解・除去した。表1に
示された薬液について、緩衝層および一次被覆(同種材
料)の溶解性を調べた結果(室温で1分間浸漬)、本実
験に用いた光ファイバの一次被覆層(緩衝層を含む)
は、濃硫酸で溶解(分解)・除去できた。
光ファイバ素線露出部分を用いて、その先端部の一次被
覆層(緩衝層を含む)を薬液で溶解・除去した。表1に
示された薬液について、緩衝層および一次被覆(同種材
料)の溶解性を調べた結果(室温で1分間浸漬)、本実
験に用いた光ファイバの一次被覆層(緩衝層を含む)
は、濃硫酸で溶解(分解)・除去できた。
【0040】
【表1】
【0041】図8に、室温下(26℃)で濃硫酸中に光
ファイバ素線を浸漬したとき、その浸漬時間を変化さ
せ、一次被覆層(緩衝層を含む)の溶解・除去の様子を
観察した結果を示す。浸漬後すぐに溶解が始まり、15
秒で既に溶解の進行が確認できた。浸漬時間の進行にと
もない、緩衝層は白濁した膨潤体状に変化しながら溶出
し、約5分間で、裸光ファイバ表面に白色の残査を残す
程度に、溶解・除去が進んだ。浸漬時間20〜30分間
で、一次被覆層(緩衝層を含む)は、ほぼ完全に除去さ
れた。
ファイバ素線を浸漬したとき、その浸漬時間を変化さ
せ、一次被覆層(緩衝層を含む)の溶解・除去の様子を
観察した結果を示す。浸漬後すぐに溶解が始まり、15
秒で既に溶解の進行が確認できた。浸漬時間の進行にと
もない、緩衝層は白濁した膨潤体状に変化しながら溶出
し、約5分間で、裸光ファイバ表面に白色の残査を残す
程度に、溶解・除去が進んだ。浸漬時間20〜30分間
で、一次被覆層(緩衝層を含む)は、ほぼ完全に除去さ
れた。
【0042】一次被覆層の、濃硫酸に浸漬されていなか
った部分は、表面を光学顕微鏡で観察するかぎりにおい
ては、損傷・劣化はみられなかった。露出させた裸光フ
ァイバ先端部は、仕上げ工程として、市販のファイバク
リーバ(藤倉電線(株)製、CT−07)を用いて、容
易に鏡面加工できるものであった。
った部分は、表面を光学顕微鏡で観察するかぎりにおい
ては、損傷・劣化はみられなかった。露出させた裸光フ
ァイバ先端部は、仕上げ工程として、市販のファイバク
リーバ(藤倉電線(株)製、CT−07)を用いて、容
易に鏡面加工できるものであった。
【0043】実施例1および2の処理を経て、最終的に
得られた光ファイバの線の先端部分を図9に示す。図1
および2に示した通りに、光ファイバ心線端部におい
て、裸光ファイバ露出部、および一次被覆層露出部が形
成されていることがわかる。
得られた光ファイバの線の先端部分を図9に示す。図1
および2に示した通りに、光ファイバ心線端部におい
て、裸光ファイバ露出部、および一次被覆層露出部が形
成されていることがわかる。
【0044】
【発明の効果】光素子と光ファイバの接続、および筐体
への実装を、接続に必要な部分のみ裸光ファイバを露出
させ、残部は、裸光ファイバを露出させることなしに、
少なくとも光ファイバ心線に予め装着されている一次被
覆で被覆された状態のままに保っておくことにより、工
程中に裸光ファイバ表面が傷つけられることを防止でき
る。さらに、上記の効果により、光通信で重大な問題と
なる、裸光ファイバの破損といった破局故障を防ぐこと
ができる。
への実装を、接続に必要な部分のみ裸光ファイバを露出
させ、残部は、裸光ファイバを露出させることなしに、
少なくとも光ファイバ心線に予め装着されている一次被
覆で被覆された状態のままに保っておくことにより、工
程中に裸光ファイバ表面が傷つけられることを防止でき
る。さらに、上記の効果により、光通信で重大な問題と
なる、裸光ファイバの破損といった破局故障を防ぐこと
ができる。
【図1】本発明方法により、光ファイバ心線の先端を処
理する手順(A)〜(F)を示す説明図。
理する手順(A)〜(F)を示す説明図。
【図2】本発明方法により処理された光ファイバ心線と
光素子との接合、および筐体内への実装状況の一例を示
す断面説明図。
光素子との接合、および筐体内への実装状況の一例を示
す断面説明図。
【図3】従来方法により一次および二次被覆層を同時に
除去された光ファイバ心線の裸光ファイバの破断率を示
すグラフ。
除去された光ファイバ心線の裸光ファイバの破断率を示
すグラフ。
【図4】従来方法により一次および二次被覆層を同時に
除去した光ファイバ心線の裸光ファイバの曲げによる破
断状況を示す平面説明図。
除去した光ファイバ心線の裸光ファイバの曲げによる破
断状況を示す平面説明図。
【図5】従来方法により一次および二次被覆層を同時に
除去した光ファイバ心線の裸光ファイバの、擦りによる
破断状況を示す平面説明図。
除去した光ファイバ心線の裸光ファイバの、擦りによる
破断状況を示す平面説明図。
【図6】従来方法により、一次および二次被覆層を同時
に除去し、表面残渣拭き取り処理を施した光ファイバ心
線の裸光ファイバの破断率を示すグラフ。
に除去し、表面残渣拭き取り処理を施した光ファイバ心
線の裸光ファイバの破断率を示すグラフ。
【図7】本発明方法により二次被覆層を引き抜き除去し
たときの、引き抜き長さと、引き抜き力との関係を示す
グラフ。
たときの、引き抜き長さと、引き抜き力との関係を示す
グラフ。
【図8】本発明方法により、一次被覆層を溶解除去した
ときの、一次被覆層の溶解状況の一例を示す平面説明
図。
ときの、一次被覆層の溶解状況の一例を示す平面説明
図。
【図9】本発明方法により処理された光ファイバ心線の
先端部分の平面説明図。
先端部分の平面説明図。
1…裸光ファイバ 2…一次被覆層 3…二次被覆層 4…二次被覆層先端除去部分 5…一次被覆層先端除去部分 6…裸光ファイバ先端残存部分 7…端面処理点 10…光ファイバ心線 11…光素子 12…キャピラリ 13…裸光ファイバの接合端面 14…素子体 15…接着剤層 16…筐体 a…切り込み方向 b…引き抜き方向 c…接合方向
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−37703(JP,A) 特開 昭54−31754(JP,A) 特開 平2−73207(JP,A) 特開 平3−259105(JP,A) 特開 昭61−165705(JP,A) 特開 昭57−188007(JP,A) 特開 昭60−136707(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/00 333 G02B 6/42
Claims (4)
- 【請求項1】 裸光ファイバと、その上に形成された1
層以上の一次被覆層と、更にその上に形成された二次被
覆層とを有する光ファイバ心線を、光素子に接合し、こ
の光ファイバ心線に接合された光素子を筐体内に収容す
る実装方法において、 前記光ファイバ心線の、前記筐体内に収容される先端部
分の、前記光素子との接合に供すべき部分のみにおい
て、前記裸光ファイバを露出させる工程と、 前記裸光ファイバの露出先端部分を、前記光素子に接合
する工程と、および、 前記光素子と、それに接合された前記光ファイバ心線
の、前記裸光ファイバ露出部分を含む先端部分とを、前
記筐体内に収容する工程と、 を含み、 前記裸光ファイバの露出先端部分の長さを、前記接合に
必要であって、かつ、その接合の後に、前記光素子とと
もに前記筐体内に収容するのに適合した長さに規定し、 前記光ファイバ心線の前記筐体に収容される先端部分
の、前記裸光ファイバ露出先端部分に隣接する残余の部
分においては、前記裸光ファイバ上に少なくとも前記一
次被覆層を保持し、 前記裸光ファイバの露出先端部分を、前記光素子に連結
されているキャピラリに差し込み、その先端において前
記光素子に接合し、 前記裸光ファイバの露出先端部分の、前記キャピラリの
外にある部分を接着剤層により被覆し、かつ、前記キャ
ピラリの入口部に接着し、 前記光ファイバ心線の前記筐体に収容される先端部分に
隣接し、前記一次及び二次被覆層により被覆されている
部分を、前記筐体の壁体を通してこれに封止する、 ことを特徴とする光素子の実装方法。 - 【請求項2】 前記光ファイバ心線の、前記裸光ファイ
バの露出先端部分に隣接し、かつ前記筐体内に収容され
る部分から、前記二次被覆層を除去して前記一次被覆層
を露出させ、 前記光ファイバ心線の、前記筐体に接触している部分、
および前記筐体外にある部分においては、前記二次被覆
層を保持する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記光ファイバ心線の前記裸光ファイバ
露出先端部分、および前記一次被覆層の露出部分を形成
するために、前記光ファイバ心線の、前記接合先端から
内側に向って、少なくとも前記裸光ファイバ露出先端部
分および前記一次被覆層露出部分の合計長さだけ離間し
た点において、前記二次被覆層に、その円周方向に沿っ
て、前記一次被覆層の表面を破断損傷しないように、切
り込みを入れ、前記二次被覆層の前記切り込みから先端
までの部分を引き抜き除去して、この部分の前記一次被
覆層を露出させ、 前記一次被覆層露出部分の、前記裸光ファイバ露出先端
部分に対応する長さの部分を、薬液により溶解除去し
て、前記裸光ファイバ先端部分を露出させる、請求項1
に記載の方法。 - 【請求項4】 前記一次被覆層除去用薬液として硫酸を
用いる、請求項3に記載の方法。
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DE19934328126 DE4328126A1 (de) | 1992-08-21 | 1993-08-20 | Schneidverfahren und Vorrichtung zum Entfernen einer zweiten Überzugsschicht von einer ummantelten optischen Faser |
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