JP3192745B2 - Light absorbing material for liquid crystal display, light shielding film and liquid crystal display panel - Google Patents

Light absorbing material for liquid crystal display, light shielding film and liquid crystal display panel

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JP3192745B2 JP09317592A JP9317592A JP3192745B2 JP 3192745 B2 JP3192745 B2 JP 3192745B2 JP 09317592 A JP09317592 A JP 09317592A JP 9317592 A JP9317592 A JP 9317592A JP 3192745 B2 JP3192745 B2 JP 3192745B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ用光
吸収材料と遮光膜、およびこれらを用いた液晶ディスプ
レイパネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light absorbing material and a light shielding film for a liquid crystal display, and a liquid crystal display panel using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】遮光膜を必要とする装置として液晶ディ
スプレイ(以下、LCDと略称する)のうちカラー表示
LCDでは、例えばカラーフィルターのブラックマトリ
クスや、アクティブマトリクス駆動方式におけるトラン
ジスタ(TFT)遮光膜があり、また、ネガ表示型LC
Dでは、表示部以外の背景を黒とするためのブラックマ
スクや液晶を封止するためのブラックシール等がある。
また、LCD以外の装置では、ELディスプレーにおけ
る電界制限層や、光学装置における遮光膜等がある。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display (hereinafter abbreviated as LCD) as a device requiring a light-shielding film, in a color display LCD, for example, a black matrix of a color filter or a transistor (TFT) light-shielding film in an active matrix driving system is used. Yes, and negative display type LC
In D, there are a black mask for blacking the background other than the display unit, a black seal for sealing the liquid crystal, and the like.
Devices other than LCDs include an electric field limiting layer in an EL display and a light shielding film in an optical device.

【0003】そして、従来これらの材料としては、主に
カーボンブラック、チタンブラックの無機顔料や、金属
クロムの蒸着やスパッタ膜、さらには有機系顔料などが
用いられている。
Conventionally, as these materials, inorganic pigments such as carbon black and titanium black, vapor-deposited or sputtered films of metallic chromium, and organic pigments have been mainly used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、LCDの光
吸収材料や遮光膜を形成するための遮光材料には当然高
い光吸収特性(遮光性)が求められている。また、LC
Dなどのディスプレイ装置を製造するうえで高い絶縁性
と耐熱性が求められ、さらに寿命の点から耐光性、安定
性が求められている。ここで、高い耐熱性が求められる
のは、遮光膜形成後に高温処理を要する配向膜付工程が
入るためである。
By the way, high light absorption characteristics (light shielding properties) are naturally required for the light absorbing material of the LCD and the light shielding material for forming the light shielding film. Also, LC
In order to manufacture display devices such as D, high insulation and heat resistance are required, and further, light resistance and stability are required in terms of life. Here, the reason why high heat resistance is required is that a process for providing an alignment film that requires a high-temperature treatment after forming the light-shielding film is included.

【0005】しかし、前記金属クロム膜では、その金属
導電性のためクロム膜上に絶縁層をオーバーコートする
必要があることからLCDの製造工程が繁雑になるとい
った問題があり、また蒸着やスパッタ法によって成膜す
るため製造コストが高くなるといった問題があり、さら
には遮光性は良好であるものの金属特有の金属反射が大
きく、画面が鏡のようになって映り込みが生じ、画面が
見づらくなるといった問題がある。また、クロムという
有害物質の処理を伴うため、製造コストがさらに高くな
るといった問題がある。
However, the metal chromium film has a problem that the process of manufacturing the LCD is complicated because an insulating layer needs to be overcoated on the chromium film due to its metal conductivity. In addition, there is a problem that the production cost is increased because of the film formation, and furthermore, although the light shielding property is good, the metal reflection characteristic of the metal is large, and the screen becomes like a mirror, and the screen becomes hard to see. There's a problem. In addition, there is a problem that the production cost is further increased because the treatment involves a harmful substance called chromium.

【0006】また、前記のカーボンブラックやチタンブ
ラックでは、凝集がはげしくピンホールを生じやすいと
いった問題や、ブリードアウトが起こり易いといった問
題、金属クロムと同様に導電性があるためディスプレイ
装置製造工程が繁雑になるといった問題があり、さらに
は遮光性が不十分であるといった問題がある。また、前
記の有機顔料では遮光性が十分でなくディスプレイのコ
ントラストの低下を招き、しかも耐熱性に劣るため製造
工程、特に加熱を要する配向膜形成工程に制限が加えら
れるといった不都合があり、さらには耐光性に劣るため
長時間の使用にあたっては信頼性が不足するといった問
題がある。
In addition, the above-mentioned carbon black and titanium black tend to cause agglomeration and tend to form pinholes, cause bleed-out, and have the same conductivity as metal chromium. There is a problem that the light-shielding property is insufficient. In addition, the above-mentioned organic pigments do not have sufficient light-shielding properties and cause a decrease in contrast of the display, and furthermore, there is an inconvenience that the production process is inferior in heat resistance, and in particular, the alignment film formation process requiring heating is limited. Due to poor light resistance, there is a problem that reliability is insufficient when used for a long time.

【0007】このように従来の材料では、光吸収特性、
絶縁性、耐熱性、耐光性、安定性等のすべての要求を満
足させるものがなく、そのため製造工程が繁雑であった
り、加熱工程に制限が加えられたり、コスト高となった
り、パネルの寿命の信頼性が不足するといったことを容
認せざるを得ないのが現状である。
As described above, in the conventional materials, the light absorption characteristics,
There is nothing that satisfies all requirements such as insulation, heat resistance, light resistance, stability, etc., so the manufacturing process is complicated, the heating process is limited, the cost is high, and the panel life is long At present, it is necessary to tolerate lack of reliability.

【0008】この発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、各性能に優れ、かつLCDの製造にも有利な液晶デ
ィスプレイ用光吸収材料と遮光膜、さらにこれらを用い
てなる液晶ディスプレイパネルを提供することを目的と
する。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a light absorbing material and a light-shielding film for a liquid crystal display, which are excellent in various performances and are also advantageous for LCD production, and a liquid crystal display panel using the same. The purpose is to do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明者は、低コストの製造に適している印刷法、塗布
法によって製膜することを考え、その塗料のフィラーと
して、一般に耐熱性、耐光性に優れているとされている
無機材料に着目し、あらゆる無機顔料を検討した結果、
硫化ビスマス(Bi23)が可視光吸収特性(遮光
性)、耐熱性、耐光性において優れ、さらに導電性にお
いても表面抵抗1013Ω/cm2以上の値を有してお
り、カーボンブラックやチタンブラック、金属クロムに
比べて7桁以上も電気絶縁性に優れていることを見いだ
し、本発明を完成した。
In order to achieve the above object, the present inventor has conceived of forming a film by a printing method and a coating method which are suitable for low-cost production. Focusing on inorganic materials that are considered to be excellent in light resistance, as a result of examining all inorganic pigments,
Bismuth sulfide (Bi 2 S 3 ) is excellent in visible light absorption characteristics (light shielding properties), heat resistance and light resistance, and has a surface resistance of 10 13 Ω / cm 2 or more in conductivity. The present inventors have found that the electrical insulation is superior by at least seven orders of magnitude as compared with titanium black and metallic chromium, and completed the present invention.

【0010】すなわち本発明における請求項1記載の液
晶ディスプレイ用光吸収材料では、顔料として0.1〜
0.5μmの硫化ビスマス微粒子を用い、これをエポキ
シ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、シリコーンレジ
ンから選ばれる少なくとも1種からなるバインダー中に
分散させて塗料化したことを前記課題の解決手段とし
た。また、請求項2記載の液晶ディスプレイパネルで
は、前記液晶ディスプレイ用光吸収材料を用いてなるこ
とを前記課題の解決手段とした。請求項3記載の遮光膜
では、黒色材料として0.1〜0.5μmの硫化ビスマ
微粒子を用い、これをエポキシ樹脂、シリコン系樹脂
から選ばれる少なくとも1種からなるバインダー中に分
散させて塗料化したものにより形成されたことを前記課
題の解決手段とした。また、請求項4記載の遮光膜で
は、硫化ビスマスよりなるスパッタリング用ターゲット
材を使用して形成されたことを前記課題の解決手段とし
た。特徴とする遮光膜。請求項記載の液晶ディスプレ
イパネルでは、請求項3または請求項4に記載の遮光膜
を用いてなることを前記課題の解決手段とした。
That is, in the light-absorbing material for a liquid crystal display according to claim 1 of the present invention, the pigment is used in an amount of from 0.1 to
Using 0.5μm bismuth sulfide fine particles, epoxy this
Resin, silicone-modified epoxy resin, silicone resin
In at least one binder selected from
Dispersing and forming a paint is a means for solving the above problem. Further, in the liquid crystal display panel according to the second aspect of the present invention, the light-absorbing material for a liquid crystal display is used as a means for solving the problem. The light-shielding film according to claim 3, wherein fine particles of bismuth sulfide having a particle size of 0.1 to 0.5 µm are used as the black material, and the black material is an epoxy resin or a silicon-based resin.
In a binder consisting of at least one selected from
It was formed as a solution to the above-mentioned problem by being formed by scattering and forming a paint . Further, in the light shielding film according to claim 4,
Is a sputtering target made of bismuth sulfide
The use of a material to solve the above problem
Was. Characteristic light-shielding film. According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display panel using the light-shielding film according to the third or fourth aspect .

【0011】以下、本発明を詳しく説明する。本発明に
おける請求項1記載の液晶ディスプレイ用光吸収材料
は、0.1〜0.5μmの硫化ビスマス粉をフィラーと
し、これをエポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹
脂、シリコーンレジン等の樹脂中に分散させて塗料化し
たものである。また、請求項4記載の遮光膜は、CVD
法、蒸着法、スパッタ法等の気相膜形成法により作製し
た硫化ビスマス膜であり請求項3記載の遮光膜は、
0.1〜0.5μmの硫化ビスマス粉をフィラーとし、
これをエポキシ樹脂、シリコン系樹脂から選ばれる少な
くとも1種からなるバインダー中に分散させて塗料化
し、それを成膜することにより得られる膜である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The light-absorbing material for a liquid crystal display according to the first aspect of the present invention is characterized in that 0.1 to 0.5 μm bismuth sulfide powder is used as a filler, which is dispersed in a resin such as an epoxy resin, a silicone-modified epoxy resin, or a silicone resin. It is made into paint. Further, the light shielding film according to claim 4 is formed by CVD.
The light-shielding film according to claim 3 is a bismuth sulfide film produced by a vapor phase film forming method such as a vapor deposition method, a sputtering method, or the like .
0.1-0.5 μm bismuth sulfide powder as filler,
This is a small amount selected from epoxy resin and silicone resin.
It is a film obtained by dispersing in at least one kind of binder to form a coating and forming a film.

【0012】ここで本発明に用いられる硫化ビスマス
(Bi23)粉の合成方法としては、 (1)塩化ビスマスを乾燥硫化水素中で加熱する。 (2)塩化ビスマスの塩酸溶液に硫化水素を通ずる。 (3)硝酸ビスマスの中性溶液をチオ硫酸ナトリウムと
ともに加熱する。 等のいずれの方法をも用いることができるが、(2)、
(3)の方法によれば、微細な粉末を合成することがで
き好ましい。
Here, the method for synthesizing bismuth sulfide (Bi 2 S 3 ) powder used in the present invention is as follows: (1) Bismuth chloride is heated in dry hydrogen sulfide. (2) Pass hydrogen sulfide through the hydrochloric acid solution of bismuth chloride. (3) Heat the neutral solution of bismuth nitrate with sodium thiosulfate. Any method such as (2),
According to the method (3), a fine powder can be synthesized, which is preferable.

【0013】さらに、硫化ビスマス塗料を作製する場合
には、各種樹脂中への硫化ビスマス粉末の分散安定性を
向上させるため、必要に応じて界面活性剤やシランカッ
プリング剤、チタンカップリング剤、シリカゾル、アル
ミナゾル、ジルコニアゾル等の添加剤を加えてもよい。
また、印刷用塗料の場合には、印刷適正を向上させるた
めに、シリカ超微粉、チタニア超微粉、ジルコニア超微
粉、硫酸バリウム微粉を添加してもよい。ここで、請求
項1記載の液晶ディスプレイ用光吸収材料となる塗料の
バインダー(樹脂)として具体的には、例えばエピコー
ト828(油化シェルエポキシ株式会社製)、DEN3
31(ダウケミカル株式会社製)等のビスフェノールA
型エポキシ樹脂を主体としたものが好適とされる。な
お、このようなバインダーにその耐熱性を上げるため、
例えばDEN431(ダウケミカル株式会社製)等のフ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂を添加してもよい。
Further, when preparing a bismuth sulfide coating material, a surfactant, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or the like may be used, if necessary, to improve the dispersion stability of the bismuth sulfide powder in various resins. Additives such as silica sol, alumina sol and zirconia sol may be added.
In the case of a printing paint, ultrafine silica powder, ultrafine titania powder, ultrafine zirconia powder, and fine barium sulfate powder may be added in order to improve printability. Here, specific examples of the binder (resin) of the coating material to be the light-absorbing material for a liquid crystal display according to claim 1 include Epicoat 828 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) and DEN3
Bisphenol A such as 31 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.)
Those mainly composed of a mold epoxy resin are preferable. In order to increase the heat resistance of such a binder,
For example, a phenol novolak type epoxy resin such as DEN431 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) may be added.

【0014】さらに、エポキシ樹脂において用いられる
アミン系硬化剤としては、特に制限はないものの、芳香
族アミンを用いるのが好ましい。また、塗料硬化時の流
動性を制御するため例えばアエロジル#150、#20
0、#300、#380(日本アエロジル株式会社製)
等の微粉末シリカ、あるいはゲルオールD(新日本理化
株式会社製)等の有機性ゲル化剤などを用いることもで
きる。
The amine-based curing agent used in the epoxy resin is not particularly limited, but it is preferable to use an aromatic amine. In order to control the fluidity during curing of the paint, for example, Aerosil # 150, # 20
0, # 300, # 380 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Or an organic gelling agent such as Gelol D (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.).

【0015】本発明における請求項2記載の液晶ディス
プレイパネルは、前記液晶ディスプレイ用光吸収材料
(塗料)を、オフセット印刷等の印刷法によりガラス板
等のパネル部材に塗布し、ブラックマトリックスやブラ
ックマスク、ブラックシール等を形成して得られるもの
である。また、請求項記載の液晶ディスプレイパネル
は、前記請求項3または請求項4記載の硫化ビスマスを
用いた遮光膜を、通常の薄膜形成方法、たとえば、CV
D法、蒸着法、スパッタ法等の気相法や、硫化ビスマス
粉を分散して得られた塗料をロールコート、スピンコー
ト、バーコート、オフセット印刷スクリーン印刷等によ
り塗布して作製した後、得られた遮光膜からフォトリソ
グラフィ技術によりパターンを形成し、ブラックマトリ
フス、ブラックマスク、ブラックシールやTFT遮光膜
等として形成して得られるものである。
According to a second aspect of the present invention, in the liquid crystal display panel, the light absorbing material (paint) for the liquid crystal display is applied to a panel member such as a glass plate by a printing method such as offset printing, and a black matrix or a black mask is formed. , A black seal or the like. According to a fifth aspect of the present invention, in the liquid crystal display panel, the light-shielding film using the bismuth sulfide according to the third or fourth aspect is formed by an ordinary thin film forming method, for example, CV.
D method, vapor deposition method, vapor phase method such as sputtering method, or coating obtained by dispersing bismuth sulfide powder by roll coating, spin coating, bar coating, offset printing screen printing, etc. A pattern is formed from the obtained light shielding film by a photolithography technique, and is obtained by forming a black matrix, a black mask, a black seal, a TFT light shielding film, and the like.

【0016】ここで、塗布方法により形成する場合に用
いる塗料としては、請求項3記載の遮光膜と同じ塗料を
用いることができるが、LCDパネルには特にUV硬化
樹脂や、熱硬化性樹脂の中でも特にエポキシ樹脂、シリ
コン系樹脂をバインダーとして用いるのが、作業性、耐
熱性、長期信頼性の点から望ましい。また、使用する溶
剤については成膜方法によって異なるものの、塗膜表面
の平滑性を保つためには高沸点と低沸点の溶剤を組み合
わせ、これによって乾燥速度や粘度の調整を行うのが好
ましい。
Here, the same paint as that used for the light-shielding film according to claim 3 can be used as the paint used when forming by the coating method. Particularly, for the LCD panel, a UV curable resin or a thermosetting resin is used. Among them, it is particularly preferable to use an epoxy resin or a silicone resin as a binder from the viewpoints of workability, heat resistance, and long-term reliability. Although the solvent to be used varies depending on the film forming method, it is preferable to use a combination of a high-boiling point solvent and a low-boiling point solvent in order to maintain the smoothness of the coating film surface, and to adjust the drying rate and the viscosity.

【0017】また、遮光性能を発揮させるべき硫化ビス
マスの含有量については、目的とするLCDパネル中の
部位によって異なるが、たとえば厚み1.2μmのブラ
ックマトリクスを形成する場合、膜中の硫化ビスマス含
有量を40〜50重量%とすれば、O.D値(opti
cal density)が約3〜3.5の遮光性を達
成することができ、金属クロムと同程度の遮光性能を発
揮することができる。また、厚み2μmのブラックマス
クを形成する場合には、膜中の硫化ビスマス含有量を2
0〜30重量%とすることで、O.D値が約3の遮光性
を達成することができる。さらに、厚み6μmのブラッ
クシールを形成する場合には、膜中の硫化ビスマス含有
量を5〜10重量%とすることで、O.D値が約3の遮
光性を達成することができる。このように、塗料中の硫
化ビスマス量については、所望する膜厚と遮光性能によ
って決定されるのである。
The content of bismuth sulfide which should exert light-shielding performance varies depending on the target portion in the LCD panel. For example, when a black matrix having a thickness of 1.2 μm is formed, the content of bismuth sulfide in the film is reduced. If the amount is 40 to 50% by weight, the OD value (opti
The light shielding property of about 3 to 3.5 can be achieved with a cal density of about 3 to 3.5, and the same light shielding performance as that of metallic chrome can be achieved. Further, when a black mask having a thickness of 2 μm is formed, the content of bismuth sulfide in the film is reduced to 2 μm.
By setting the amount to 0 to 30% by weight, a light-shielding property with an OD value of about 3 can be achieved. Further, when a black seal having a thickness of 6 μm is formed, by setting the bismuth sulfide content in the film to 5 to 10% by weight, a light-shielding property with an OD value of about 3 can be achieved. Thus, the amount of bismuth sulfide in the paint is determined by the desired film thickness and light shielding performance.

【0018】また、このようにして得られるLCDパネ
ルの遮光膜の電気絶縁性については、いずれも表面抵抗
が1013Ω/cm2以上の値を有しており、液晶と同程
度以上の絶縁性能を有したものとなる。また、耐熱性に
ついては、300℃までは変色、膜のはがれ、絶縁性低
下等の変化が起こらない。ただし、350℃以上の加熱
では徐々に遮光膜が白化したり、剥離したりしてくる
が、LCDパネル製造工程における加熱工程は220〜
280℃であり、300℃で十分な耐熱性を有していれ
ば加工上全く問題はない。
Regarding the electrical insulation of the light-shielding film of the LCD panel obtained in this way, the surface resistance of each of them has a value of 10 13 Ω / cm 2 or more, and the insulation is almost the same as that of the liquid crystal. It has performance. As for the heat resistance, no change such as discoloration, peeling of the film and deterioration of the insulating property occurs up to 300 ° C. However, when the heating is performed at 350 ° C. or more, the light-shielding film gradually whitens or peels off.
It is 280 ° C, and there is no problem in processing as long as it has sufficient heat resistance at 300 ° C.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 (実施例1)まず、硝酸ビスマス(Bi(NO33・5
2O)194gと、水酸化ナトリウム42gを水20
00ccに溶解する。また、チオ硫酸ナトリウム(Na
223・5H2O)164gを水1500ccに溶解す
る。そして、前者の溶液に後者の溶液を加え、攪拌しな
がら95℃にて20時間加熱し、さらに通常の方法でろ
過して脱塩洗浄し、さらに150℃で乾燥して0.1〜
0.5μmの硫化ビスマス微粒子を得た。
The present invention will be described below in more detail with reference to examples. Example 1 First, bismuth nitrate (Bi (NO 3 ) 3 .5)
H 2 O) and 194 g of sodium hydroxide in water 20
Dissolve in 00 cc. Also, sodium thiosulfate (Na
The 2 S 2 O 3 · 5H 2 O) 164g dissolved in water 1500cc. Then, the latter solution is added to the former solution, and the mixture is heated at 95 ° C. for 20 hours with stirring, filtered, desalted and washed by a usual method, and further dried at 150 ° C. to 0.1 to 0.1 ° C.
Bismuth sulfide fine particles of 0.5 μm were obtained.

【0020】ここで、硫化ビスマス(Bi23)の生成
は次式の反応によってなされる。 2Bi(NO33+3Na223+3H2O →Bi23+6NaNO3+3H2SO4 得られた硫化ビスマス微粒子は黒色であり、またその残
留ナトリウム量は0.1ppm以下であった。
Here, bismuth sulfide (Bi 2 S 3 ) is produced by the following reaction. 2Bi (NO 3 ) 3 + 3Na 2 S 2 O 3 + 3H 2 O → Bi 2 S 3 + 6NaNO 3 + 3H 2 SO 4 The obtained bismuth sulfide fine particles were black, and the residual sodium content was 0.1 ppm or less. .

【0021】次いで、チタネート系カップリング剤(プ
レンアクトKR−55〔味の素株式会社製〕)を用い、
得られた硫化ビスマス微粉末に表面処理を行なった。次
いで、この表面処理後の硫化ビスマス粉25gと、メチ
ルフェニルシリコンワニス(シリコンレジンTSR14
5〔東芝シリコーン株式会社製〕)35gと、シリコン
変性エポキシ樹脂(シリコンレジンTSR194〔東芝
シリコーン株式会社製〕)32gと、流動性改善のため
のシリカ超微粉(アエロジル#200〔日本アエロジル
株式会社製〕)8gとを予備混合し、その後3本ロール
ミルで3時間混練して黒色の光吸収材料を作製した。
Next, using a titanate-based coupling agent (Plenact KR-55 [manufactured by Ajinomoto Co., Inc.]),
A surface treatment was performed on the obtained bismuth sulfide fine powder. Next, 25 g of the bismuth sulfide powder after the surface treatment and methylphenyl silicon varnish (silicone resin TSR14
5 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.)), 32 g of silicon-modified epoxy resin (silicon resin TSR194 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.)), and ultrafine silica powder (Aerosil # 200 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) for improving fluidity ]) And 8 g were pre-mixed, and then kneaded with a three-roll mill for 3 hours to produce a black light-absorbing material.

【0022】また、比較として、前記表面処理後の硫化
ビスマス粉に換えて有機顔料(アニリンブラック)を用
い、他の配合剤を同一にして光吸収材料を作製した。次
に、作製した2種類の光吸収材料を用い、オフセット印
刷機によりこれらをガラス板上にそれぞれ2μm厚で印
刷し、さらに150℃で2時間加熱して硬化させ、2種
類の光吸収膜を作製した。
For comparison, an organic pigment (aniline black) was used in place of the bismuth sulfide powder after the surface treatment, and a light-absorbing material was produced using the same other ingredients. Next, these two types of light-absorbing materials were used, each of which was printed on a glass plate at a thickness of 2 μm by an offset printing machine, and further heated at 150 ° C. for 2 hours to be cured, thereby forming two types of light-absorbing films. Produced.

【0023】このようにして作製した光吸収膜の膜厚、
550nmにおける光透過率(遮光性)、絶縁耐圧、耐
熱性、耐光性を調べ、得られた結果を第1表に示す。な
おここで、耐熱性については260℃で2時間加熱し、
その前後の色差を調べた。また、耐光性についてはJI
S K5400に準拠して100時間光を照射し、その
前後の色差を調べた。
The thickness of the light absorbing film thus manufactured,
The light transmittance (light shielding property) at 550 nm, the withstand voltage, the heat resistance, and the light resistance were examined, and the obtained results are shown in Table 1. In addition, here, about heat resistance, it heats at 260 degreeC for 2 hours,
The color difference before and after that was examined. For light resistance, see JI
Light was irradiated for 100 hours according to SK5400, and the color difference before and after the irradiation was examined.

【表1】 第1表に示した結果より、本発明の実施例品は、比較例
品である従来の有機系光吸収材料に比べ、遮光性、絶縁
性、耐熱性については同等であるが、耐光性について著
しく優れたものとなっている。
[Table 1] From the results shown in Table 1, the product of the example of the present invention has the same light-shielding properties, insulation properties and heat resistance as compared with the conventional organic light-absorbing material as the comparative product, but has the same light resistance. It is remarkably excellent.

【0024】(実施例2)本発明における請求項2記載
の液晶ディスプレイパネルとして、図1に示す液晶表示
セルを作製した。まず、図1に示す厚さ1.1μmの無
アルカリガラス板1を用意し、実施例1で作製した光吸
収材料(実施例品)を用いてオフセット印刷により該光
吸収材料を前記無アルカリガラス板1上に1μm厚さ
で、所望のパターンに印刷し、さらに150℃で2時間
加熱し硬化させてブラックマスク2を作製した。次に、
260℃で蒸着してITO透明電極層をブラックマスク
2上に形成し、さらにエッチング処理して電極パターン
とし、ITO透明電極3‥を形成した。
Example 2 A liquid crystal display cell shown in FIG. 1 was manufactured as the liquid crystal display panel according to the second aspect of the present invention. First, an alkali-free glass plate 1 having a thickness of 1.1 μm shown in FIG. 1 is prepared, and the light-absorbing material is manufactured by offset printing using the light-absorbing material (product of the embodiment) manufactured in Example 1. A desired pattern was printed on the plate 1 at a thickness of 1 μm, and further heated and cured at 150 ° C. for 2 hours to produce a black mask 2. next,
An ITO transparent electrode layer was formed on the black mask 2 by vapor deposition at 260 ° C., and was further etched to form an electrode pattern, thereby forming an ITO transparent electrode 3 ′.

【0025】次いで、実施例1で作製した光吸収材料
(実施例品)に6μmガラススペーサーを添加混合し、
得られた混合物をスクリーン印刷によってブラックマス
ク2付きのガラス板1に所望のパターンに印刷してブラ
ックシール膜4、4を形成し、さらにこれに、ITO透
明電極5を形成したガラス板6を貼り合わせ、150℃
で1時間加熱して硬化させ、ブラックシール膜付きの液
晶セルを形成した。その後、この液晶セルに液晶7を注
入し、注入口を封止してネガ表示型液晶表示セル8を作
製した。得られたネガ表示型液晶表示セル8およびライ
ト9に通電したところ、シール部と液晶境界、すなわち
ディスプレイ周辺部でのシール膜のにじみが視認され
ず、また白−黒表示のコントラストも極めて良好であっ
た。
Next, a 6 μm glass spacer was added to and mixed with the light-absorbing material prepared in Example 1 (Example product).
The obtained mixture is printed in a desired pattern on a glass plate 1 with a black mask 2 by screen printing to form black seal films 4 and 4, and a glass plate 6 on which an ITO transparent electrode 5 is formed is pasted thereon. 150 ℃
And cured for 1 hour to form a liquid crystal cell with a black seal film. Thereafter, a liquid crystal 7 was injected into the liquid crystal cell, and the injection port was sealed to produce a negative display type liquid crystal display cell 8. When the negative display type liquid crystal display cell 8 and the light 9 were energized, no bleeding of the boundary between the seal portion and the liquid crystal, that is, the seal film at the periphery of the display was observed, and the contrast of white-black display was extremely good. there were.

【0026】(実施例3)実施例1と同一方法により
0.1〜0.5μmの硫化ビスマス微粒子を得た。次に、
この粉末を100kg/cm2でプレスして成形し、真
空中400℃で2時間加熱処理し、スパッタリング用タ
ーゲット材を作製した。得られた硫化ビスマスターゲッ
ト材をスパッタリング装置(SPS210型、日電子ネ
ルバ株式会社製)にセットし、ガラス板上に厚さ0.6
μmの硫化ビスマス遮光膜を作製した。また、比較とし
て、同様の方法により、厚さ0.3μmの金属クロムの
遮光膜を作製した。
Example 3 Bismuth sulfide fine particles of 0.1 to 0.5 μm were obtained in the same manner as in Example 1. next,
This powder was pressed and molded at 100 kg / cm 2 and heat-treated at 400 ° C. for 2 hours in a vacuum to prepare a sputtering target material. The obtained bismuth sulfide target material was set in a sputtering apparatus (SPS210 type, manufactured by JEOL Nerva Corporation), and a thickness of 0.6 was placed on a glass plate.
A μm bismuth sulfide light-shielding film was produced. For comparison, a light-shielding film made of metal chromium having a thickness of 0.3 μm was prepared by the same method.

【0027】(実施例4)実施例1と同一方法によって
得られた0.1〜0.5μmの硫化ビスマス微粒子にチタ
ネート系カップリング剤(プレンアクトKR―46B
〔味の素株式会社製〕〕で表面処理を施し、塗料用フィ
ラーとした。そして、この塗料用フィラー12gと、バ
インダーとしてシリコンレジン(カンペセラ#402―
SC〔関西ペイント株式会社製〕)31.2gと、分散
粉剤としてシリカゾル(NBA―ST〔日産化学株式会
社製〕)24gとに、溶剤としてエチルアルコール5g
と2−ブタノール31gとを加え、サンドミルにて3時
間混合分散して硫化ビスマス塗料を作製した。次いで、
これをスピンコーターによってガラス板に塗布し、18
0℃で1時間加熱硬化させ、厚さ1.1μmと1.6μm
の硫化ビスマス遮光膜を作製した。
Example 4 A titanate-based coupling agent (preneact KR-46B) was added to 0.1 to 0.5 μm bismuth sulfide fine particles obtained by the same method as in Example 1.
[Manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.]] to give a filler for paint. Then, 12 g of the filler for paint and a silicone resin (Campecera # 402-
SC [manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.]), 31.2 g of silica sol (NBA-ST [manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.]) as a dispersion powder, and 5 g of ethyl alcohol as a solvent.
And 31 g of 2-butanol were added and mixed and dispersed in a sand mill for 3 hours to prepare a bismuth sulfide paint. Then
This was applied to a glass plate by a spin coater, and 18
Heat cured at 0 ° C for 1 hour, thickness 1.1μm and 1.6μm
Bismuth sulfide light-shielding film was prepared.

【0028】(実施例5)実施例4で得られた塗料用フ
ィラー25gと、バインダーとしてエポキシ樹脂(エピ
コート828〔油化シェルエポキシ株式会社製〕)40
g、アルミ系硬化剤(エピキュアZ〔油化シェルエポキ
シ株式会社製〕)27gと、流動性改善のためシリカ超
微粉(アエロジル#200〔日本アエロジル株式会社
製〕)8gとを予備混合し、その後3本ロールミルで3
時間混合して印刷用の硫化ビスマス塗料を調整した。次
いで、オフセット印刷機により前記硫化ビスマス塗料を
ガラス板上に印刷し、その後150℃で2時間加熱して
硬化させ、厚さ2μmの遮光膜を作製した。また、比較
として硫化ビスマス粉に換えて、カーボンブラック、チ
タンブラック、アニリンブラックをそれぞれ用い、他の
配合剤を同一にして遮光膜を作製した。
(Example 5) 25 g of the paint filler obtained in Example 4 and an epoxy resin (Epicoat 828 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)) 40 as a binder
g, 27 g of an aluminum-based curing agent (Epicure Z (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)) and 8 g of ultrafine silica powder (Aerosil # 200 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)) for improving fluidity, and then premixed 3 roll mill
The mixture was mixed for time to prepare a bismuth sulfide coating for printing. Next, the bismuth sulfide paint was printed on a glass plate by an offset printing machine, and then cured by heating at 150 ° C. for 2 hours to produce a light-shielding film having a thickness of 2 μm. For comparison, a light-shielding film was prepared using carbon black, titanium black, and aniline black in place of bismuth sulfide powder and using the same other ingredients.

【0029】このようにして得られた実施例3〜5の遮
光膜の、膜厚、550mmにおけるO.D値(遮光
性)、光反射率(映り込み度)、表面抵抗(絶縁性)、
耐熱性、耐光性をそれぞれ調べ、得られた結果を第2表
に示す。なおここで、O.D値は光透過率(T%)を測
定することによって次式から求めたものである。 O.D=−log(T/100) また、耐熱性については280℃で2時間加熱した後の
膜の性状を調べたものであり、耐光性についてはJIS
K5400に準拠して100時間光を照射した後の膜
の性状を調べたものである。
The light-shielding films thus obtained in Examples 3 to 5 had a thickness of 550 mm, an OD value (light-shielding property), a light reflectance (reflection degree), a surface resistance (insulating property),
The heat resistance and the light resistance were examined, and the results obtained are shown in Table 2. Here, the OD value is obtained from the following equation by measuring the light transmittance (T%). OD = -log (T / 100) The heat resistance was obtained by examining the properties of the film after heating at 280 ° C. for 2 hours, and the light resistance was determined by JIS.
The properties of the film after light irradiation for 100 hours according to K5400 were examined.

【表2】 第2表に示した結果より、本発明における請求項3およ
び請求項4の実施例品は比較例品である従来の黒色材料
を用いた遮光膜に比べ、遮光性、絶縁性、耐熱性、耐光
性について全てに優れていることが確認された。
[Table 2] Based on the results shown in Table 2, claims 3 and 4 of the present invention were obtained.
In addition, it was confirmed that the products of Examples of Claim 4 were all excellent in light-shielding properties, insulation, heat resistance, and light resistance as compared with the conventional light-shielding film using a black material as a comparative example.

【0030】(実施例6) 本発明における請求項記載のLCDパネルとして、実
施例4に示した硫化ビスマス塗料を用い、図2、図3に
示す工程で硫化ビスマスを遮光膜(ブラックマトリク
ス)としたカラーフィルターを作製し、アクティブマト
リクス駆動方式のLCD素子に組み入れてLCDパネル
を作製した。ここで、図2に示した工程を説明すると、
まずガラス基板10に前記硫化ビスマス塗料を塗布して
遮光膜11を形成し〔図2中(b)〕、さらにその上に
レジスト12を塗布し〔図2中(c)〕、フォトマスク
をして露光した後〔図2中(d)〕、5%−HNO3液
でエッチングしてブラックマトリックスのパターン13
を作製する〔図2中(e)〕。
(Embodiment 6) The bismuth sulfide paint shown in Embodiment 4 was used as the LCD panel according to the fifth aspect of the present invention, and bismuth sulfide was used as a light-shielding film (black matrix) in the steps shown in FIGS. A color filter was prepared, and incorporated into an active matrix driving type LCD element to prepare an LCD panel. Here, the process shown in FIG. 2 will be described.
First, the bismuth sulfide paint is applied to the glass substrate 10 to form a light-shielding film 11 ((b) in FIG. 2), and a resist 12 is further applied thereon ((c) in FIG. 2), and a photomask is applied. [(D) in FIG. 2], and etched with a 5% -HNO3 solution to form a black matrix pattern 13.
[(E) in FIG. 2].

【0031】次いで、このパターン13を形成したガラ
ス基板10の上に着色材14を塗布し、さらにその上に
ポジレジストを塗布しフォトマスクをして露光し、現
像、エッチングを行う〔図3中(f)〕。そして、この
工程〔図3中(f)に示した工程〕を繰り返し、所望す
る色の着色層15‥を形成した後、保護膜16を形成し
てカラーフィルタとする。得られたディスプレイパネル
は、従来の金属クロムを遮光膜(ブラックマトリクス)
としたカラーフィルターを組み入れたパネルと比較し
て、低反射のため映り込みがなく、視認性が極めて良好
なカラーLCDであった。
Next, a coloring material 14 is applied on the glass substrate 10 on which the pattern 13 is formed, and a positive resist is further applied thereon, exposed with a photomask, developed, and etched [FIG. (F)]. Then, this step (the step shown in FIG. 3 (f)) is repeated to form a colored layer 15 # of a desired color, and then a protective film 16 is formed to form a color filter. The resulting display panel is made of a conventional metal chrome with a light-shielding film (black matrix).
As compared with a panel incorporating a color filter, the color LCD was low in reflection and therefore did not show any image, and had very good visibility.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように本発明における請求
項1記載の液晶ディスプレイ用光吸収材料は、顔料とし
て硫化ビスマスを用いたことにより、耐熱性、絶縁性、
安定性等に優れたものとなる。また、請求項2記載の液
晶ディスプレイパネルは、前記光吸収材料を用いたこと
によって例えばこれをブラックマスクやブラックシール
に用いることにより、シール部や液晶境界などのディス
プレイ周辺部でのシール膜のにじみが防止されたものと
なり、また白−黒表示のコントラストも極めて良好なも
のとなる。請求項3または請求項4記載の遮光膜は、黒
色材料として硫化ビスマスを用いたことにより、遮光
性、絶縁性、耐熱性、耐光性等に優れたものとなる。請
求項記載の液晶ディスプレイパネルは、前記遮光膜を
用いたものであるから、例えばこれをブラックマトリク
ス、TFT遮光膜、ブラックマスクやブラックシールに
用いることにより、映り込みが少なく視認性が良好で、
しかもシール部や液晶境界などのディスプレイ周辺部で
のシール膜のにじみが防止されたものとなり、また白−
黒表示のコントラストも極めて良好なものとなる。
As described above, the light absorbing material for a liquid crystal display according to the first aspect of the present invention uses bismuth sulfide as a pigment to provide heat resistance, insulating properties, and the like.
It is excellent in stability and the like. In the liquid crystal display panel according to the second aspect of the present invention, the light absorbing material is used, for example, by using the light absorbing material for a black mask or a black seal, so that the seal film bleeds around the display such as a seal portion or a liquid crystal boundary. Are prevented, and the contrast of white-black display becomes extremely good. The light-shielding film according to claim 3 or 4 has excellent light-shielding properties, insulation properties, heat resistance, light resistance, and the like by using bismuth sulfide as the black material. Since the liquid crystal display panel according to claim 5 uses the light-shielding film, for example, by using the light-shielding film for a black matrix, a TFT light-shielding film, a black mask or a black seal, the reflection is reduced and the visibility is improved. ,
Moreover, bleeding of the seal film at the periphery of the display, such as the seal portion and the liquid crystal boundary, is prevented.
The contrast of the black display is also very good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明における請求項2記載の液晶ディスプ
レイパネルの一実施例を示す図であり、ネガ表示型液晶
表示セルの概略構成を示す側面図である。
FIG. 1 is a view showing one embodiment of a liquid crystal display panel according to claim 2 of the present invention, and is a side view showing a schematic configuration of a negative display type liquid crystal display cell.

【図2】 本発明における請求項記載の液晶ディスプ
レイパネルの一実施例としての、カラーフィルターの作
製方法を説明するための工程図であって、ブラックマト
リックス作製工程を示す図である。
FIG. 2 is a process diagram for explaining a method for producing a color filter as one embodiment of the liquid crystal display panel according to claim 5 of the present invention, and is a diagram showing a black matrix producing process.

【図3】 本発明における請求項記載の液晶ディスプ
レイパネルの一実施例としての、カラーフィルターの作
製方法を説明するための工程図であって、カラーフィル
タ形成工程をを示す図である。
FIG. 3 is a process diagram for explaining a method of manufacturing a color filter as one embodiment of the liquid crystal display panel according to claim 5 of the present invention, and is a diagram illustrating a color filter forming process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 ブラックマスク 4 ブラックシール膜 8 ネガ表示型の液晶表示セル 10 ガラス基板 11 遮光膜 2 Black mask 4 Black seal film 8 Negative display type liquid crystal display cell 10 Glass substrate 11 Light shielding film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1335 G02F 1/13 101 G02B 5/20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1335 G02F 1/13 101 G02B 5/20

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 顔料として0.1〜0.5μmの硫化ビ
スマス微粒子を用い、これをエポキシ樹脂、シリコーン
変性エポキシ樹脂、シリコーンレジンから選ばれる少な
くとも1種からなるバインダー中に分散させて塗料化し
たものであることを特徴とする液晶ディスプレイ用光吸
収材料。
1. Bismuth sulfide fine particles having a particle size of 0.1 to 0.5 μm are used as a pigment ,
Small number of resins selected from modified epoxy resin and silicone resin
Disperse in at least one kind of binder to make paint
A light-absorbing material for a liquid crystal display, characterized in that:
【請求項2】 請求項1に記載の液晶ディスプレイ用光2. The light for a liquid crystal display according to claim 1.
吸収材料を用いてなることを特徴とする液晶ディスプレLiquid crystal display characterized by using an absorbing material
イパネル。Ipanel.
【請求項3】 黒色材料として0.1〜0.5μmの
化ビスマス微粒子を用い、これをエポキシ樹脂、シリコ
ン系樹脂から選ばれる少なくとも1種からなるバインダ
ー中に分散させて塗料化したものにより形成されたこと
を特徴とする遮光膜。
3. Black bismuth sulfate fine particles of 0.1 to 0.5 μm are used as a black material ,
Binder composed of at least one selected from binder resins
A light-shielding film formed by dispersing into a paint to form a coating ;
【請求項4】 硫化ビスマスよりなるスパッタリング用
ターゲット材を使用して形成されたことを特徴とする遮
光膜。
4. A sputtering method comprising bismuth sulfide.
A shield formed using a target material.
Light film.
【請求項5】 請求項3または請求項4に記載の遮光膜
を用いてなることを特徴とする液晶ディスプレイパネ
ル。
5. The light-shielding film according to claim 3 or 4.
Liquid crystal display panel characterized by using
Le.
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